JP7032726B2 - 洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents
洗浄装置及び洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7032726B2 JP7032726B2 JP2017197416A JP2017197416A JP7032726B2 JP 7032726 B2 JP7032726 B2 JP 7032726B2 JP 2017197416 A JP2017197416 A JP 2017197416A JP 2017197416 A JP2017197416 A JP 2017197416A JP 7032726 B2 JP7032726 B2 JP 7032726B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- cleaning
- dissolved
- semiconductor wafer
- pressure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Description
本明細書では、洗浄水を噴射して洗浄対象物を洗浄した後にリンス水を供給して洗浄対象物をリンスする場合に、純水によってリンスする場合に比べてリンス効果を向上させることができる技術を開示する。
実施形態1を図1ないし図2によって説明する。
図1を参照して、本実施形態に係る洗浄装置1の構成について説明する。洗浄装置1は洗浄水を高圧で噴射して洗浄対象物Wを洗浄し、その後に洗浄対象物Wにリンス水を供給して洗浄対象物Wをリンスするものである。
ここで、本実施形態では洗浄対象物Wとして半導体ウェハ(以下、「半導体ウェハW」という)を例に説明する。半導体ウェハWはスラリーと呼ばれる研磨剤を用いて研磨された後、付着しているスラリーを除去するために洗浄装置1によって洗浄される。図1では省略しているが、半導体ウェハWはターンテーブルの上に載置されており、回転している状態で洗浄される。
製造装置10は超純水(比抵抗値が15MΩ・cm以上の純水)を貯めるタンク、及び、空気を圧縮してタンク内に供給する圧縮ポンプなどを備えている。溶解水の製造では、タンクに超純水が貯められた後、圧縮ポンプによって圧縮された空気がタンク内に供給される。圧縮された空気がタンク内に供給されるとタンク内の気圧が高くなり、タンク内の空気の一部が溶解によって超純水に溶ける。これにより溶解水が製造される。
高圧フィルタ14は高圧ポンプ13から供給される溶解水中の微小粒子を除去するものである。
開閉弁17は配管16において高圧フィルタ14と洗浄用ノズル15との間に設けられている。開閉弁17はエアオペレートバルブや電磁弁などであり、制御部によって開閉が制御される。
洗浄装置1は製造装置10から供給される溶解水を洗浄部11によって洗浄水として高圧で噴射する(洗浄工程)。溶解水は加圧されている状態から解放されると溶解していた空気が気体に戻ることによってファインバブル(直径100μm以下の気泡)が発生し、ファインバブルが含まれる超純水によって半導体ウェハWが洗浄される。
図2に示すように、本願発明者は洗浄水/リンス水の組み合わせとして超純水/溶解水、溶解水/超純水、及び、溶解水/溶解水の3つについて洗浄効果を比較する実験を行った。図2(a)と図2(b)とでは溶解水/溶解水の実験結果を示すグラフの高さが異なっているが、これは実験結果を明確に示すために図2(a)と図2(b)とで縦軸の縮尺を異ならせているからであり、これらは同じ実験結果を示している。
また、この実験では上述した各組み合せについて洗浄水やリンス水の噴射圧力や噴射時間などの条件を互いに同じとし、スラリーについては本願発明者が目視で同程度となるように手作業で付着させた。なお、付着させたスラリーの量のばらつきが実験結果に与える影響は小さいといえる。
また、図2(b)に示すように、溶解水/超純水と溶解水/溶解水とを比較した場合、洗浄水はいずれも溶解水であることから、洗浄効果の違いが生じた原因はリンス水の違いであるといえる。この比較ではリンス水として溶解水を用いた方が洗浄効果が高いという結果になった。
溶解水が超純水に比べてリンス効果が高い理由としては、溶解水に含まれているファインバブルの効果が考えられる。具体的には、洗浄後の半導体ウェハWの表面に残っている洗浄水の中に浮遊しているスラリーが、リンス水として供給された溶解水に含まれているファインバブルによって半導体ウェハWに再付着し難くなったからであると考えられる。
以上説明した実施形態1に係る洗浄装置1によると、洗浄部11によって半導体ウェハWを洗浄した後、供給部12によって溶解水を供給して半導体ウェハWをリンスするので、ファインバブルの効果により、超純水によってリンスする場合に比べてリンス効果を向上させることができる。
本明細書で開示する技術は上記記述及び図面によって説明した実施形態に限定されるものではなく、例えば次のような実施形態も本明細書で開示する技術的範囲に含まれる。
Claims (2)
- 飽和状態の90%以上の範囲で気体を溶解させた溶解水である洗浄水を噴射して洗浄対象物を洗浄する洗浄工程と、
前記洗浄工程の後、前記溶解水を、前記洗浄工程で前記洗浄水が噴射される圧力より低圧で前記洗浄対象物に供給して前記洗浄対象物をリンスするリンス工程と、
を含む洗浄方法。 - 請求項1に記載の洗浄方法であって、
前記洗浄工程において、3MPa以上30MPa以下の圧力で前記洗浄水を噴射し、前記リンス工程において、0.1MPaより大きく1MPa以下の圧力で前記溶解水を供給する、洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017197416A JP7032726B2 (ja) | 2017-10-11 | 2017-10-11 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017197416A JP7032726B2 (ja) | 2017-10-11 | 2017-10-11 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019071374A JP2019071374A (ja) | 2019-05-09 |
JP7032726B2 true JP7032726B2 (ja) | 2022-03-09 |
Family
ID=66441955
