TW322516B - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
TW322516B
TW322516B TW085108025A TW85108025A TW322516B TW 322516 B TW322516 B TW 322516B TW 085108025 A TW085108025 A TW 085108025A TW 85108025 A TW85108025 A TW 85108025A TW 322516 B TW322516 B TW 322516B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
acid
patent application
aqueous solution
item
electroless
Prior art date
Application number
TW085108025A
Other languages
English (en)
Original Assignee
Rohco Inc Mcgean
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rohco Inc Mcgean filed Critical Rohco Inc Mcgean
Application granted granted Critical
Publication of TW322516B publication Critical patent/TW322516B/zh

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • C23C18/32Coating with nickel, cobalt or mixtures thereof with phosphorus or boron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/16Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
    • C23C18/31Coating with metals
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3457Solder materials or compositions; Methods of application thereof
    • H05K3/3473Plating of solder
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/382Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the metal

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
  • Soil Conditioners And Soil-Stabilizing Materials (AREA)

Description

經濟部中央橾準局負工消費合作社印製 322516 五、發明説明(/ ) 發明的帮軎 本發明係有關一種用於將一個或更多選自錫,鉛,鉍 ,銦,鎵和鍺所姐成族群之金屬沈積在例如使用於電極或 各種不同電子電路元性的銅或銅合金上之金靥表面的電鍍 浴。特而言之,本發明係有關一~個或更多上述的金屬使用 浸漬,噴霧,溢流或階式布施用方法藉由化學置換在銅, 飼合金,和其他金屬上的浸潰電鍍。仍特而言之,本發明 係有關該電鍍溶疲於印刷電路板的製造中的用途。 錫,鉛,鉍,和其合金的塗層己藉由置換電鍍例如藉 由浸漬電鍍技術應用至銅和K铜為基礎之合金的表面。化 學置換電鍍已使用於印刷電路板(P C B ’ s )和特別是多層印 刷電路板的製造。印刷電路板通常包含非等電,或介電層 例如Μ金靥導電層例如表面之一側或兩側上的覆蓋的纖維 玻璃/環氧樹脂片銅。在處理之前,PCB上的金靨層,典 型地為Κ電鍍穿孔連接該板兩面之銅連镰層。在處理期間 ’除去經選擇部分之銅層Κ形成凸起的銅電路影象圖形。 