TWI772533B

TWI772533B - 觸控面板用導電構件、觸控面板及導電構件

Info

Publication number: TWI772533B
Application number: TW107135677A
Authority: TW
Inventors: 中山昌哉
Original assignee: 日商富士軟片股份有限公司
Priority date: 2017-11-13
Filing date: 2018-10-11
Publication date: 2022-08-01
Also published as: TW201933077A; JP6910466B2; CN111316211B; WO2019093045A1; JPWO2019093045A1; US20200241701A1; CN111316211A; US11157121B2

Abstract

本發明提供一種提高針對觸控操作之檢測靈敏度之觸控面板用導電構件、具備該導電構件之觸控面板以及提高檢測靈敏度之導電構件。第1電極層位於比第2電極層更靠觸控面側之導電構件中，第1電極層具有沿方向排列之複數個第1檢測電極，第1檢測電極具有複數個第1電極線，且具有第1電極寬度，第2電極層具有沿與方向垂直的方向排列之複數個第2檢測電極，第2檢測電極具有複數個第2電極線及與複數個第2電極線絕緣之複數個非連接線，且具有第2電極寬度，第2電極寬度大於第1電極寬度。

Description

觸控面板用導電構件、觸控面板及導電構件

本發明有關一種具有由金屬細線構成之檢測電極之觸控面板用導電構件及具備該觸控面板用導電構件之觸控面板。

近年來，觸控面板正得以普及，其於諸如平板電腦及智慧型手機等可攜式資訊設備的各種電子設備中，與液晶顯示裝置等顯示裝置組合使用，並藉由使手指、觸控筆等與畫面接觸或靠近而進行針對電子設備的輸入操作。

觸控面板通常具有透明絕緣基板，在該透明絕緣基板上形成用於檢測由手指及觸控筆等進行之觸控操作的檢測電極。檢測電極大多由ITO（Indium Tin Oxide（銦錫氧化物））等透明導電性氧化物形成，但除透明導電性氧化物以外亦可由金屬形成。與透明導電性氧化物相比，金屬具有易圖案化，彎曲性優異，且電阻值更低等優點。與使用透明導電性氧化物而構成之現有的觸控面板相比，具有使用金屬細線而構成之導電構件之觸控面板能夠降低電阻值及寄生電容的值，因此能夠提高針對觸控操作之檢測靈敏度，從而備受矚目。

例如，專利文獻1中公開有具有由金屬細線構成之複數個上方電極及複數個下方電極之觸控面板。複數個上方電極及複數個下方電極具有網格形狀，複數個上方電極配置於相對於複數個下方電極更靠視覺辨認側。專利文獻1中，在該種觸控面板中，藉由將上方電極的網格間距的平均值相對於下方電極中的網格間距的平均值之比設為2以上且8以下的整數而實現確保針對觸控操作之檢測靈敏度與視覺辨認性。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本特開2015-108884號公報

一般，在具有由金屬細線構成之檢測電極之觸控面板中，相對於配置在視覺辨認側之檢測電極，配置在遠離視覺辨認側之位置上之檢測電極亦即配置在顯示裝置側之檢測電極的電極寬度越大，則藉由屏蔽伴隨顯示裝置的動作產生之來自顯示裝置的電磁波，越不易在針對觸控操作之檢測信號中產生雜訊。因此，操作顯示裝置來驅動觸控面板時的檢測精度得到提高。另一方面，有時若增加檢測電極的電極寬度，則由於檢測電極中的寄生電容增加從而觸控面板的檢測靈敏度降低。專利文獻1中，未對檢測電極的寄生電容進行考慮，尤其為了提高檢測靈敏度而增大配置在顯示裝置側之下方電極的電極寬度時，有時下方電極中的寄生電容增加，針對觸控操作之檢測靈敏度降低。藉此，為了檢測更高靈敏度，需要進一步的改善。

針對該種習知之課題，本發明人在配置於顯示裝置側之檢測電極中，除了有助於觸控操作的檢測之複數個電極線以外，還設置以與複數個電極線絕緣的方式配置之複數個非連接線，藉此成功地提高了針對觸控操作之檢測靈敏度。進而，將作為複數個電極線的合計面積相對於複數個電極線和複數個非連接線的合計面積之比計算之複數個電極線的佔有率設定成特定值，藉此成功地進一步提高了針對觸控操作之檢測靈敏度。本發明的目的為提供一種能夠提高針對觸控操作之檢測靈敏度之觸控面板用導電構件。又，本發明的另一目的為提供一種具備該種觸控面板用導電構件之觸控面板。

本發明之觸控面板用導電構件，其為隔著透明絕緣構件配置有第1電極層與第2電極層且第1電極層比第2電極層更靠觸控面側配置之觸控面板用導電構件，該觸控面板用導電構件的特徵為，第1電極層具有：複數個第1檢測電極，在第1方向上隔著間隔並列配置且沿與第1方向正交之第2方向延伸；及複數個第1電極墊，分別與複數個第1檢測電極連接，第1檢測電極由複數個第1電極線構成，且在第1方向上具有第1電極寬度W1，該複數個第1電極線由與第1電極墊電連接之金屬細線形成，第2電極層具有：複數個第2檢測電極，在第2方向上隔著間隔並列配置且沿第1方向延伸；及複數個第2電極墊，分別與複數個第2檢測電極連接，第2檢測電極由複數個第2電極線及複數個非連接線構成，且在第2方向上具有第2電極寬度W2，該複數個第2電極線由與第2電極墊電連接之金屬細線形成，該複數個非連接線由配置成與第2電極墊及複數個第2電極線絕緣之金屬細線形成，且第2電極寬度W2大於第1電極寬度W1。

將由複數個第2電極線的合計面積相對於第2檢測電極中的複數個第2電極線與複數個非連接線的合計面積之比表示之複數個第2電極線的佔有率設為C2，滿足1.0≤（W2×C2）/W1≤2.0為較佳。又，還滿足1.2≤（W2×C2）/W1≤1.6為較佳。

又，在每個複數個第2檢測電極中，非連接線由第2電極線包圍為較佳。

第1電極層能夠還具有複數個第1虛擬電極，該複數個第1虛擬電極配置成在複數個第1檢測電極之間與複數個第1檢測電極電絕緣且由金屬細線構成，第2電極層能夠還具有複數個第2虛擬電極，該複數個第2虛擬電極配置成在複數個第2檢測電極之間與複數個第2檢測電極電絕緣且由複數個金屬細線構成。

進而，能夠為如下：第1電極層與第2電極層彼此重疊，藉此，構成複數個第1檢測電極之金屬細線、構成複數個第1虛擬電極之金屬細線、構成複數個第2檢測電極之金屬細線、構成複數個非連接線之金屬細線及構成複數個第2虛擬電極之金屬細線彼此組合而形成由複數個第3網格單元構成之第3網格圖案。