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017197416A Active JP7032726B2 (ja) | 2017-10-11 | 2017-10-11 | 洗浄装置及び洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7032726B2 (ja) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000277480A (ja) | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Kurita Water Ind Ltd | 半導体基板の洗浄方法 |
JP2008021672A (ja) | 2006-07-10 | 2008-01-31 | Sony Corp | ガス過飽和溶液を用いた超音波洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2011134864A (ja) | 2009-12-24 | 2011-07-07 | Kurita Water Ind Ltd | 洗浄方法 |
JP2012004331A (ja) | 2010-06-17 | 2012-01-05 | Shibaura Mechatronics Corp | 洗浄方法及び洗浄装置 |
-
2017
- 2017-10-11 JP JP2017197416A patent/JP7032726B2/ja active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000277480A (ja) | 1999-03-25 | 2000-10-06 | Kurita Water Ind Ltd | 半導体基板の洗浄方法 |
JP2008021672A (ja) | 2006-07-10 | 2008-01-31 | Sony Corp | ガス過飽和溶液を用いた超音波洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2011134864A (ja) | 2009-12-24 | 2011-07-07 | Kurita Water Ind Ltd | 洗浄方法 |
JP2012004331A (ja) | 2010-06-17 | 2012-01-05 | Shibaura Mechatronics Corp | 洗浄方法及び洗浄装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019071374A (ja) | 2019-05-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
WO2011122325A1 (ja) | 混合流体噴射装置 | |
JP4841280B2 (ja) | スリットノズル洗浄方法 | |
JP2014033111A (ja) | 処理液供給装置の運転方法、処理液供給装置及び記憶媒体 | |
JP4360407B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
JP2013116441A (ja) | 洗浄装置 | |
JP2020515421A (ja) | ウォータアブレイシブサスペンションジェット式切断装置およびウォータアブレイシブサスペンションジェット式切断方法 | |
KR101802172B1 (ko) | 질소를 이용한 배관 세척 장치 | |
CN106141905B (zh) | 一种晶圆研磨头清洗装置及清洗方法 | |
JP7032726B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
JP2006203130A (ja) | 洗浄装置、洗浄装置への液体の補充方法 | |
TW201513922A (zh) | 光阻剝離液過濾器之洗淨液、洗淨裝置及洗淨方法 | |
JP2009188116A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
JP2012035166A (ja) | 流体噴出ノズル及びそれを用いた洗浄装置 | |
JP4748248B2 (ja) | 洗浄装置及び洗浄方法 | |
JP2011072950A (ja) | 処理装置 | |
JP6479563B2 (ja) | 洗浄装置及びスケール付着防止装置 | |
JP2009082854A (ja) | 純水生成ユニット及び純水洗車装置 | |
JP2008194653A (ja) | 2流体洗浄制御方法及び2流体洗浄装置 | |
KR20130019963A (ko) | 선박의 휠하우스 윈도우 클리닝 시스템 | |
KR102113433B1 (ko) | 잉크젯 프린터 헤드를 세척하여 수리하는 전용 수리장치 | |
JP2009290241A (ja) | 洗浄装置およびその洗浄装置を利用した被洗浄物の洗浄方法 | |
KR200437131Y1 (ko) | 세차용 거품분사 유니트 | |
JP2009302406A (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
JP2003183896A (ja) | めっき装置 | |
JP2011072903A (ja) | バブル生成方法及び装置及びその装置を用いた処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200916 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20210624 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210706 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210827 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20220127 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20220215 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7032726 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |