KR20020006369A - 약액 회수 시스템 및 회수 방법 - Google Patents

약액 회수 시스템 및 회수 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20020006369A
KR20020006369A KR1020000039996A KR20000039996A KR20020006369A KR 20020006369 A KR20020006369 A KR 20020006369A KR 1020000039996 A KR1020000039996 A KR 1020000039996A KR 20000039996 A KR20000039996 A KR 20000039996A KR 20020006369 A KR20020006369 A KR 20020006369A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
vacuum
chemical liquid
tank
vacuum tank
valve
Prior art date
Application number
KR1020000039996A
Other languages
English (en)
Inventor
안두근
구교욱
Original Assignee
김광교
한국디엔에스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 김광교, 한국디엔에스 주식회사 filed Critical 김광교
Priority to KR1020000039996A priority Critical patent/KR20020006369A/ko
Publication of KR20020006369A publication Critical patent/KR20020006369A/ko

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/6715Apparatus for applying a liquid, a resin, an ink or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67017Apparatus for fluid treatment
    • H01L21/67028Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
    • H01L21/6704Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for wet cleaning or washing

Abstract

본 발명은 반도체 소자를 제조하는데 사용된 약액을 회수하기 위한 시스템에 관한 것으로, 본 발명에 따른 약액 회수 시스템은 약액 처리조들, 진공 탱크들, 저장 탱크들, 진공 탱크들 각각을 진공 상태를 만들기 위한 진공 수단으로 이루어진다. 진공 수단은 진공 탱크들의 내부를 감압시키기 위한 감압 부재와, 진공 라인들, 그리고 레귤레이터로 이루어진다. 본 발명에 따르면 하나의 감압 부재로 진공 탱크들을 감압하여, 감압된 진공 탱크들의 진공압으로 약액을 이동시키는 기술로, 본 발명은 하나의 감압 부재만을 사용하여 약액조들의 약액을 각각 회수할 수 있어 기존에 비해 설비투자가 적고, 기존처럼 약액에 의한 펌프의 부식 문제를 해소할 수 있다.