多層電路板典型地藉由内置影像導電層例如一個包含飼層 和導電性膠黏層,該導電性膠黏層為例如部份硬化的Β -階 段樹脂,也就是,半固化片,於多層三明治之内(其然後 藉由應用熱和壓力结合在一起)所構成。此類型之印刷電 路板的製造揭述在”印刷電路手冊”第三版,由C. F. Coombs, Jr.,McGraw-Hill编輯,1988,其合併在本文K供參考。 因為具有平滑銅.表面層的導電層不能良好地结合到半固化 -2- 本紙張尺度通用中國國家樣準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) --------J-'裝------訂-----< 旅 . I (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央梂準局負工消費合作社印裝 A7 B7_ 五、發明説明( Η ,必須發展銅表面的處理以增加在多層電路板之三明治 層間的黏合強度。銅表面處理的一個實施例為使用浸潰錫 和錫合金作為多層電路的黏合介質,如Holtzroan及其研究 同仁(美國專利第4 , 7 1 5 , 8 9 4號)所揭示。在此專利中,浸 漬錫組成物被揭示為包含硫脲化、合物,及脲化合物Μ在將 其層合形成多層板之前藉由浸潰方法以錫置換電鍍每個電 路板的銅表面。 * 美國專利第5, 196, 053號揭述置換錫電鍍,及特而言 之,使用眯唑-2 -硫酮化合物之錯合劑。利用此錯合劑Μ 取代在先前技藝中所揭述的硫脲。更特而言之,美國專利 第5,196,053號揭述一種用於Μ其他金屬置換電鍍底材金 屬表面之電鍍水溶液,且該電鍍溶液包含 (i)自由金屬的金屬離子,其中自由金屬不同於底材表面 的金屬; (i i )為眯唑-2 -硫酮化合物的錯合劑;及 (i i i )—種酸。 該等可被使用的酸包括有機酸,及Μ硫,磷,鹵素為基礎 ,或其混合物之無機酸。較佳為該等Κ硫為基礎的無機酸 ,及該等無機酸之實施例包括硫酸和胺基磺酸。硫磺的和 次磷酸之混合物為特佳。可使用的有機酸之實施例包括具 有最多約6個碳原子之單羧酸或二羧酸例如甲酸,乙酸, 蘋果酸,順一 丁烯二酸等。 美國專利第5,160, 422號係有關一種在銅或銅合金土 -3- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210><297公釐〉 --------1 装-----—訂-----*成 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 322516 _B7___ 五、發明説明(、) 浸潰錫-鉛的電鍍浴。除錫和铅之外,該等浴包含有機確 酸基化合物例如烷磺酸或羥基烷磺酸,和硫脲。氟硼酸鹽 也可包括在該等電鍍溶液中。 發昍:> 概沭 頃發現一個或更多選自錫,、鉛,鉍,絪*鎵和緒所組 成之族群的金屬利用一種無電鍍水溶液而可沈積在金靥表 面上,該無電鍍水溶液,包括: ’ (A) 至少一個選自錫鹽,鉛鹽,鉍鹽,絪鹽,鎵鹽和錯 '鹽所組成之族群的溶液一可溶解的金靥鹽; (B) 至少一個選自氟硼酸,烷烴磺酸,烷醇磺酸,和其 混合物所組成之族群的酸; (C) 一種錯合劑,其係為式II I的眯唑-2-硫酮化合物 --------I 裝------訂-----1 旅 (請先g讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央捸準局負工消費合作社印製 和 1 基 多氰 最 ’ 含素 包鹵 為 , R S 中為 其 Y , 和 團 , 基基和 Y 嫌; -R環分 的或部 同鐽醚 不支或 或 ,, 同鐽基 栢直苯 為之 , ;子基 原烯 中碳乙 式個, 水 的. 多 更 或 個 1 含 包 可 液 溶 水 鍍 電 等 該 地 性 擇。 選劑 可性 要活 需面 視界
