JP6697055B2 - 基板処理装置および基板処理装置の配管洗浄方法 - Google Patents
基板処理装置および基板処理装置の配管洗浄方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6697055B2 JP6697055B2 JP2018224382A JP2018224382A JP6697055B2 JP 6697055 B2 JP6697055 B2 JP 6697055B2 JP 2018224382 A JP2018224382 A JP 2018224382A JP 2018224382 A JP2018224382 A JP 2018224382A JP 6697055 B2 JP6697055 B2 JP 6697055B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- processing
- cleaning
- cleaning liquid
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims description 178
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 98
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 259
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 7
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 56
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 50
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 50
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 20
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 2
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Description
前記循環路を循環する洗浄液に対して、単位時間当たりの洗浄液の供給量以上の量の気体を連続的に供給することにより、前記洗浄液を、前記循環路の配管の内径より小さい複数の液滴に分裂させる気体供給ステップと、前記開閉弁を間欠的に開放することにより、前記循環路を循環する洗浄液を間欠的に前記ノズルより吐出させる洗浄液吐出ステップと、を含むことを特徴とする。
環路101(102)における窒素ガスの内部圧力が上昇する。しかし、制御部100が開閉弁46(47)を適宜のタイミングで開閉することにより、余分な窒素ガスを排気部48からベントしているため、窒素ガスの内部圧力が一定に保たれる。仮に、窒素ガスの内部圧力が高くなりすぎると接続部44および45からの窒素ガスの供給が不可能になるが、本実施形態では制御部100が開閉弁46および47を適宜のタイミングで開閉制御してベントを行うため、接続部44および45から循環路101および102への窒素ガスの供給が連続的に行えるようになっている。
2 基板処理装置
11 第1の処理室
12 第2の処理室
13 ノズル
14 ノズル
15 ノズル
16 ノズル
21 第1貯留槽
22 第2貯留槽
23 洗浄液貯留槽
44 接続部
45 接続部
71 T字管
100 制御部
101 酸性の処理液の循環路
102 アルカリ性の処理液の循環路
103 酸性の処理液の吐出経路
104 酸性の処理液の吐出経路
105 アルカリ性の処理液の吐出経路
Claims (5)
- 処理室内の基板に対して処理液を供給することにより基板を処理する基板処理装置であって、
前記処理室内の基板に対して処理液を供給する処理液供給経路と、
前記処理液供給経路に、当該処理液供給経路を洗浄する洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記洗浄液供給手段から供給され前記処理液供給経路内を流れる前記洗浄液に対して、単位時間当たりの洗浄液の供給量以上の量の気体を連続的に供給する気体供給手段と、
を備え、
前記処理液供給経路は、
貯留槽と、
処理液を前記貯留槽から送出した後、再度、前記貯留槽に戻すための循環路と、
基板に処理液を供給するノズルと前記循環路とを開閉弁を介して接続する吐出経路と、
を備え、
前記気体供給手段は、前記開閉弁を閉止した状態で、前記循環路内を流れる前記洗浄液に対して気体を連続的に供給することにより、前記洗浄液を、前記循環路の配管の内径より小さい複数の液滴に分裂させるとともに、
前記開閉弁を間欠的に開放することにより、前記循環路を循環する洗浄液を間欠的に前記ノズルより吐出させることを特徴とする基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置において、
前記処理室が複数個配設されるとともに、前記吐出経路は各処理室に対応して複数配設されており、
複数の吐出経路に配設された複数の開閉弁は、互いにタイミングをずらせて開放される基板処理装置。 - 請求項2に記載の基板処理装置において、
前記気体供給手段は、複数の吐出経路における複数のノズルより気体が吐出されるように、前記洗浄液供給手段から前記処理液供給経路に単位時間当たりに供給される洗浄液の量より十分多量の気体を連続的に供給する基板処理装置。 - 請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記気体供給手段は、前記循環路に対して、当該循環路を構成する管路より小さな内径を有する管路から、前記循環路を循環する洗浄液の流れと同方向に気体を供給する基板処理装置。 - 貯留槽と、処理液を前記貯留槽から送出した後、再度、前記貯留槽に戻すための循環路と、前記循環路と接続され処理液をノズルを介して基板に供給するための開閉弁が配設された吐出経路と、を備えた処理液供給経路を有し、処理室内の基板に対して処理液を供給することにより基板を処理する基板処理装置の配管洗浄方法であって、
前記貯留槽に洗浄液を貯留する洗浄液貯留ステップと、
前記開閉弁を閉止した状態で前記循環路に前記貯留槽に貯留された洗浄液を循環させる洗浄液循環ステップと、
前記循環路を循環する洗浄液に対して、単位時間当たりの洗浄液の供給量以上の量の気体を連続的に供給することにより、前記洗浄液を、前記循環路の配管の内径より小さい複数の液滴に分裂させる気体供給ステップと、
前記開閉弁を間欠的に開放することにより、前記循環路を循環する洗浄液を間欠的に前記ノズルより吐出させる洗浄液吐出ステップと、
を含むことを特徴とする基板処理装置の配管洗浄方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018224382A JP6697055B2 (ja) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | 基板処理装置および基板処理装置の配管洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018224382A JP6697055B2 (ja) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | 基板処理装置および基板処理装置の配管洗浄方法 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014046373A Division JP2015167938A (ja) | 2014-03-10 | 2014-03-10 | 基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019048298A JP2019048298A (ja) | 2019-03-28 |