Description

약액 회수 시스템 및 회수 방법{METHOD AND CHEMICALS RECOVER SYSTEM}
본 발명은 반도체 소자를 제조하는데 사용된 약액을 회수하기 위한 시스템에 관한 것이다.
일반적으로 반도체 소자의 제조 공정 중에는 웨이퍼에 대한 많은 화학약품 처리공정이나 세정 공정이 있다. 그러나 종래에는 이들 공정에서 사용된 약액들을대부분은 폐기 처리하였고, 일부 약액만을 회수하여 재 사용하고 있다.
도 1은 종래 약액 회수 시스템을 개략적으로 보여주는 구성도이다.
종래 약액 회수 시스템(200)은 도 1에 도시된 바와 같이, 회수 라인(220) 각각에 대응되는 펌프(230)를 설치해야 하기 때문에 설치비용이 많은 문제점이 있다. 그리고 회수 라인(220)상에 설치된 펌프(230)는 장시간 사용시 약액에 의한 부식 및 노화가 촉진되어 펌프의 수명이 단축되고 안전성에 문제를 가져오게 된다.
본 발명은 이와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 그 목적은 기존에 비하여 설비투자비용이 적고 운영상의 문제를 해결할 수 있는 약액 회수 시스템을 제공하는데 있다.
도 1은 종래 약액 회수 시스템의 구성도;
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 약액 회수 시스템의 구성도이다.
* 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명
110 : 약액조 114 : 제 2 밸브
120 : 진공 탱크 124 : 제 3 밸브
130 : 저장 탱크 140 : 진공 수단
142 : 감압 부재 144 : 진공 라인
146 : 액츄레이터 148 : 제 1 밸브
160 : 가압 라인
본 발명은 상기한 목적을 달성하기 위한 것으로, 반도체 제조공정에서 사용된 약액을 회수하기 위한 시스템은 복수의 약액조와; 상기 복수의 약액조에 각각 연결되는 복수의 진공 탱크와; 상기 복수의 진공 탱크에 각각 연결되는 복수의 저장 탱크 및; 상기 복수의 진공 탱크 각각을 진공 상태로 만들기 위한 수단을 포함한다.
이와 같은 본 발명에서 상기 수단은 진공 탱크 내부를 감압시키기 위한 감압 부재와; 상기 감압 부재와 상기 진공 탱크 사이에 설치되는 제 1밸브를 포함한다. 감압 부재는 유체의 흐름에 따라 사기 진공 탱크의 공기를 흡입하는 애스퍼레이터 또는 진공 펌프일 수 있다.
이와 같은 본 발명에서 상기 약액조와 상기 진공 탱크 사이에는 약액을 필터링하기 위한 필터와, 제 2 밸브가 설치되고, 상기 진공 탱크와 상기 저장 탱크 사이에는 제 3 밸브가 설치될 수 있다.
이와 같은 본 발명에서 상기 진공 탱크에 압력을 가하기 위한 가압 라인을 더 포함한다. 그리고 상기 진공 탱크에는 대기압이 유입되는 대기압 라인을 더 포함한다.
이와 같은 본 발명에서 상기 애스퍼레이터는 상기 진공탱크의 압력 조절을 위하여 상기 유체양을 제어하는 레귤레이터를 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 특징에 의하면, 상기 시스템에 의한 약액 회수 방법은 상기 제 2 밸브와 상기 제 3 밸브를 닫는 단계; 제 1 밸브를 열고 감압 부재를 이용하여 상기 진공 탱크 내부를 감압하는 단계; 상기 약액조의 약액이 상기 진공 탱크의 진공압에 의해서 진공 탱크로 이동하도록 상기 제 2 밸브를 오픈하는 단계; 상기 제 2 밸브를 닫고 상기 제 3 밸브를 오픈하는 단계 및; 상기 진공 탱크로 이동된 약액이 상기 저장 탱크로 원활하게 이동되도록 상기 진공 탱크에 압력을 가하는 단계로 이루어진다.
이하, 본 발명의 실시예를 첨부된 도면 도 1을 참조하면서 보다 상세히 설명한다. 상기 도면들에 있어서 동일한 기능을 수행하는 구성요소에 대해서는 동일한 참조번호가 병기되어 있다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 약액 회수 시스템을 보여주는 구성도이다. 도 1에 도시된 바와 같이 본 약액 회수 시스템(100)은 약액 처리조들(110)(이하 '약액조'라 칭함), 진공 탱크(120)들, 저장 탱크(130)들, 상기 진공 탱크들 각각을 진공 상태를 만들기 위한 진공 수단(140)으로 이루어진다.
상기 약액조(110)들 각각은 제 2 밸브(114)가 설치된 제 1 라인(112)에 의해 각 약액조(110)와 대응되는 진공 탱크(120)와 연결된다. 상기 제 1 라인(112)에는 약액을 여과하기 위한 필터(116)가 설치된다. 그리고 상기 진공 탱크(120)들 각각은 3 밸브(124)가 설치된 제 2 라인(122)에 의해 각 진공 탱크(120)와 대응되는 저장 탱크(130)에 연결된다.
한편, 상기 수단(140)은 상기 4개의 진공 탱크(120) 내부를 감압시키기 위한 감압 부재(142)와, 진공 라인(144)들, 그리고 레귤레이터(146)로 이루어진다. 상기 진공 라인(144)들은 진공 탱크(120)들에 병렬로 각각 연결된다. 이 각각의 라인(144)상에는 제 1 밸브(148)가 설치된다. 제 1 밸브(148)는 선택된 진공 탱크(120)의 내부를 감압하고자 할 때 오픈된다.
본 실시예에서는 N2가스의 흐름에 따라 상기 진공 탱크(120)의 공기를 흡입하는 애스퍼레이터(aspirator;흡출기)를 감압 부재로 사용하고 있다. 이 애스퍼레이터는 N2 가스가 공급되는 라인(142a)과, 이 라인상에 설치되는 솔레노이드 밸브(142b) 그리고 레귤레이터(146)를 구비한다. 상기 진공 탱크(120)의 압력은 상기 레귤레이터(146)가 상기 애스퍼레이터로 공급되는 N2 가스양을 제어함으로써 조절된다. 예컨대, 상기 감압 부재로는 상기 애스퍼레이터 이외에 통상의 진공 펌프가 사용될 수 있음은 물론이다.
상기 진공 탱크(120)에 담겨진 약액을 상기 저장 탱크(130)로 이동시키기 위하여, 상기 진공 탱크(120)에는 N2 가스가 가압 라인(160)을 통해 공급될 수 있다. 상기 가압 라인(160)에는 밸브가 설치되어 있다.
예컨대, 상기 저장 탱크(130)가 상기 진공 탱크(120)보다 낮은 곳에 위치한 경우에는, 별도의 N2 가압 없이 대기압으로 약액을 상기 저장 탱크(130)로 이동시킬 수 있는 것이다.
기존에는 약액조(110)들 각각에 대응되는 펌프를 설치하여 약액을 회수하였지만, 본 발명에서는 하나의 감압 부재(142)로 진공 탱크(120)들을 감압하여, 감압된 진공 탱크(120)들의 진공압으로 약액을 이동시키는 기술로 완전히 다른 메카니즘이다. 이와 같은 본 발명은 하나의 감압 부재만을 사용하여 약액조들의 약액을 각각 회수할 수 있어 기존 시스템에 비하여 설비투자가 적고, 기존처럼 약액에 의한 펌프의 부식 문제를 해소할 수 있는 이점이 있다.
상술한 바와같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 약액 회수 시스템(100)의 회수 과정을 살펴보면, 먼저 각각의 약액조(110)와 진공 탱크(120) 그리고 저장 탱크(130) 사이에 설치된 제 2 밸브(124)들과 제 3 밸브(134)들을 닫는다. 그리고 선택된 진공 탱크(120)와 연결된 진공 라인(144)상의 제 1 밸브(148)를 열고 상기 애스퍼레이터로 상기 진공 탱크(120) 내부를 감압한다. 이때, 상기 진공 탱크(120)의 압력 조절은 상기 레귤레이터(146)를 통해 이루어질 수 있다. 상기 진공 탱크(120)가 일정 압력 이하로 떨어지면, 제 1 밸브(148)와 제 2 밸브(114)는 닫고, 제 3 밸브(124)를 연다. 이와 동시에 상기 가압 라인(160)을 통해 N2를 진공 탱크(120)로 공급하면 약액이 상기 진공 탱크(120)에서 상기 저장 탱크(130)로이동된다. 상기 저장 탱크(130)로 이동된 약액은 추후 여과 과정을 거친 후 반도체 제조 공정에서 다시 사용하게 된다. 한편, 상기 진공 탱크(120)로 가해지는 압력은 N2 가압 이외에 대기압이 사용될 수 있으며, 대기압을 사용하게 될 경우, 필히 상기 저장 탱크(130)는 상기 진공 탱크(120)보다 아래에 위치되어야 한다. 상술한 방법으로 다른 약액조들의 약액도 상술한 방법으로 회수할 수 있는 것이다.
이상에서, 본 발명에 따른 약액 회수 시스템의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 일 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.
상술한 구성 및 기능을 갖는 본 발명은 하나의 감압 부재를 이용하여 복수의 약액조의 약액을 회수할 수 있기 때문에 기존에 비하여 설비 투자비용이 적게 든다. 뿐만 아니라, 기존처럼 약액에 의한 펌프의 부식 문제를 해소하여 그에 따른 유지 보수가 간단하다.

