TW323305B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW323305B
TW323305B TW085102176A TW85102176A TW323305B TW 323305 B TW323305 B TW 323305B TW 085102176 A TW085102176 A TW 085102176A TW 85102176 A TW85102176 A TW 85102176A TW 323305 B TW323305 B TW 323305B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
item
composition
weight
surfactant
applying
Prior art date
Application number
TW085102176A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Alpha Fry Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=10765838&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=TW323305(B) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Alpha Fry Ltd filed Critical Alpha Fry Ltd
Application granted granted Critical
Publication of TW323305B publication Critical patent/TW323305B/zh

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/06Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
    • C23C22/07Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 containing phosphates
    • C23C22/08Orthophosphates
    • C23C22/12Orthophosphates containing zinc cations
    • C23C22/16Orthophosphates containing zinc cations containing also peroxy-compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C22/00Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
    • C23C22/05Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
    • C23C22/06Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6
    • C23C22/48Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using aqueous acidic solutions with pH less than 6 not containing phosphates, hexavalent chromium compounds, fluorides or complex fluorides, molybdates, tungstates, vanadates or oxalates
    • C23C22/52Treatment of copper or alloys based thereon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/10Etching compositions
    • C23F1/14Aqueous compositions
    • C23F1/16Acidic compositions
    • C23F1/18Acidic compositions for etching copper or alloys thereof
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/382Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal
    • H05K3/383Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal by microetching
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/03Conductive materials
    • H05K2201/0332Structure of the conductor
    • H05K2201/0335Layered conductors or foils
    • H05K2201/0355Metal foils
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0779Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing characterised by the specific liquids involved
    • H05K2203/0786Using an aqueous solution, e.g. for cleaning or during drilling of holes
    • H05K2203/0796Oxidant in aqueous solution, e.g. permanganate
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/12Using specific substances
    • H05K2203/122Organic non-polymeric compounds, e.g. oil, wax, thiol
    • H05K2203/124Heterocyclic organic compounds, e.g. azole, furan
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Organic Insulating Materials (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

