JP2008279320A - 配管ユニット及び処理液供給ライン洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】処理液供給ライン内に付着する汚染物質を効果的に除去して処理液供給ライン内を洗浄することができ、更には既存の処理液供給ラインに大幅な変更を加えることなく容易に接続できる配管ユニット及び処理液供給ライン洗浄方法を提供すること。
【解決手段】上流側に薬液A及び薬液B供給ライン12A、12Bが接続され、下流側に処理槽20が接続され、薬液A及び薬液B供給ライン12A、12Bから供給される処理液を処理槽20に供給するための装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bに分岐接続されてなる配管ユニット30であって、装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bに切換え可能に分岐接続される分岐管31と、分岐管31から並列に分岐接続される強流ライン34及び弱流ライン35と、強流ライン34を開閉するバルブ37と、を備える。
【選択図】図2
【解決手段】上流側に薬液A及び薬液B供給ライン12A、12Bが接続され、下流側に処理槽20が接続され、薬液A及び薬液B供給ライン12A、12Bから供給される処理液を処理槽20に供給するための装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bに分岐接続されてなる配管ユニット30であって、装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bに切換え可能に分岐接続される分岐管31と、分岐管31から並列に分岐接続される強流ライン34及び弱流ライン35と、強流ライン34を開閉するバルブ37と、を備える。
【選択図】図2
Description
本発明は、種々の配管内に付着した汚染物質などを除去するため使用される配管ユニット及び処理液供給ライン洗浄方法に関し、特に、装置内処理液供給ラインに設置して、それよりも上流側の処理液供給ライン内を洗浄することのできる配管ユニット及び処理液供給ライン洗浄方法に関する。
食品、医薬品、化学品等の材料又は薬液供給ラインの配管内には、時間の経過と共に汚染物質が付着し、これらが管内壁から剥がれ落ちることによって下流側の各種処理装置において製品の汚染や劣化をもたらす。そのため、定期的に配管内を洗浄する必要がある。配管内を洗浄する一般的な方法は、洗浄液を一定速度で一定時間連続的に流入するものであるが、これには多大な洗浄時間が必要となる上に枝管が多い場合には十分な洗浄効果を得ることができない。
そのため、以下に説明するような各種の洗浄方法が開発されている。
下記特許文献1(特開平8−252550号公報)には、洗浄液(液体)の流速を変化させて得られる衝撃力を利用して配管内を洗浄する洗浄方法が開示されている。この洗浄方法においては、送液する洗浄液の流速を変化させるために送液量を変化させることができるインバータ付ポンプで流速を変化させたり、配管途中にバルブを設け、その弁の開閉度を変化させて流量を変化させたりすることで配管の洗浄を行っている。
下記特許文献1(特開平8−252550号公報)には、洗浄液(液体)の流速を変化させて得られる衝撃力を利用して配管内を洗浄する洗浄方法が開示されている。この洗浄方法においては、送液する洗浄液の流速を変化させるために送液量を変化させることができるインバータ付ポンプで流速を変化させたり、配管途中にバルブを設け、その弁の開閉度を変化させて流量を変化させたりすることで配管の洗浄を行っている。
また、下記特許文献2(特開平3−288582号公報)には、配管内の液体の流通経路内に圧縮気体を吹き込み、その経路内の洗浄用液体中に圧縮気体を混合することで洗浄用液体を乱流状態とし、配管内を洗浄する洗浄方法が開示されている。この洗浄方法においては、圧縮気体として圧縮空気、窒素、二酸化炭素などを用い、これらが流通経路内の洗浄用液体中を通過する際に液体が局部的に強制対流され、渦が発生し、これによって流通経路内に付着した汚染物質が効率よく除去される。
また、下記特許文献3(特開平4−281924号公報)には、配水を氷結させた微細な氷を配水とともに清掃すべき配水管の一端側から所定の圧力でもって送給することによって配水管の目詰りを除去する配水管の清掃方法が開示されている。この清掃方法によれば、配水管内の目詰り部分に微細な氷が激しく衝突し、水の圧送だけでは除去できないような配水管の目詰りが簡単かつ確実に除去される。しかも、配水管の清掃によって水質変化や水質汚染が発生することはない。