JP6697055B2 true JP6697055B2 (ja) | 2020-05-20 |
Family
ID=65905356
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018224382A Active JP6697055B2 (ja) | 2018-11-30 | 2018-11-30 | 基板処理装置および基板処理装置の配管洗浄方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6697055B2 (ja) |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5534359B2 (ja) * | 1972-12-12 | 1980-09-05 | ||
JPS533584B2 (ja) * | 1974-05-31 | 1978-02-08 | ||
JPS61252498A (ja) * | 1985-05-02 | 1986-11-10 | Takao Sakamoto | 熱交換器における伝熱管の内面洗浄方法 |
JPH03288582A (ja) * | 1990-04-02 | 1991-12-18 | Kansai Paint Co Ltd | 配管内などの液体の流通経路の洗浄方法 |
JP2001038315A (ja) * | 2000-01-01 | 2001-02-13 | Tokyo Pipe Giken Kogyo Kk | 配管の洗浄方法 |
JP2007116033A (ja) * | 2005-10-24 | 2007-05-10 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 洗浄装置及びこれを備えた基板処理装置 |
JP2008272703A (ja) * | 2007-05-02 | 2008-11-13 | Hitachi Plant Technologies Ltd | 空気輸送装置の配管内洗浄方法および空気輸送装置 |
JP5321450B2 (ja) * | 2008-03-21 | 2013-10-23 | 栗田工業株式会社 | 水処理装置給水配管の洗浄方法 |
JP2012200712A (ja) * | 2011-03-28 | 2012-10-22 | Kuraray Co Ltd | 配管の洗浄方法 |
JP5726784B2 (ja) * | 2012-02-24 | 2015-06-03 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理液交換方法および基板処理装置 |
-
2018
- 2018-11-30 JP JP2018224382A patent/JP6697055B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2019048298A (ja) | 2019-03-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN109285800B (zh) | 基板处理系统以及管道清洗方法 | |
KR101932869B1 (ko) | 기판 처리 장치 | |
US10037901B2 (en) | Substrate liquid treatment apparatus, method of cleaning substrate liquid treatment apparatus and non-transitory storage medium | |
KR100397455B1 (ko) | 반도체의초미립자세정기 | |
KR101612633B1 (ko) | 기판 세정 방법 및 기판 세정 장치 | |
US7392814B2 (en) | Substrate processing apparatus and method | |
US20150360261A1 (en) | System and method for the sonic-assisted cleaning of substrates utilizing a sonic-treated liquid | |
JP2008135557A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
US9346084B2 (en) | Liquid processing apparatus and liquid processing method | |
KR102055960B1 (ko) | 웨이퍼-형상 물체의 액체 처리를 위한 장치 및 방법 | |
WO2006038341A1 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2007149892A (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
JP2012200712A (ja) | 配管の洗浄方法 | |
TWI274607B (en) | Apparatus and method of treating substrate | |
JP6697055B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理装置の配管洗浄方法 | |
JP2015167938A (ja) | 基板処理装置 | |
JP2008279320A (ja) | 配管ユニット及び処理液供給ライン洗浄方法 | |
TWI722378B (zh) | 基板處理裝置、處理液排出方法、處理液交換方法、及基板處理方法 | |
JP5130127B2 (ja) | 基板の処理装置及び処理方法 | |
JP2007317927A (ja) | 基板処理ユニットおよび基板処理方法 | |
JP6576770B2 (ja) | 基板処理装置におけるフィルタ交換方法 | |
KR101099576B1 (ko) | 세정액 공급 및 회수 시스템 | |
JP7164426B2 (ja) | 基板処理装置およびフィルタの気泡抜き方法 | |
JP2008194653A (ja) | 2流体洗浄制御方法及び2流体洗浄装置 | |
KR20200144200A (ko) | 기판 처리 장치 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181130 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190905 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190910 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191101 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20200302 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20200303 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200407 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200423 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6697055 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |