JP2909743B2 - 銅または銅合金の化学研磨方法 - Google Patents
銅または銅合金の化学研磨方法Info
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Description
よび銅合金の化学研磨方法に関するものである。
リント配線板は技術的な壁を一歩づつ着実に克服した電
子機器の実装部品として益々その重要性を高めている。
電子部品の実装の自動化とともに、プリント配線板はラ
インのファイン化、穴の小径化、更には多層化を進め、
いわゆる高密度回路形成技術の向上が一層求められてい
る。
加工した後、無電解銅メッキなどの各種メッキを施す工
程が増えてきている。
る防錆剤や酸化被膜の除去、(2)銅表面を活性化させ
メッキの密着性を向上させるための銅表面の粗面化、
(3)整面で生じるキズの除去等、いわゆるソフトエッ
チング工程が重要な役割をはたしている。
い、従来の機械またはパミス研磨が技術的に困難になっ
てきており、これらの研磨に潜る化学クリーニングが望
まれている。
モニウムや過硫酸ナトリウムが用いられているが、過硫
酸アンモニウムでは、廃液中にアンモニウムイオンが共
存する為、中和処理時に銅アンモニウム錯塩が生成し、
排水中の銅が除去出来ない欠点がある。
の性能面で、過硫酸アンモニウムに及ばず、種々工夫を
しなければならない事、更に過硫酸アンモニウム、過硫
酸ナトリウムによるソフトエッチング液は寿命が短く、
建浴回数も多くなり製造コストが高くなる等の欠点があ
る。
によるソフトエッチングが試みられている。しかしなが
ら従来知られた酸性過酸化水素液には次の様な課題があ
る。
為、後処理として希硫酸や希塩酸に浸漬させ溶解除去す
る二段処理が必要である。
溶解速度が影響を受け易く銅表面の仕上がりも不安定に
なる。
とメッキ密着性が劣る。
ては、酸性過酸化水素系の研磨が提案されている。しか
し、一般に、この方法では、過酸化水素、硫酸で、一度
酸化膜を作り、次いで希薄酸水溶液で酸化膜を除去する
という二段処理が必要である。これを改良する方法とし
て、上記の組成物にリン酸とアミンを添加して、一回の
処理で化学研磨する方法が特公昭53−32339、同53−323
40で提案されている。しかし、これらの方法は過酸化水
素濃度が5%〜60%と高く経済的でない事、更にリン酸
やアミンを添加しても、酸化被膜が完全には除去出来な
い等、高密度のプリント配線板用には適応出来ない欠点
があった。
行った結果、過酸化水素、硫酸およびリン酸からなる過
酸化水素水溶液にピペリジンまたはその誘導体を適量添
加することによりこれらの欠点が改善されることを見出
した。
硫酸100〜500g/l、過酸化水素10〜50g/lおよびリン酸0.
5g/l以上からなる酸性過酸化水素水溶液にピペリジンま
たはその誘導体を0.1g/l以上含有せしめてなる処理剤で
処理することを特徴とする銅または銅合金の化学研磨方
法である。
よび銅合金の表面は酸化皮膜の生成がなく、その結果従
来必要とされていた酸化皮膜除去の後処理工程に省ける
と共に、メッキの密着性、ハンダ濡れ性、光沢性に優れ
る等性能面でも顕著な効果を示すのである。
化皮膜の生成を抑制する効果を発揮するが、特に2〜5g
/lの範囲の添加が好ましい。5g/l以上でも効果はあり上
限は特に限定されないが、多すぎると経済性に劣ること
になり好ましくない。0.5g/l以上のリン酸の添加により
酸化皮膜生成の抑制効果が示すが、硫酸、過酸化水素、
リン酸だけの組成からなる過酸化水素水溶液を用いた場
合には、その後の酸化皮膜除去工程を省くまでに至らな
い。
異的効果のあることを見い出した点に第1の特徴があ
る。
素と組合せても発現せず、更にリン酸を組合せることに
よってはじめて発現するのである。
る。添加量が0.1g/l未満では、酸化皮膜を形成するので
好ましくない。好ましい添加量は0.1〜5g/lの範囲であ
る。5g/l以上の添加量では、銅および銅合金の表面仕上
がりに光沢性が失われる場合があるので好ましくない。
例としてはピペリジン、2−ピペコリン、3−ピペコリ
ン、4−ピペコリン、2,4−ルペチジン、2,6−ルペチジ
ン、3,5−ルペチジン、3−ピペリジンメタノール、ピ
ペコリン酸、イソニペコチン酸、イソニペコチン酸メチ
ル、イソニペコチン酸エチル等がある。ピペリジンまた
はその誘導体は単独で用いても2種以上を併用してもよ
い。
含有しうる。その具体例としては過酸化水素の安定剤と
して知られるアルコール類、フェノール類、グリコール
エーテル類等がある。本発明の表面処理剤はこれらの安
定剤等の添加剤によって悪影響を受けることはない。
内、次の様な広範囲の工程に適応出来るという特徴も有
する。
ト印刷の前処理、ソルダーレジスト印刷の前処理、
ハンダコート工程の前処理、仕上げ処理、機械研磨
に潜る化学クリーニング。
50℃以下であり、好ましくは30〜40℃の範囲である。50
℃以上になると、過酸化水素の分解量が多くなり液管理
が難かくなるので好ましくない。
ー法等公知の手段を用いることができる。
れによって制限されるものではない。
組成の水溶液に添加剤としてピペリジン類を加えて表面
処理剤を調整した。
5cm×5cmに切断し、試験片とした。
温度35℃にして、試験片を2分間浸漬した後、直ちに水
洗し、大気中で乾燥させ銅表面の酸化皮膜生成の有無及
び仕上がり状態を観察した。
の試験を試みた。結果を表−1に示す。
にピペリジン及びリン酸を添加しまたはせずに表面処理
剤を調整し、実施例1と同様の操作で表面処理した後の
銅表面を評価した。結果を表−2に示す。
酸2g/l、ピペリジン1g/lを加えて表面処理剤を調整し、