本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 A7 B7 五、發明説明(if) 住亘韹啻施例之說明 本發明的電鍍浴包含一個或更多選自錫,鉛,鉍,銦 ,鎵和鍺的金屬。因此,該電鍍浴可包含錫或鉛,鉍,絪 ,鎵和鍺,或金靨之混合物例如錫/鉛,錫/鉍,錫/絪 ,鉛/鉍*錫/鍺,銦/鎵*錫'/鉛/鉍,錫/鎵/錯等 。該等金屬是以包括氧化物,硝酸鹽,鹵化物,乙酸塩, 氟硼酸盥,氟矽酸鹽*烷磺酸塩和烷酵磺酸塩之水溶性鹽 存在於電鍍浴中。在一較佳具體實施例中,金屬鹽之陰離 子相當於使用於在電鍍浴中的酸之陰離子。例如*當使用 氟硼酸作為酸時,該等鹽可為,例如,氟硼酸錫,氟硼酸 鉛,氟硼酸鉍,氟硼酸銦,氟硼酸鎵和氟硼酸鍺。當使用 在浴中的酸為烷或烷醇磺酸時·可溶解之金靥鹽可為,例 如,甲烷磺酸錫,甲烷磺酸鉛,甲烷磺酸鉍,甲烷磺酸銦 等。 錫,鉛,鉍,銦,鎵,鍺,或該等存在於本發明電鍍 溶液之金屬的混合物的數量可在廣泛的範圍改變例如每一 升溶液約1到約7 5或甚至1 0 0克的金靨。在較佳的具體茛 施例中,較佳的範圍為每升溶液約5到約5 Q和較常為約6 到約2 5克的金屬。該等電鍍溶液中可包含較高含量的金靥 ,但是經濟上考量該等金屬的含量維持於較低含量。 本發明的電鍍溶掖中的第二個必要成分為至少一個選 自氟硼酸,烷磺酸,烷酵磺酸,和其混合物所組成之族群 的酸。包含在該等溶液中的酸之數量可從每一升溶液約20 -5- 本紙張尺度適用中國國家樣準(CNS〉A4規格(210X297公釐〉 ^ 装------訂------ ^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
i、發明説明(ζΊ 經濟部中央梯準局員工消费合作社印製 克變化到約400克的酸。較常地,該等電鍍溶液為每一升 溶液包含約8 0到約1 5 0克的酸。存在於該等電鍍水溶液中 充份的酸以提供溶液具有約0到約3之ΡΗ值,更常為約〇 到約2。通常,使用具有陰離子的酸至金屬之酸盥是令人 想要的。_ . 該等使用於本發明中作為金靥鹽之陰離子或作為酸成 分之烷磺酸可Μ下式I表示 RSOs Η (I) 其中R為包含約1到約1 2個碳原子之烷基和更佳,約1到 6個碳原子。該烷磺酸的實施例包括,例如,甲烷磺酸, 乙烷磺酸,丙烷磺酸,2-丙烷磺酸,丁烷磺酸,2-丁烷磺 酸,戊烷磺酸,己烷磺酸,癸烷磺酸和十二烷磺酸。任何 一個上述的烷磺酸之個別烷磺酸或混合物的鉍鹽可使用於 在本發明的電鍍浴中。 該等烷酵磺酸可以下式II表示:
CnH2n+1-CH(OH)-{CH2)m-S〇3H (II) 其中η為0到約1 0,in為1到約11且m + η的總數為1最大 到約1 2。從上述式11可、知,羥基可為終端羥基或内在的羥 基。有用的烷酵磺酸之簧施例包括2 -羥基乙基-1-磺酸, 卜羥基丙基-2-磺酸,2-羥基丙基-1-磺酸,3-羥基丙基-1-磺酸,2-羥基丁基-卜磺酸,4-羥基丁基-1-磺酸,2-羥 基-戊基-卜磺酸,4-羥基-戊基-卜磺酸,2 -羥基-己基Μ -6- 本紙張又度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X297公釐) -------- 装------訂-----< 竦 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央橾準局貝工消費合作社印製
A7 B7 、 五、發明说明(t) -磺酸,2-羥基癸基-卜磺酸’ 2-羥基十二烷基-1-磺酸。 該等烷磺酸和烷酵磺酸是商業上可利用的並且亦可藉 由在該技藝術中已知的多種方法製備。一種方法包括硫酵 或具有式 Ri.SnRz (其中Ri或Rz為烷基,及η為1和6 之間的正整數)的脂族硫化物之觸媒化氧化作用。可使用 空氣或氧能作為氧化劑,且各種不同的氧化氮可作為催化 劑使用。通常氧化作用於約1 5 0 t k下之溫度是有效的。 該氧化作用方法揭述及申請專利於美國專利第2 , 43 3 , 3 9 5 和2 , 4 3 3 , 3 9 6號中。或者,氯可作為氧化劑使用。製備該 酸之金靥鹽,例如,將金靥氧化物溶解於烷或烷酵磺酸的 熱濃縮水溶液中。可使用上述任何酸的混合物,及有用的 混合物的實疵例為氟硼酸和甲烷磺酸的混合物。 本發明的電鍍水溶液的第三個必要的成分為(C)是式 111的咪唑-2 -硫_化合物的錯合劑:
