JP2015167938A - 基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
Description
2 基板処理装置
11 第1の処理室
12 第2の処理室
13 ノズル
14 ノズル
15 ノズル
16 ノズル
21 第1貯留槽
22 第2貯留槽
23 洗浄液貯留槽
44 接続部
45 接続部
71 T字管
100 制御部
101 酸性の処理液の循環路
102 アルカリ性の処理液の循環路
103 酸性の処理液の吐出経路
104 酸性の処理液の吐出経路
105 アルカリ性の処理液の吐出経路
106 アルカリ性の処理液の吐出経路
107 洗浄液供給路
108 洗浄液供給路
109 窒素ガスの供給路
110 窒素ガスの供給路
111 ベント用配管
Claims (6)
- 処理室内の基板に対して処理液を供給することにより基板を処理する基板処理装置であって、
前記処理室内の基板に対して処理液を供給する処理液供給経路と、
前記処理液供給経路に、当該処理液供給経路を洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄液供給手段から前記処理液供給経路に供給された洗浄液に対して、単位時間当たりの洗浄液の供給量以上の量の気体を連続的に供給する気体供給手段と、
を備えたことを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記処理液供給経路は、貯留槽と、処理液を前記貯留槽から送出した後、再度、前記貯留槽に戻すための循環路と、先端にノズルを備え、前記循環路を循環する処理液を基板に吐出するための吐出経路とを備え、
前記気体供給手段は、前記循環路を循環する洗浄液に対して気体を供給する基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記吐出経路は、前記循環路と前記ノズルとの間に配設された開閉弁を備え、
当該開閉弁を間欠的に開放することにより、前記循環路を循環する洗浄液を間欠的に前記ノズルより吐出させる基板処理装置。 - 請求項3に記載の基板処理装置において、
前記処理室が複数個配設されるとともに、前記吐出経路は各処理室に対応して複数配設されており、
複数の吐出経路に配設された複数の開閉弁は、互いにタイミングをずらせて開放される基板処理装置。 - 請求項3または請求項4に記載の基板処理装置において、
前記気体供給手段は、複数の吐出経路における複数のノズルより気体が吐出されるように、前記洗浄液供給手段から前記処理液供給経路に単位時間当たりに供給される洗浄液の量より十分多量の気体を連続的に供給する基板処理装置。 - 請求項2から請求項5のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記気体供給手段は、前記循環路に対して、当該循環路を構成する管路より小さな内径を有する管路から、前記循環路を循環する洗浄液の流れと同方向に気体を供給する基板処理装置。
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