JP2012151439A - 液処理装置および液処理方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板洗浄装置(10)は、基板保持機構に保持された基板(W)の下面の下方に位置して基板の下面に処理液を吐出するノズル(60)を備える。ノズルは基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置の間に配列された複数の第1の吐出口(61)を有している。第1吐出口は、基板の下面に向けて吐出される処理液の吐出方向が基板の回転方向の成分を持つように形成されている。
【選択図】図2A
Description
すなわち、図2Cにおいて基板保持部材31によりウエハWに対して図2Cにおける左方向に力が加えられ、これによりウエハWは2つの固定保持部材37に押し付けられる。このように、可動の基板保持部材31および固定保持部材37の両方を用いてウエハWを側方から保持する場合には、固定保持部材37を用いずに複数の可動の基板保持部材31だけを用いてウエハWを側方から保持する場合と比較して、ウエハWに対して移動(進退)する部材の数を1つのみとすることができるので、よりシンプルな構成でウエハWの保持を行うことができる。
処理流体供給管40の上端には後に詳述する棒状ノズル60が取り付けられている。
第1の吐出モードでは、処理流体供給管40の液体供給路40aに薬液例えばDHFを供給し、気体供給路40bには何も供給しない。この場合、棒状部分60Aにおいては、液体通路66aおよびこれに接続された各液体吐出路67aを経て、図11(b)に示すように薬液が各吐出口61からウエハWの下面に向けて吐出される。ここで、液体吐出路67aはウエハWの回転方向に傾斜しており、かつ、吐出口61は液体吐出路67aを流れる薬液を偏向しないように設けられているため、薬液が吐出口61から斜めに吹き出す。薬液の吐出方向を示すベクトルは、ウエハWの回転方向の成分を有している。このような態様で薬液をウエハWに向けて吐出することにより、ウエハWの下面に衝突した薬液がウエハWに弾かれること(液はね)を抑制することができ、吐出した薬液を無駄にすることなく吐出した薬液の多くをウエハWの処理に有効に利用することができる。
第2の吐出モードでは、処理流体供給管40の液体供給路40aにDIWを供給し、気体供給路40bにN2ガスを供給する。この場合、図13(a)に示すように、棒状部分60Aにおいては、液体通路66aおよびこれに接続された各液体吐出路67aを経て薬液が各吐出口61に導かれる一方で、気体通路66bおよびこれに接続された各気体吐出路67bを経てN2ガスが各吐出口61に導かれる。DIWとN2ガスは吐出口61で衝突し、DIWとN2ガスからなるミスト状の混合流体すなわち二流体スプレーが形成される。この場合、DIWとN2ガスとの衝突により、二流体スプレーは扇状に広がりつつ上方に向かう。二流体スプレーの衝突エネルギーにより、ウエハWの下面を洗浄することができる。この場合、二流体スプレーの吐出方向(主方向)を示すベクトルは概ね鉛直方向上方を向いていてウエハWの回転方向の成分を殆ど有していないが、二流体スプレーによる洗浄効果は二流体スプレーの衝突エネルギーに依存しているため、この方が好ましい。
なお、二流体スプレーの吐出方向(主方向)を示すベクトルが、ウエハWの回転方向と逆方向の成分を有していることも好ましい。
このようにして、基板保持部材31の基板保持部分31bがウエハWに向かって当該ウエハWの側方から移動し(図7参照)、基板保持部材31によりウエハWは側方から保持される(図8参照)。このときに、基板保持部材31により側方から保持されたウエハWはリフトピン22から上方に離間する。なお、通常、ウエハWは、その「表面」(デバイスが形成される面)が「上面」となり、その「裏面」(デバイスが形成されない面)が「下面」となるように、保持プレート30により保持される。本明細書において、用語「上面(下面)」は、単に、ある時点において上(下)を向いている面という意味で用いられる。
39 回転駆動部