S I! η 式中Α和Β為相同或不同的-RY基圑,其中R為包含最多12 個碳原子之直鐽,支鐽或環烯基,和Y為氳,鹵素*氰基 ,乙烯基,苯基,或醚部分。在一個具體實施例中,錯合 劑為1,3-二烷基眯唑-2-硫酮化合物(其中A和B各別為烷基 -7- 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ---------d------ίτ------ d. (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央揉準局貝工消費合作社印製 A7 _B7___ 五、發明説明(y) 或環烷基),及硫酮化合物可為非對稱的(A和B是不同的) 或對稱的(A和B是相同的)。較佳,錯合劑是非對稱的例如 (其中A為甲基或乙基和B為包含3到6個碳原子的烷基或 環烷基)。較佳,當A為甲基時’B為C3 焼基或環 烷基,和當A為乙基時,B為“ -C6烷基或環烷基。非 對稱的化合物的一個實施例為卜甲基丙基眯哩_2_硫 酮。 或者,對稱之1,3 -二烷基眯嗖-2 -硫酮化合物可利用 於在本發明的電鍍溶液中,及二烷基為包含1到6個碳原 子之相同烷基或環烷基。此類錯合劑的實施例為i,3 -二甲 基眯咄-2-硫酮。 包含在本發明電鍍溶液中的錯合劑的數量可於約每升5 克最大到電鍍溶液中錯合劑的溶解度之限度的範圍。通常 ,電鍍溶液將會每升包含約5到約1 Q Q克的錯合劑,和較 常為每升4 Q到約8 G克。當錯合劑的溶解度低時,可加入共 溶劑Μ溶解錯合劑和藉此提高所產生的溶液的活性。適當 的共溶劑包括水一易混合的溶劑例如酵類(例如,乙醇), 二酵類(例如,乙二酵),烷氧基烷醇類(2-丁氧基乙醇), 酮類(例如,丙嗣),非質子溶劑(例如,二甲基甲醯胺, 二甲亞礙,乙腈等),及其他。 其亦在發明的範圍中的是視需要選擇性地包括於電鍍 浴中,一個或更多之與每一個浴溶解的金臑鹽(Α),該等 酸(Β)和錯合劑(C)相容的界面活性劑。本發明的電鍍浴可 本紙張尺度逋用中國國家標準(CNS ) Μ規格(210X297公兼) -------;裝------訂----L 旅 - (木先閲讀t面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央棣隼局貝工消費合作社印製 A7 ___ _B7_;_ 五、發明説明(>) ?見需要選擇性地包含至少一個界面活性劑於每升浴約〇.01 到約1 0 0克和更佳每升浴約Q . 0 5到約2 Q克之湄度。如上所 ii ’ W面活性劑可為至少一個包括兩性,非離子,陽離子 ’或陰SI子界面活性劑的一個界面活性劑;或其混合物。 W面活性劑為至少一個陽、離子或陰離子界面活性劑 ;或其混合物。較佳為非離子性界面活性劑。 0使用於本發明的多種非離子性界面活性劑為環氧乙 院及/或環氧丙烷和包含羥基,锍基或包含一個N-H的胺 S之化合物的縮合產物。包括羥基的材料之實施例包括烷 基酿類’苯乙烯化酚類,脂肪酵,脂肪酸,聚烷撐二酵類 等°包含胺基的材料之實施例包括烷基胺和多元胺,脂肪 酸醯胺等。 使用於本發明電鍍浴中的非離子界面括性劑的實施例 包括具有反應式III之含醚界面活性劑: R-0-[(CH2)n0]xH ㈣ 其中R為包含約6到20個碳原子之芳基或烷基,η是2或 3,和X為2和100之間的整數。該界面活性劑通常藉由 將脂肪酵或經烷基或烷氧基取代之酚或萘與過量環氧乙烷 或環氧丙烷處理而產生。烷基碳鐽可包含約14到24個碳原 子和可衍生自長鏈脂肪醇例如油酵或硬脂酵。 此類型的非離子聚氧乙撐化合物揭述於美國專利第 3,855,085號。該聚氧乙撐化合物商業上可利用該等一般 -9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ規格(210X29"?公釐) -------:裝------訂-----< 竦 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消费合作社印装 A7 _B7__ 五、發明説明(7 ) W a y n e,P a ·,之空氣產品和化學品公司的商品名稱”311]^丫-nol”’ Wyandotte,Mich·,之 BASF Wyandotte 公司的名稱 ” Pluronic”或” Tetronic”和休斯頓,德克薩斯州的Hunt-smerii公司之名稱” Surfonic”。