JP2008194653A - ２流体洗浄制御方法及び２流体洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】２流体ジェットノズルの気体配管内に液体が逆流しないための２流体洗浄制御方法及び２流体洗浄装置を提供する。
【解決手段】気体供給手段により気体を２流体噴射手段に供給するステップ１００と、気体の供給開始から所定の時間経過後、液体供給手段により液体を２流体噴射手段に供給するステップ１１０、１２０と、気体供給手段の気体圧力を判定し、所定の圧力以下になると、液体供給手段による液体の供給を停止するステップ１３０、１４０とを含む。
【選択図】 図１

Description

本発明は、ジェットノズルによる枚葉式洗浄の制御方法と洗浄装置に係り、詳しくは、２流体ジェットノズルの気体配管内に液体が逆流しないための２流体洗浄制御方法及び２流体洗浄装置に関する。

ガラス基板等の洗浄において、洗浄液を圧縮空気等で加圧し、ガラス基板に噴射して洗浄を行う枚葉式の洗浄方法がある。この液体を噴射する手段としては、通常２流体ジェットノズルが用いられている。洗浄においては、この洗浄効果が最大となるよう圧縮空気の圧力を調整して行われる。ところが噴射の開始及び停止の工程において、洗浄液が気体配管内に逆流することがある。噴射の開始時の逆流は、洗浄の初期条件を不安定にする要因となる。停止時の逆流においては、逆流した洗浄液を回収するための点検回収作業が、洗浄終了後のメンテナンスに必要となる。またこの点検回収作業は、洗浄装置及びその設置環境のクリーンネスを低下させる要因となるため、作業が無いことが望ましい。

特許文献１には、透明基板の表面の洗浄は、当該透明基板の表面の濡れ性を改善する表面改質処理を、例えば紫外線照射装置を用いて実施し、次に、透明基板の表面のうちの端面を、端面洗浄装置を用いて洗浄し、その後、透明基板の表面のうちの主表面を、洗浄ツールによるスクラブ洗浄、２流体洗浄ノズル１３による２流体噴射洗浄、超音波洗浄ノズル１４による超音波洗浄等の少なくとも一つを実施する、旨についての記載がある。
特開２００５−２２１９２９号公報

本発明は、このような問題を解決するためになされたものであり、その目的は、２流体ジェットノズルの気体配管内に液体が逆流しないための２流体洗浄制御方法及び２流体洗浄装置を提供することにある。

本発明の２流体洗浄の制御方法は、２流体洗浄の制御方法であって、気体供給手段により気体を２流体噴射手段に供給するステップと、気体の供給開始から所定の時間経過後、液体供給手段により液体を２流体噴射手段に供給するステップとを含み、液体が前記気体供給手段へ逆流することを防止することを特徴とする。

本発明の２流体洗浄の制御方法の所定の時間が、２秒乃至１５秒であることを特徴とする。

本発明の２流体洗浄の制御方法は、気体供給手段の気体圧力を判定し、所定の圧力以下になると、液体供給手段による液体の供給を停止するステップをさらに含み、液体が気体供給手段へ逆流することを防止することを特徴とする。

本発明の２流体洗浄装置は、２流体噴射手段と気体供給手段と液体供給手段と２流体供給制御手段とを有し、２流体供給制御手段は、気体供給手段が２流体噴射手段に気体の供給を開始するよう制御し、且つ、気体の供給開始から所定の時間経過後、液体供給手段が２流体噴射手段に液体の供給を開始するよう制御し、液体が気体供給手段へ逆流することを防止することを特徴とする。

本発明の２流体洗浄装置の所定の時間が、２秒乃至１５秒であることを特徴とする。

本発明の２流体洗浄装置の２流体供給制御手段は、さらに、気体供給手段の気体圧力を判定し、所定の圧力以下になると、液体供給手段による液体の供給を停止し、液体が気体供給手段へ逆流することを防止することを特徴とする。

本発明の２流体洗浄制御方法及び２流体洗浄装置によれば、洗浄液の噴射の開始、停止の工程及び何かのトラブルにより気体圧力が所定の圧力以下になった場合において、洗浄液が気体配管内に逆流することを防止できる。これにより、噴射の開始時に洗浄液が逆流しないため、洗浄の初期条件を不安定にする要因が無くなる。また停止時、及び何かのトラブルにより気体圧力が所定の圧力以下になった場合の逆流が無くなるため、逆流した洗浄液を回収するための点検回収作業が不要となる。このため、洗浄装置及びその設置環境のクリーンネスを低下させる要因が無くなる。

本発明による実施の形態について、図を用いて説明する。図１は、本発明の２流体洗浄の制御方法の制御プロセスを示すフローチャートである。図１において、気体供給手段により気体を２流体噴射手段に供給する（ステップ１００）。気体の供給開始から所定の時間経過したか否かを判定し、経過していなければ経過を待ち、経過すると次のステップへ進み（ステップ１１０）、液体供給手段により液体を２流体噴射手段に供給する（ステップ１２０）。次に、気体供給手段の気体圧力が所定の圧力以下か否かを判定し、以上であれば以下になるのを待ち、以下になると次のステップへ進み（ステップ１３０）、液体供給手段による液体の供給を停止し、終了する（ステップ１４０、１５０）。なお、所定の時間は、２秒乃至１５秒であることが望ましい。

