TWI362567B - Apparatus and method for providing fluid for immersion lithography - Google Patents

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1362567 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 相關申請案之交互春照 本申凊案係基於且主張2〇〇3年9月3日提出申請之美 國臨時中請案第6_〇,312號、以及在·4年2月2日 提出申請之美國臨時申請案帛6〇/541，329 1的利益，該二 個申請案的全部揭示内容係加入本文以做為參考。 本發明大體上係相關於用於提供用於浸液微影術之流 體的-種裝置及-種方法’更特別的是，用於控制流體流 動及壓力來提供用於浸液微影術之穩定狀況的一種裝置及 一種方法。 【先前技術】 曝光裝置是通常被使用來在半導體製程期間將圖像從 一個標線板轉換到一個半導體晶圓上之一種類型的精密組 件。一個典型的曝光裝置係包括有一個照明來源、一個保 2著一個標線板的標線板台架、一個光學組件、一個保持 著一個半導體晶圓的晶圓台架組件、一個測量系統以及一 個控制系統。覆蓋著抗蝕劑的晶圓係被放置在從一個具有 圖案之遮罩發散出的放射路徑中，並且藉著放射線被曝 光。當抗#劑被發展出來時，遮罩的圖案會被轉移到晶圓 上:在顯微鏡學上’極限的紫㈣（EUV)放射係經由一 7薄樣本被傳送到一個抗蝕劑覆蓋的板件處。當抗蝕劑被 毛展出來時，係會留下—種關於該樣本之結的形貌形 1362567 浸液式微影術是一種可以藉著容許以大於丨的數值孔 徑（να)(其對傳統式的“乾式，’系統來說為理論上的最 大值）來進行曝光以增強投影式微影術之分辨率的技術。 藉著填充介於最後之光學元件與抗蝕劑塗覆之目標（亦 即，晶圓）之間的空間，浸液微影術係容許能夠藉著在其 他方面會在一個光學鏡片一空氣介面處被内部全反射的光 線曝光。具有與浸液液體-樣大之㈣（或是抗㈣或鏡 2材料的指數，不管哪一個是最小的）的數值孔徑是有可 月的。與具有相同數值孔徑的乾式系統相車交，液體浸液也 會藉著該浸液液體的指數而增加晶圓的焦點深度（亦即， 在阳圓之垂直方向中可以容忍的錯誤）。浸液式微影術因 此具有能夠提供等於從248到193 nm之移位之增強分辨 率的可能性。然而，與在曝光波長中之一種移位所不同的 是’採用浸液的方式將不會需要發展出新的光源、光學材 料或是塗層，並且使用與傳統式微影術相同或相似而具有 相同波長的抗蝕劑應該是容許的。在一種其中僅有最後的 光學元件及其殼體以及晶圓（或許以及該晶圓台）會與浸 液流體相接觸的浸液系統之中，冑多為了在該領域中之傳 統式工具所發展出來的技術及設計（像是污染控制）可以 直接繼續被應用到浸液微影術。 浸液微影術的其中-項挑戰是設計出一種用於在最後 的光學元件與該晶圓之間運送及回收一種流體（像是水） 的系統，以便於提供浸液微影術的一種定狀況。 【發明内容】 1362567 本發明的實施例係針對控制流體之流動以及壓力的一 種系統及一種方法，用以提供用於浸液微影術的一種定狀 況。一種流體係在浸液微影術的製程期間被提供於一個介 於鏡片與基材之間的空間之中。流體係被供應到該空間之 中，並且係經由一個與該空間以流體相連通的多孔構件從 該空間處被时。將在多孔構件中的壓力保持在該多孔構 件之起泡點之下係能夠消除在回收流體期間由混合空氣與 "IL體所產生的噪音。該起泡點為該多孔構件的一個特性， 其係取決於在該多孔構件中之洞孔的尺寸（最大的洞孔） 以及流體與該多孔構件所形成的接觸角度（如同-個基於 該：孔材料之性質及該流體之性質的參數）。因為該起泡 點一般是一個非常低的壓力，這個低壓的控制係變成了 — 個很重要的議題。 本發明的-個方面係指向一種在一個浸液微影系統中

-.一 叫日日ISJ I间的S間恩回收一種流 法1 3有將該流體經由一個回收流動管線 構件從該空間抽出；以及，在將流體從該 將在該多孔構件中之流體的一個壓力維持 個起泡點之了。 之中’維持壓力的步驟係包含有：提供 &々的溢流容器；以及，將通過該 的流體經由該回收流動管線引導至 維持壓力的步驟更包含有：用虹吸管將該流 器處運送到—個收集箱。該流體係藉著重力 2用虹吸管向下運送到被配置在該溢流容器下方的收集 相。在其他的實施例之中’維持壓力的步驟係包含有：提 供-個流體位準緩衝器；將該流體從該空間處經由一個緩 衝器流動管線通過該多孔構件而抽到該流體位準緩衝器 處；感測出在該流體位準緩衝器處的一個壓力或是一個流 體位準；α及，根據在該流體位準緩衝器處所感測到的壓 力或是流體位準控制從該空間處經由該回收流動管線而通 過該多孔構件被抽出的流體流動。控制該流體流動的步驟 係包含有控制一個可變的閥，該閥係被配置在該多孔構件 y游的回收流動管線之中。在又其他的實施例之中，維持 堅力的步驟係包含有：提供一個流體位準緩衝器；將該流 體從該空間處經由一個緩衝器流動管線通過該多孔構件而 4到該机體位準緩衝器處；《測出在該流體位準緩衝器處 的一個壓力或是一個流體位準^及，根據在該流體位準 緩衝器處所感測到的壓力或是流體位準控制-個在通過該 ^孔構件之回收流動管線之—個出口處的0壓力。