さらに、下記特許文献4(特開平3−174289号公報)には、装置内の配管の洗浄を行う際に、配管内に洗浄液を一方向に流して洗浄し、次いで洗浄液の流れの方向を反転して洗浄する過程を有する配管の洗浄方法が開示されている。
上述したそれぞれの配管内の洗浄方法は、配管内を流れる流体の流量や流速及び状態が一定でなくなるようにすることで配管内に付着した汚染物質を除去するものであり、それぞれ効果的に配管内の洗浄を行うことができる。
上記特許文献1〜4に開示された各種の配管洗浄方法は、流速や流量を変化させるためのバルブを設置したり、配水とともに氷や圧縮気体を管内に送り込んだり、また洗浄液の流通方向を逆転させる装置を取り付けたりする必要があり、これらは基本的には洗浄すべき処理液供給ラインの上流側に設置しなければならない。しかしながら、工場等の処理液供給ラインは工場内で使用する全ての流体を一括で供給する構造を備えている場合が多く、この場合には、上記特許文献1〜4に開示されたような配管洗浄方法を実施するためには、処理液供給ラインの上流側に大幅な変更を加えなければならなくなり、容易に洗浄装置を取り付けることが難しかった。
したがって、本発明の主な目的は、処理液供給ライン内に付着する汚染物質を効果的に除去して処理液供給ライン内を洗浄することができ、更には既存の処理液供給ラインに大幅な変更を加えることなく容易に接続できる配管ユニット及び処理液供給ライン洗浄方法を提供することである。
また、本発明の更なる目的は、配管内の洗浄を既存の処理液供給ラインの下流側から行うことのできる配管ユニット及び処理液供給ライン洗浄方法を提供することである。
上記課題を解決するために、本発明の請求項1にかかる配管ユニットの発明は、上流側に処理液供給ラインが接続され、下流側に各種処理装置が接続され、前記処理液供給ラインから供給される処理液を前記各種処理装置に供給するための装置内処理液供給ラインに分岐接続されてなる配管ユニットであって、
前記装置内処理液供給ラインに切換え可能に分岐接続される分岐管と、
前記分岐管内を流れる前記処理液の流量を経時的に変化させることで、前記処理液供給ライン内の圧力を変化させることが可能な液流量調整手段と、
を備えることを特徴とする。
前記装置内処理液供給ラインに切換え可能に分岐接続される分岐管と、
前記分岐管内を流れる前記処理液の流量を経時的に変化させることで、前記処理液供給ライン内の圧力を変化させることが可能な液流量調整手段と、
を備えることを特徴とする。
また、請求項2にかかる発明は、請求項1に記載の配管ユニットにおいて、前記液流量調整手段は、
前記分岐管から並列に分岐接続される大径配管及び小径配管と、
前記大径配管を開閉する開閉機構と、
からなることを特徴とする。
前記分岐管から並列に分岐接続される大径配管及び小径配管と、
前記大径配管を開閉する開閉機構と、
からなることを特徴とする。
請求項3にかかる処理液供給ライン洗浄方法の発明は、上流側に処理液供給ラインが接続され、下流側に各種処理装置が接続され、前記処理液供給ラインから供給される処理液を前記各種処理装置に供給するための装置内処理液供給ラインに大径配管と小径配管を並列に分岐接続し、以下の(1)〜(2)に示す工程を所定時間間隔で複数回繰り返すことを特徴とする。
(1)前記大径配管と前記小径配管の両方に処理液を流す工程、
(2)前記小径配管のみに洗浄液を流す工程。
(1)前記大径配管と前記小径配管の両方に処理液を流す工程、
(2)前記小径配管のみに洗浄液を流す工程。
本発明は上記構成を備えることにより以下に示すような優れた効果を奏する。すなわち、請求項1の配管ユニットの発明によれば、各種処理装置へ供給される処理液の流路を分岐管に切換えた状態において、この分岐管内の処理液流量を変化させることが可能な液流量調整手段を動作させることで、処理液供給ライン内の圧力を変化させることができるので、装置側処理液供給ラインに接続された、すなわち、一連の処理液供給経路の内の下流側に設けられた配管ラインによって上流側に位置する処理液供給ラインを洗浄できるようになる。
また、請求項2の発明によれば、開閉機構の開状態の時には、大径配管と小径配管の両方に流体が流れるために配管ユニットに大流量の流体を流すことができるのに対し、閉時には、小径配管のみに流体が流れるために小流量の流体しか流れなくなる。したがって、この開閉動作を繰り返し行うことによって配管ユニットを流れる処理液の流量が急激に変化し、この変化は配管ユニットが接続された処理液供給ラインの上流側の流速にも振動をもたらすと同時に流体の圧力の変化を生じさせることができる。この流速及び圧力の変化により、処理液供給ライン内の汚染物質を効果的に除去することが可能となる。また、この配管ユニットは処理液供給ラインの上流側ではなく下流側、詳しくは装置内の処理液供給ラインに接続されるため、装置に至る以前の処理液供給ラインの上流側において複雑な工事や変更を加えることなく容易に配管内の洗浄を行うことができるようになる。