図２は、本願発明の２流体洗浄装置の構成を示すブロック図である。図２において、２流体洗浄装置５０は、２流体噴射手段である２流体噴射ノズル１０と、気体供給手段２０と、液体供給手段３０と、２流体供給制御手段である２流体供給制御装置４０とを有している。液体供給手段２０は、洗浄液槽２１と、加圧ポンプ２２と、フィルター２３と、制御弁２４と、液体配管２５を具備している。気体供給手段３０は、空気圧縮ポンプ３１と、圧力計３２と、制御弁３３と、フィルター３４と、気体配管３５を具備している。

２流体供給制御装置４０が制御弁３３を所定の値に開くと、空気圧縮ポンプ３１で圧縮された圧縮空気が、フィルター３４と気体配管３５とを通って、２流体噴射ノズル１０に供給される。次に２流体供給制御装置４０は、圧縮空気の供給開始から所定の時間が経過すると、制御弁２４を所定の値に開く。加圧ポンプ２２で加圧された洗浄液槽２１の洗浄液は、フィルター２３と液体配管２５とを通って、２流体噴射ノズル１０に供給される。所定の時間は、２秒乃至１５秒であることが望ましい。

これにより洗浄液が、２流体噴射ノズル１０から所定の洗浄条件で噴射される。噴射が開始されると、ガラス基板が搬送ローラにより２流体噴射ノズル１０直下に搬送されてきて、洗浄が開始する。洗浄条件の要件である加圧ポンプ２２及び空気圧縮ポンプ３１の回転数、さらにガラス基板の搬送開始と速度の設定は２流体供給制御装置４０で設定されても良い。

洗浄の終了において、２流体供給制御装置４０は、ガラス基板が搬送ローラにより２流体噴射ノズル１０の直下から運び出されると、制御弁３３を閉じながら圧力計３２の気体圧力をチェックする。圧力計３２の気体圧力が所定の圧力以下になると、制御弁２４を閉じて液体の供給を停止する。この動作は、何かのトラブルにより気体圧力が所定の圧力以下になった場合にも行われる。

以上説明したように本発明の及びによれば、噴射の開始及び停止の工程、及び何かのトラブルにより気体圧力が所定の圧力以下になった場合において、洗浄液が気体配管３５内に逆流することが防止される。これにより、噴射の開始時に洗浄液が逆流しないため、洗浄の初期条件を不安定にする要因が無くなる。また、停止時及びトラブル時の逆流が無くなるため、逆流した洗浄液を回収するための点検回収作業が不要となる。このため、洗浄装置及びその設置環境のクリーンネスを低下させる要因が無くなる。

本発明の２流体洗浄の制御方法の制御プロセスを示すフローチャート。 本願発明の２流体洗浄装置の構成を示すブロック図。

符号の説明

１０ ２流体噴射ノズル
２０ 液体供給手段
２１ 洗浄液槽
２２ 加圧ポンプ
２３ フィルター
２４ 制御弁
２５ 液体配管
３０ 気体供給手段
３１ 空気圧縮ポンプ
３２ 圧力計
３３ 制御弁
３４ フィルター
３５ 気体配管
４０ ２流体供給制御装置
５０ ２流体洗浄装置

Claims (6)

1. ２流体洗浄の制御方法であって、
   気体供給手段により気体を２流体噴射手段に供給するステップと、
   前記気体の供給開始から所定の時間経過後、液体供給手段により液体を前記２流体噴射手段に供給するステップとを含み、
   前記液体が前記気体供給手段へ逆流することを防止することを特徴とする２流体洗浄の制御方法。
2. 前記所定の時間が、２秒乃至１５秒であることを特徴とする請求項１に記載の２流体洗浄の制御方法。
3. 前記気体供給手段の気体圧力を判定し、所定の圧力以下になると、前記液体供給手段による液体の供給を停止するステップをさらに含み、
   前記液体が前記気体供給手段へ逆流することを防止することを特徴とする請求項１又は２に記載の２流体洗浄の制御方法。
4. ２流体噴射手段と気体供給手段と液体供給手段と２流体供給制御手段とを有し、
   前記２流体供給制御手段は、前記気体供給手段が前記２流体噴射手段に気体の供給を開始するよう制御し、且つ、前記気体の供給開始から所定の時間経過後、前記液体供給手段が前記２流体噴射手段に液体の供給を開始するよう制御し、
   前記液体が前記気体供給手段へ逆流することを防止することを特徴とする２流体洗浄装置。
5. 前記所定の時間が、２秒乃至１５秒であることを特徴とする請求項４に記載の２流体洗浄装置。
6. 前記２流体供給制御手段は、さらに、前記気体供給手段の気体圧力を判定し、所定の圧力以下になると、前記液体供給手段による液体の供給を停止し、
   前記液体が前記気体供給手段へ逆流することを防止することを特徴とする請求項４又は５に記載の２流体洗浄装置。

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