323305 A7 B7 五、發明説明(1) 經濟部中央梂準局貝工清费合作社印裝 印肩電路板(PCB)生奎罎程中·於第一(多步驟式)隞 段*製備"襻板”;而第二(多步驟式)》段,各種姐件黏 貼於板上。本轚明係矚於製衡課板的第一隋段及酾於搛供 改良多靥板黏蕃性之黏蕃促瓊步朦。多暦板包括至少一跚 鳐緣曆和至少一曆包括導電電路_嫌之導電曆。因此•辱 電曆通常為爾路_樣形式的非縷鱭次靥。板也可包括導爾 犛及/成貫穿孔。導電靥屬樣及導電赙及/成貢穿孔通常 由鑭製。糴緣JV轚常由使用K環氧樹躇為主的樹膽黏合的 玻鶄織維製。 一般而言*探板係由一靥内雇和至少一暦外靥姐成。 此處PCB業使用的内層表示法通常指至少兩艚(包括緬緣靥 和専電靥)或更常為三靥:中Μ»緣暦及兩俩鲷導爾靥之 複合物。外靥可為預灃物可為覃靥鱺緣靥。另外*包括一 層縉緣蹰和一靥導電暦》 PCB製造過程中·至少一靥外曆黏蓍於内雇的導爾靥 因此外靥的涵緣靥在最内側•接觸内暦的導竃曆。 較佳•多靥板係由至少一靥内曆與至少兩«外靥形成 •外靥黏蕃於内靥的各導電曆。 發規嘗誡彼此永久性黏合籣導電靥輿緬緣靥•難MU 供足夠強力黏合。若形成鼸弱黏合,則於姐件黏播於板上 的第二製逍限段•或稍後於使用中,板可婕離雇。特別· 綱表面暴露於大氣容羼氣化而於表面上形成一靥嫌_靥。 若鳐緣暦直捿黏貼於嫌_暦•則黏合騰弱•最後破壩。t 經提出多種克服此種閜鼷之方法•最常用的方法係去除嫌 请 « · 嗜— 背\ Λ * 之 « 注/
I 裝 頁 訂 本紙張尺度適用中國國家標準(_CNS ) Α4规格(210X297公釐) 經濟部中央揉準局—工消费合作杜印策 323305 A7 B7 五、發明説明(2 ) 曄靥成形成強力黏謦的鑭氧化物«·稱為黑色成《色氧化 物。 .欲於鐧表面形成黑色成橘色氧化書層準備黏蕃•钃表 面繾常依次道行濟瘰步驟,潇洙步鼸·9性蕷涛洙興氣化 物加工《理步臟。氣化鬌加工處理步驟中*湯度蠼常不超 蟻sot及興氣化瘳液接騰時閜為5至7分備。此種接觸赡 閜及加工灌度相當痛的缺點為所鬌臃涯高且跡两畏通成加 工成本谱畜。此外>遣成非期重的多價製程步驟。 然而•黑色成權色氧化《跚輿鲷之黏蓍良好•亦形成 具有良好表面粗度之表面•因此與爾近糴緣靥的黏着有效 Ο 希望形成一種表面其可提供輿鑭之良好黏蕃性及良好 表面粗度俥提供輿酈近緬緣暦(或其它有檐塗曆)之黏蕃性 •可使用騖化製程且較佳無欝如此畜瀑成長加工畤阖。 已知使用酸性II氧化物枏液之金屬處理。例如CA-A-125D406中•金钃如鐵•钃成其合金使用包括罎《化氩之 痗液處理供金羼酸漬成攏光。邊氧化1[癢癘使用一篇围讎 安定繭安定•及麵揮性地加上防触爾如笨并三哇及ϋ雛子 成非雛子羿面活性繭。 由於IS氧化氲的分解成閜覼,故瞥經閧發多種Κ蟻氣 化氬為主的姐成物·各自包括不問型安定Μ条统。 以過氣化氬為主的濟潔成撇光姐成物描述於例如US-A -3556883 ,播示包括邊氣化氮·醃蒙及酵安定繭供濟潔, 例如金薦線之姐成物。其它類似的濟潇姐成物述於US-A- _本紙張尺皮逍用.中國Β家橾準(CNS〉Α4規格(210X297公釐) --.'-*-有 l-r—1<li -I i^^_T I --- - -- - -a- — - · ^ f V *> (請先M讀背面之注#^^再填爲本貰) ·- In a ---(卜 1--------in-- ss.-r! .4 A7 ___B7 五、發明説明(3) 3756957 ·此處||氧化氩安定麵僳麵自膽族蒙及其靈,烷 氧胺· I»族酸肢及膽族亞撅。 供PCB業使用•此等姐成《I為巳知且描述為触麵爾坦 成物供用於触翔步朦形成鼸電路_樣:一蹰導轚箔•繾常 為飼箔黏貼於緬緣JV上於對應於最終所霤電路樣的賢_ 中受到部份保謂。然後箔輿触繙Iff液攘觸*及未受保議梅 箔K域被鍤刻去除*繭下所《I爾路_樣。鮞《蠖程中,興 Klft氣化氰為主的姐成物攘_的霈箱裱触麵而宪全去除。 此型鲼麹爾姐成物及方法嫌&ff%US-A-4144119,DS-A-4*ff9tl * 0S-A-3668131 * 0S-A-4849124» ϋ3-Α-41304§4 ,US-A-4859281 及 US-A-3773577。後二參考文獻中,鮞鑲 姐成物也包括三疃*俾蝤高由鍊纗姐成物缠成的金颺隳解 竈率。 6B-A-2203387中,綱触纗方法係Μ触鲕浴再生步霾嫌 逋。掲示包括含灞__之安定_的蟻氧化籯錶麵姐成《供 濟欐PCB之觸表面•隨後爾鍍一靥額外加厚的麵靥至由鑭 形成的導電層上方。電齩步驟後嫌用光阻成嫌Μ光組。 US-A-40510 57 (及DE-A-2555809)中播示轚光酸漬金屬 表面*例如鲷表面之亮浸讀坦成_包括液酸•羥酸如禱嫌 _,蝤氧化籯,三哇及/成第三躕肪R。終產物不具有* 陷凹”。播灌界面活性耀據稱可壜加氧化物由表面錶韆/ 去除速率•而播灌笨并三嚙鐮轜可改良“均平效果w 。 US-A-3948703中描逋化學綱攤光姐成鬌含有邊氧化篇 •酸及睡化合物。姐成物也可含有界面活性麵而實例中使 本紙浪尺度逋用中國B家揲率(CNS ) A4规格(210 X 297公釐) -fl - i—i,fJ1 n ..... ' <(請先閹之注菜項再Ai:*e本I > .ΓΓ >*ν· m· HE ^^^1 . —ϋ .alt- _11 HI -lL^· ^11 0 -·- '•'^bir *濟?央揉驚負工消费含祚榦印31 A7 B7 五、發明説明(Μ 用非離子界面活性_。 US-A-4956035中•金臛面之化畢攤光姐成#祖括触鳎 姐成物•例如氱化鐵成繾氣贜_興第四銨鷗離子界面活性 麵及第二养繭活性_。 βΒ-Α-2108086中使用蟻飆化酸姐成鬌鲅餺Μ也學 方式研雇•成經遢亮浸溃的爵面。姐成《含有三嚙化合_ 来使其安定不會被雇金羼雛子分解》 JP-A-Oe-lUeie中_面被租化,俾改ft多J»PCB朱康 蟻獲中層合«的黏蕃性。粗化二步驟式方法道行•各 步«Τ包·徒用邊氣化氯/鴯酸組成,處理。兩種姐成_ 續不含防触贿。 JP-A-03-U0481至·84中鑭表面於靥合前使用罎錢化 偃/練酸姐成《前處理而形成粗化面。Μ84中姐成襦含有 添加麵(CB-896 · MeUi公司製谶)癉稱可加建製程並抑# «氧化物分解。 ϋ8-A-3773577中K疎酸及蠓氧化駕為主的触《雨含有 腰族胺,及贛例有第一成第三R。胺不具有界面活性。JP -Α-03-79778中以贜酸及ϋ氧化籯為主的«鍤«_含有三 哇及氣除離子竈间醇成二醇。JP-A-51-27819中以過氧化 氳及醣酸為主的钃餘刻麵含有四嚙及麵揮性含有第三R成 酵。 發明人出乎童外地轚環於綱表面上使用含罎氧化氲之 水姐成Μ可形成濟潔的麵面其IS微粗化且具有充分良好孔 鼸度》如製供多JVPCB所《»可興有褫暦形成特拥良好的黏 專紙張尺度逋用中國國家揉準(CNS H4ft格( 210X297公釐) < i (请先聞1?^面毳法#填寫衣買) 1 m tl- λϋ a^ff z-= V- .-w Tl· Γ - .1-. ^-( 一 ^I l.lvt- - 1=1 n tT ffi— n 一.,.f'+ V... : . :: '^·... *."Λ·.:ν*1...'.-.. 〜. ψ·' 五、發明説明(δ ) 合。 根據本發明·》供一種《導金颺面之方法•包括表面 導電靥興包括0.1至20%重jft比«氣化籮,無循酸•有檐 _鳙痛及界面活性蘭之黏蕃促雄姐成物於黏著促進步職揍 圈而形成歡粗化«化雄靥面。 本發拥方法特拥可用於形成多1TPCB包括一靥内雇_ 一靥外層•内靥包括至少一*鑷緣靥和至少一層導電霤而 • - 外暦包括至少一靥糴緣靥•其中該導竃層為金屬两其軀價 表面於本獾明中攘受«理。黏蕃促遒步驟後聚合鬌料着. 直捿__於内層導爾)V。鼙合物料可為外庸的鑲緣靥旗供 童接黏蕃於外層的醱蝝庸〇 本發明方法亦可用於搛供粗化表面•聚合材料瘌如可 光顏彩樹膽•焊軍•黏蕃_成聚合嫌鱸IK光阻·通常於 PCBs的製缠中釾該粗化面具有改良的黏瞢性。 孩方法特別鳙合金钃為鑭成鼸合金•該方法於後文中 僳Mlk用於鋦面描述但須了 _亦可用於其它金羼。轚瓤本 發明方法之特殊優黏為可充臌先前技術方法必須形成黑色 成橘色鑭氧化榭«的需求。如前文銳明•内靥及/或外雇 導爾靥(麵揮性於一供上鍍有導爾靥)通常包括調成鑭合金 0 黏蓍促逢姐成物為水性姐成物其包括蟻氧化氬•無禳 酸•一種或多種有檐防酏两,較隹麵自三哇•四哇及味疃 及界面活性繭•較佳為Plff子羿面活性繭。 發規黏蕃促逢姐成物可形成粗化的轉化塗覆面。由朦 本紙張尺度4用中國國家樑率(CNS ) A媒Wi· ( 210Χ297公釐)