60 第1のノズル(棒状ノズル)
60A 第1のノズルの棒状部分
60B 第1のノズルの中央部分
61 第1の吐出口
62 第2の吐出口
65 カバー
70 液体供給機構
72a、72b 可変絞り
91、92 第2のノズル
R 基板の回転方向
W 基板(ウエハ)
Claims (15)
- 基板の周縁部を保持する保持部材を有し、基板を水平に保持するように構成された基板保持部と、
前記基板保持部を回転させる回転駆動部と、
前記基板保持機構に保持された基板の下面の下方に位置するとともに前記基板保持部により保持された基板の下面に処理液を吐出する第1のノズルであって、複数の第1の吐出口を有しており、前記複数の第1の吐出口が前記基板保持部に保持された基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置の間に配列されている、第1のノズルと、 前記第1の吐出口に処理液を供給する液体供給機構と、
を備え、
前記第1吐出口が、当該第1の吐出口から基板の下面に向けて吐出される処理液の吐出方向が前記回転駆動部により回転させられる基板の回転方向に傾斜するように形成されている液処理装置。 - 前記第1の吐出口は、前記基板保持部に保持された基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置を結ぶ直線上に配列されており、前記直線は、前記基板の半径方向を向いた直線またはこの直線と平行な直線である、請求項1に記載の液処理装置。
- 前記第1のノズルは前記基板保持部に保持された基板の半径方向に延びる棒状部分を有し、前記棒状部分に前記複数の第1の吐出口が設けられている、請求項1に記載の液処理装置。
- 前記第1のノズルの前記第1の吐出口が配列されている領域よりも更に半径方向内側の領域に、少なくとも1つの第2の吐出口が設けられており、前記第2の吐出口は鉛直方向上方に向けて処理液を吐出するように形成されている、請求項1に記載の液処理装置。
- 前記複数の第1吐出口のうちの少なくとも半径方向の最も外側にある第1吐出口は、当該最も外側にある第1吐出口から吐出される処理液の吐出方向が、半径方向外側を向いた成分を持つように形成されている、請求項1に記載の液処理装置。
- 前記第1のノズルの吐出口から吐出された処理液が前記基板保持部に保持された基板の下面に到達した瞬間に前記基板の下面を覆う領域をスポットと呼ぶこととしたとき、隣接する第1吐出口から吐出された処理液が形成するスポット同士が重複部分を有する、請求項1に記載の液処理装置。
- 前記第1のノズルの前記第1の吐出口が配列されている領域よりも更に半径方向内側の領域に、少なくとも1つの第2の吐出口が設けられており、前記第2の吐出口は鉛直方向上方に向けて処理液を吐出するように形成されており、前記第1のノズルの吐出口から吐出された処理液が前記基板保持部に保持された基板の下面に到達した瞬間に前記基板の下面を覆う領域をスポットと呼ぶこととしたとき、最も半径方向内側にある第1の吐出口から吐出された処理液が形成するスポットは、前記最も半径方向内側にある第1の吐出口に隣接する第2の吐出口から吐出された処理液が形成するスポットと重複部分を有する、請求項1に記載の液処理装置。
- 前記基板保持部に保持された基板の上面に処理液を供給する第2のノズルを更に備えた、請求項1に記載の液処理装置。
- 前記液体供給機構は可変絞り弁を有しており、
前記液処理装置は、前記第1の吐出口から前記基板の下面に向けて処理液が供給されているときに、予め定められた手順に従い前記可変絞り弁の開度を変動させるコントローラをさらに備えている、請求項1に記載の液処理装置。 - 前記第1のノズルは、前記基板保持部に保持された基板の半径方向に延びる棒状部分と、前記基板保持部により保持される基板の中央部に対向する位置に設けられた中央部分と、を有しており、
前記棒状部分に、前記第1の吐出口が配置されており、
前記中央部分に、鉛直方向上方に向けて処理液を吐出するように形成されている少なくとも1つの第2の吐出口が配置されており、