進而，第1電極層能夠具有由複數個第1網格單元構成之第1網格圖案，該複數個第1網格單元由構成複數個第1檢測電極之金屬細線及構成複數個第1虛擬電極之金屬細線形成，第2電極層能夠具有由複數個第2網格單元構成之第2網格圖案，該複數個第2網格單元由構成複數個第2檢測電極之金屬細線、構成複數個非連接線之金屬細線及構成複數個第2虛擬電極之金屬細線形成。

進而，第1網格圖案能夠具有第1網格間距，第2網格圖案能夠具有第2網格間距，第3網格圖案能夠具有小於第1網格間距及第2網格間距之第3網格間距。

又，第3網格單元能夠具有四邊形形狀。進而，四邊形可以為菱形。又，第1網格單元及第2網格單元能夠均為菱形，且具有彼此相同的形狀。

本發明之觸控面板係具備上述觸控面板用導電構件者。

又，本發明之觸控面板，其為隔著透明絕緣構件配置有第1電極層與第2電極層且第1電極層比第2電極層更靠觸控面側配置之觸控面板，該觸控面板的特徵為，第1電極層具有：複數個第1檢測電極，在第1方向上隔著間隔並列配置且沿與第1方向正交之第2方向延伸；及複數個第1電極墊，分別與複數個第1檢測電極連接，第1檢測電極由複數個第1電極線構成，且在第1方向上具有第1電極寬度W1，該複數個第1電極線由與第1電極墊電連接之金屬細線形成，第2電極層具有：複數個第2檢測電極，在第2方向上隔著間隔並列配置且沿第1方向延伸；及複數個第2電極墊，分別與複數個第2檢測電極連接，第2檢測電極由複數個第2電極線及複數個非連接線構成，且在第2方向上具有第2電極寬度W2，該複數個第2電極線由與第2電極墊電連接之金屬細線形成，該複數個非連接線由配置成與第2電極墊及複數個第2電極線絕緣之金屬細線形成，且第2電極寬度W2大於第1電極寬度W1。

本發明之導電構件，其為隔著透明絕緣構件配置有第1電極層與第2電極層之導電構件，該導電構件的特徵為，第1電極層具有：複數個第1檢測電極，在第1方向上隔著間隔並列配置且沿與第1方向正交之第2方向延伸；及複數個第1電極墊，分別與複數個第1檢測電極連接，第1檢測電極由複數個第1電極線構成，且在第1方向上具有第1電極寬度W1，該複數個第1電極線由與第1電極墊電連接之金屬細線形成，第2電極層具有：複數個第2檢測電極，在第2方向上隔著間隔並列配置且沿第1方向延伸；及複數個第2電極墊，分別與複數個第2檢測電極連接，第2檢測電極由複數個第2電極線及複數個非連接線構成，且在第2方向上具有第2電極寬度W2，該複數個第2電極線由與第2電極墊電連接之金屬細線形成，該複數個非連接線包含配置成與第2電極墊及複數個第2電極線絕緣之金屬細線形成，且第2電極寬度W2大於第1電極寬度W1。 [發明效果]

依本發明，第2檢測電極具有非連接線，第2電極寬度W2大於第1電極寬度W1，因此能夠提高針對觸控操作之檢測靈敏度。

以下基於圖式所示之較佳的實施形態對本發明之觸控面板用導電構件及觸控面板進行詳細說明。再者，以下表示數值範圍之標記“～”係包括記載於其兩側之數值者。例如，“s係數值t1～數值t2”係指，s的範圍係包括數值t1與數值t2之範圍，若以數學符號表示則為t1≤s≤t2。除非另有說明，則包括“正交”及“平行”等之角度係包括於技術領域中通常允許之誤差範圍者。 “透明”係指，透光率於波長400～800 nm的可見光波長區域中至少係40%以上，較佳為75%以上，更佳為80%以上，進一步較佳為90%以上。光透射率係利用JIS K 7375：2008中規定之“塑膠--總光線透射率及總光線反射率的計算方法”測量者。

圖1表示本發明的實施形態之觸控面板1的構成。觸控面板1具有表面1A和背面1B，且在背面1B側配置有液晶顯示裝置等未圖示之顯示裝置之狀態下使用。觸控面板1的表面1A為檢測觸控操作之觸控面，且成為觸控面板1的操作員觀察通過觸控面板1顯示在顯示裝置上之圖像之視覺辨認側。觸控面板1具有配置在表面1A側之透明絕緣性的蓋板2，在蓋板2的與表面1A相反的一側的表面上藉由透明的接著層4接合有觸控面板用導電構件3。在蓋板2上例如設置有未圖示之黑色的裝飾層。

觸控面板用導電構件3具有作為透明絕緣構件之透明絕緣基板5，透明絕緣基板5具有朝向觸控面板1的表面1A側之第1面5A和朝向與第1面5A相反的一側之第2面5B。在透明絕緣基板5的第1面5A上形成有第1電極層6A。以覆蓋第1電極層6A的方式形成有透明保護層7A。又，在透明絕緣基板5的第2面5B上形成有第2電極層6B。如圖1所示，亦可以以覆蓋第1電極層6A的方式形成透明保護層7A以及以覆蓋第2電極層6B的方式形成透明保護層7B。再者，顯示裝置配置在觸控面板1的背面1B側。亦即，第1電極層6A比第2電極層6B更靠觸控面側配置，且蓋板2、第1電極層6A、第2電極層6B及顯示裝置依次被積層。

圖2表示從視覺辨認側觀察觸控面板1之俯視圖。圖1係圖2中的A-A線剖面圖。又，圖2中，為了說明，省略了蓋板2、接著層4、保護層7A及保護層7B。如圖2所示，在觸控面板1的觸控面板用導電構件3上劃分有用於檢測基於手指及觸控筆進行之觸控操作之輸入區域S1，並且劃分有位於輸入區域S1的外側之外側區域S2。

形成於透明絕緣基板5的第1面5A上之第1電極層6A具有在第1方向D1上隔著間隔並列配置且沿與第1方向D1正交之第2方向D2延伸之複數個第1檢測電極SE1及分別配置於複數個第1檢測電極SE1之間且與第1檢測電極SE1絕緣之複數個第1虛擬電極DE1。為了防止從視覺辨認側觀察觸控面板1時，複數個第1檢測電極SE1之間的間隙明顯，且視覺辨認出第1檢測電極SE1的圖案，配置該第1虛擬電極DE1。

又，第1電極層6A還具有分別與複數個第1檢測電極SE1的一端連接之複數個第1電極墊11、分別與複數個第1電極墊11連接之複數個第1周邊配線12及分別與複數個第1周邊配線12連接且排列形成於透明絕緣基板5的第1面5A的邊緣部之複數個第1外部連接端子13。其中，第1檢測電極SE1可以在第1周邊配線12未經由第1電極墊11電連接之端部亦具備與第1電極墊11相同的電極墊。該電極墊還能夠用作第1檢測電極SE1的用於導通檢查的端子。