請求項3の薬液供給ライン洗浄方法の発明によれば、大径配管と小径配管の両方に洗浄液を流すことと小径配管のみに洗浄液を流すこととを繰り返し行うことにより、洗浄液の流量を急激に増減させ、処理液供給ラインの上流側の洗浄液に圧力の変化を生じさせるとともに流速に振動を生じさせ、処理液供給ライン内の汚染物質を効果的に除去することが可能となる。また、この処理液供給ライン洗浄方法は、処理液供給ラインの下流側となる装置内処理液供給ラインから実施することができるため、装置に至る以前の処理液供給ラインの上流側で複雑な工事や変更を加える必要がなく容易に処理液供給ラインの洗浄を行うことができる。
以下、本発明の具体例を実施例及び添付の図面を用いて詳細に説明する。但し、以下に示す実施例は、本発明の技術思想を具体化するための配管ユニット及び処理液供給ライン洗浄方法を例示するものであって、本発明をこの配管ユニットに特定することを意図するものではなく、特許請求の範囲に含まれるその他の実施形態のものにも等しく適用し得るものである。
図1は本発明の配管ユニットを半導体処理システムに適用した場合のシステム構成図を示す。この半導体処理システム1は、処理液供給側ユニット2と処理装置側ユニット3とに大別される。処理液供給側ユニット2は、通常工場等に設置されて工場内で使用する各種処理液を一括して供給する処理液供給源であり、処理装置側ユニット3は各種の処理装置、例えば複数槽からなる基板処理装置の1つの処理槽20で構成されている。なお、処理液供給側ユニット2は、例えば処理装置側ユニット3以外の処理装置に分岐接続していてもよい。
処理液供給側ユニット2は、薬液A供給源11Aと薬液B供給源11Bと純水供給源17と、これらを処理装置側ユニット3で構成されている。そして、これらの各種処理液供給源11A、11B、17はそれぞれ処理装置側ユニット3に配管により連結されて、この配管がそれぞれ薬液A供給ライン12A、薬液B供給ライン12B、純水供給ライン18を形成している。なお、本実施例においては、薬液A供給ライン12A及び薬液B供給ライン12Bが処理液供給ラインとなっている。
少なくとも薬液A及び薬液B供給ライン12A、12Bは、処理装置側ユニット3の装置側薬液A供給ライン13A及び装置側薬液B供給ライン13Bに公知の連結手段で連結されている。この装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bは、上流側の一端部が薬液A及び薬液B供給ライン12A、12Bに連結され、下流側の他端部が秤量タンク16A、16Bに接続されている。この秤量タンク16A、16Bは、装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bから供給される薬液A及び薬液Bを一旦計測貯留し、後述する混合槽40に所定量の薬液を供給するものである。
また、これらの装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bの中間部には3方弁14A、14Bが接続され、この3方弁14A、14Bの他方の弁には分岐管31A、31Bが接続されている。そして、この3方弁14A、14Bの一方の弁と秤量タンク16A、16Bとの間には、装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bを開閉するバルブ15A及び15Bが接続されている。
秤量タンク16A、16Bに貯留された薬液A及び薬液Bと、処理液供給側ユニット2の純水供給源17から純水供給ライン18を介して供給される純水とは、混合槽40で一旦貯留される。この混合槽40は攪拌手段41を有し、秤量タンク16A、16Bで所定量に制御されて供給される薬液と純水とを十分に混合し、洗浄液を生成する。なお、図示しないが、必要に応じて洗浄液を所定の温度に保つような温度制御手段を設けることもできる。また、この混合槽40は洗浄液供給ライン24に接続されて、混合槽40内で生成された洗浄液はこの洗浄液供給ライン24を介して処理槽20に供給されることになる。なお、この洗浄液の処理槽20への供給は、洗浄液供給ライン24に設けられたバルブ25によって制御されている。