前記前記基板保持部の中央部に貫通穴が設けられており、この貫通穴に、前記第1のノズルに処理液を供給するための処理流体供給管が通されており、
前記第1のノズルの前記中央部分には、基板に吐出された処理液が前記貫通穴に流入することを防止するためのカバーが設けられており、
前記第1の吐出口と前記少なくとも1つの第2の吐出口は、平面視において、一直線上に並んでいる、請求項1に記載の液処理装置。 - 前記第1のノズルは、前記基板保持部に保持された基板の半径方向に延びる棒状部分と、前記基板保持部により保持される基板の中央部に対向する位置に設けられた中央部分と、を有しており、
前記棒状部分に、前記第1の吐出口が配置されており、
前記中央部分に、鉛直方向上方に向けて処理液を吐出するように形成されている少なくとも1つの第2の吐出口が配置されており、
前記前記基板保持部の中央部に貫通穴が設けられており、この貫通穴に、前記第1のノズルに処理液を供給するための処理流体供給管が通されており、
前記第1のノズルの前記中央部分には、基板に吐出された処理液が前記貫通穴に流入することを防止するためのカバーが設けられており、
前記第1のノズルの吐出口から吐出された処理液が前記基板保持部に保持された基板の下面に到達した瞬間に前記基板の下面を覆う領域をスポットと呼ぶこととしたとき、前記第1の吐出口と前記少なくとも1つの第2の吐出口は、これらの吐出口から吐出された処理液が形成するスポットが、平面視において一直線上に並ぶように形成されている、請求項1に記載の液処理装置。 - 前記第1のノズルは、前記基板保持部に保持された基板の半径方向に延びる棒状部分と、前記基板保持部により保持される基板の中央部に対向する位置に設けられた中央部分と、を有しており、
前記棒状部分に、前記第1の吐出口が配置されており、
前記中央部分に、鉛直方向上方に向けて処理液を吐出するように形成されている少なくとも1つの第2の吐出口が配置されており、
前記前記基板保持部の中央部に貫通穴が設けられており、この貫通穴に、前記第1のノズルに処理液を供給するための処理流体供給管が通されており、
前記第1のノズルの前記中央部分には、基板に吐出された処理液が前記貫通穴に流入することを防止するためのカバーが設けられており、
前記第1のノズルの吐出口から吐出された処理液が前記基板保持部に保持された基板の下面に到達した瞬間に前記基板の下面を覆う領域をスポットと呼ぶこととしたとき、前記第1の吐出口と前記少なくとも1つの第2の吐出口は、これらの吐出口から吐出された処理液が形成するスポットが、平面視において折れ線を形成するように形成されている、請求項1に記載の液処理装置。 - 前記第1の吐出口は、前記基板保持部に保持された基板の中央部に対向する位置から基板の周縁部に対向する位置を結ぶ直線上に配列されており、
前記液処理装置は、前記複数の第1の吐出口が形成された前記直線に沿って前記第1のノズルを移動させる水平移動機構をさらに備え、
前記水平移動機構は、前記第1の吐出口から前記基板の下面に向けて処理液が吐出されているときに、予め定められた手順に従い前記第1のノズルを移動させるよう制御される、請求項1に記載の液処理装置。 - 前記複数の第1の吐出口のうちの少なくとも一部分は、前記直線に沿って所定の配列ピッチで形成されており、
前記水平移動機構は、前記配列ピッチ以下の所定の移動距離だけ前記第1のノズルを移動させるよう制御される、請求項13に記載の液処理装置。 - 液処理方法において、
基板を水平姿勢に保持することと、
複数の第1の吐出口を有する第1のノズルを、前記複数の第1の吐出口が前記基板の中央部に対向する位置から前記基板の周縁部に対向する位置の間に配列されるように、前記基板の下方に設けることと、
基板を回転させることと、
第1の吐出口から基板の下面に向けて吐出される処理液の吐出方向が、前記基板の回転方向の成分を持つように、前記第1の吐出口から前記基板の下面に向けて処理液を吐出させることと、
を備えた液処理方法。
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