形成於透明絕緣基板5的第2面5B上之第2電極層6B具有在第2方向D2上隔著間隔並列配置且沿第1方向D1延伸之複數個第2檢測電極SE2及分別配置在複數個第2檢測電極SE2之間且與第2檢測電極SE2絕緣之複數個第2虛擬電極DE2。為了防止從視覺辨認側觀察觸控面板1時，複數個第2檢測電極SE2之間的間隙明顯，且視覺辨認出第2檢測電極SE2的圖案，配置該第2虛擬電極DE2。如圖2所示，複數個第2檢測電極SE2及複數個第2虛擬電極DE2以從視覺辨認側觀察時在輸入區域S1中與複數個第1檢測電極SE1及複數個第1虛擬電極DE1交叉且重疊的方式配置。

又，第2電極層6B還具有分別與複數個第2檢測電極SE2的一端連接之複數個第2電極墊21、分別與複數個第2電極墊21連接之複數個第2周邊配線22及分別與複數個第2周邊配線22連接且排列形成於透明絕緣基板5的第2面5B的邊緣部之複數個第2外部連接端子23。其中，第2檢測電極SE2可以在第2周邊配線22未經由第2電極墊21電連接之端部亦具備與第2電極墊21相同的電極墊。該電極墊還能夠用作第2檢測電極SE2的用於導通檢查的端子。

將在包含第1檢測電極SE1與第2檢測電極SE2重疊之部分之區域R0中，從視覺辨認側僅觀察第1電極層6A之局部俯視圖示於圖3。圖3中，為了說明而省略了保護層7A。如圖3所示，與第1檢測電極SE1相鄰而形成有第1虛擬電極DE1。再者，為了說明，在圖3中，以較粗的實線描繪構成第1檢測電極SE1之金屬細線，以較細的實線描繪構成第1虛擬電極DE1之金屬細線。實際上，構成第1檢測電極SE1之金屬細線與構成第1虛擬電極DE1之金屬細線的線寬可以相同。

如圖3所示，第1檢測電極SE1為具有由複數個第1網格單元MC1構成之第1網格圖案MP1之網格狀電極，且具有第1電極寬度W1，該複數個第1網格單元MC1由複數個第1電極線EL1構成，該複數個第1電極線EL1由金屬細線形成。第1檢測電極SE1的電極寬度W1為在一個第1檢測電極SE1中的與一個電極墊11連接之複數個第1電極線EL1中，第1方向D1上的最外側的部分之間的第1方向D1上的距離。

又，第1虛擬電極DE1與第1檢測電極SE1同樣地具有具備由複數個第1網格單元MC1構成之第1網格圖案MP1之網格形狀，該複數個第1網格單元MC1由金屬細線構成，但由於以與第1檢測電極SE1電絕緣的方式隔著間隙G1而配置，並且配置成還與複數個第1電極墊11、複數個第1周邊配線12及複數個第1外部連接端子13電絕緣，因此對觸控操作的檢測不起作用。其中，為了使複數個第1虛擬電極DE1與複數個第1檢測電極SE1充分電絕緣，複數個第1虛擬電極DE1與複數個第1檢測電極SE1之間的間隙G1的長度為5 μm～50 μm為較佳，從不易肉眼觀察間隙G1之觀點而言，5 μm～20 μm為進一步較佳。又，為了提高絕緣性，可以在構成第1虛擬電極DE1之第1網格單元MC1的各邊上設置長度5 μm～20 μm的斷線部。

將在區域R0中，從視覺辨認側僅觀察第2電極層6B之局部俯視圖示於圖4。圖4中為了說明了省略保護層7B。如圖4所示，與第2檢測電極SE2相鄰而形成有第2虛擬電極DE2。為了防止從視覺辨認側觀察觸控面板1時，複數個第2檢測電極SE2之間的間隙明顯，且視覺辨認出第2檢測電極SE2的圖案，配置第2虛擬電極DE2。再者，為了說明，在圖4中以較細的虛線描繪構成第2虛擬電極DE2之金屬細線，但實際上為連續之金屬細線。

如圖4所示，第2檢測電極SE2為具有由複數個第2網格單元MC2構成之第2網格圖案MP2之網格狀電極，且具有第2電極寬度W2，該複數個第2網格單元MC2由複數個第2電極線EL2及複數個非連接線NL構成，該複數個第2電極線EL2由金屬細線形成，該複數個非連接線NL由第2金屬細線形成。其中，為了說明，在圖4中以較粗的虛線描繪作為複數個第2電極線EL2之金屬細線，在圖4中以較細的虛線描繪作為複數個非連接線NL之金屬細線，但實際上均為連續之金屬細線。又，實際上，作為第2電極線EL2之金屬細線、作為非連接線之金屬細線及構成第2虛擬電極DE2之金屬細線的線寬可以相同。第2檢測電極SE2的電極寬度W2為在一個第2檢測電極SE2中的與一個電極墊21連接之複數個第2電極線EL2中，第2方向D2中的最外側的部分之間的第2方向D2上的距離。

第2檢測電極SE2的複數個第2電極線EL2與第2電極墊21連接，作為用於檢測觸控操作的電極線發揮作用。又，第2檢測電極SE2的複數個非連接線NL以與複數個第2電極線EL2絕緣的方式與複數個第2電極線EL2隔著間隙G2而配置，從而對觸控操作的檢測不起作用。複數個第2電極線EL2與非連接線NL的間隙G2的長度為5 μm～35 μm為較佳，以使複數個第2電極線EL2與複數個非連接線NL充分電絕緣，從不易肉眼觀察到間隙G2之觀點而言，5 μm～20 μm為進一步較佳。又，複數個非連接線NL分別配置在第2檢測電極SE2的內部，而不是配置在第2檢測電極SE2的邊緣部，且以被複數個第2電極線EL2包圍的方式配置。

又，雖未圖示，但第2虛擬電極DE2與第2檢測電極SE2同樣地具有具備第2網格圖案MP2之網格形狀，該第2網格圖案MP2由複數個第2網格單元MC2構成，該複數個第2網格單元MC2由金屬細線構成。由於第2虛擬電極DE2以與第2檢測電極SE2電絕緣的方式隔著間隙G3而配置，且配置成還與複數個第2電極墊21、複數個第2周邊配線22及複數個第2外部連接端子23電絕緣，因此對觸控操作的檢測不起作用。其中，為了使複數個第2虛擬電極DE2與複數個第2檢測電極SE2充分電絕緣，複數個第2虛擬電極DE2與複數個第2檢測電極SE2之間的間隙G3的長度為5 μm～50 μm為較佳，從不易肉眼觀察到間隙G3之觀點而言，5 μm～20 μm為進一步較佳。又，為了提高絕緣性，可以在構成第2虛擬電極DE2之第2網格單元MC2的各邊設置長度5 μm～20 μm的斷線部。