''i 經濟部中*ιϋ戈工消费合作社印It A7 ___B7_______ 五、發明説明(β) 子表面分析•此種塗曆相倌包括Μ輿導爾層上防麯麵之複 合_。相種塗靥可搛供更大表面_ •因此可典灞坦會 講朦好的黏蕃。 邊軀化^^黏蕃促H鐶成鬌之存在灞度為至少0.01% 簠量比活性邊飆化氯*較隹至少1.0%重最比罐氧化氱〇 澹氧化氮潇度不大於20% *較佳不大於10% ·更佳不大於 5 %雇JK比,最佳不大於4 %重量比。發璨當黏着促譫姐 成物之遢氰化親灌度罎离畤•導電JV之粗化表面着構形成 鳝為蒲着狀鑛構,其比所《I粗化欸果雯跚镅·因此雪蓑磨 較抵__氧化氬畴•形成較騰弱的黏合。《氣化氲之播 佳麝度镍占黏蕃促嫵姐成«I之0.5%重量比至4 %重曇比〇 黏蕃促壜姐成物之無籲酸較佳由鑛酸,礴酸•醣_成 其灌合物搛供。以硫酸為特佳。姐成物之酸濃度蠼常至少 占姐成物之1 % ·較佳至少8%及最佳至少9涔簠量比。 一般而言•坦成嫌之酸濃度不大於占繡姐成《之50¾ •較 佳不大於30%及最隹不大於20%扈量比。 防豔繭蠊常係_自一種成多於一種三睡•四嚙及娜衊 灌合4»。K三疃類為特佳而以龌揮性取代苯并三嚙顬為最 佳。瓛當取代基有例如Ct-«嬢基取代基》 防酏癟於黏餐促逭祖成_之較佳存在ft至少0.0001% 扈量比,較佳至少0.0005%。以灞度至少0.1¾,更佳大 於0.5%置量比及儀奮大於1 %簠最比可遽_特別满童的 鑌果。通常•防触爾於姐成物之存在量不大於占黏蕃促遒 祖成物鐮籯之20%雇量比及較佳不大於10%及更佳小於5 ^⑽一......二. —........... ..-; - -...--......:...广......-.....':二'+:.— ':冷 本編条疋复逋用中論麵家檩準(C'NS) A4規格(21βχ297公蠢) ;"-9 ' ..Ψ ' T.-jK fe MM· MW d·»··. ΜΙ·^·Μ.ί^·^ .'^1^· ·;1 —^r _ y^:®.' 4.ύ :齡? 323305 A7 B7 五、發明税明 7 工 %重量比。K裹濃度•例如大於5%合所鬌•厭因為可鳙 嫌·理贍两。然而,較隹糴度缉於5涔成甚至飫於1 %。 界面活性蘭較佳為»艚子羿面活性麵*蠼常為漦界面 活性麵。最隹為第四鑌界窗活性_ ·較佳為一種成多《I乙 氧化膽肪蒙。較佳界面活性鏞為Cie-«_界面活性爾•亦黷 包括至少一儷(較佳一儒)1^·-·〇嫌基之界面活性爾。竈鲁 界面活性繭含有至少一僑,較佳2價羥低礙燒基•亦即CiM 羥嫌基•及一價成較不佳2俩低礙嫌基,亦EH Ct-·嫌基爾 播於氬原子。特隹第四銨羿面活性麵為籯化輿典《丙基土 麵乙碁#塞1«及氯化員十三《«丙基二_乙基甲着黢》 遒常界面活性麵於坦成嫌之存在量至少為0.001光露 量比•較佳至少0.005%耋量比成甚至0.01%重量比〇繾 莆界面活性繭於黏罾促龜姐成物之存在量不大於5%·較 隹不大於3 %及較佳不大於2.5%嫵量比。發瓛若界面活 性蘭涵度壜加至顯蕃畜於5%·則形成良好促遺黏罾的金 鹏轉舉他表面不均勻•因此於導電靥甍臞表面上無法提供 良好黏蕃。 較佳,黏著促逭姐成之界面活性鶴之重量百分率籲 於姐成物之防触Μ之重悬百分搴。 其它麵揮性成分甩播灌於姐成《。較隹讕外成分包括 遢氧化駕安定蘭。應當安定ft可為前述各専拥案描述者。 «例包含二吡唉離酸*二乙薅酸及確二乙釀酸,伸乙基二 漦四乙酸及其衍生物· K基多«酸之鋇·I ·矽黢納•謂酸 鹽,麟酸鱷及磺酸黷。 H. r、. .-.--.. .-:. '. .-: ----—ί^. I- --—y-r- - : .= _ · ,-"v:. •Γ ::本緣張尤度速用中铡國家橾率(CNS ) A4规格{.210X29?公釐) 10 &:
I 五、煢明説明(8) , ·>· .£ 當姐成#包含安定爾畔 > 較佳安定麵之存在儀供占黏 1 · : 着促遒鎺成镌之0.001%轉甚至至少0.005%霣量比❶繾甯 不饉邊姐成_之5光雇#比,較隹不超蟻1%臛量比》 黏替保龜姐成物坷鐮由IT各虞分瓤合於水隳詼•較佳 - ΐ 懷用去讖子水形成。根據標準安全规籍,蠖飆化鬣膠藥_ 釋形加至級成《。可ft «III灞合形成_蕃促龜姐成_之备 -. 成分。 緬表厚•常無鬌任何鲰車p两興黏蕃促遑祖成_嫌觸] 。解表面可事先提供防»寒塗臁·例如鼷由贍防餳海麵難 ........ 濰鎗燴在前一步的麯刻光》蜒觼步驟使用的光粗餸騰 + .Λ:.. + 成《内。此fltM膦鏑内使用的防繙_麵有例如三_成其窗 塗層。若為如此*則希望於鑭表面輿姐成》捿觸瓣•後用 灌觭濟瘰麵•例如PC 7078或PC 癉&名)獱先糖瘰。較佳輿黏蕾保龜姐成物接觸前•緬表 審大β糖嫌》除了此種淸潔步驟外•繾常無須遒行任祷_ 酿嫌步隳。本轚明之較佳具蠢侧中·黏蕃促嫌步驟攘在 麯麹光阻鰂賸步驟後•或介於齲_光阻鹣鵬步驟興黏蕃促 逭步臃之閜有價前濟潔步驟。 輿黏蕃促這姐成物之接Μ可採任傅甯知手段例如浸梅 於黏蕃促進姐成物浴内成_嗔穩或任傅其它接觸手段。縷 觸可作為建》(製程的一部份。 通常钃表面興黏蕃促遒姐成物之接觸繼度不超場75t! ,最佳低於50¾,俩如於周讎,例如於10至35Ό ·*常高 於15*C ·最佳20至30¾ »捩牖賻鬮繾常不少於1秒,較佳 ——…:一>_ - _; ___ ._. _ .- 本纸張ΧΛ遠肩中•國车樑车< CNS ) A4规格(210X鉍7公釐) -Π - 經濟部中央#準局貝工消费合作社印製 323395 at B7 五、發明説明(9 ) 不少於5秒且經常至少10秒*最佳至少30秒。最長接觸時 閜長達10分鐘•但較佳接觴時藺不大於5分鐘•最佳不大 於2分鐘。以1分鐘左右成少於1分鐮的接_時閬為特佳 。出乎意外地如此短的處理畤間姐成物可提供所霈结果· K及接觸時問少於2分鏡。 若黏著促遒姐成榭輿«表面的接觸時閭遢畏,則有鑭 表面由於溶解裱鍤箱去除的風敝及/或除形成微粗化表面 之歡孔结晶沈稹物Μ外之沈積》沈積於《電材科表面的風 驗。 轚覊該方法特佳,鹰因為可Μ明_滅少步驟數目用來 替代黑色鲷氧化物黏蕃促道步驄。形成的微粗化面可對tt 鄺聚合物塗層例如酈近緬緣靥之環氧樹膳黏合玻《纖鰌樹 _或光阻材料»供良好黏蕃。當興黏合光阻•例如PCT/ GB94/02258所述合併使用畤•本發明特別有用。亦«現當 接受處理的嗣為轉鼓邊處理法生產的箔時•本發明特別有 用•轉鼓邊處理法可提供鑭箔,其中光滑的轉鼓邊提供黏 著促进«靥而另一邊粗»*任一邊成兩邊於該方法中接受 It理,較佳至少轉鼓邊接受處理。DSTF述於V0-A-9421097 (併述於此Μ供參考),因此除該銳明窨提_之黏著促道步 驟外又使用本方法。如此箔提供於僅含黏著促這錶層之轉 鼓邊上,較佳為鑭鋅糴粒箔。箔爾沈積於光滑面上•較佳 具有名目導竃厚度於2.5至500 n·之糴_。未塗覆黏蕃促 遣踱靥之粗籌(成失光潭)邊具有粗度R·值小於10.2 μ·, 亦即箔為飫輪ΙΚ箔,或小於5.1 U·(亦即極低轅麻箔)或可 本纸張尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4规格(210X297公釐) 12 ~,,41.^---^ ·装-------訂------------ΜΓ (請先闐讀背面之注$項再填寫本頁) A7 _^_B7_ 五、發明説明(10 ) 為標準箱(亦即任何粗度值)。 病面與黏蕃促進姐成《接觸而形成微粗化面後•通常 獼浸物靥可亶接放置毗鄰鱗面•《浸物靥於黏着步朦直接 黏蓍至綱面形成多常於黏蕾步鼸中處熱來引發 黏蕃反應。黏蕃步驟中•撕械黏合係來自於鑷緣«之聚合 物料溱雄入黏蕃促雄步驟搛供的撤粗化面内。至於預浸物 靥之取代之道,於黏蕃促遒步臃康生的微粗化面頂上裒接 嫌用聚合物料•可譫用聚合物光阻•鯛覼光阻焊《成直接 豳用黏替材料。 如觭述,本轚明可纖免使用多步驟式微方法•其 介於微触_步朦輿其中聚合«靥豳於鼷上的稍後PCB «I遣 步鼸閜霱要額外步驟*包括_浸憒步驟》氧化物步驟及蠼 顥IH步骤。雖然於黏蕃促瓊步驟之後需要濟洙步驟•但經 常僅Μ水涛洗即足。處理表面可於稍後鱺揮性嫌乾嫌。根 搣該方法之較佳具讎例•聚合_料稍後黏蕃於微粗化面上 *而介於黏著促道步驟輿聚合蝣料之黏蕃闋並無中間步驟 •成僅有單一濟洙及/成乾烯步驟。 較佳預浸物緬緣靥可直接譫於微粗化面上,及於黏蕃 步朦中•也纒由膊由至少内暦及外靥姐成的有待形成PCB 之多靥V合物各靥放置於屋機内豳屋。若嫌加蜃力瓛常由 100至400 psi,較隹由150至300 psi。此種黏蕃步朦灌度 *常由100Ό,較佳由120t!至200Ό。黏蕃步驟通常逸行 5分鏞至3小時時W *最常由20分鐘至1小時,但«歷足 狗時間及壓力且於充分离灌下俸確保第一暦輿第二靥閬之 本紙張尺度逋用中國國家標率(CNS ) A4规格(210 X 297公釐) -13- 0 H·· —^1 —1— m · (請先閱讀背面之注$項再填寫本I ) 經濟部中央揉準局貝工消费合作杜印氧 •-Γ-裝-------訂------fill·, , »0 . Γ* 523S05 五、 發明説明(11 )
經濟部中央樣準局員工消费合作杜印It 良好黏著。於此黏著步驟期間,絕緣層之聚合物料(通常 爲環氧樹脂)容易流動,因此金屬之導電圖樣大體被封在 絕緣靨間,因而避免後來被水及空氣滲透。 若有所需,數層可一起放置於黏著步騄,俾於單一步 驟進行數層之層合而形成多層板。如後文所見,本發明提 供優於已知方法之顯著簡化方法並提供由銅或其它具有良 好黏著性之金屬形成的導電表面。 本發明亦包含一種黏著促進組成物包括0.1 %至20% 重置比過氧化氫,無機酸,0.5至2.5%重置比有機防蝕劑 ’較佳包括三唑,四唑及/或咪唑及陽離子界面活性劑。 特佳組成物中,組成物亦包括選自前述之任一種過氧化氫 安定劑。 本發明實例列舉如下: 實例1 _ 8 : 黏著促進組成物1 - 8係經由將各成分以表1列舉的 各種重量百分率混合形成水性組成物組成。 圓式之簡單說明: 第1圖顯示未經黏著促進處理由銅箔所得表面類型; 第2圖顯示使用前述化學淸潔劑所得結果;及 第3圖舉例說明根據本發明處理銅箔後所得結果。 標準銅箔具有光滑的表面地形(第1圈)。使用以過硫 酸鈉或氯化鐵的化學微蝕刻淸潔劑可以化學方式修改表面 。蝕刻成分無法以均勻方式溶解表面,且表面粗度增加( 第2圖)。本發明所述方法的機轉相當不同。此種情況下 銅溶解於表面,此種銅與抑制劑成分反應而於表面上形成 -14. 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4规格(21〇><297公釐) (請先閱讀背面之注$項再填寫本頁) 裝· 訂 3v5305 A7 _B7_ 五、發明説明(12 ) 薄膜。由於薄膜具有重複鱸構*故相倌屬於结晶性霣。薄 膜為紅揭色•且經常於放大下顧現獨特的M裂闋垢餅#外 観(第3画)。此種不辱常的表面錶構相倍為獲得輿聚合物 料絕佳黏蓍性之酾鍵。可潦動入表面襄黻内獲得良好黏蕃 〇 根據本發明«理的钃箔之微粗化表面由此等结果顯然 易明。 —-/r4-.r·裝— (請先閱請背面之注$項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 15 本紙張尺度逋用中國國家梂準(CNS ) A4规格(2I0X297公釐)
A
7 B 五、發明説明(13) • Exxonib#玖alsan汝 經濟部中央樣準局貝工消费合作社印製 去雛子水 •To«ah E14-2 •Toiah α 17-2 •Toiah Q 14-2 苯并三哇 1磷酸 碡酸 贜酸 縵氧化氟 铒 Φ 至100 1 1 Ο Ο 0.68 1 1 OS CJI 實例1 m m 至100 1 1 0.01 Ο α» 00 1 1 8.5 ΟΛ CJI 實例2 至100 1 I 0.01 ο σ» 00 1 CO • CJT 1 09 cn -1 實例3 至100 1 1 Ο ο Η-* ο σ> 00 • 1 1 Ca» CJI 實例4 至100 〇 〇 Η-» 1 1 0.68 1 1 8.5 CO CJX 實例5 至100 1 1 ο ο I—» ο σ> 00 h-* • 00 1 1 ca CJI 實例6 至100 1 ο _ ο 1 ο α» 00 1 1 00 CJ\ CO cn 實例7 至100 1 1 0.02 0.68 1 1 8.5 09 CJI 實例8 —^Γ— 丨-.ΐ An t*· 11 -^· I— I?'. (請先閲讀背面之注$項再填寫本頁) 訂 本紙張尺度逍用中國國家梂準(CNS > A4规格(210X297公釐) 16 經濟部中央橾準局負工消費合#'杜印製 A7 B7 五、發明説明(14 ) 實例9 實铡1痗癘用來處理錶鑭PCB内蹰嵌板。漕襄僳於约 45t!使用,接觸時ΜβΟ秒。半强嵌板鍍上Ployclad DSTFoil (Polyclad層合物公司之商品名,美面新罕布X州西法蘭 克林)。加工處理後即翔發篇DSTFoil樣品的紅掲色比較欏 準綢箔顯著更深。然後内暦_照正常程序應合入4靥PC& 內。將PCB轚理·然後分別趣照工業樣準軾驊IPC-TM-650 及MIL-P-55110D試驗粉紅環”及雛曆作用。全部嵌板胄 通過此等》驗。 另一試驗中,欏準鯛箔及DSTFoil欏岛使用實例1溶 液處理。然後此等箔層合至預浸物材料供根據MIL-P-13949 試驗附撕強度。標準箔之平均射撕彍度試驗值僳於5.5-6.5 磅/吋之範醒而081?〇11係於6.5-7.5磅/时之*_。兩種 箔皆顧示比較一般接受饔求值5-β»/时(使用蕾知錄性黑 色氧化物方法作钃«理達成者)相等或更優興的性質。 實例10 典型軍靥單侧PCB樣品係於豳用焊料光阻之前獲得。 一例係繾過機槭擦刷機器·而另一例僳使用資例1之溶液 «理。然後兩H PCB窗使用钃敝印期技術逾覆以紫外光固 化焊料光阻(Alpha金雇公司搛供)。於焊料光阻經繁外光 围化後,藉浸泡試驗光姐黏著性。羥擦觸的樣品顏示焊料 光阻全面起泡。使用本發明處理樣品直到K驗錶束畤未起 泡•此時PCB基衬發生热裂化作用。 另一試驗中*使用得自杜邦公司的可光顯K乾膜焊軍 本紙張尺度逋用中國國家榡準(CNS ) A4规格(210X297公釐) -17 - -------yI"裝------訂|-----^—tl-r--—:--------/-IJ * > (請先《讀背面之注$項再填寫本頁) 經濟部中央梂準局員工消費合作社印装 A7 _B7_五、發明説明(15 )1禊觭述試驗。此種情況下轚現黏蕃性有類似的改良。也 發規使用此種前處理來促進黏蓍性不舍干擾顯膨後焊料光 阻的濟潔顯像。其它黏蕃促遑法發生此種稱為#光阻鎖入”的問顏。 (讀先閲讀背面之注項再填寫本頁) r · ' ,.裝------訂------k--
bf I I 本紙張尺度逍用中國國家標率(CNS ) A4規格(210X297公釐) -18 -