Claims (8)

  1. 반도체 제조공정에서 사용된 약액을 회수하기 위한 시스템에 있어서:
    복수의 약액조와;
    상기 복수의 약액조에 각각 연결되는 복수의 진공 탱크와;
    상기 복수의 진공 탱크에 각각 연결되는 복수의 저장 탱크 및;
    상기 복수의 진공 탱크 각각을 진공 상태로 만들기 위한 수단을 포함하여, 상기 약액조의 약액을 상기 진공 탱크의 진공압으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 약액 회수 시스템.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 수단은 진공 탱크 내부를 감압시키기 위한 감압 부재와;
    상기 감압 부재와 상기 진공 탱크 사이에 설치되는 제 1밸브를 포함하되;
    상기 감압 부재는 유체의 흐름에 따라 사기 진공 탱크의 공기를 흡입하는 애스퍼레이터 또는 진공 펌프인 것을 특징으로 하는 약액 회수 시스템.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 약액조와 상기 진공 탱크 사이에는 약액을 필터링하기 위한 필터와, 제 2 밸브가 설치되고,
    상기 진공 탱크와 상기 저장 탱크 사이에는 제 3 밸브가 설치되는 것을 특징으로 하는 약액 회수 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 진공 탱크에 압력을 가하기 위한 가압 라인을 더 포함하여, 상기 진공 탱크에 담겨진 약액은 가압에 의해 상기 저장 탱크로 이동되는 것을 특징으로 하는 약액 회수 시스템.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 진공 탱크에는 대기압이 유입되는 대기압 라인을 더 포함하되,
    상기 저장 탱크는 상기 진공 탱크보다 낮은 곳에 위치하는 것을 특징으로 하는 약액 회수 시스템.
  6. 제 2 항에 있어서,
    상기 애스퍼레이터는 상기 진공 탱크의 압력 조절을 위하여 상기 유체양을 제어하는 레귤레이터를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 회수 시스템.
  7. 상기 제 1 항에 청구된 약액 회수 시스템을 이용한 약액 회수 방법에 있어서:
    상기 제 2 밸브와 상기 제 3 밸브를 닫는 단계;
    제 1 밸브를 열고 감압 부재를 이용하여 상기 진공 탱크 내부를 감압하는 단계;
    상기 약액조의 약액이 상기 진공 탱크의 진공압에 의해서 진공 탱크로 이동하도록 상기 제 2 밸브를 오픈하는 단계;
    상기 제 2 밸브를 닫고 상기 제 3 밸브를 오픈하는 단계 및;
    상기 진공 탱크로 이동된 약액이 상기 저장 탱크로 원활하게 이동되도록 상기 진공 탱크에 압력을 가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 약액 회수 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 진공 탱크에서 저장 탱크로 이동하는 약액은 대기압 또는 N2 가압에 의해 이동되는 것을 특징으로 하는 약액 회수 방법.
KR1020000039996A 2000-07-12 2000-07-12 약액 회수 시스템 및 회수 방법 KR20020006369A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000039996A KR20020006369A (ko) 2000-07-12 2000-07-12 약액 회수 시스템 및 회수 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020000039996A KR20020006369A (ko) 2000-07-12 2000-07-12 약액 회수 시스템 및 회수 방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20020006369A true KR20020006369A (ko) 2002-01-19