將在區域R0中，從視覺辨認側觀察觸控面板1之局部俯視圖示於圖5。如圖5所示，在觸控面板1中，第1電極層6A和第2電極層6B彼此重疊。藉此，複數個第1檢測電極SE1及複數個第1虛擬電極DE1和複數個第2檢測電極SE2及複數個第2虛擬電極DE2彼此組合，亦即，第1網格圖案MP1和第2網格圖案MP2彼此組合，形成由複數個第3網格單元MC3構成之第3網格圖案MP3。

其中，在圖3～圖5中，為了說明，作為代表例，第1網格單元MC1和第2網格單元MC2設為彼此相同的菱形形狀，第2網格圖案MP2設為配置在從第1網格圖案MP1僅偏移第1網格間距P1的1/2量的位置。此時，第3網格圖案MP3的第3網格間距P3具有第1網格圖案MP1的第1網格間距P1及第2網格圖案MP2的第2網格間距P2的1/2的值，第3網格單元MC3具有菱形形狀。再者，第1網格間距P1能夠藉由在第1方向D1上彼此相鄰之第1網格單元MC1的重心之間的第1方向D1上的距離的平均值來確定。關於第2網格間距P2及第3網格間距P3亦同樣地能夠藉由在第1方向D1上彼此相鄰之各個網格單元的重心之間的第1方向D1上的距離的平均值來確定。

如上所述，彼此重疊第1電極層6A和第2電極層6B而由複數個第3網格單元MC3形成第3網格圖案MP3，藉此能夠降低電極交叉部中的寄生電容，並且防止明顯地視覺辨認出第1電極層6A中包含之金屬細線及第2電極層6B中包含之金屬細線。尤其，從降低因未圖示之顯示裝置的像素和金屬細線的雜訊而產生之波紋之觀點而言，第3網格單元MC3的形狀為四邊形為較佳，尤其菱形為較佳。菱形的銳角的角度為20度～70度為較佳。第3網格單元MC3為菱形時，其1邊的長度為100 μm以上且300 μm以下為較佳。

一般，在具有由金屬細線構成之檢測電極之觸控面板上，相對於配置在視覺辨認側之檢測電極，配置在遠離視覺辨認側之位置上之檢測電極亦即配置在顯示裝置側之檢測電極的電極寬度越大，則藉由屏蔽伴隨顯示裝置的動作產生之電磁波，越不易在針對觸控操作之檢測信號中產生雜訊。因此，操作顯示裝置來驅動觸控面板時的檢測精度得到提高。另一方面，有時若增大檢測電極的電極寬度，則由於檢測電極中的寄生電容增加從而觸控面板的檢測靈敏度降低。

本發明人發現在配置於比第1檢測電極SE1更遠離視覺辨認側之位置之第2檢測電極SE2上設置複數個非連接線NL，且使第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2大於第1檢測電極SE1的第1電極寬度W1，藉此能夠抑制針對觸控操作之檢測信號的雜訊的基礎上，抑制第2檢測電極SE2中的寄生電容的增加，從而提高針對觸控操作之檢測靈敏度。進而，發現藉由調整第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2，能夠更加提高針對觸控操作之檢測靈敏度。

其中，第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2係指複數個第2電極線EL2的合計面積除以第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2和複數個非連接線NL的合計面積而得的值。第2檢測電極SE2包含非連接線NL，因此佔有率C2取大於0且小於1的值。又，第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2和複數個非連接線NL的合計面積係指從視覺辨認側觀察觸控面板1時，在一個第2檢測電極SE2中複數個第2電極線EL2所佔之面積和複數個非連接線NL所佔之面積的合計值。又，第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的合計面積係指從視覺辨認側觀察觸控面板1時，在一個第2檢測電極SE2中複數個第2電極線EL2所佔之面積的合計值。

若將第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率設為C2，則有效電極寬度比率WR滿足下述式（1），藉此在觸控面板1中，能夠進一步提高針對觸控操作之檢測靈敏度。亦即，藉由將由第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2乘以複數個第2電極線的佔有率C2，再除以第1檢測電極SE1的第1電極寬度W1而得的值（W2×C2）/W1表示之有效電極寬度比WR設為、1.0以上且2.0以下，能夠提高針對觸控操作之檢測靈敏度。 1.0≤（W2×C2）/W1≤2.0……（1）

又，藉由有效電極寬度比率WR進一步滿足下述式（2），在觸控面板1中，能夠更加提高針對觸控操作之檢測靈敏度。 1.2≤（W2×C2）/W1≤1.6……（2）關於使佔有率C2發生各種變化而評價觸控面板1的檢測靈敏度之結果，在後面進行詳述。

再者，本發明的實施形態中，在第1檢測電極SE1及第1虛擬電極DE1中形成之第1網格圖案MP1及在第2檢測電極SE2及第2虛擬電極DE2中形成之第2網格圖案MP2均由相同的菱形形狀的第1網格單元MC1及第2網格單元MC2的重複圖案構成，但本發明並不限定於該等態樣。亦即，能夠將第1檢測電極SE1及第1虛擬電極DE1中包含之第1網格單元MC1和第2檢測電極SE2及第2虛擬電極DE2中包含之第2網格單元MC2設為除菱形以外的正六邊形、正三角形及平行四邊形等四邊形以及其他多邊形，或者該等的組合。又，網格單元的各邊可以不具有直線形狀，可以具有波浪線形狀。然而，關於該等網格單元，從降低與未圖示之顯示裝置的波紋的觀點而言，第1網格單元MC1與第2網格單元MC2為菱形為較佳。菱形的銳角的角度為20度～70度為較佳。

又，使第1電極層6A和第2電極層6B彼此重疊而形成之第3網格圖案MP3由定形規則性圖案所組成之菱形的複數個第3網格單元MC3構成，但並不限定於此，第3網格單元MC3可以由不規則形狀之網格構成。該情況下，複數個第3網格單元MC3能夠設為相對於各個網格單元的邊的長度的平均值具有-10%～+10%的不規則邊的長度之多邊形，尤其四邊形或者平行四邊形的網格單元。藉由該種構成，抑制觸控面板1上的與未圖示之顯示裝置的像素圖案的波紋，進而能夠降低彩色斑紋（color noise）。

又，在第3網格圖案MP3由不規則形狀的第3網格單元MC3構成的情況下，計算複數個第3網格單元MC3的邊的長度的平均值及網格間距時，能夠對於配置在具有已確定之面積之區域內之網格單元計算邊的長度的平均值及網格間距。例如，能夠對於配置在10 mm×10 mm的區域內之複數個網格單元計算邊的長度的平均值及網格間距。