Claims (1)

  1. Λ濟部中央棣準為Λ工消费合作社印策 A8 B8 C8 D8 八、申請專利範園1- 第85 102 176號專利申請案申請専利範園修正本 修正日期:86年10月 1. 一種處理金屬表面之方法,包括該金饜表面與一種包 括0.1至20%重量比遇氧化氫,無機酸,有機防蝕劑 及界面活性劑之黏著促進組成物於黏著促進步騍接觸 而形成微粗化轉化塗層面。 2. 如申請専利範釀第1項之方法,其中該金屬爲銅或銅 合金。 3·如申請専利範圓第2項之方法,其中該金屬爲銅· 4.如申請専利範園第3項之方法,其中該金屬爲轉鼓邊 處理銅箔。 5·如申請專利範圍第1或2項之方法,其中遇氧化氳於黏 著促進組成物之存在濃度爲1.0%至4.0%重量比過氧 化氫》 6. 如申請專利範園第1或2項之方法,其中該無機酸爲磷 酸,硝酸,硫酸,或其混合物。 7. 如申請専利範園第6項之方法,其中該無檐酸爲硫酸。 8. 如申請專利範園第1或2項之方法,其中組成物之酸濃 度係於1至50%之範圔· 9. 如申請專利範画第8項之方法,其中組成物之酸濃度 係於9-20%之範圓· 10·如申猜専利範圃第1或2項之方法,其中該防蝕劑爲三 唑,四唑及/或咪唑。 11.如申請專利範圔第10項之方法,其中該防蝕·劑爲三 唑。 -19- 本纸張尺度適用中國國家揉準(CNS ) Α4规格(210X297公釐) (請先Μ讀背面之法項再填寫本霣> 裝· 订 表 月 A8 B8 C8 D8 "WWW 申請專利範園 12. 如申請專利範園第n項之方法,其中該防蝕剤爲苯并 三唑· 13. 如申請專利範圔第1或2項之方法,其中該防蝕劑於黏 著促進組成物之存在量係占黏著促進組成物總重之至 少0.000 1 %重置比。 14. 如申請專利範圍第π項之方法,其中該防蝕劑於黏著 促進組成物之存在置係占黏著促進組成物嫌重之至少 0.0005%重量比。 15. 如申請專利範圍第14項之方法,其中該防蝕劑於黏著 促進組成物之存在童係占黏著促進組成物總重之至少 〇. 1%重量比· 16. 如申請専利範園第1或2項之方法,其中該防蝕劑於黏 著促進組成物之存在量係占黏著促進組成物總重之不 大於20%重量比· 17. 如申請専利範園第16項之方法,其中該防蝕劑於黏著 促進組成物之存在量係占黏著促進組成物總重之不大 於10%重1:比· 18. 如申請專利範園第17項之方法,其中該防蝕劑於黏著 促進組成物之存在置係占黏著促進組成物總重之至多 5%重量比》 19. 如申請専利範園第18項之方法,其中該防蝕劑於黏著 促進組成物之存在量係占黏著促進組成物總重之至多 1%重量比* 20. 如申請専利範園第1或2項之方法,其中該界·面活性劑 爲陽離子界面活性劑》 • 20· 本纸張尺度遄用中國國家揲準(CNS ) Α4规格(210X297公釐) —,ΓI,.r7~-—裝— (請先閱請背面之注$項再镇寫本霣) 订 鑪濟部中央輮準局貝工消费合作社印策 艟濟部中夫操準局負工消费合作社印策 I --A8 修玉 ll 表导月k- D8 ,丄 L ~~Ηο^ΠΠΠΓ" ' : 穴、申請專利範讀一~~^^ 21·如申請專利範圍第2 0項之方法,其中該界面活性劑爲 第四銨界面活性劑。 22. 如申請専利範園第21項之方法,其中該第四銨界面活 性劑爲選自氯化異癸氧丙基二羥乙基甲基銨及氣化異 十三碳氧丙基二羥乙基甲基胺之乙氧化脂肪胺。 23. 如申請專利範園第1或2項之方法,其中該界面活性劑 於組成物之存在量爲至少0.1%重量比》 24. 如申請専利範困第23項之方法,其中該界面活性劑於 組成物之存在量爲至少0.5 %重置比· 25. 如申請專利範園第1或2項之方法,其中該界面活性劑 於組成物之存在量爲不大於5%重量比· 26. 如申請専利範面第25項之方法,其中該界面活性劑於 組成物之存在量爲不大於3%重量比》 27. 如申請專利範園第26項之方法,其中該界面活性劑於 組成物之存在量爲不大於2.5%重置比。 28. 如申請專利範面第1或2項之方法,其中該金屬面未經 任何前處理而與黏著促進組成物接觸· 29. 如申請専利範園第1或2項之方法,其係於至多75t範 園之溫度接觸· 30. 如申請專利範圍第29項之方法,其係於15至35t範園 之溫度接觸。 31. 如申誚專利範困第30項之方法,其係於20至301C範園 之溫度接觸。 32. 如申請專利範圍第1或2項之方法,其中該接·觸時間係 於10秒至10分鏟之範圍。 -21- 本紙張尺度速用中國國家梂準(CNS ) A4規格(210X297公釐) —«Ivrii.——裝— (請先閲讀背面之注$項再填寫本3r 訂
    鑪濟f夫梯||-為属工消费合作杜印氧 33. 如申請專利範園第32項之方法,其中該接觸時間係於 30秒至2分鐘之範園。 34. 如申請専利範面第1或2項之方法,其中聚合物料稍後 黏著於微粗化轉化塗靨面上》 35. 如申請専利範園第3 4項之方法,其中聚合物爲介於黏 著促進步琛與黏者聚合物料步驊間並無任何步驟或僅 有單一淸洗及/或乾燥步驟· 36. 如申請専利範園第1或2項之方法,其係供形成包括一 層內層及一餍外層的多層PCB,該內屠包括至少一層 絕緣厝和一層導電層而該外册包括至少一屠絕緣層, 其中該接受處理的金屬面爲導電層。 3 7.如申請専利範園第36項之方法,其中於黏著促進步驟 後,預浸物層直接安置毗鄰導電層而兩層於黏著步驟 彼此黏著形成多ifPCB。 38.—種黏著促進組成物,包含〇.1至20.0%重量比過氧化 氫,無機酸,0.5至2.5%重量比有機防蝕劑及陽雕子 界面活性劑。 3 9.如申請専利範圃第38項之組成物,其中該過氧化氳澳 度係於1至4%重量比之範圍。 40. 如申請專利範園第38或39項之組成物,其中該界面活 性劑爲第四銨界面活性劑。 41. 如申請専利範園第40項之組成物,其中該界面活性劑 爲乙氧化脂肪胺· 42. 如申請專利範園第41項之組成物,其中該界·面活性劑 爲選自氨化異癸氧丙基二羥乙基甲基胺及氯化異十三 -22- 本纸張尺度逋用中國國家揉準(CNS ) Μ规格(210X297公釐) (請先閱讀背面之注$項再填寫本X) 裝· 订 333305
    、申請專利範圍 «濟部中央梯準馮員工消费合作社印*. 碳氧丙基二羥乙基甲基胺。 43·如申請專利範圍第3 8或3 9項之組成物,其中該界面活 性劑於組成物之存在量爲至少0.001%重量比。 44. 如申請専利範圍第43項之組成物,其中該界面活性劑 於組成物之存在量爲至少0.00 5%重置比· 45. 如申請専利範園第44項之組成物,其中該界面活性劑 於組成物之存在量爲甚至大於0.01%重置比* 46. 如申請專利範園第38或39項之組成物,其中該界面活 性劑於組成物之存在童爲不大於5%重置比* 47. 如申請專利範圔第46項之組成物,其中該界面活性劑 於組成物之存在置爲不大於3%重量比· 48. 如申請専利範面第47項之組成物,其中該界面活性劑 於組成物之存在量爲不大於2.5 %重量比· 49. 如申請專利範園第38或3 9項之組成物,其中該防蝕劑 包括三唑,四唑及/或咪唑而其濃度係於0.0005%至 10%重量比之範亂· 50. 如申請專利範園第38或39項之組成物,其包括過氧化 氫安定劑。 ' 51. 如申請専利範園第5 0項之組成物,.其中該安定劑係選 自礦酸,醇類,脂族胺類及其鼴類,烷氧胺類,脂族 酸胺類及脂族亞胺類。 5 1.如申請専利範園第38或3 9項之組成物,其中該酸爲硫 酸。 -23- 請 先 Η 面 之 注 I \ 裝 訂 本紙張尺度逋用中國國家梯準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
TW085102176A 1994-12-12 1996-02-26 TW323305B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GBGB9425090.9A GB9425090D0 (en) 1994-12-12 1994-12-12 Copper coating

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW323305B true TW323305B (zh) 1997-12-21

Family

ID=10765838

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW085102176A TW323305B (zh) 1994-12-12 1996-02-26

Country Status (17)

Country Link
US (1) US5800859A (zh)
EP (2) EP0797909B1 (zh)
JP (1) JP2740768B2 (zh)
KR (1) KR100459104B1 (zh)
CN (2) CN1106135C (zh)
AT (2) ATE319282T1 (zh)
AU (1) AU4183596A (zh)
DE (3) DE69534804T2 (zh)
DK (1) DK0797909T3 (zh)
ES (1) ES2150019T3 (zh)
FI (1) FI972472A (zh)
GB (1) GB9425090D0 (zh)
HK (1) HK1002891A1 (zh)
IN (1) IN186543B (zh)
MY (1) MY118585A (zh)
TW (1) TW323305B (zh)
WO (1) WO1996019097A1 (zh)

Families Citing this family (126)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW374802B (en) * 1996-07-29 1999-11-21 Ebara Densan Ltd Etching composition, method for roughening copper surface and method for producing printed wiring board
AU6268198A (en) * 1997-01-31 1998-08-25 James M. Taylor Composition and method for priming substrate materials
US5958147A (en) * 1997-05-05 1999-09-28 Akzo Nobel N.V. Method of treating a metal
US6146701A (en) * 1997-06-12 2000-11-14 Macdermid, Incorporated Process for improving the adhension of polymeric materials to metal surfaces
US6020029A (en) * 1997-06-12 2000-02-01 Macdermid, Incorporated Process for treating metal surfaces
US5869130A (en) * 1997-06-12 1999-02-09 Mac Dermid, Incorporated Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces
US6162503A (en) * 1997-06-12 2000-12-19 Macdermid, Incorporated Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces
JPH1129883A (ja) * 1997-07-08 1999-02-02 Mec Kk 銅および銅合金のマイクロエッチング剤
JP3909920B2 (ja) * 1997-07-24 2007-04-25 メック株式会社 銅および銅合金の表面処理法
US6141870A (en) 1997-08-04 2000-11-07 Peter K. Trzyna Method for making electrical device
US6120639A (en) * 1997-11-17 2000-09-19 Macdermid, Incorporated Method for the manufacture of printed circuit boards
US6054061A (en) * 1997-12-11 2000-04-25 Shipley Company, L.L.C. Composition for circuit board manufacture
US6261466B1 (en) * 1997-12-11 2001-07-17 Shipley Company, L.L.C. Composition for circuit board manufacture
US6284309B1 (en) 1997-12-19 2001-09-04 Atotech Deutschland Gmbh Method of producing copper surfaces for improved bonding, compositions used therein and articles made therefrom
US6555170B2 (en) 1998-01-30 2003-04-29 Duratech Industries, Inc. Pre-plate treating system
US6174561B1 (en) 1998-01-30 2001-01-16 James M. Taylor Composition and method for priming substrate materials
TW460622B (en) * 1998-02-03 2001-10-21 Atotech Deutschland Gmbh Solution and process to pretreat copper surfaces
TW470785B (en) * 1998-02-03 2002-01-01 Atotech Deutschland Gmbh Process for preliminary treatment of copper surfaces
JP2000064067A (ja) 1998-06-09 2000-02-29 Ebara Densan Ltd エッチング液および銅表面の粗化処理方法
SG83733A1 (en) * 1998-06-26 2001-10-16 Atotech Deutschland Gmbh Solution and process to pretreat copper surfaces
SG83734A1 (en) * 1998-06-26 2001-10-16 Atotech Deutschland Gmbh Process to pretreat copper surfaces
US6294220B1 (en) * 1999-06-30 2001-09-25 Alpha Metals, Inc. Post-treatment for copper on printed circuit boards
WO2000002426A1 (en) * 1998-07-01 2000-01-13 Fry's Metals, Inc. D/B/A Alpha Metals, Inc. Post-treatment for copper on printed circuit boards
US6036758A (en) * 1998-08-10 2000-03-14 Pmd (U.K.) Limited Surface treatment of copper
JP5429104B2 (ja) * 1998-12-28 2014-02-26 日立化成株式会社 金属用研磨液及びそれを用いた研磨方法
EP1150341A4 (en) 1998-12-28 2005-06-08 Hitachi Chemical Co Ltd MATERIALS FOR METAL POLLING LIQUID, METAL POLISHING LIQUID, THEIR PRODUCTION AND POLISHING METHOD
US6117250A (en) * 1999-02-25 2000-09-12 Morton International Inc. Thiazole and thiocarbamide based chemicals for use with oxidative etchant solutions
US6444140B2 (en) 1999-03-17 2002-09-03 Morton International Inc. Micro-etch solution for producing metal surface topography
IT1307040B1 (it) * 1999-05-31 2001-10-23 Alfachimici Spa Procedimento per promuovere l'aderenza tra un substrato inorganicoed un polimero organico.
US6188027B1 (en) 1999-06-30 2001-02-13 International Business Machines Corporation Protection of a plated through hole from chemical attack
US6475299B1 (en) * 1999-07-09 2002-11-05 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Conversion coating composition based on nitrogen and silicon compounds and conversion coating method using the same
US6372055B1 (en) 1999-10-29 2002-04-16 Shipley Company, L.L.C. Method for replenishing baths
US7351353B1 (en) 2000-01-07 2008-04-01 Electrochemicals, Inc. Method for roughening copper surfaces for bonding to substrates
ES2270789T3 (es) * 2000-05-22 2007-04-16 Macdermid Incorporated Proceso para mejorar la adhesion de materiales polimericos a supercifies metalicas.
US6383272B1 (en) 2000-06-08 2002-05-07 Donald Ferrier Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces
US20040099637A1 (en) * 2000-06-16 2004-05-27 Shipley Company, L.L.C. Composition for producing metal surface topography
US20030178391A1 (en) * 2000-06-16 2003-09-25 Shipley Company, L.L.C. Composition for producing metal surface topography
US6419784B1 (en) * 2000-06-21 2002-07-16 Donald Ferrier Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces
DE10066028C2 (de) * 2000-07-07 2003-04-24 Atotech Deutschland Gmbh Kupfersubstrat mit aufgerauhten Oberflächen
US6506314B1 (en) 2000-07-27 2003-01-14 Atotech Deutschland Gmbh Adhesion of polymeric materials to metal surfaces
JP4033611B2 (ja) * 2000-07-28 2008-01-16 メック株式会社 銅または銅合金のマイクロエッチング剤およびそれを用いるマイクロエッチング法
US6521139B1 (en) 2000-08-04 2003-02-18 Shipley Company L.L.C. Composition for circuit board manufacture
JP4381574B2 (ja) * 2000-08-17 2009-12-09 日鉱金属株式会社 積層板用銅合金箔
US6554948B1 (en) 2000-08-22 2003-04-29 Donald Ferrier Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces
JP4521951B2 (ja) * 2000-08-28 2010-08-11 イビデン株式会社 エッチング液
JP2002076611A (ja) * 2000-08-28 2002-03-15 Ibiden Co Ltd 多層プリント配線板の製造方法
EP1209253A3 (en) * 2000-11-28 2004-02-25 Shipley Co. L.L.C. Process for treating adhesion promoted metal surfaces with epoxy resins
KR100379824B1 (ko) 2000-12-20 2003-04-11 엘지.필립스 엘시디 주식회사 식각용액 및 식각용액으로 패턴된 구리배선을 가지는전자기기용 어레이기판
WO2002061810A1 (en) * 2001-01-16 2002-08-08 Cabot Microelectronics Corporation Ammonium oxalate-containing polishing system and method
JP4309602B2 (ja) 2001-04-25 2009-08-05 メック株式会社 銅または銅合金と樹脂との接着性を向上させる方法、ならびに積層体
US6749760B2 (en) 2001-10-26 2004-06-15 Intel Corporation Etchant formulation for selectively removing thin films in the presence of copper, tin, and lead
DE10302596A1 (de) * 2002-01-24 2003-08-28 Shipley Company Marlborough Behandlung von Metalloberflächen mit einer modifizierten Oxidaustauschmasse
US6746547B2 (en) 2002-03-05 2004-06-08 Rd Chemical Company Methods and compositions for oxide production on copper
JP3693976B2 (ja) * 2002-04-08 2005-09-14 花王株式会社 香粧品基剤組成物
KR20030080546A (ko) * 2002-04-09 2003-10-17 삼성전기주식회사 다층 인쇄회로기판의 제조방법
KR20030082767A (ko) * 2002-04-18 2003-10-23 주식회사 덕성 수용액에서의 전해질의 전기전도도가 높은 물질을 이용한레지스트 박리액 조성물
US6841263B2 (en) * 2002-05-03 2005-01-11 The John Hopkins University Method of adhering a solid polymer to a substrate and resulting article
US6716281B2 (en) * 2002-05-10 2004-04-06 Electrochemicals, Inc. Composition and method for preparing chemically-resistant roughened copper surfaces for bonding to substrates
JP2004068068A (ja) * 2002-08-05 2004-03-04 Nippon Parkerizing Co Ltd 複合材、その製造方法
US7186305B2 (en) 2002-11-26 2007-03-06 Donald Ferrier Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces
US6969638B2 (en) * 2003-06-27 2005-11-29 Texas Instruments Incorporated Low cost substrate for an integrated circuit device with bondpads free of plated gold
SG140446A1 (en) * 2003-07-11 2008-03-28 Qpl Ltd Leadframe for enhanced downbond registration during automatic wire bond process
US7232478B2 (en) * 2003-07-14 2007-06-19 Enthone Inc. Adhesion promotion in printed circuit boards
US7049683B1 (en) * 2003-07-19 2006-05-23 Ns Electronics Bangkok (1993) Ltd. Semiconductor package including organo-metallic coating formed on surface of leadframe roughened using chemical etchant to prevent separation between leadframe and molding compound
JP2005086071A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Hitachi Chem Co Ltd 多層配線基板、半導体チップ搭載基板及び半導体パッケージ、並びにそれらの製造方法
US20050067378A1 (en) * 2003-09-30 2005-03-31 Harry Fuerhaupter Method for micro-roughening treatment of copper and mixed-metal circuitry
CN100334927C (zh) * 2004-04-13 2007-08-29 广东光华化学厂有限公司 用于提高电路板内层铜面与聚合材料粘结力的棕化处理液
US20060065365A1 (en) * 2004-09-30 2006-03-30 Ferrier Donald R Melamine-formaldehyde post-dip composition for improving adhesion of metal to polymer
US20070017902A1 (en) * 2005-07-22 2007-01-25 Stmicroelectronics S.A. Method for the chemical treatment of copper surfaces for the removal of carbonaceous residues