実施例1と同様の操作により表面処理を実施し、銅表面
の酸化皮膜及び仕上がり状態を総合的に評価した。結果
を表−3に示す。
ペコリン2g/lよりなる組成の水溶液に安定剤としてモノ
ブチルセルソル5g/l添加して表面処理剤を調整し、これ
にあらかじめ脱脂したガラスエポキシ系銅張積層板を35
℃2分間浸漬処理した後、直ちに水洗、乾燥した。得ら
れた銅表面は、酸化皮膜のない良好なもので、ピペコリ
ンを添加しないで処理した銅表面には酸化皮膜が残って
いた。
メッキを35μ施し、水洗、乾燥した。ピペコリン無添加
のものに比べ、ピペコリンを添加したものは、十分な密
着強度をもっていた。
ジン2g/lよりなる水溶液に安定剤としてモノブチルセロ
ソルブ5g/l添加して表面処理剤を調整し、これにあらか
じめ脱脂したガラスエポキシ系銅張積層板を30℃,1分間
浸漬処理した後、水洗し、カタリスト処理、アクセレー
ター処理後、無電解メッキを0.3μ、電解銅メッキを25
μ施した。その密着性をバーナー灼熱テストにより調査
したが、過硫酸アンモニウム150g/lで処理したものと同
等であった。
Claims (2)
- 【請求項1】銅または銅合金からなる表面部を硫酸100
〜500g/l、過酸化水素10〜50g/lおよびリン酸0.5g/l以
上からなる酸性過酸化水素水溶液にピペリジンまたはそ
の誘導体を0.1g/l以上含有せしめてなる処理剤で処理す
ることを特徴とする銅または銅合金の化学研磨方法。 - 【請求項2】処理剤中のピペリジンまたはその誘導体の
含有量が0.1〜5g/lである請求項1に記載の方法。
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---|---|---|---|---|
JPH03140481A (ja) * | 1989-10-26 | 1991-06-14 | Matsushita Electric Works Ltd | 銅張り板の表面処理法 |
CA2152948A1 (en) * | 1993-01-11 | 1994-07-21 | Gary B. Larson | Phosphating compositions and processes, particularly for use in fabrication of printed circuits utilizing organic resists |
US5630950A (en) * | 1993-07-09 | 1997-05-20 | Enthone-Omi, Inc. | Copper brightening process and bath |
JP3400558B2 (ja) * | 1994-08-12 | 2003-04-28 | メック株式会社 | 銅および銅合金のエッチング液 |
GB9425090D0 (en) * | 1994-12-12 | 1995-02-08 | Alpha Metals Ltd | Copper coating |
JP3284057B2 (ja) * | 1996-06-27 | 2002-05-20 | ワイケイケイ株式会社 | スライドファスナー又はそのチェーンの製造方法 |
WO1999015287A1 (en) * | 1997-09-19 | 1999-04-01 | Olin Corporation | Brightening systems for copper-base alloys |
US6090214A (en) * | 1998-06-22 | 2000-07-18 | Fujitsu Limited | Cleaning method using ammonium persulphate to remove slurry particles from CMP substrates |
KR100647026B1 (ko) * | 1998-11-20 | 2006-11-17 | 에이제토 엘렉토로닉 마티리알즈 가부시키가이샤 | 기판 처리제 조성물 및 이를 이용한 내식막 패턴 형성방법 |
US6117250A (en) * | 1999-02-25 | 2000-09-12 | Morton International Inc. | Thiazole and thiocarbamide based chemicals for use with oxidative etchant solutions |
US6444140B2 (en) | 1999-03-17 | 2002-09-03 | Morton International Inc. | Micro-etch solution for producing metal surface topography |
TW466728B (en) * | 1999-05-21 | 2001-12-01 | Cfmt Inc | Methods for wet processing electronic components having copper containing surfaces |
US20030178391A1 (en) * | 2000-06-16 | 2003-09-25 | Shipley Company, L.L.C. | Composition for producing metal surface topography |
US20040099637A1 (en) * | 2000-06-16 | 2004-05-27 | Shipley Company, L.L.C. | Composition for producing metal surface topography |