処理槽20は、ウェーハWが浸漬される内槽21と、内槽21からオーバーフローする洗浄液を受ける外槽22とで形成されている。内槽21の底部付近には洗浄液供給ノズル23が配設され、内槽21と外槽22の最底部には排液管26が接続されている。そして、洗浄液供給ノズル23から供給された洗浄液によりウェーハWの洗浄がなされ、この洗浄の後、排液管26を介して処理槽20内の洗浄液が排液されるようになっている。
図2は本発明の配管ユニットの構成図を示すものである。なお、図1において示したように、装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bはそれぞれ異なる配管ユニット30A、30Bに接続されているが、これらの配管ユニット30A、30Bは同様の構成を備えるものであるので、図2においては配管ユニット30として同時に説明するものとする。
図2に示すように、配管ユニット30は、分岐管31と、分岐管31に設けられたバルブ39と、分岐管31に接続されるとともにこの配管ユニット30を流れる薬液A及び薬液Bの流れに強弱を与える液流量調整手段としての強弱付与ライン32と、強弱付与ライン32から排出された薬液A及び薬液Bを排液として処理する排液管36とにより構成されている。
強弱付与ライン32は、比較的大径な配管から構成される強流ライン34とこの強流ライン34に比して小径な配管から構成される弱流ライン35からなり、それぞれの上流側の端部は分岐点33において分岐管31に接続され、同じくそれぞれの下流側の端部は合流点38において排液管36に接続されている。強流ライン34と弱流ライン35は、それぞれの配管の径が強流ライン34は例えば装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bと同程度の径を有し、弱流ライン35は装置側薬液A及び薬液B供給ライン13A、13Bより小径とされている。これにより、強流ライン34には処理液が多く流れ、弱流ライン35には処理液が少なく流れる。さらに、強流ライン34にはバルブ37が設けられ、バルブ37を開閉することによって強流ライン34における処理液の流入のオン/オフ操作をすることができる。
上記構成により、配管ユニット30はその作動時、つまり三方弁14が切換えられて分岐管31に処理液が供給された時には常に弱流ライン35に少量の洗浄液が流れている。ここで強流ライン34のバルブ37を開状態にすると、弱流ライン35に加えて強流ライン34に大容量の薬液A及び薬液Bが流入し、バルブ37を閉状態にすると、薬液A及び薬液Bは強流ライン34には流れず、弱流ライン35のみに流れるようになる。
次に、上述した配管ユニット30Aを用いて薬液A供給ライン12Aを洗浄する方法について説明する。なお、薬液B供給ライン12Bの洗浄方法についても同様であるので、その説明は省略する。
先ず、薬液A供給源11Aから一定量の薬液A(この場合は薬液Aに代えて洗浄液を用いるようにしてもよい)を供給した状態で、配管ユニット30Aが接続された三方弁14Aの秤量タンク16Aに接続された側の弁を「閉」状態にするとともに、配管ユニット30A側の弁を「開」状態にすることによって、装置側薬液A供給ライン13Aと配管ユニット30Aの分岐管31Aとを開通させる。次いで、配管ユニット30Aの強流ライン34Aに設けられたバルブ37Aを所定時間間隔で開閉する。バルブ37Aを開状態にすると、上述したように、強流ライン34Aと弱流ライン35Aの両方に薬液Aが流れることになり、装置側薬液A供給ライン13Aから供給される薬液Aが配管ユニット30Aにほぼ滞留することなく流れる。反対に、バルブ37Aを閉状態にすると、弱流ライン35のみに薬液Aが流れることになるので、装置側薬液A供給ライン13Aから供給される薬液Aは配管ユニット30Aには少量しか流れない。そして、バルブ37Aの開閉を短時間で繰り返すと、装置側薬液A供給ライン13Aから配管ユニット30Aに流れる薬液Aの量及び流速は急激な変化を繰り返すことになる。また、配管ユニット30Aにおける薬液Aの運動エネルギーの変化は、装置側薬液A供給ライン13Aにおいては圧力の変化となって薬液A供給ライン12Aまで伝わってゆき、バルブ37Aを開くと薬液A供給ライン12A内においては圧力が低下し、反対にバルブ37Aを閉めると圧力が上昇する。このような圧力の低下と上昇が繰り返されることで薬液A供給ライン12A内に振動が生じ、薬液A供給ライン12Aの内面に付着した汚染物質を揺落として除去することが可能となる。