DE602006009614D1 (de) 2006-02-17 2009-11-19 Atotech Deutschland Gmbh Zusammensetzung und Verfahren zur Behandlung der Oberflächen von Kupferlegierungen, um die Haftfähigkeit zwischen der Metalloberfläche und dem gebundenen polymerischen Material zu verbessern
US7704562B2 (en) * 2006-08-14 2010-04-27 Cordani Jr John L Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces
US7962232B2 (en) * 2006-10-01 2011-06-14 Dell Products L.P. Methods and media for processing a circuit board
US7883738B2 (en) 2007-04-18 2011-02-08 Enthone Inc. Metallic surface enhancement
US10017863B2 (en) 2007-06-21 2018-07-10 Joseph A. Abys Corrosion protection of bronzes
TWI453301B (zh) 2007-11-08 2014-09-21 Enthone 浸鍍銀塗層上的自組分子
US7972655B2 (en) 2007-11-21 2011-07-05 Enthone Inc. Anti-tarnish coatings
US20120168075A1 (en) * 2008-03-21 2012-07-05 Enthone Inc. Adhesion promotion of metal to laminate with multi-functional molecular system
US8518281B2 (en) * 2008-06-03 2013-08-27 Kesheng Feng Acid-resistance promoting composition
JP2009299096A (ja) * 2008-06-10 2009-12-24 Ebara Densan Ltd プリント回路基板用銅及び銅合金の表面処理液と表面処理方法
US8088246B2 (en) * 2009-01-08 2012-01-03 Cordani Jr John L Process for improving the adhesion of polymeric materials to metal surfaces
KR20100091663A (ko) 2009-02-11 2010-08-19 삼성전자주식회사 표면개질제, 이를 사용하여 제조된 적층 구조, 그 구조의 제조방법 및 이를 포함하는 트랜지스터
US20100221574A1 (en) * 2009-02-27 2010-09-02 Rochester Thomas H Zinc alloy mechanically deposited coatings and methods of making the same
DE102009013534A1 (de) * 2009-03-19 2010-09-23 Crinotec Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung eines Fremdstoffgehalts in einer Matrix
CN101560656B (zh) * 2009-04-14 2011-05-18 东莞市中实焊锡有限公司 一种无铅印制电路板铜面保护剂及其制备方法
US8512504B2 (en) 2009-05-06 2013-08-20 Steven A. Castaldi Process for improving adhesion of polymeric materials to metal surfaces
JP2011179085A (ja) * 2010-03-02 2011-09-15 C Uyemura & Co Ltd 電気めっき用前処理剤、電気めっきの前処理方法及び電気めっき方法
CA2801875C (en) * 2010-06-11 2018-09-04 Alchimer Copper-electroplating composition and process for filling a cavity in a semiconductor substrate using this composition
KR101958606B1 (ko) 2010-07-06 2019-03-14 아토테크 도이칠란드 게엠베하 인쇄회로기판의 제조 방법
KR101730983B1 (ko) 2010-07-06 2017-04-27 나믹스 코포레이션 인쇄회로기판에서 사용하기 위한 유기 기판에의 접착을 향상시키는 구리 표면의 처리 방법
CN101967634A (zh) * 2010-10-26 2011-02-09 广东多正化工科技有限公司 印刷线路板棕化处理剂
EP2453041B1 (en) * 2010-11-10 2014-02-12 Atotech Deutschland GmbH Solution and process for the pre-treatment of copper surfaces using an N-alkoxylated adhesion-promoting compound
EP2654111B1 (en) 2010-12-27 2018-04-18 Furukawa Electric Co., Ltd. Lithium-ion secondary battery, electrode for secondary battery, and electrolytic copper foil for secondary battery electrode
JP5906459B2 (ja) * 2012-03-30 2016-04-20 パナソニックIpマネジメント株式会社 太陽電池及びその製造方法
JP5935163B2 (ja) * 2012-03-30 2016-06-15 ナガセケムテックス株式会社 レジスト密着性向上剤及び銅配線製造方法
JP5718476B2 (ja) 2012-06-27 2015-05-13 古河電気工業株式会社 リチウムイオン二次電池用電解銅箔、リチウムイオン二次電池の負極電極及びリチウムイオン二次電池
US9338896B2 (en) 2012-07-25 2016-05-10 Enthone, Inc. Adhesion promotion in printed circuit boards
KR101850112B1 (ko) * 2012-12-26 2018-04-19 한화테크윈 주식회사 그래핀, 그래핀 제조용 조성물 및 이를 이용한 그래핀의 제조 방법
CN104066274A (zh) * 2013-03-21 2014-09-24 元杰企业有限公司 一种用于印刷电路板制程的铜箔表面改质方法
US9355864B2 (en) * 2013-08-06 2016-05-31 Tel Nexx, Inc. Method for increasing adhesion of copper to polymeric surfaces
KR101568687B1 (ko) 2014-04-30 2015-11-13 주식회사 엘 앤 에프 방열 시트 및 그 제조방법
CN104032295B (zh) * 2014-05-13 2016-05-18 合肥奥福表面处理科技有限公司 一种铜杆塑化处理方法
KR101590081B1 (ko) 2014-10-07 2016-02-02 한국생산기술연구원 인쇄회로기판 내층의 표면처리 방법
JP6779136B2 (ja) * 2015-01-07 2020-11-04 太陽インキ製造株式会社 金属基材用表面処理剤
CN105050337B (zh) * 2015-07-02 2018-09-04 广州杰赛科技股份有限公司 一种刚挠结合板的制作方法
WO2017090161A1 (ja) * 2015-11-26 2017-06-01 近藤 和夫 酸性銅めっき液、酸性銅めっき物および半導体デバイスの製造方法
CN107278052A (zh) * 2016-04-08 2017-10-20 东莞市斯坦得电子材料有限公司 用于印制线路板光致图形转移前处理的化学粗化工艺
JP6870245B2 (ja) * 2016-09-06 2021-05-12 昭和電工マテリアルズ株式会社 銅製部材の表面処理方法及び半導体実装用基板の製造方法
US20190144686A1 (en) * 2017-11-10 2019-05-16 Aculon, Inc. Surface treatment compositions and coated articles prepared therefrom
US10083926B1 (en) * 2017-12-13 2018-09-25 Dialog Semiconductor (Uk) Limited Stress relief solutions on WLCSP large/bulk copper plane design
EP3567993B1 (en) 2018-05-08 2022-02-23 Atotech Deutschland GmbH & Co. KG A method for increasing adhesion strength between a surface of copper or copper alloy and an organic layer, and acidic aqueous non-etching protector solution
CN108842150A (zh) * 2018-07-23 2018-11-20 铜陵金力铜材有限公司 一种铜制品表面处理方法
CN108966511A (zh) * 2018-07-30 2018-12-07 生益电子股份有限公司 一种降低高速pcb信号插入损耗的内层表面处理方法
CN109195303A (zh) * 2018-07-30 2019-01-11 生益电子股份有限公司 一种降低高速pcb信号插入损耗的内层表面处理方法
US11678433B2 (en) 2018-09-06 2023-06-13 D-Wave Systems Inc. Printed circuit board assembly for edge-coupling to an integrated circuit
CN109536962B (zh) * 2018-11-20 2023-06-16 无锡格菲电子薄膜科技有限公司 一种cvd石墨烯生长衬底铜箔酸性刻蚀液
CN109355649B (zh) * 2018-12-21 2020-08-28 苏州美吉纳纳米新材料科技有限公司 一种pcb铜面氧化剂及其制备方法
CN109986191A (zh) * 2019-04-15 2019-07-09 上海交通大学 一种应用于金属/高分子连接的表面处理方法
US11647590B2 (en) 2019-06-18 2023-05-09 D-Wave Systems Inc. Systems and methods for etching of metals
CN112624786B (zh) * 2019-09-24 2022-08-30 佳总兴业股份有限公司 复合式基板的制造方法
CN110819991B (zh) * 2019-11-08 2022-07-15 日月光半导体(上海)有限公司 蚀刻液及使用其的封装基板的制造方法
CN112064026A (zh) * 2020-08-03 2020-12-11 罗山县金硕电子材料有限公司 一种新型的铜面粗糙度咬蚀稳定剂及其制备方法
CA3110357A1 (en) * 2021-02-25 2022-08-25 Sixring Inc. Modified sulfuric acid and uses thereof
KR20240018632A (ko) 2021-06-09 2024-02-13 아토테크 도이칠란트 게엠베하 운트 콤파니 카게 구리층과 유기층의 복합재 및 그 복합재의 제조방법
WO2023190264A1 (ja) * 2022-03-29 2023-10-05 四国化成工業株式会社 トリアゾール化合物、該トリアゾール化合物の合成方法、カップリング剤およびそれらの利用
CN114807943B (zh) * 2022-06-27 2022-09-16 深圳市板明科技股份有限公司 一种5g高频线路生产工艺用微蚀刻液和微蚀方法及其应用
CN114774937B (zh) * 2022-06-27 2022-09-16 深圳市板明科技股份有限公司 一种线路板电镀用环保型无机酸性除油剂和除油方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3556883A (en) * 1967-07-21 1971-01-19 Mitsubishi Edogawa Kagaku Kk Method for chemically polishing copper or copper alloy
US3668131A (en) * 1968-08-09 1972-06-06 Allied Chem Dissolution of metal with acidified hydrogen peroxide solutions
US3756957A (en) * 1971-03-15 1973-09-04 Furukawa Electric Co Ltd Solutions for chemical dissolution treatment of metallic materials
JPS5120972B1 (zh) * 1971-05-13 1976-06-29
BE791457A (fr) * 1971-11-18 1973-05-16 Du Pont Solutions acides stabilisees d'eau oxygenee
JPS5332341B2 (zh) * 1973-03-27 1978-09-07
JPS5127819A (en) * 1974-09-02 1976-03-09 Mitsubishi Gas Chemical Co Do oyobi dogokinyokagakushorieki
SE400575B (sv) * 1974-12-13 1978-04-03 Nordnero Ab Bad for betning av koppar och dess legeringar
SE425007B (sv) * 1976-01-05 1982-08-23 Shipley Co Stabil etslosning omfattande svavelsyra och veteperoxid samt anvendning av densamma
US4144119A (en) * 1977-09-30 1979-03-13 Dutkewych Oleh B Etchant and process
CA1146851A (en) * 1978-05-01 1983-05-24 Donald F. Greene Hydrogen peroxide disinfecting and sterilizing compositions
JPS57164984A (en) * 1981-04-06 1982-10-09 Metsuku Kk Exfoliating solution for tin or tin alloy
GB2106086A (en) * 1981-09-08 1983-04-07 Dart Ind Inc Stabilization of hydrogen peroxide solutions
US4437931A (en) * 1983-08-22 1984-03-20 Dart Industries Inc. Dissolution of metals
US4973380A (en) * 1983-10-06 1990-11-27 Olin Corporation Process for etching copper base materials
GB8522046D0 (en) * 1985-09-05 1985-10-09 Interox Chemicals Ltd Stabilisation
DE3623504A1 (de) * 1986-07-09 1988-01-21 Schering Ag Kupferaetzloesungen
US4880495A (en) * 1987-04-13 1989-11-14 The Harshaw Chemical Company Regeneration of copper etch bath
US4859281A (en) * 1987-06-04 1989-08-22 Pennwalt Corporation Etching of copper and copper bearing alloys
JPH01240683A (ja) * 1988-03-19 1989-09-26 Sanshin Kagaku Kogyo Kk 銅のエッチング液組成物およびエッチング方法
JP2909743B2 (ja) * 1989-03-08 1999-06-23 富山日本電気株式会社 銅または銅合金の化学研磨方法
US4956035A (en) * 1989-08-01 1990-09-11 Rd Chemical Company Composition and process for promoting adhesion on metal surfaces
JPH0379778A (ja) * 1989-08-21 1991-04-04 Sanshin Chem Ind Co Ltd 銅のエッチング液組成物およびエッチング方法
JPH0379788A (ja) * 1989-08-22 1991-04-04 Nisshin Steel Co Ltd 密着性に優れたZn―Ni合金めっきステンレス鋼板の製造方法
JPH03140481A (ja) * 1989-10-26 1991-06-14 Matsushita Electric Works Ltd 銅張り板の表面処理法
JPH03140482A (ja) * 1989-10-26 1991-06-14 Matsushita Electric Works Ltd 銅張り板の表面処理法
JPH03140483A (ja) * 1989-10-26 1991-06-14 Matsushita Electric Works Ltd 銅張り板の表面処理法
JPH03140484A (ja) * 1989-10-26 1991-06-14 Matsushita Electric Works Ltd 銅張り板の表面処理法
JPH03285393A (ja) * 1990-04-02 1991-12-16 Matsushita Electric Works Ltd 多層配線基板の製造方法
JPH05127819A (ja) * 1991-10-31 1993-05-25 Nec Corp ストロークコマンド支援方式
JPH06112646A (ja) * 1992-09-29 1994-04-22 Metsuku Kk 銅または銅合金表面の処理方法
US5376387A (en) * 1993-07-16 1994-12-27 Eastman Kodak Company Hydrogen peroxide composition
JP2781954B2 (ja) * 1994-03-04 1998-07-30 メック株式会社 銅および銅合金の表面処理剤