控制 ”空堡力的步驟係包含有：控制在—個位於該时流動管 線之出σ處之收集箱中之—個真空調節器。 —^據本發明的另外_個方面，—種裝置係用於在一個 浸液微影系統中從—個人 — 個；I於一個鏡片與一個晶圓之間的空 間處回收-種流體，該裝置係包含有一個内 部：件係包括有一個鏡片開σ，用以容置該鏡片的一個部 用以將Π °亥：片定位在離開與該空間分隔的基材處， 一種流體容納在介於該鏡片與該基材之間的空間之 1362567 中。一個外部部件係被配置在 ^ , ^ η。丨部件周圍，並且包括 有一個以&體的方式與該空間相 出口相連結的多孔構件，用以將；並且與—個流體回收 褥仵用以將机體從該空間處、經由該 夕孔構件抽到該流體回收出口。— ^ ^ ^ ^ _ 個壓力控制系統係以流 體的方式與該多孔構件相連結， ^ ^ ^ ^ 用以在經由多孔構件將流 體從該工間處抽出期間在該多孔構件的表面處將一個壓力 維持在該多孔構件的一個起泡點之下。 在某些實施例之中，該壓力控制系統係包含有一個溢 "…，其係以流體的方式與該多孔構件相連結；以及， -個真空調節器，其係被建構成用以調節在該溢流容器之 個壓力。—個收集箱係以流體的方式被連結到該溢 bll·谷裔並且配置該益、;ή交哭τ 置於》亥溢肌今益下方。在其他的實施例之 中，該壓力控制系統係包含有一個流體位準緩衝器，其係 以流體的方式與該多孔構件相連結；一個感測器，其係被 建構成用以感測出在該流體位準感測器處的一個壓力或是 一個流體位準；m’—個控制器，其係被建構成用以根 據-個來自於該感測器的一個訊號來調整從該空間處經由 該流體回收出口抽出之流體的流率，用以在經由該多孔構 件將流體從該空間處抽出期間將在該多孔構件的表面處之 一個壓力維持在該多孔構件之一個起泡點以下。該壓力控 制系統包3有一個閥’其係被配置在該流體回收出口的下 游處’並且該控制係被建構成控制該閥，用以調整從該 空：處經由該流體回收出口抽出之流體的流率。在又其2 的實把例之中’該屋力控制系統係包含有一個收集箱，其 10 1362567 係以流體的方式被連結到該流體回收出口；以及—個。 控制的真空調節器，其係被建構成用以調節在該收集箱之 中的一個壓力。該控制器係被建構成用以控制該可控^的 真空調節用以藉著控制在該收集箱之中的壓力來調整 從該空間處經由該流體回收出口抽出到該收集.箱之流體: 流率。 社将疋的實施例 ......μ 一徊〒間間隔 從該外部部件處被隔開。該㈣部件係包括有—個内部空 穴’該内部空穴係形成了介於鏡片與基材之間之一部份: 間隔，並且該内部部件包括有被配置在該内部空穴上方的 開孔’用於將流體導入該内部空穴、或是從該内部空穴抽 :流體、或是將流體導入該内部空穴及從該内部空穴抽出 流體。該内部部件包括有被配置在鏡片開口之相對側邊上 的開孔，用於將流體導入該内部空穴之中。該内部部件包 對緩衝器狹縫，纟等係在該浸液微影系統的一個掃 :勺：之中被配置在該鏡片㈤口的相對側邊上。該内部部 午l括有淨化洞孔，並且其中，該 狹縫係以3對緩衝器狹縫中的每個 —係以流體的方式被連結到該等淨化洞孔的至少豆中之 二構件係從由一個網筛、-個多孔材料二及- 者，、〃有㈣洞孔的構件所組成的群組中被選擇出來 根據本發明的另一個方面 學投鉍έ 促氓置係包含有一個 ^ α ^ ^九學件並且係被建捐 用以將—個圖像投射在一個工件 1卞工，以及，一個台架， 1362567 係被建構成用以當該圖像被投射在該工件上的時候在與該 光學投射系統相鄰處支撐該工件。一個缺口係被提供在該 最後光學元件與該工件之間，並且係被建構成被以一種浸 液流體填充。一個多孔材料係被定位在相鄰該缺口處，並 且係被建構成用以回收離開該缺口的流體。一個控制系統 係被建構成用以維持在該多孔材料上的一個壓力。該壓力 係等於或小於該多孔材料的起泡點。 【實施方式】 圖1係顯示出-個浸液微影系統10，該系統包括有一 個其上係支撐著一個標線板的標線板台架12、一個投射鏡 片14、以及一個晶圓16，該晶圓係被支撐在一個晶圓台 架/8上 自次液裝置20 (其在本文中有時係被稱為一 個蓮蓬頭或是一個喷嘴）係被配置在該投射鏡# 14的最 後光學元件22周圍，用以在該最後光學元件22與該晶圓 16之間提供並且回收攻挪 收,L體，該流體可以是一種像是水或是 一種氣體的液體。 則的實施例之中’在該浸液微影系 r 1〇之中’在一個掃描曝光期間’該標線板及該晶圓16 係在各自的掃描方向中被同步地移動。 圖2及圖3係鞀 _ ^ ‘，，貝不出用於浸液微影術之在最後的光學 疋件22與該晶圓16之 <間運送或回收流體的裝置或是喷嘴 。圖2係顯示出該喷 ^ . 嘴嘴20的仰視立體圖’該喷嘴係包 枯有一個外部部件3 〇 β y 你田 及一個内部部件32。該内部部件32 係界定出一個内部 兮曰 工八34 ’用以在最後的光學元件22與 这日曰圓16之間接收户 ^ 机體。