JP4033611B2 (ja) * | 2000-07-28 | 2008-01-16 | メック株式会社 | 銅または銅合金のマイクロエッチング剤およびそれを用いるマイクロエッチング法 |
JP5005883B2 (ja) * | 2004-06-29 | 2012-08-22 | 荏原ユージライト株式会社 | サブトラクティブ工法用回路形成エッチング液 |
US10017863B2 (en) * | 2007-06-21 | 2018-07-10 | Joseph A. Abys | Corrosion protection of bronzes |
CN102676063B (zh) * | 2012-04-26 | 2014-03-19 | 武汉铁锚焊接材料股份有限公司 | 一种实心焊丝返工返修的方法及其专用抛光液 |
JP6232725B2 (ja) * | 2013-04-02 | 2017-11-22 | 三菱マテリアル株式会社 | パワーモジュール用基板の製造方法 |
EP2853619A1 (en) * | 2013-09-25 | 2015-04-01 | ATOTECH Deutschland GmbH | Method for treatment of recessed structures in dielectric materials for smear removal |
CN111218687B (zh) * | 2020-03-30 | 2022-01-21 | 惠州宇盛机械设备有限公司 | 一种用于精密铜合金工件的化学抛光液 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1289720B (de) * | 1964-01-16 | 1969-02-20 | Collardin Gmbh Gerhard | Mittel zum Entkupfern und Reinigen von Metalloberflaechen |
DE1253008B (de) * | 1964-08-22 | 1967-10-26 | Degussa | Verfahren zum AEtzen von Kupferfolien fuer die Herstellung von gedruckten Schaltungen |
US3597270A (en) * | 1968-08-15 | 1971-08-03 | Trw Inc | Inverted solid state diode |
US3756957A (en) * | 1971-03-15 | 1973-09-04 | Furukawa Electric Co Ltd | Solutions for chemical dissolution treatment of metallic materials |
JPS5120972B1 (ja) * | 1971-05-13 | 1976-06-29 | ||
US3773557A (en) * | 1972-03-01 | 1973-11-20 | Wurlitzer Co | Solid state battery |
JPS5286933A (en) * | 1976-01-14 | 1977-07-20 | Tokai Electro Chemical Co | Method of treating surface of copper and copper alloy |
JPS5332339A (en) * | 1976-09-07 | 1978-03-27 | Seiko Instr & Electronics | Device for producing battery |
JPS6048870B2 (ja) * | 1976-09-08 | 1985-10-29 | 古河電池株式会社 | 鉛蓄電池電極基板の製造法 |
US4144119A (en) * | 1977-09-30 | 1979-03-13 | Dutkewych Oleh B | Etchant and process |
US4378270A (en) * | 1981-10-29 | 1983-03-29 | Learonal, Inc. | Method of etching circuit boards and recovering copper from the spent etch solutions |
US4419183A (en) * | 1983-01-18 | 1983-12-06 | Shipley Company Inc. | Etchant |
US4462861A (en) * | 1983-11-14 | 1984-07-31 | Shipley Company Inc. | Etchant with increased etch rate |
FR2563824B1 (fr) * | 1984-05-04 | 1986-09-12 | Atochem | Stabilisation de solutions aqueuses acides contenant du peroxyde d'hydrogene et des ions metalliques |
US4929301A (en) * | 1986-06-18 | 1990-05-29 | International Business Machines Corporation | Anisotropic etching method and etchant |
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