Family

ID=19677669

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020000039996A KR20020006369A (ko) 2000-07-12 2000-07-12 약액 회수 시스템 및 회수 방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20020006369A (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101288140B1 (ko) * 2003-09-03 2013-07-19 가부시키가이샤 니콘 액침 리소그래피용 유체를 제공하기 위한 장치 및 방법

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR930022486A (ko) * 1992-04-02 1993-11-24 이대원 포토에칭용 원판
JPH06204202A (ja) * 1992-12-28 1994-07-22 Hitachi Ltd 洗浄乾燥装置
JPH06218238A (ja) * 1993-01-25 1994-08-09 Kubota Corp 膜分離ユニットの吸引装置
KR950024279A (ko) * 1994-01-31 1995-08-21 문정환 현상용액공급장치
KR19990023108A (ko) * 1997-08-21 1999-03-25 아끼구사 나오유끼 약액 공급 장치
JPH11330106A (ja) * 1998-05-18 1999-11-30 Hitachi Ltd 洗浄装置およびそれを使用した洗浄方法

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR930022486A (ko) * 1992-04-02 1993-11-24 이대원 포토에칭용 원판
JPH06204202A (ja) * 1992-12-28 1994-07-22 Hitachi Ltd 洗浄乾燥装置
JPH06218238A (ja) * 1993-01-25 1994-08-09 Kubota Corp 膜分離ユニットの吸引装置
KR950024279A (ko) * 1994-01-31 1995-08-21 문정환 현상용액공급장치
KR19990023108A (ko) * 1997-08-21 1999-03-25 아끼구사 나오유끼 약액 공급 장치
JPH11330106A (ja) * 1998-05-18 1999-11-30 Hitachi Ltd 洗浄装置およびそれを使用した洗浄方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101288140B1 (ko) * 2003-09-03 2013-07-19 가부시키가이샤 니콘 액침 리소그래피용 유체를 제공하기 위한 장치 및 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5826601A (en) Treating liquid replacing method, substrate treating method and substrate treating apparatus
EP0806573A2 (en) Fluid control device
TW201641150A (zh) 處理液過濾裝置、藥液供給裝置及處理液過濾方法和記憶媒體
KR100577563B1 (ko) 반도체 소자 제조장비에서의 감광액 공급방법 및 감광액공급장치
KR20020006369A (ko) 약액 회수 시스템 및 회수 방법
KR100625320B1 (ko) 기판 세정 설비의 기능수 공급 장치
US6336960B1 (en) System and method for purging air bubbles from filters
JPH1099855A (ja) 限外濾過機能を備える超純水供給プラント、および超純水の供給方法
KR100598914B1 (ko) 약액 재생 시스템 및 약액 재생 방법, 그리고 상기시스템을 가지는 기판 처리 설비
KR20200101845A (ko) 필터 웨팅 방법 및 처리액 공급 장치
KR20030021691A (ko) 화학용액 내에 포함된 기포를 제거하기 위한 기포제거장치및 이를 이용한 기포제거방법
KR0121434Y1 (ko) 화학 필터의 버블 제거 장치
KR100629920B1 (ko) 폐액 처리 시스템 및 그 방법
KR100904462B1 (ko) 기판 처리 설비 및 기판 처리 방법
JP2008194653A (ja) 2流体洗浄制御方法及び2流体洗浄装置
KR100673395B1 (ko) 폐액 처리 시스템 및 그 방법
JP7147898B2 (ja) 水質調整水の製造方法及び装置
US4648804A (en) Aspirator pump device for use in semiconductor processing
JP2003086561A (ja) 基板処理装置
KR20230071618A (ko) Euv 포토 레지스트 폴리머 필터링 시스템
KR20230030129A (ko) 필터 세정 방법
KR20000020878A (ko) 반도체장치 제조설비용 약액배출장치
KR100194289B1 (ko) 화학약품의 순환장치
KR100511771B1 (ko) 밸브 및 이를 사용하는 약액 공급 시스템
JP3686239B2 (ja) 薬液循環式基板処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application