又，複數個第1檢測電極SE1及複數個第1虛擬電極DE1中包含之複數個第1網格單元MC1、複數個第2檢測電極SE2及複數個第2虛擬電極DE2中包含之複數個第2網格單元MC2及藉由第1電極層6A與第2電極層6B的重疊而形成之第3網格圖案MP3中包含之複數個第3網格單元MC3亦能夠分別具有無規形狀。

又，本發明的實施形態中，第1電極層6A形成在透明絕緣基板5的第1面5A上，第2電極層6B形成在透明絕緣基板5的第2面5B上，但只要第1電極層6A及第2電極層6B彼此隔著透明絕緣構件配置而絕緣，則並不限定於該態樣。圖6示出本發明的實施形態的變形例之觸控面板用導電構件31的局部剖面圖。圖6所示之變形例中，在透明絕緣基板32上形成第1電極層6A，以覆蓋第1電極層6A的方式形成有透明絕緣層7C。進而，在透明絕緣層7C上形成第2電極層6B，以覆蓋第2電極層6B的方式形成有保護層7B。該情況下，覆蓋第1電極層6A之透明絕緣層7C成為介於第1電極層6A與第2電極層6B之間之“透明絕緣構件”，第1電極層6A與第2電極層6B隔著透明絕緣構件配置而絕緣。又，將本發明的實施形態的變形例之觸控面板用導電構件31用作觸控面板時，能夠將透明絕緣基板32用作蓋板。將透明絕緣基板32用作蓋板時，可以在透明絕緣基板32形成裝飾層。

又，圖7示出本發明的實施形態的另一變形例之觸控面板用導電構件33的局部剖面圖。圖7所示之變形例中，在第1透明絕緣基板34A上形成第1電極層6A，以覆蓋第1電極層6A的方式形成有保護層7A。又，在第2透明絕緣基板34B上形成第2電極層6B，以覆蓋第2電極層6B的方式形成有保護層7B。進而，形成在第1透明絕緣基板34A上之保護層7A和第2透明絕緣基板34B經由透明接著層35彼此接著。該情況下，覆蓋第1電極層6A之保護層7A、接著層35及第2透明絕緣基板34B成為介於第1電極層6A與第2電極層6B之間之“透明絕緣構件”，第1電極層6A與第2電極層6B隔著透明絕緣構件配置而彼此絕緣。再者，在第1檢測電極SE1上亦能夠設置非連接線，但該情況下，由於與第1電極墊11電連接之第1電極線EL1替換為不與第1電極墊11連接之非連接線，因此從降低第1檢測電極SE1的電阻值之觀點而言，在第1檢測電極SE1上不設置非連接線為較佳。

以下，對構成觸控面板1之各構件進行說明。＜基板＞透明絕緣基板5、32、34A、34B呈透明且具有電絕緣性，只要能夠支撐第1電極層6A及第2電極層6B，則並無特別限定，作為構成透明絕緣基板5之材料，例如能夠使用玻璃、強化玻璃、無鹼玻璃、聚對鈦酸乙二酯（PET：polyethylene terephthalate）、聚萘二甲酸乙二醇酯（PEN：polyethylene naphthalate）、環烯烴聚合物（COP：cyclo-olefin polymer）、環狀烯烴共聚物（COC：cyclic olefin copolymer）、聚碳酸酯（PC：polycarbonate）、丙烯酸樹脂、聚乙烯（PE：polyethylene）、聚丙烯（PP：polypropylene）、聚苯乙烯（PS：polystylene）、聚氯乙烯（PVC：polyvinyl chloride）、聚偏二氯乙烯（PVDC：polyvinylidene chloride）、三乙醯纖維素（TAC：cellulose triacetate）等。透明絕緣基板5、32、34A、34B的厚度例如係20～1000 μm，尤其為玻璃及強化玻璃等剛性透明絕緣基板的情況下，100 μm～800 μm為較佳，為如PET及COP用那樣的柔性透明絕緣基板的情況下，30～100 μm為較佳。透明絕緣基板5、32、34A、34B的總光線透過率係40%～100%為較佳。總光透過率例如係利用JIS K 7375：2008中規定之“塑料--總光線透過率及總光線反射率的求出方法”而測量者。

＜金屬細線＞形成第1檢測電極SE1及第1虛擬電極DE1之金屬細線及形成第2檢測電極SE2及第2虛擬電極DE2之金屬細線為線寬0.5 μm～10 μm的金屬細線。該等金屬細線的進一步較佳的線寬為1.0 μm～5.0 μm。作為金屬細線的較佳的材料，有銀、銅、鋁、金、鉬、鉻等，且能夠使用它們的合金、氧化物或它們的積層體。尤其從電阻值的觀點而言，銀或銅為較佳，例如能夠使用鉬/鋁/鉬、鉬/銅/鉬、氧化銅/銅/氧化銅等積層構成的金屬細線。金屬細線的膜厚係0.05 μm～10 μm，較佳為0.1 μm～1 μm。以改善金屬細線的視覺辨認性之目的，可以於金屬細線上或金屬細線、透明絕緣基板及金屬細線之間設置黑化層。作為黑化層，能夠使用氧化銅、氧化鉬等。

＜保護層＞作為覆蓋金屬細線之透明的保護層7A及7B，能夠使用明膠、丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂等有機膜及二氧化矽等無機膜，膜厚係0.01 μm以上且10 μm以下為較佳。又，依需要，可以於保護層上形成透明塗層。作為透明塗層，使用丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂等有機膜，且膜厚係1 μm以上且100 μm以下為較佳。＜透明絕緣層＞作為形成在第1電極層6A與第2電極層6B之間之透明絕緣層7C，能夠使用丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂等有機膜及二氧化矽、氮化矽膜等無機膜，膜厚係0.1 μm以上且10 μm以下為較佳。

又，依需要，能夠在觸控面板1上追加設置以下層。＜周邊配線絕緣膜＞以防止周邊配線之間的短路及周邊配線的腐蝕為目的，可以在圖2所示之第1周邊配線12、第2周邊配線22上形成周邊配線絕緣膜。作為周邊配線絕緣膜，使用丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂等有機膜，且膜厚係1 μm以上且30 μm以下為較佳。周邊配線絕緣膜可以僅形成在第1周邊配線12及第2周邊配線22中的任一者。＜底塗層＞為了強化密接性，可以在透明絕緣基板5、32、34A、34B與第1電極層6A之間或者透明絕緣基板5、32、34A、34B與第2電極層6B之間設置底塗層。作為底塗層，能夠使用明膠、丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂、聚酯樹脂等有機膜及二氧化矽等無機膜，膜厚係0.01 μm以上且10 μm以下為較佳。＜平坦化層＞為了使透明絕緣基板5、32、34A、34B的表面呈平坦化，可以在透明絕緣基板5、32、34A、34B與第1電極層6A之間或者透明絕緣基板5、32、34A、34B與第2電極層6B之間設置平坦化層。作為平坦化層，能夠使用丙烯酸樹脂、聚胺酯樹脂、聚酯樹脂等有機膜，膜厚係0.01 μm以上且10 μm以下為較佳。尤其在透明絕緣基板5、32、34A、34B設置裝飾層時，設置平坦化層為較佳。 [實施例]