先ず、薬液A供給源11Aから一定量の薬液A(この場合は薬液Aに代えて洗浄液を用いるようにしてもよい)を供給した状態で、配管ユニット30Aが接続された三方弁14Aの秤量タンク16Aに接続された側の弁を「閉」状態にするとともに、配管ユニット30A側の弁を「開」状態にすることによって、装置側薬液A供給ライン13Aと配管ユニット30Aの分岐管31Aとを開通させる。次いで、配管ユニット30Aの強流ライン34Aに設けられたバルブ37Aを所定時間間隔で開閉する。バルブ37Aを開状態にすると、上述したように、強流ライン34Aと弱流ライン35Aの両方に薬液Aが流れることになり、装置側薬液A供給ライン13Aから供給される薬液Aが配管ユニット30Aにほぼ滞留することなく流れる。反対に、バルブ37Aを閉状態にすると、弱流ライン35のみに薬液Aが流れることになるので、装置側薬液A供給ライン13Aから供給される薬液Aは配管ユニット30Aには少量しか流れない。そして、バルブ37Aの開閉を短時間で繰り返すと、装置側薬液A供給ライン13Aから配管ユニット30Aに流れる薬液Aの量及び流速は急激な変化を繰り返すことになる。また、配管ユニット30Aにおける薬液Aの運動エネルギーの変化は、装置側薬液A供給ライン13Aにおいては圧力の変化となって薬液A供給ライン12Aまで伝わってゆき、バルブ37Aを開くと薬液A供給ライン12A内においては圧力が低下し、反対にバルブ37Aを閉めると圧力が上昇する。このような圧力の低下と上昇が繰り返されることで薬液A供給ライン12A内に振動が生じ、薬液A供給ライン12Aの内面に付着した汚染物質を揺落として除去することが可能となる。
このようにして薬液A供給ライン12A内の管壁等から除去された汚染物質は、薬液A供給ライン12Aから装置側薬液A供給ライン13Aへと流れ、三方弁14Aを通過し、配管ユニット30Aの強流ライン34Aと弱流ライン35Aのいずれかを通過し、排水管36によって排出される。
薬液A供給ライン12A内の圧力の変化は、強流ライン34Aと弱流ライン35Aとを並列に接続せずに、単一のラインにバルブを設けてそれを開閉することによっても可能ではあるが、圧力の変化を余りに急激に生じさせるようにすると、かえって薬液A供給ライン12Aや機器の損傷につながる。そのため、弱流ライン35Aを設け、強流ライン34Aと弱流ライン35Aの配管の大きさなどを適切に設定することによって、圧力の極端な変化を防止し、配管や機器の損傷を防止することができる。
なお、上記実施例においては液流量調整手段として強弱付与ライン32を採用したものを説明したが、例えばリニアに液の流量を調整できる弁で代用することも可能である。
1 半導体処理システム
2 処理液供給側ユニット
3 処理装置側ユニット
12A 薬液A供給ライン
12B 薬液B供給ライン
13A 装置側薬液A供給ライン
13B 装置側薬液B供給ライン
14A、14B 三方弁
20 処理槽
30、30A、30B 配管ユニット
31、31A、31B 分岐管
32(32A、32B) 強弱付与ライン
34(34A、34B) 強流ライン
35(34A、34B) 弱流ライン
36 排液管
37(37A、37B) バルブ
2 処理液供給側ユニット
3 処理装置側ユニット
12A 薬液A供給ライン
12B 薬液B供給ライン
13A 装置側薬液A供給ライン
13B 装置側薬液B供給ライン
14A、14B 三方弁
20 処理槽
30、30A、30B 配管ユニット
31、31A、31B 分岐管
32(32A、32B) 強弱付与ライン
34(34A、34B) 強流ライン
35(34A、34B) 弱流ライン
36 排液管
37(37A、37B) バルブ
Claims (3)
- 上流側に処理液供給ラインが接続され、下流側に各種処理装置が接続され、前記処理液供給ラインから供給される処理液を前記各種処理装置に供給するための装置内処理液供給ラインに分岐接続されてなる配管ユニットであって、
前記装置内処理液供給ラインに切換え可能に分岐接続される分岐管と、
前記分岐管内を流れる前記処理液の流量を経時的に変化させることで、前記処理液供給ライン内の圧力を変化させることが可能な液流量調整手段と、
を備えることを特徴とする配管ユニット。 - 前記液流量調整手段は、
前記分岐管から並列に分岐接続される大径配管及び小径配管と、
前記大径配管を開閉する開閉機構と、
からなることを特徴とする請求項1に記載の配管ユニット。 - 上流側に処理液供給ラインが接続され、下流側に各種処理装置が接続され、前記処理液供給ラインから供給される処理液を前記各種処理装置に供給するための装置内処理液供給ラインに大径配管と小径配管を並列に分岐接続し、以下の(1)〜(2)に示す工程を所定時間間隔で複数回繰り返すことを特徴とする処理液供給ライン洗浄方法。
(1)前記大径配管と前記小径配管の両方に処理液を流す工程、
(2)前記小径配管のみに洗浄液を流す工程。
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