使用於本發明的特殊聚氧 乙撐縮合產物的實施例包括”Surfynol 465 ”,其係藉由約 10莫爾的環氧乙烷和1莫爾的四甲基癸炔二酵反應獲得的 產物。"Surfynol 4 8 5 ”,其係藉由30莫爾的環氧乙烷和四 甲基癸炔二醇反應獲得的產物。” Pluronic L 35”, 其係 藉由將2 2莫爾的環氧乙烷和藉由1 6莫爾的環氧丙烷縮合作 用獲得的聚丙二醇反應獲得的產物。Surfonic N-150為乙 氧化烷基酚。 亦可使用該技藝己知的烷氧化胺,長鐽脂肪胺,長鐽 脂肪酸,烷醇胺類,二胺類,醯胺類,烷醇醢胺類和聚乙 二酵類型界面活性劑。傾發現特別有效於浸漬之胺界面活 性劑的一個類型為藉由將環氧丙烷和環氧乙烷的混合物加 成二胺類而獲得的族群。更詳而言之,藉由將環氧丙烷加 至乙二胺,接著加入環氧乙烷而形成的化合物是有效的的 和商業上得自 BASF Wyando.tte, Ind. Chemical Group 之 一般的商品名稱” T e t r ο n i c ”。 亦可使用具有不同分子量之聚乙二酵類的卡波臘 (Carbowax)—類型界面活性劑。例如卡波躐第10ί)ϋ號具有 約950到1050之分子量範圍及每分子包含20到24個乙氧基 單位。卡波臘第4 0 0 0號具有約30Q0到37 00之分子量範圍及 -10- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(21 〇 X 297公釐) --------- -裝------、玎------- (請·先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) A 7 B7 ----------- 五、發明説明(/Μ 包含每分子68到8 5個乙氧基單位。其他已知的非離子二醇 衍生物例如聚烷撐二酵醚和甲氧基聚乙二醇類(其可得自 商業上產品)可利用於本發明的組成物中作為界面活性劑 Ο 與脂肪酸的環氧乙烷縮合產、物亦是有效的非雜子性表 面活性劑。這些多數商業上可利用例如在來自Arjaak Ind 的一般的商品名稱” Ethofat”。實施'例包括椰子 (coco)酸 的縮合物,油酸等。脂肪酸醢胺的環氧乙烷縮合物,例如 ,油驢胺,亦可使用來自Armak Ind者。 在一些浴中,當包括聚氧烷基化二酵類,酚及/或萘 類時,獲得改良的结果。例如與脂族酵,山梨糖酵烷基酯 ,烷基,烷氧基和苯乙烯化酚類和萘類的環氧乙烷和環氧 丙烷濃縮物是有效的添加劑。約6到約4 G莫爾的氧化物可 與上述定義之化合物一起縮合。大部份之縮合物商業上可 使用美國ICI之”Tween”的商品名,來自Rohm & Haas公 司的”Trit. οι〗”,來自 Union Carbide 的” Tergitol”,和來 -------」’装------訂--------^線 (請先閱讀背面之注意Ϋ項再填寫本頁) 0 的 司 公 經濟部中央#準局貝工消费合作社印製 為 可 亦 劑 性 活 面 界 的 中 浴 鍍 電 漬 浸 的 明 發 本 於 甩 f 可 酸 磺 和 鹼 菜 甜 括 包 劑 性丙 活氧 面環 界或 性 \ 兩及 佳烷 較乙 。 氧 劑環 性和 活, 面鹼 界菜 性甜 兩基 。基 S 物脂0 成硬on 加和it 化鹼Tr 酸菜括 磺甜包 或銨物 化基成 酸甲加 硫二化 之基酸 物桂磺 產月和 合括化 縮包酸 的類硫 胺鹼 。 二菜鹼 或甜菜 胺的甜 基型銨 烷典基 與 甲 烷 二 本紙張尺度適用中國國家棣準(CNS > A4規格(210X297公釐) 322516 五、發明説明(//) 15(Rohm & Haas公司),乙氧化院基胺的硫酸化加成物 ,Miranol HS,磺酸化月桂衍生物的納鹽,Miranol 0S, 磺酸化油酸的納鹽等3陽離子界面活性劑在本發明的電鍍 浴中亦是有效的及該界面活性劑可選自高級烷基胺鹽,四 级銨鹽,烷基吡錠鹽和烷基咪銼'鹽所組成之族群。 藉由各種不同量的環氧乙烷或環氧丙烷和一级脂肪胺 的縮合作用獲得之陽離子界面活性劑是有效的及可以下式 V表示: -» - -1 ·1 I —.^ί 11 - I -- IJ-1 n . I (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) R.