該内部部件3 2係包括有用於流 12 1362567 入及流出該内部空穴34之流體的開孔38。如同可以從圖 2之中看出的，其中係有被配置在該最後光學元件22之二 個側邊上的開孔38。該内部部件32具有一個圍繞著該内 部空穴34的平坦部位33。該平坦部位33係實質上平行於 該晶圓16。介於該最後光學元件22的端部表面與該晶圓 16之間的距離D1係大於介於該平坦部位33與該晶圓 之間的距離D2。距離D1可以是^到5〇 mm ’並且距離 D2可以是〇.2到2.〇 mm。在另一個實施例之中距離叫 係實質上等於距離D2。該内部部件32更包括有一對帶有 净化洞孔42的緩衝器或是緩衝器狹縫4〇。該等緩衝器4〇 係被配置在或是接近該平坦部位33處。該等緩衝器4〇係 被配置在最後光學元件22的相對側邊上。内部部件W在 掃描方向44上的一個剖面視圖係被顯示在圖4之中。 咏外邯邵仵係從該内部部件32處被隔開一個中 間隔或是溝槽48，該溝槽可以被稱作為一個大氣溝槽。 外部部件30包括有一個或多個被配置在該最後光學元件 之相對側邊上的流體回收開口 5〇β 一個多孔構件5丨係 =在-個狹縫或是外部空穴53之中，其中，該狹縫 -外部空穴係在該内部部件32周圍延伸並且以流體的 式與該等流體回收開口 50相連通。該多孔構件Η可以 -個網筛或是可以是以—種具有洞孔的多孔材料所形 者，其中’該洞孔的的尺寸範圍—般是在大約5"" :米。舉例來說’該多孔構件51可以是一種包括有以 屬、塑膠、或是類似物製成之編織件或是材料層 13 1362567 師、—種多孔金屬、一種多孔玻域、 夕札圾塥、一種多孔塑膠、一種 夕孔陶竟、或是具有化學钱刻（例 j、例如’藉著照相蝕刻）洞 孔的材料薄片。該外部部件3〇更句 文包括有一個流體緩衝器 出口 56以及一個流體回收出口 58。。 K 在另一個如同可以從 圖5看到之喷嘴20’的實施例之中， J Τ δ亥内部部件32並不會 接觸最後的光學元件22或是與哕开料 尺疋畀〇哀兀件形成一個密封，而 疋會從該最後的光學元件22處分 ♦ # t〆 外刀IWj開。該空隙係防止了 噴嘴的震動被傳送到該最後的光輋 无幻尤予兀件22。然而，該空隙 可以容許流體被暴露到空氣中。 該喷嘴20的一個特徵是，复伤 ^具係破製作成二個部件，易 吕之’該外部部件30及該内邱邶彼，、 内。^件32。該内部部件32係 ，准持者介於鏡片與晶圓表面 ^ 衣囬之間的流體，並且該内部部件 30主要是提供用於流體的回收。 Μ L 收震動可以在流體的回收期 間從该外部部件30處經由 „ „ # , 田該夕孔構件51被引導到微影系 、，先的其他元件處，包括有可 走 被使用於將一種自動聚焦光 束引導到β亥晶圓16的内部邻杜^ 奘 < 。卩件32。一個阻尼材料可以被 件之門1 外部部件30所裝設之裝設用元 件之間，用以將來自於該外 ^ 卜邵邛件30之簏動的傳輸作用 藏小到最小的程度。除4卜 部件3〇可以具有污㈣傾^包括有該多孔構件的外部 維修。使該外部料3G Μ因此必須被更換或是 容易的維修。其也可以將：種個別的部件係有助於較 將外部寻在要相對於更換整個噴嘴20而 打外4 4件更換之後的重 到最小的程度。如果Μ 校準的時間減小 ^ μ嘴嘴20被製作成二個分開的部件 14 在替代的竇，9進忒噴冑20的可製造性。所了解的是， a n的實施例之中，钤▲ 的部件。 δχ噴嘴20可以被製作成一個單獨 該噴嘴20 «£Α <? 部部件3G之間的m2徵是介於該内部部件32與該外 同一個斷㈣緣，:二這m㈣48係作用如 供應速率更挟的W 流體的回收速率比流體的 % 外部部件30上的\ g内部部件3〇 t中的流體被位於該 的 ’夕孔構件51抽出。在其中沒有斷裂邊緣 ./ ，介於該流體回收速率與該流體供應速率之間 平衡必須被保肖，使得流體可以在掃描期間的所有 1間被保持在該内部部件32之内。具有該大氣溝槽48係 今許回收速率可以被設定在—個最大值，肖以將在掃描期 間Λ漏出該外部部# 3()之外的流體減少到最小的程度。 该大氣溝槽48亦作用如同一個用於在掃描期間進入及離 開之流體的緩衝器，將水之供應及回收的需求減少到最小 的程度。 在浸液微影的製程之中，一種流體係要從一種乾的狀 態被填充在該投射鏡片14與該晶圓16之間，並且，在其 他的時間，該流體係要被回收。舉例來說，在一個新晶圓 的曝光開始時’該流體係要在曝光開始之前完全地填滿該 内部部件32的内部空穴34。在這個製程期間，理想的狀 況是投射鏡片14與晶圓16之間或是其他像是該自動聚焦 光束的光學路徑沒有空氣氣泡的存在。該内部部件32之 内部空穴中之流體的供應係被設計在位於在該空穴之中的 15 1362567 最高位置點（經由開孔38)，使得該流體可以從上到下地 填充，容許空氣的氣泡可以在填充製程期間被推出該内部 穴之外。在這個實施例之中’所希求的是該流體在一開始 時是從一個侧邊處被供應（該組開孔38係位於一個側邊 上），使得該流體會從一個側邊被填充到另一個，而再次 容許空氣氣泡可以被推出來避免空氣被捕捉於其中。其他 的配置方式也是有可能的’只要該流體是從内向外地被填 充即可。 ' 有些時候，流體必須從該内部部件32的内部空穴處被 完全回收。在圖i之中，在該内部空穴的每個緩衝器4〇 之中係會有小型的洞孔42。這些洞孔42係被提供以用於 在當流體必須i完全恢復時快速地回收&冑或是淨化流 體。使帛與在該晶圓自帛18巾之某種運動結合在一起的 二度真空來將該流體從這些洞孔42之中吸抽出來係容許 可以在一個合理的時間之内回收所有的流體。 該内部部件32具有二個群組或是二排開孔38,用於 =應或是回收該流體。每排開孔可以被獨立地控制，用以 二=或K回收流體。在其中二排開孔都被選擇來供應流體 'm' '3? ' ，所有的流體是經由在該外部部件3 0之中的容 孔構件 ^〗 夕 可r 31而被回收。由於二排開孔都是用來供應流體， 片=在該内部空穴之中建立起一個壓力，而導致該投射鏡 的最後光學元件22或是晶圓16或是二者係會產生 欠* . 仗，：8越該最後光學元件22的流體流動也可以被限制 並且因此，介於該最後光學元件22與晶圓丨6之間之 16 1362567 流體的溫度可能會在最後上升，而產生了不利的效果。在 另方® >果-排開孔係被選擇用於供應流體且另一排 開孔則用來回收流體，一個流體的流動係會被驅使越過最 後光學元件22，將溫度的上升減小到最小的程度。也可以 在其他方面降低藉著從二排開孔供應流體所產生的壓力。 在這種情況中’需要經由該多孔構件m回收的流體系 會較V π降低了在該多孔構件中流體回收的需求。在並 他的喷嘴構造之中’可以提供多重的流體供應以及回收:、 以便於將性能予以最佳化。 在該晶圓台架18的掃描運動（在圖2之中的掃描方向 44之中）期間，流體可以被吸出及吸入内部部件32的内 部空穴之中。當該流體被吸出時，其係經由在該外部部件 3〇中的多孔構件51而被回收。當該晶圓台架以在相反的 *向中被移動時，空氣係可以被吸入内部部件Μ的内部 空穴之中。在這個時間期間’在該緩衝器4〇之 °、 ::二部空穴之内被供應的流體係有助於再裝 輙描方向被吸引的声@^ L > )丨的机體，防止空氣進入該内部空穴 該緩衝器4 4以及π 以 外部部“被_=: 作用，將從該 皮茂漏出去的流體、以及在該晶圓 :描運動期間被吸入該内部部…内部空穴中的 減少到最小的程度。 的二视 藉著將在該$ M c, 來經由該多孔構持在起泡點以下 間藉著混合收流體係可以消除在流體回收期 措者口 m流H所產㈣ 1362567 構件51的-個特性，其係、取決於在該多孔構件η之中之 洞孔（最大的洞孔）的尺寸大小以及流體與該多孔構件Η 所角度（如同一個以多孔材料的特性以及流體 之特性為基礎的參數）。由於該起泡點—般來說是一個非 常低的壓力（例如，大，約1〇〇〇巴斯卡），這個低壓的控 制係變成了 -個重要議題。…圖7係顯示出在流體的 回收期間將壓力保持在該起泡點以下的三種特殊方法。 在圖6的虔力控制系統之中’一個在起泡點之下的壓 力係使用-個真空調節H 102以及一個溢流容器或是溢流 相104的幫助而被保持在該多孔構件51的表面處，其中， 該溢：容器或是溢流箱104係以流體的方式藉著一個回收 流動管線106 (其係被連接到該流體緩衝器出口 56處）而 被連結到該多孔構# 51。在該多孔構件51之表面處的壓 力係等於藉著該真空調節器1()2所保持的壓力減去在該多 孔構件51上方之流體的高度所產生的壓力。藉著使用該 溢，箱104來將在該多孔構件51上方的流體維持在一個 固^的馬度係可以容易地控制在該多孔構件5工I表面處 的壓力。經由該多孔構件5 1被回收的流體將會溢流出來， 並且沿著一個虹吸管線1〇8以虹吸作用被向下運送到一個 收集箱1 1 0，5亥收集箱1 1 0係被配置在該溢流箱104的下 方 個選擇性的流動路徑112係被連接於該溢流箱1〇4 y 亥收集相11 〇之間，用以幫助使在介於該溢流箱i 與 違收集箱與該收集箱11〇之間的壓力相等，並且促進沿著 X虹吸g線108的流動。這個壓力控制系統1 〇〇的一個特 1362567 性係為該系統是一個沒有控制之需要的被動系統。 在圖7的壓力控制系、统12〇之中，在該多孔構件51之 表面處的壓力係使用一個位於一個水位緩衝器124處的真 ，調節器122而被保持在起泡點以下，其中，該水位緩衝 益124係以流體的方式藉著一個緩衝器流動管線(其 係被連接到該流體緩衝器出口 56)與該多孔構件Η相連 ^ 一《力變換器或是-個水位感測器128係被用來測 量在該水位緩衝器124處的壓力或是流體位準。感測器的 訊號係接著被制於到達—個閥132的反饋控制裝置13〇, 而該閥U2則被配置在_個被連接於該多孔構件η與一 個收集箱136之間的回收流體管$ 134 (其係被連接到該 流體回收出口 58)之中。該閥132可以是任何一種適當的 閥體，像疋一個成比例或是可變的閥。該可變的閥m係 被調整以控制通過該流體回收管線134而到達該收集箱Η: 的流體，用以將該流體位準緩衝胃124的壓力或是流體位 準維：在一個預設值。該收集箱Π6係處於一個相對較高 的真工狀况之下’該真空狀況係被一個高度真空調節器"a 斤控制住’用於流體的回收。