以下基於實施例對本發明進行進一步詳細的說明。以下的實施例中所示之材料、使用量、比例、處理內容、處理步驟等在不脫離本發明的宗旨之範圍內能夠進行適當變更，本發明的範圍並不應藉由以下的實施例而限定性解釋。

＜觸控面板的製作＞準備曝光圖案不同之各種光罩，於透明絕緣基板的兩面上分別形成由金屬細線構成之複數個第1檢測電極、複數個第1虛擬電極、複數個第2檢測電極及複數個第2虛擬電極而製作了導電構件。再者，作為導電構件的基板，使用厚度38 μm的聚對鈦酸乙二酯薄膜，並由銀線形成了金屬細線。又，在複數個第1檢測電極、複數個第1虛擬電極、複數個第2檢測電極及複數個第2虛擬電極中，將網格的線寬亦即複數個金屬細線的線寬設為4.0 μm，作為網格形狀，採用了銳角60度的菱形網格形狀。進而，使用由3M Company製 8146-4（產品編號）形成之厚度75 μm的光學透明黏著片，將所製作之導電構件接合於由厚度1.1 mm的強化玻璃形成之覆蓋面板，藉此製作了觸控面板。又，為了驅動所製作之觸控面板，在觸控面板連接了Atmel Corporation製積體電路。

＜檢測靈敏度的評價＞將所製作之觸控面板配置在LCD（Liquid Crystal Display：液晶顯示裝置）上，一邊在LCD的整個面顯示白色，一邊實施了觸控面板的檢測靈敏度的評價。觸控面板的表面中，在預先設定之1萬處位置上依序使用探針機器人，一邊接觸前端直徑為2.0 mm的觸控筆，一邊檢測了各觸控位置。之後，比較了1萬處的檢測結果和與其對應之設定值。具體而言，利用從檢測位置和預先設定之位置的距離小的值起第9973個值，以以下評價標準評價了靈敏度。 “A”：上述第9973個的值小於1.0 mm “B”：上述第9973個的值為1.0 mm以上且小於2.0 mm “C”：上述第9973個的值為2.0 mm以上且小於3.0 mm “D”：上述第9973個的值為3.0 mm以上再者，評價”D”為錯誤檢測多而實際使用上存在問題之級別，評價”C”為錯誤檢測少而實際使用上不存在問題之級別，評價”B”為幾乎沒有錯誤檢測，係優異級別、評價”A”為沒有錯誤檢測，係非常優異之級別。

在此，對製作本發明的導電構件3之方法進行具體說明。（鹵化銀乳劑的製備）向保持在溫度38℃、pH（potential of hydrogen：酸鹼度）4.5之下述1液中，一邊攪拌相當於下述2液及3液的各90%的量一邊同時經20分鐘進行添加而形成了0.16 μm的核粒。接著，經8分鐘添加下述4液及5液，進而經2分鐘添加下述2液及3液的剩餘10%的量而使其生長至0.21μm。進而，添加碘化鉀0.15g，熟化5分鐘而結束了粒子形成。

1液：水……750 ml 明膠……9 g 氯化鈉……3 g 1,3-二甲基咪唑啶-2-硫酮……20 mg 苯硫代磺酸鈉……10 mg 檸檬酸……0.7 g 2液：水……300 ml 硝酸銀……150 g 3液：水……300 ml 氯化鈉……38 g 溴化鉀……32 g 六氯銥（III）酸鉀（0.005%KCl 20%水溶液）……8 ml 六氯銠酸銨（0.001%NaCl 20%水溶液）……10 ml 4液：水……100 ml 硝酸銀……50 g 5液：水……100 ml 氯化鈉……13 g 溴化鉀……11 g 亞鐵氰化鉀……5 mg

然後，按常規方法，藉由絮凝法進行了水洗。具體而言，將溫度降低至35℃，添加3升蒸餾水，使用硫酸直至鹵化銀沉澱為止降低了pH（為pH3.6±0.2的範圍）。接著，去除了約3升上清液（第一水洗）。進而，添加3升蒸餾水之後，直至鹵化銀沉澱為止添加了硫酸。再次去除了3升上清液（第二水洗）。將與第二水洗相同的操作進一步重複一次（第三水洗），並結束了水洗/脫鹽步驟。將水洗/脫鹽後的乳劑調整至pH6.4、pAg7.5，添加明膠3.9 g、苯硫代磺酸鈉10 mg、苯硫代亞磺酸鈉3 mg、硫代硫酸鈉15 mg及氯金酸10 mg，於55℃下實施化學增感以便得到最佳靈敏度，且作為穩定劑添加了1,3,3a,7-四氮雜茚100 mg，作為防腐劑添加了PROXEL（商品名，ICI Co.,Ltd.製）100 mg。最終得到之乳劑係包含0.08莫耳%的碘化銀，且將氯溴化銀的比率設為氯化銀70莫耳%、溴化銀30莫耳%且平均粒徑0.22 μm、變異係數9%的碘氯溴化銀立方體粒子乳劑。

（感光性層形成用組成物的製備）向上述乳劑添加1,3,3a,7-四氮雜茚1.2×10^-4 莫耳/莫耳Ag、對苯二酚1.2×10^-2 莫耳/莫耳Ag、檸檬酸3.0×10^-4 莫耳/莫耳Ag、2,4-二氯-6-羥基-1,3,5-三吖𠯤鈉鹽0.90g/莫耳Ag、微量的膜硬化劑，並使用檸檬酸將塗佈液的pH調整至5.6。以相對於所含有之明膠成為聚合物/明膠（質量比）=0.5/1之方式向上述塗佈液添加了（P-1）所表示之聚合物與含有由二烷基苯基PEO硫酸酯形成之分散劑之聚合物乳膠（分散劑/聚合物的質量比為2.0/100=0.02）。 [化1]

進而，作為交聯劑添加了EPOXY RESIN DY 022（商品名：Nagase ChemteX Corporation製）。再者，將交聯劑的添加量調整為後述之感光性層中的交聯劑的量成為0.09 g/m² 。如上製備了感光性層形成用組成物。再者，參閱日本專利第3305459號及日本專利第3754745號合成了上述（P-1）所表示之聚合物。