Also Published As

Publication number Publication date
ATE319282T1 (de) 2006-03-15
EP0797909A1 (en) 1997-10-01
CN1255492C (zh) 2006-05-10
MY118585A (en) 2004-12-31
CN1175344A (zh) 1998-03-04
JP2740768B2 (ja) 1998-04-15
DE69518166T2 (de) 2001-03-15
JPH08335763A (ja) 1996-12-17
IN186543B (zh) 2001-09-29
FI972472A (fi) 1997-08-11
KR100459104B1 (ko) 2005-06-13
FI972472A0 (fi) 1997-06-11
GB9425090D0 (en) 1995-02-08
EP0797909B1 (en) 2000-07-26
KR980700798A (ko) 1998-03-30
DE69518166D1 (de) 2000-08-31
ATE195052T1 (de) 2000-08-15
CN1422924A (zh) 2003-06-11
DE797909T1 (de) 1998-03-05
CN1106135C (zh) 2003-04-16
ES2150019T3 (es) 2000-11-16
DE69534804D1 (de) 2006-04-27
US5800859A (en) 1998-09-01
EP0993241A1 (en) 2000-04-12
WO1996019097A1 (en) 1996-06-20
EP0993241B1 (en) 2006-03-01
DK0797909T3 (da) 2000-12-18
HK1002891A1 (en) 1998-09-25
AU4183596A (en) 1996-07-03
DE69534804T2 (de) 2006-11-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW323305B (zh)
DE3002166C2 (zh)
TW322516B (zh)
EP0175253B1 (de) Verfahren zur partiellen Aktivierung von Substratoberflächen
DE2947821C2 (zh)
TWI282482B (en) Method for forming inorganic thin film pattern on polyimide resin
Hwang et al. Comparison of two soluble guanylyl cyclase inhibitors, methylene blue and ODQ, on sodium nitroprusside‐induced relaxation in guinea‐pig trachea
DE2626941A1 (de) Bauteile aus korrosionsbestaendiger zirkoniumlegierung und verfahren zu deren herstellung
DE2457829A1 (de) Verfahren und loesungen fuer die stromlose metallauftragung
US20040146647A1 (en) Patterning method
TWI356850B (en) Resin adhesive layer on surface of copper
DE2635245C2 (de) Verfahren zur Herstellung elektrisch leitender Indiumoxidmuster auf einem isolierenden Träger und ihre Verwendung
EP0283771A1 (de) Verfahren zur haftfesten Metallisierung von Kunststoffen
DE2555257A1 (de) Katalysatorloesung
JPH0468392B2 (zh)
Sato et al. Substrate (Ni)-catalyzed electroless gold deposition from a noncyanide bath containing thiosulfate and sulfite: II. Deposit characteristics and substrate effects
DE2750932C3 (de) Cyanidfreies Bad zur stromlosen Goldabscheidung und seine Verwendung
TW436815B (en) Method to decontaminate the surface of an element
TW393523B (en) Manufacturing method of a lead-containing galvanized steel sheet treated with chromate with excellent blackening resistance and white rust resistance
EP0536170A1 (de) Kombination wässriger bäder zur stromlosen goldabscheidung.
Fink et al. The restoration of ancient bronzes and other alloys
DE60133795T2 (de) Verfahren zum Herstellen von leitenden Schichten auf dielektrischen Oberflächen
TW318319B (zh)
JPS5959870A (ja) 無電解銅めつき液
DE3940407A1 (de) Verfahren zur galvanischen direktmetallisierung

Legal Events

Date Code Title Description
MK4A Expiration of patent term of an invention patent