在這個流體控制系統12〇之 中）並不*要溢流的容器，並且該收集箱136可以被放置 /系·先中的任何位置而不需要被配置在一個溢流箱的下 =冑開/關閥140係如所希求地被提供在該流體回收 目線134之中，並且當不需要回收流體時係會打開開關。 在圖8之中’壓力控制系統16〇係相似於圖7的系統 ，、且相同的元件參考符號係使用於相同的it件。這 19 Ϊ362567 個系統並沒有使用閥132來用於流體回收的反饋控制，反 而是利用了一個可控制的真空調節器162，用於流體回收 的反饋控制。該真空調節器162典型上係可以透過電子的 手段而控制的，用以根據來自於壓力變換器或是一個水位 感測器128的感測器訊號來調整在該收集箱136之中的真 空壓力。該真空調節器丨62係被調整以控制通過該流體回 收管線134而到達該收集箱136的流體流動，用以將該流 體位準緩衝器124的壓力或是流體位準維持在一個預設 值。在該流體回收管線134之中的開/關閥14〇在不需要 回收流體時係會打開開關。 圖9係顯示出在一個浸液微影系統中用於回收流體的 一個壓力控制系統’其係具有根據本發明之另一個實施例 之防止水之停滯的裝置。該壓力控制系統18G係、相似於圖 7的系統120’並且具有相同的元件參考符號的相同元件。 除此之外，該水位緩衝器142係以流體的方式與一個水供 應裝置或是水时裝置182相連結，心將水供應到水^ 緩衝器142或是回收來自於該水位緩衝_ 142的水，用以 防止水的停滞之產生。一個選擇性的泵或是一個相似的移 動部件可以㈣來弓丨發介於該水位緩衝器142與該 裝置或是水回收…2之間的流動。在過長時間停滯： ,或是流體巾料有細以真菌增生的m在正 :作之下’在該水位緩衝器142處的水會因為從網筛幻 :回收的水將會通過在該網篩位準處的小型管件到 集箱⑶而停滞。藉著在正常的操作期間引起流人或流出 20 1362567 s玄水位緩衝器142的流動，細菌/真菌增生的問題係可以 被防止。 要了解的是’以上的描述是說明性且並非是限制性的。 在重新探討以上的描述之後，許多實施例對於那些熟習技 術者來說將會變得明顯。因此，本發明的範疇不應該藉著 以上描述的參照而被決定，反而是應該藉著參照後附的申 明專利範圍以及其同等物的完整範疇來決定。 而且，本發明可以被應用到雙台架類型的微影系統。 雙台架類型的微影系統係例如是被揭示於美國專利第 6,262,796號及美國專利第6 341，〇〇7號之中者，該等專利 的完整揭示物係被加入本文中以作為參照。 【圖式簡單說明】 圖1為概略地顯示出根據本發明實施例之一個浸液微 影系統的簡化平面視圖； 圖2為用於根據本發明實施例之浸液微影系統之流體 運送及回收的一個喷嘴的立體圖； 圖3為圖2之喷嘴的簡化剖面視圖； 圖4為圖2之喷嘴之内部部件的剖面視圖； 圖5為根據本發明另一個實施例之一個喷嘴的簡化剖 面圖； 圖6為概略地顯示出一個壓力控制系統的簡化視圖， e亥壓力控制系統係用於在一個根據本發明之一個實施例之 浸液微影系統中的流體回收； 圖7為概略地顯示出一個壓力控制系統的簡化視圖， 21 1362567 該壓力控制系統係用於在一個根據本發明之另一個實施例 之浸液微影系統中的流體回收； ;圖8為概略地顯示出一個壓力控制系統的簡化視圖， -玄壓力控制系統係用於在一個根據本發明之另一個實施例 之浸液微影系統中的流體回收；以及 …圖9為概略地顯示出一個壓力控制系統的簡化視圖， 該=力控制系統係、用於在—個根據本發明之另—個實施例 之a m系統中的流體回& ’且該浸液微影系統係具有 防止水之停滯的裝置。 【主要元件符號說明】 10 浸液微影系統 12 標線板台架 14 投射鏡片 16 晶圓 18 晶圓台架 20 浸液裝置/喷嘴 2(Γ 喷嘴 22 最後光學元件 30 外部部件 32 内部部件 33 平坦部位 34 内部空穴 38 開孔 40 緩衝器或緩衝器狹縫 22 1362567 42 淨化洞孔 44 掃描方向 48 中間間隔或溝槽 50 流體回收開口 51 多孔構件 53 狹縫或外部空穴 56 流體緩衝器出口 58 流體回收出口 102 真空調節器 104 溢流容器或溢流箱 106 回收流動管線 108 虹吸管線 110 收集箱 112 流動路徑 120 壓力控制系統 122 真空調節器 124 水位緩衝器 126 緩衝器流動管線 128 壓力變換器或水位感測器 130 反饋控制裝置 132 閥 134 回收流體管線 136 收集箱 138 高度真空調節器 23 31362567 140 160 162 180 182 開/關閥 壓力控制系統 真空調節器 壓力控制系統 水供應裝置或水回收裝置

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Claims (1)