（感光性層形成步驟）於透明絕緣基板的兩面塗佈上述聚合物乳膠而設置了厚度0.05 μm的底塗層。透明絕緣基板中使用了38 μm的聚對酞酸乙二酯薄膜（Fujifilm Corporation製）。接著，於底塗層上設置了由上述聚合物乳膠與明膠及光學濃度為約1.0且藉由顯影液的鹼而脫色之染料的混合物形成之防光暈層。再者，聚合物與明膠的混合質量比（聚合物/明膠）係2/1，聚合物的含量係0.65 g/m² 。於上述防光暈層上塗佈上述感光性層形成用組成物，進而以明膠量成為0.08 g/m² 之方式塗佈以固體成分質量比（聚合物/明膠/EPOCROS K-2020E/SNOWTEX C（註冊商標））1/1/0.3/2混合上述聚合物乳膠、明膠及EPOCROS K-2020E（商品名：NIPPON SHOKUBAI CO., LTD.製、㗁唑啉系交聯反應性聚合物乳膠（交聯基：㗁唑啉基））、SNOWTEX C（註冊商標、商品名：Nissan Chemical Industries, Ltd.製、膠體二氧化矽）而成之組成物，從而得到了於兩面形成有感光性層之支撐體。將於兩面形成有感光性層之支撐體作為薄膜A。所形成之感光性層中，銀量為6.2 g/m² 、明膠量為1.0 g/m² 。

（露光顯影步驟）例如，分別準備具有如圖3所示之圖案之第1檢測電極形成用第1光罩及具有如圖4所示之圖案之第2檢測電極形成用第2光罩，於上述薄膜A的兩面分別配置第1光罩及第2光罩，並利用以高壓水銀燈為光源之平行光進行了兩面同時曝光。曝光後，用下述顯影液進行顯影，進而使用定影液（商品名：CN16X用N3X-R、Fujifilm Corporation製）進行了顯影處理。進而，用純水進行沖洗，並乾燥，藉此得到了於兩面形成有由Ag（銀）形成之金屬細線與明膠層之支撐體。明膠層形成在金屬細線之間。將所得到之薄膜作為薄膜B。

（顯影液的組成）顯影液1升（L）中含有以下化合物。對苯二酚……0.037 mol/L N-甲胺苯酚……0.016 mol/L 偏硼酸鈉……0.140 mol/L 氫氧化鈉……0.360 mol/L 溴化鈉……0.031 mol/L 焦亞硫酸鉀……0.187 mol/L

（明膠分解處理）將薄膜B浸漬於蛋白水解酶（Nagase ChemteX Corporation製Bioprase AL-15FG）的水溶液（蛋白水解酶的濃度：0.5質量%、液溫：40℃）120秒鐘。從水溶液取出薄膜B，於溫水（液溫：50℃）中浸漬120秒鐘，並進行了清洗。將明膠分解處理後的薄膜作為薄膜C。

＜低電阻化處理＞對上述薄膜C，使用由金屬製輥組成之拋光裝置，以30kN的壓力進行了拋光處理。此時，將兩片具有線粗Ra=0.2 μm、Sm=1.9 μm（用KEYENCE CORPORATION.製形狀解析雷射顯微鏡VK-X110測量（JIS-B-0601-1994））的粗面形狀之聚對酞酸乙二酯薄膜以該等的粗面與上述薄膜C的表面及背面對向之方式一同進行搬送，從而於上述薄膜C的表面及背面轉印形成了粗面形狀。上述拋光處理後，使其經120秒鐘通過溫度150℃的過熱蒸汽槽，並進行了加熱處理。將加熱處理後的薄膜作為薄膜D。該薄膜D為導電構件。

接著，對實施例1～實施例7、比較例1及比較例2進行說明。實施例1～實施例7為具有與圖1～圖5所示之本發明的實施形態的觸控面板相同的構成之觸控面板，第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2及第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2等的值分別不同。（實施例1）實施例1係具有與圖1～圖5所示之本發明的實施形態的觸控面板相同的構成之觸控面板，將第1檢測電極SE1的第1電極寬度W1設為2.0 mm，將第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2設為4.0 mm，將第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2設為0.75。此時，第2電極寬度W2與佔有率C2之積的值為3.0，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值為1.5。

（實施例2）實施例2除了將第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2設為0.50之外與實施例1相同。此時，第2電極寬度W2與佔有率C2之積的值為2.0，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值為1.0。（實施例3）實施例3除了將第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2設為0.60之外與實施例1相同。此時，第2電極寬度W2與佔有率C2之積的值為2.4，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值為1.2。

（實施例4）實施例4除了將第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2設為0.80之外與實施例1相同。此時，第2電極寬度W2與佔有率C2之積的值為3.2，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值為1.6。（實施例5）實施例5除了將第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2設為5.0 mm，且將第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2設為0.80之外與實施例1相同。此時，第2電極寬度W2與佔有率C2之積的值為4.0，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值為2.0。

（實施例6）實施例6除了將第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2設為0.4之外與實施例1相同。此時，第2電極寬度W2與佔有率C2之積的值為1.6，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值為0.80。（實施例7）實施例7除了將第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2設為5.0 mm，且將第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2設為0.90之外與實施例1相同。此時，第2電極寬度W2與佔有率C2之積的值為4.5，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值以2位有效數字為2.3。

（比較例1）比較例1除了在第2檢測電極SE2中不具有非連接線NL，且第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2為1.0之外與實施例1相同。此時，第2電極寬度W2與佔有率C2之積的值為4.0，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值為2.0。（比較例2）比較例2除了將第1檢測電極SE1的第1電極寬度W1設為4.0 mm，將第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2設為2.0 mm，且將第2檢測電極SE2中的複數個第2電極線EL2的佔有率C2設為0.50之外與實施例1相同。此時，第2電極寬度W2與佔有率C2之積的值為1.0，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值為0.25。

將實施例1～實施例7、比較例1及比較例2的評價結果示於下表。

[表1]

如表1所示，實施例1～實施例7中，針對觸控操作之檢測靈敏度的評價均為“C”以上，能夠得到優異之檢測靈敏度。尤其，實施例1、實施例3及實施例4中，針對觸控操作之檢測靈敏度的評價為“A”，能夠得到檢測靈敏度優異之觸控面板。另一方面，比較例1及比較例2中，檢測靈敏度的評價為“D”。

針對觸控操作之檢測靈敏度的評價為”A”之實施例1、實施例3及實施例4中，第2檢測電極SE2均具有複數個非連接線NL，第2電極寬度W2均大於第1電極寬度W1，進而，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值均滿足上述式（2）。

