JPH03285393A - 多層配線基板の製造方法 - Google Patents

多層配線基板の製造方法

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JPH03285393A
JPH03285393A JP8780890A JP8780890A JPH03285393A JP H03285393 A JPH03285393 A JP H03285393A JP 8780890 A JP8780890 A JP 8780890A JP 8780890 A JP8780890 A JP 8780890A JP H03285393 A JPH03285393 A JP H03285393A
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JP
Japan
Prior art keywords
polishing liquid
chemical polishing
chlorine
inner layer
180ppm
Prior art date
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Pending
Application number
JP8780890A
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English (en)
Inventor
Yoshinori Urakuchi
浦口 良範
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は電気機器・計算機器、通信機器等に用いられる
多層配線基板の製造方法に関するものである。
〔従来の技術〕
従来、電気機器等に用いられる多層配線基板の内層材は
両面銅張積層板を酸と酸化剤を主成分とする化学研磨液
でケミカルクリーニング処理してからレジスト塗布工程
、ラミネート工程等の工程を経て得られるものであるが
、ケルカルクリーニング処理後の両面銅張積層板の表面
形状、粗さ等の表面状態にはバラツキがあり、特に化学
研磨液の使用経過によりバラツキが大きくなり、塗布し
たレジストの塗布性、ラミネートしたドライフィルムの
密着性にバラツキが発生した。
〔発明が解決しようとする問題点〕
従来の技術で述べたように化学研磨液による両面銅張積
層板の表面状態にはバラツキが大きい。
本発明は従来の技術における上述の問題点に鑑みてなさ
れたもので、その目的とするところは、両面銅張積層板
の表面状態を安定させ、内層材不良率を減少させること
のできる多層配線基板の製造方法を徒供することにある
〔問題点を解決するための手段〕
本発明は両面銅張積層板を酸と酸化剤を主成分とし、更
に必要に応じて反応促進剤を加え、含有塩素量を180
PPM以下にした化学研磨液でケミカルクリーニング処
理した内層剤を樹脂含浸基材を介して外層材と積層一体
止することを特徴とする多層配線基板の製造方法のため
、上記目的を達成することができたもので、以下本発明
の詳細な説明する。
本発明に用いる両面銅張積層板は、樹脂含浸基材の樹脂
としてフェノール樹脂、クレゾール樹脂、エポキシ樹脂
、不飽和ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリイミド
、ポリフェニレンオキサイド樹脂、弗化樹脂等の合成樹
脂を用い、該樹脂をガラス、アスベスト等の無機繊維や
ポリエステル、ポリアミド、ポリビニルアルコール、ポ
リウレタン、ポリイミド等の有機合成繊維や、木綿等の
天然繊維の織布、不織布、マット、ネット、寒冷紗、紙
等の基材に含浸、乾燥してなる樹脂含浸基材の所要枚数
の上下面に銅箔を配設後、積層一体止してなるものであ
る。化学研磨液としては硫酸、塩酸、燐酸、硝酸等の酸
と過酸化水素、亜塩素酸カリウム、過硫酸カリウム等の
酸化剤を主成分とし、更に必要に応じて反応促進側を加
えたものであるが、含有塩素量が180PPM以下であ
ることが必要である。即ち含有塩素量が180PPMを
こえると両面銅張積層板の表面形状、粗さにバラツキを
生じるためである、含有塩素量は180PPM以下にす
る手段としでは、化学研磨液の液量補充は純水で行ない
、増加した塩素量はイオン交換物質で除去したり、活性
炭素膜で吸着除去したりすることが好ましいが、特に限
定するものではない。樹脂含浸基剤については上記両面
銅張積層板を製造する時の樹脂含浸基材をそのまま用い
ることができ、両面銅張積層板に用いたものと同一のプ
リプレグでもよく、又異種のプリプレグでもよく任意で
あり、プリプレグ使用数は好ましくは1〜3枚用いるこ
とが望ましい。外層材としては銅箔、アルミニウム箔、
ニッケル箔等のような金属箔や片面金属張積層板を用い
るものである。fill一体止手段についてはプレス、
ロール、ダブルベルト等のような積層手段であればよく
、特に限定するものではない。
以下本発明を実施例にもとづいて説明する。
実施例 厚さ0.8 mの両面銅張ガラス布基材エポキシ樹脂積
層板を下記組成の化学研磨液でケミカルクリーニング処
理した。
硫酸              20 g/l過酸化
水素           50g/l含有塩素量  
        1100PP化学研磨液の含有塩素量
については定期的にチエツクし150PPMになった場
合はイオン交換樹脂によるイオン交換器で塩素量を減少
させ、単なる液量の追加は純水で行ない含有塩素量を1
80PPM以下にすべく調整した。かくしてケミカルク
リーニング処理した両面銅張積層板にドライフィルムを
ラミネートし以降は常法に従って工・ンチング処理して
両面に電気回路を有する内層材を得た。
比較例 実施例と銅じ両面銅張積層板を、実施例と同じ化学研磨
液でケミカルクリーニング処理したが、含有塩素量の定
期的チエツクをせず、液量の追加は飲料用水道水で行な
った以外は実施例と同様に処理して4層回路配線基板を
得た。
実施例及び比較例の4層回路配線基板の性能は第1表の
ようである。
第   1   表 注 *500枚生産時の不良率である。
〔発明の効果〕
本発明は上述した如く構成されている。特許請求の範囲
第1項に記載した構成を有する多層配線基板の製造方法
においては、両面銅張積層板の表面状態が安定し、内層
材不良率を減少させる効果がある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)両面銅張積層板を酸と酸化剤を主成分とし、更に
    必要に応じて反応促進剤を加え、含有塩素量を180P
    PM以下にした化学研磨液でケミカルクリーニング処理
    した内層材を樹脂含浸基材を介して外層材と積層一体化
    することを特徴とする多層配線基板の製造方法。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996019097A1 (en) * 1994-12-12 1996-06-20 Alpha Fry Ltd. Copper coating

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996019097A1 (en) * 1994-12-12 1996-06-20 Alpha Fry Ltd. Copper coating
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