1. Ϊ362567 ^ ⑽年12料日修正替換頁 十、申請—1 1.一種在一個浸液微影系統之中從一個介於_個鏡片 與一個基材之間的空間之中回收/種流體的方法，該方法 係包含有以下的步驟： 將該流體經由一個回收流動管線而通過一個多孔構件 從該空間抽出；以及 在將流體從該空間抽出期間，將一壓力維持在該多孔 構件之一個起泡點或低於起泡點，該壓力係用於從該空間 抽取出流體通過該多孔構件。 2.如申請專利範圍第！項所述的方法，其中，維持屋力 的步驟係包含有： 叙比 ........^姐社坩踢回收流 動e線引導至一個保持在一個預設壓力的溢流容器。 3.如申請專利範圍第2項所述的方法，其中 的步驟更包含有：將該流體從: 集箱處。 4器處虫X吸到一個收 “ 4·如中請專利範圍第3項所述的方法， 藉著重力而祐6 A ' °亥>’IL體七 节置刀而被向下虹吸到被 箱。 ^益机谷态下方的收！ • 專利範圍第i項所述的 的步驟係包含有以下的步驟： 去其中，維持壓 將該流體從該空間處經由一 该夕孔構件抽到-個流體位準緩衝器卢…線而通 感測出在該流體位準緩衝器處。I 处的一個壓力或是—個 25 丄地567 體位準；以及 iOO年12月日修正替換頁 根據在該流體位準緩衡考 仂淮A 支衝益處所感測到的壓力或是流體 槿杜 由5玄回收k動管線而通過該多孔 構件破抽出的流體流動。 少L 6·如申請專利範圍第 體流動係包含有控制一個 孔構件下游的回收流動管 項所述的方法，其中，控制該流 可變的閥，該閥係被配置在該多 線之中。 項所述的方法’其中，維持壓力 7.如申請專利範圍第 的步驟係包含有： 將該流體從該空間處經由一個 ^ 〜心田個緩衝4流動管線而通過 該多孔構件抽到一個流體位準緩衝器處； 感測出在該流體位準、緩％器處❾一個Μ力《是一個流 體位準；以及 根據在該流體位準緩衝器處所感測到的壓力或是流體 位準控制一個在通過該多孔構件之回收流動管線之一個出 口處的真空壓力。 8.如申請專利範圍第7項所述的方法，其中，控制真空 壓力係包含有：控制在一個收集箱中之用於調整真空壓力 的個真空调節器’該收集箱係以流體的方式與該回收流 動管線相耗接。 9.一種浸液微影裝置，其係包含有： 一個光學投射系統’其係具有一個最後光學元件，該 光學投射系統係被建構成經由一個浸液流體將一個圖像投 射在一個工件上，該浸液流體係填充於一個介於該最後光 26 1362567 100年12月日修正替換頁 學元件與該工件之間的空間中； 一個台架，其係被建構成用以當該圖像被投射在該工 件上的時候支撐在與該光學投射系統相鄰的該工件； 一個多孔構件，其係被定位在相鄰該空間中，該多孔 構件係被建構成用以回收來自該空間的流體，·以及 一個控制系統，其係被建構成用以將一壓力維持在等 於或’!於Θ多孔構件的H點，該壓力係用於從該空間抽 取出流體通過該多孔材構件。 1 〇·如申請專利範圍帛9項所述的裝置，其中，該控制 系統係包含有： 一個溢流容器，其係以流體的方式與該多孔構件相耦 接；以及 一個真空調節器，其係被建構成用以調節在該溢流容 器之中的一個壓力。 u •如申請專利範圍第10項所述的裝置，其更包含有一 、收集相，忒收集箱係以流體的方式被耦接到該溢流容器 並且被配置於該溢流容器下方。 12.如申請專利範圍第9項所述的裝置，其中，該控制 系統係包含有： 一個流體位準緩衝器，錢以流體的彳式與該多孔構 件相耦接； ^ 個感州器，其係被建構成用以感測出在該流體位準 感測器處的一個壓力或是一個流體位準；以及 -個控制器，其係被建構成用以根據—個來自於該感 27 1362567 測器的-個訊號來調整從續”…心肌日修正替換頁 流體的^田 處經由該多孔構件抽出之 的，巩率，用以在經由該多孔 抽出期門膝户—☆ 馎仵將机體在從該空間處 抽出期間將在该多孔構件的表面處之 ^ 孔構件之-個起泡點以下。 准持在該多 13. 如申請專利範圍第12項所述的裝置，盆中 系統包含有一個閥，盆伟被 〜控制 .„ ^ ^ ，、係被配置在该多孔構件的下游處； 次π:，“控制器係被建構成用以控制該閥來調整從嗜 工間處經由該多孔構件被抽出之流體的流率。 - 14. 如申請專利範圍第12項所述的裝 系統係包含有： T及控制 一個收集箱，其係以流體 件；以及 的方式被耦接到該多孔構 一個可控制的真空調節器，1 該收集箱之中的-個壓力；〃係被建構成用以調節在 〜其中，該控制器係被建構成用以控制該可控制的真空 調節器，以藉著控制在該收华 相之中的壓力來調整從該空 間處經由該多孔構件抽出到該收集箱之流體的流率。 15. 如申請專利範圍第12項所述的裝置，其更包含㈣ 該流體位準緩衝器相輕接的一個流體供應裝置或是一個流 體回收裝置。 16. 如申請專利範圍第9項所述的裝置，其中該多孔構 件是從由一個網篩、—個炙3丨从财η , 個夕孔材科及一個其中具有蝕刻洞 孔的構件所組成的群組中所選擇的。 17. 如申請專利範圍第9項所述的裝置，其中該多孔構 28 1362567 100年12月ις日修正替換頁 件具有在50-200微米尺寸範圍中的洞孔。 18.—種用於從一個空間回收—種流體的裝置，該空間 係介於一個光學元件與一個在—個浸液微影系統中之:二 之間’該裝置包含有： 一個多孔構件，一種流體係從該空間處通過該多孔構 件而被抽出； 一個回收流動管線，其係以流體的方式與該多孔構件 相耦接，而從該空間處經由該多孔構件而被抽出的流體系 通過該回收流動管線而被收集起來；以及 、 一控制系統，該控制系統將—壓力控制在等於或小於 該多孔構件的起泡點，該壓力係用於從該空間抽取出流體 通過該多孔材構件。 