認為實施例1、實施例3及實施例4中，第2檢測電極SE2具有複數個非連接線NL且第2電極寬度W2大於第1電極寬度W1，藉此一邊降低第2檢測電極SE2中的寄生電容，一邊屏蔽在第1檢測電極SE1和第2檢測電極SE2重疊之電極交叉部中，第2檢測電極SE2伴隨LCD的動作產生之電磁波，從而能夠降低針對觸控操作之檢測信號的雜訊。進而，認為實施例1、實施例3及實施例4中，藉由將佔有率C2設定為如滿足上述式（2）之適當的值，並調整第2檢測電極SE2中的第2電極線EL2的合計面積，能夠進一步降低第2檢測電極SE2中的寄生電容。因此，認為在實施例1、實施例3及實施例4中，針對觸控操作之檢測靈敏度得到提高，評價成為”A”，能夠得到非常優異之觸控面板。

又，針對觸控操作之檢測靈敏度的評價為“B”之實施例2及實施例5中，第2檢測電極SE2均具有複數個非連接線NL，且第2電極寬度W2均大於第1電極寬度W1，進而，第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值雖不滿足上述式（2），但滿足上述式（1）。

認為實施例2及實施例5中，與實施例1、實施例3及實施例4同樣地，第2檢測電極SE2具有複數個非連接線NL且第2電極寬度W2大於第1電極寬度W1，藉此一邊降低第2檢測電極SE2中的寄生電容，一邊屏蔽在第1檢測電極SE1和第2檢測電極SE2重疊之電極交叉部中，第2檢測電極SE2伴隨LCD的動作產生之電磁波，從而能夠降低針對觸控操作之檢測信號的雜訊。進而，認為實施例2及實施例6中，藉由以滿足上述式（1）的方式設定了佔有率C2，能夠進一步降低第2檢測電極SE2中的寄生電容。因此，認為實施例2及實施例5中，檢測靈敏度的評價成為“B”，能夠得到優異之觸控面板。

又，認為針對觸控操作之檢測靈敏度的評價為“C”之實施例6中，佔有率C2為0.40，因此第2電極寬度W2與佔有率之積除以第1電極寬度W1而得的有效電極寬度比WR的值為低於上述式（1）的下限之0.80，但第2檢測電極SE2具有複數個非連接線NL，且第2電極寬度W2大於第1電極寬度W1，因此一邊降低第2檢測電極SE2中的寄生電容，一邊屏蔽在第1檢測電極SE1和第2檢測電極SE2重疊之電極交叉部中，第2檢測電極SE2伴隨LCD的動作而產生之電磁波，從而能夠降低針對觸控操作之檢測信號的雜訊。因此，認為實施例6中，針對觸控操作之檢測靈敏度成為“C”，得到了實際使用上沒有問題的觸控面板。

又，認為針對觸控操作之檢測靈敏度的評價為“C”之實施例7中，佔有率C2為0.90，因此第2電極寬度W2與佔有率C2之積除以第1電極寬度W1之有效電極寬度比WR而得的值為超過上述式（1）的上限之2.3，但第2檢測電極SE2具有複數個非連接線NL，第2電極寬度W2大於第1電極寬度W1，因此一邊降低第2檢測電極SE2中的寄生電容，一邊屏蔽在第1檢測電極SE1和第2檢測電極SE2重疊之電極交叉部中，第2檢測電極SE2伴隨LCD的動作而產生之電磁波，從而能夠降低針對觸控操作之檢測信號的雜訊。因此，認為實施例7中，針對觸控操作之檢測靈敏度成為“C，得到了實際使用上沒有問題的觸控面板。

又，認為針對觸控操作之檢測靈敏度的評價為“D”之比較例1中，第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2大於第1檢測電極SE1的第1電極寬度W1，因此屏蔽在第1檢測電極SE1和第2檢測電極SE2重疊之電極交叉部中，第2檢測電極SE2伴隨LCD的動作而產生之電磁波，從而能夠降低針對觸控操作之檢測信號的雜訊。然而，認為比較例1中，第2檢測電極SE2不具有非連接線NL，且佔有率C2為1.0，因此藉由使第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2大於第1檢測電極SE1的第1電極寬度W1，第2檢測電極SE2中的寄生電容增加，針對觸控操作之檢測靈敏度降低，評價成為“D”，得到了實際使用上存在問題的觸控面板。

又，認為針對觸控操作之檢測靈敏度的評價為“D”之比較例2中，第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2小於第1檢測電極SE1的第1電極寬度W1，因此無法充分屏蔽在第1檢測電極SE1和第2檢測電極SE2重疊之電極交叉部中，第2檢測電極SE2伴隨LCD的動作而產生之電磁波，從而無法降低針對觸控操作之檢測信號的雜訊。藉此，認為比較例2中，針對觸控操作之檢測靈敏度降低，評價成為“D”，得到了實際使用上存在問題的觸控面板。

從以上可知，第2檢測電極SE2的第2電極寬度W2大於第1檢測電極SE1的第1電極寬度W1，第2檢測電極SE2具有複數個非連接線NL，藉此可得到能夠提高針對觸控操作之檢測靈敏度之觸控面板。進而，可知藉由滿足上述式（1）及上述式（2），可得到能夠更加提高針對觸控操作之檢測靈敏度之觸控面板。

1、31、33:觸控面板

1A:表面

1B:背面

2:蓋板

3:觸控面板用導電構件

4、35:接著層

5、32:透明絕緣基板

5A:第1面

5B:第2面

6A:第1電極層

6B:第2電極層

7A、7B:保護層

7C:透明絕緣層

11:第1電極墊

12:第1周邊配線

13:第1外部連接端子

21:第2電極墊

22:第2周邊配線

23:第2外部連接端子

34A:第1透明絕緣基板

34B:第2透明絕緣基板

D1:第1方向

D2:第2方向

DE1:第1虛擬電極

DE2:第2虛擬電極

EL1:第1電極線

EL2:第2電極線

G1、G2、G3:間隙

MC1:第1網格單元

MC2:第2網格單元

MC3:第3網格單元

MP1:第1網格圖案

MP2:第2網格圖案

MP3:第3網格圖案

NL:非連接線

P1:第1網格間距

P2:第2網格間距

P3:第3網格間距

R0:區域

S1:輸入區域

S2:外側區域

SE1:第1檢測電極

SE2:第2檢測電極

W1:第1電極寬度

W2:第2電極寬度

圖1係本發明的實施形態之觸控面板的局部剖面圖。圖2係本發明的實施形態中之導電構件的俯視圖。圖3係本發明的實施形態中之第1電極層的局部放大俯視圖。圖4係本發明的實施形態中之第2電極層的局部放大俯視圖。圖5係本發明的實施形態中之導電構件的局部放大俯視圖。圖6係本發明的實施形態的變形例之觸控面板的局部剖面圖。圖7係本發明的實施形態的其他變形例之觸控面板的局部剖面圖。