19 ·如申請專利範圍第丨8項所述的裝置’其中該控制系 統包括有一個容器，巾經由該多孔構件從該空間處抽出的 流體係被引導到該容器，以及其巾，控制該壓力係包括有 調節在該容器之中的壓力。 20.如申請專利範圍第19項所述的裝置，其中㈣制系 統包括有-個調節胃，該調節器係以流體的方式與該容器 相耦接’該調節器係調節在該容器中的壓力。 .如申請專利範圍第19項所述的裝置，其更包含有一 個流動管線，該流體係經由該流動管線而從該容器處心 集起來。 個箱 22.如申請專利範圍第21項所述 ’該流體係從該容器處被收集到 的裝置，其更包含有一 該箱。 29 1362567 100年12月A日修正替換頁 23. 如申請專利範園第22項所述的裝置，其中該流體藉 著重力而從該容器處被收集到該箱。 24. 如申請專利範圍第23項所述的裝置，其中該箱係配 置在該容器下方。 25·如申請專利範圍第22項所述的裝置，其更包含有一 個流動路徑，該流動路徑係被耦接到該容器及該箱二者。 26.如申請專利範圍第22項所述的裝置，其中該控制系 統包含有一個以流體方式與該容器相耦接的調節器，該調 節器係調節在該容器中的壓力，以及其中，該調節器係以 流體方式與該箱相連接。 27·如申請專利範圍第18項所述的裝置，其中該控制系 統包括有一個容器，而經由該多孔構件從該空間處抽出的 抓體係被引導到該容器，以及其中，#制該壓力係包括有 收集來自該容器的流體。 28.如申請專利範圍第27項所述的裝置，其中該控制系 統包括有一個與該纟器以⑪體方式相連接的調節卜該調 節器係調節在該容器之中的壓力。 29·如申請專利範圍第27項所述的裝置，其更包含有一 個箱，該流體係從該容器被收集到該箱。 3〇.如申明專利範圍第29項所述的裝置，其中該箱係配 置在該容器下方》 31.如申請專利範圍第29項所述的裝置，其更包含有一 個流動路徑，該流動路徑係以流體方式被耦接到該容器及 該箱二者。 30 ⑽年12肌叫正替換頁 統包括有專利範圍第29項所述的裝置，其中該控制系 節器d =體方式與該容器相輕接的調節器，該調 以流體==之中的壓力’以及其I該調節器係 瑕方式與該箱相連接。 力包=申請專利範圍第18項所述的裝置，其中控制該壓 方。將該流體的-個固定高度保持在該多孔構件上 4.如申請專利範圍第1 &項所述的 統包括有： ^裝置，其中該控制系 一個流體位準緩衝器，其係以流體 件相輕接；以及 时^該多孔構 =測器，其係被建構成用以感測出在該流體位準 这/、丨窃處的一個壓力或是一個流體位準； 其中，該控制系統係基於所感測到的壓力或所感測到 的流體位準來控制在該回收流動管線中的流體流動。 35. 如申請專利範圍第34項所述的裝置，其中該控制系 統包括有-個闕’該閥係建構成用以控制在該回收流動管 線中的流體流動。 36. 如申請專利範圍帛34工員所述的裝置，其中該控制系 統包括有-個以流體方式與該流體位準緩衝器相耦接的調 節器。 3 7 ·如申請專利範圍帛i 8項所述的裝置，其中該控制系 統包括有-個感測器’該感測器係被建構成用以感測用於 將琉體從該多孔構件處抽出的壓力，以及其中，美於所减 31 丄处2567 100年12月α日修正替換頁 測到的壓力控制在該回收流體管線之中的流體流動。 /8.如申請專利範圍帛則所述的裝置，其中該控制系 統係控制取決於多孔構件之洞孔尺寸的壓力。 、 39.如申請專利範圍第18項所述的裝置，其中該控制系 統係控制取決於該多孔構件之一個特徵的壓力。工'、 a 40.如申請專利範圍第38項或第外項所述的裝置其 中忒控制系統包括有一個容器，而經由該多孔構件從該空 門處抽出的流體係被引導到該容器，以及其中， 力係包括有調節在該容器之中的一個壓力。 6Λ 41.如申請專利範圍第4〇項所述的裝置，其更包含有一 個机動s '線’該流體經由該流動管線而從該容器處被收集 起來。 42·如申請專利範圍第38項或第39項所述的裝置，其 中該控制系統包括有一個容器，而經由該多孔構件從該空 間處抽出的流體係被引導到該容器，以及其中，控制該壓 力係包括有收集來自該容器的該流體。 43. 如申請專利範圍第38項或第39項所述的裝置，其 中控制該壓力包括有將該流體的—個^高度保持在該^ 孔構件上方。 44. 如申請專利範圍第38項或第39項所述的裝置，盆 中該控制系統包括有： 八 一個流體位準緩衝器，其係以流體的方 件相耦接；以及 …亥多孔構 —個感測器’其係、被建構成用以感測出在該流體位準 32 1362567 100年12月U?日修正替換頁 感測器處的一個壓力或是一個流體位準； 其中，控制該壓力係基於所感測到的壓力或所感測到 的流體位準來控制在該回收流動管線令的流體流動。 45. 如申叫專利範圍第38項或第39項其中任一項所述 的裝置，#中該控制系統包括有一個被建構成用以感測出 用於將該流體經由該多孔構件抽出之壓力的感測器，以及 -中控制該壓力係、包括有根據所感測到的壓力控制在該 回收流動管線之中的流體流動。 46. 如申請專利範圍第39項所述的裝置，其中該特徵包 括有該起泡點。 47. 如中請專利範圍第18項所述的裝置，其中該起泡點 係取決於該多孔構件的洞孔尺寸。 48. 如申請專利範圍第18項所述的裝置，其中該起泡點 係取決於該流體與該多孔構件所形成的接觸角度。 49·如申請專利範圍帛18項所述的裝置，其中該控制系 統係控制在該多孔構件之表面處的壓力。 二如申請專利範圍第18項所述的裝置其中該多孔構 牛疋攸由個網筛、—個多孔材料及—個其中具有触刻洞 孔的構件所組成的群組中所選擇的。 二？申請專利範圍第18項所述的裝置，其中該多孔構 件，、有在50-200微米尺寸範圍中的洞孔。 元件（device)製造方法，該方法包含有： 二：-種填充於一個空間之中的流體而曝光一個 材’该工間係介於一個光學元件與該基材之門. 33 丄JUZJO/ 丄JUZJO/ 項 材 點 力 經 壓 集 藉 經 來 藉 刚干1乙1唆土朁換頁 藉著使用如f請專利範圍第18項到第51項其中任— 所达：裝置來回收來自於該空間的流體；以及 顯影（developing )出經曝光的基材。 53.種浸液微影的方法，該方法包含有： 經由一種填充於一個空間 , 門之中的流體而曝光一個基 該二間係介於一個鏡片與該基材之間；以及 經由—個多孔構件將該流體從該空間處抽出；以及 ^壓力控制在該多孔構件的—起泡點或低 ，該壓力係用於從該空間抽取出产#、吳'包 %出机體通過該多孔構件。 54_如申請專利範圍第53項所述的方法，豆 係包含有控制一個在該多孔構 _ _ 冉1干之表面處的一個壓力。 由^巾請專利範㈣53項所述的方法，其更包含有將 力:;二=出的導到一個容器，其中控制該 '、匕括有控制一個在該容器中的壓力。 %，如申請專利範圍第55 冰去，其更包含有收 來自a玄谷器的該流體。 57_如申請專利範圍第56項 著會六^ ~ ~ k幻万法，其中該流體係 者重力叩從該容器處被收集起來。 58.如申請專利範圍第53項 由哕容：?丨姐π J万去’其更包含有將 由該夕孔構件抽出的流體弓丨導到一個 自於該容器的流體收集起來。 …中控制將 59. 如申請專利範圍第58項所述的方法 著重力而從該容器處被收集起來。 60. 如申請專利範圍第53項所述的方法 其中該流體係 其中控制該壓 34 1362567 力包括有將该流體的一個 方。 100年12月lb曰修正替換頁 固定高度保持在該多孔構件上 請專利範圍第53項所述的方法，其更包含有感 測在-個流體位準緩衝器處之_個壓力或流體位準而該 流體位準緩衝器係以流體的方式與該多孔構件相耦接立 該壓力係包括有基於所感測到的壓力或是所感測到 位準來控制在一個回收流動管線之中的流體流動， 而該回收流體管線係配置在該多孔構件的下游。 62.如申請專利範圍第53項所述的方法，其更 測出用於經由該多孔構件抽出流體的壓力以及制 該壓力係包括有基於所感測到的壓力來控制在—個回^ 動管線之中的流體流動，而該回收流體管線” 孔構件的下游。 1夕 63.如申請專利範圍第53項所述的方法，其中該壓 取決於該多孔構件的洞孔尺寸而受到控制。 如申請專利範圍第53㈣述的方法，其中該壓 取決於該多孔構件的_個特徵而受到控制。 如申請專利範圍第〇項或第M項所述的方法，复 更包含有將經由該多孔構件抽出的流體引導到—個容，，、 其中控制該壓力係包括有控制在該容器中的一個壓力。 06.如申請專利範圍第65項所述的方法，其八 集來自該容器的該流體。 3收 67.如申請專利範圍第63項或第64項所述的方法， 更包含有感測在一個流體位準緩衝器處之_個壓力或流體 35 1362567 位準，而該流體位準緩衝器係以流體的方式與該多，' 相輕接，其中控制該壓力係包括有基於所感測到的壓 是所感測到的流體位準來控制在一個回收流動管線的 流體流動’而該回收流體管線係配置在該多孔構件的下游。 68.如申請專利範圍第63項或第64項其中任—項所述 的方法、、更包含有感測出用於經由該多孔構件抽出流體 的墨力，以及其令控制該壓力係包括有基於所感測到的壓 力來控制在-個回收流動管線之中的流體流動，而該 流體管線係配置在該多孔構件的下游。 认如申請專利範_4項所述时法，其中該特徵包 括有一個起泡點。 〃 70.如申請專利範圍帛53項所述的方法，其中該起泡點 係取決於形成在該多孔構件中的洞孔尺寸。 71.如中請專利範圍第53項所述的方法，其中該起泡點 取決於流體在該多孔構件上所形成的接觸角度。 72·如申叫專利範圍帛53項所述的方法，其中該多孔構 件是從由—個㈣、—個多孔材料及-個其中具有蚀刻洞 孔的構件所組成的群組中所選擇的。 73.如申明專利範圍第53項所述的方法其中該多孔構 件具有在5G.2GG微米尺寸範圍中的洞孔。 从：種元件（device)製造方法，該方法包含有： 藉著使用如申請專利範圍第53項到第73項其中任— 項所述之浸液微影的方法，經由一種填充於一個空間之中 的流體而曝光一個基材，該空間係介於一個光學元件與該 36 1362567 100年12月岀日修正替換頁 基材之間；以及 顯影（developing )經曝光的基材。 十一、圖式： 如次頁。 37