X(R2〇)zH N — R
(R2〇)xH N〆 (V) a
(R30)vH
'1T 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 其中R為包含約8到約22個碳原子之脂肪酸烷基,R1為包 含最多約5碳原子之烯烴基,R2和R3各自獨立為亞乙基 或亞丙基,a為0或1 <和X,y和z各自獨立為1到約3 0 之整數,及X,y,和z的缌數為約2到約5 0之整數。 更特而言之,利用於本發明之浴中的該等烷氧化胺以 式VI和V 11表示:
(CH2CH20)xH
L 線
R4-N (VI)
s(CH2CH20)yH 12- 本紙涑尺度適用中國國家揉準(CNS ) A4規格(210X297公釐)
經濟部中央標準局月工消費合作社印$L A7 __ B7__ 五、發明説明(丨y) (CH2CH2OzH /(CH2CH20)axH R4 ——N-CH2CH2CH2N (v 丨丨)
、(CH2CH20}yH 其中R4為包含12到18個碳原子的脂肪酸烷基,x,y及z 如於式V中之定義。 - 上述陽離子界面活性劑在該技藝中是已知且可利用多 種商業的來源。以式VI表示之類型的界面活性劑可藉由縮 合各種不同量的環氧乙烷與一级脂肪胺(可為單胺或例如 牛脂油類,精液油類,椰子油類等的水解獲得之胺的混合 物)製備。包含8到22個碳原子的脂肪酸胺之特殊實施例 包括飽和和不飽和的脂肪胺例如辛基胺,癸基胺,月桂基 胺,硬脂基胺,油烯基胺,肉豆蔻基胺,軟脂基胺,十二 烷基胺,和十八烷基胺。 該等使用於本發明電鍍浴中之烷氧化胺可如上文所述 製備,藉由該技藝已知之技術將環氧烷與該等上述一级胺 縮合而製備。許多該烷氧化胺商業上可利用多種來源。 該等上述之胺可,如同上述,藉由該技藝已知之技術 將環氧烷與該等上述一级胺縮合而製備。許多該烷氧化胺 商業上可利用多種來源。以式V I表示之類型的烷氧化胺可 利用得自Akzona公司,芝加哥111的Armak化學部,一般商 品名稱”Ethoueen”。該產物之特殊實施例包括”Ethomeen C/15”,其係為包含5莫爾的環氧乙烷之椰子脂肪胺的環 氧乙烷縮合物;” E t. h 〇 m e e n C / 2 D ”和” C / 2 5 ” *其亦分別 -1 3- 本紙張尺度適用中困國家搮準(CNS ) A4规格(2丨0><297公釐) -------- <裝------訂-----< ,線 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央梂準局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(/ ^) 為包含1G和15莫爾的環氧乙烷之椰子脂肪胺的環氧乙烷縮 合產物;”Ethomeen S/15”和”S/20”,其係具有每奠爾胺 分別包含約5和10莫爾的環氧乙烷硬脂基胺之環氧乙烷縮 合產物;和”Ethomeen Τ/ΙδίΠ^Τ/ 25",其係具有每莫爾 胺分別包括約5和15莫爾的環氧乙烷的牛脂胺之環氧乙烷 嫌合產物。Μ式(5 )表示之類型的烷氧化胺之商業上可利 用的實施例包括” Ethoduoroeen Τ/13”和” Τ/20”,其係為每 冥爾二胺分別包含約3和10莫爾的環氧乙烷的N-牛脂三亞 甲基二胺之環氧乙烷縮合產物。另外類型之有效的陽離子 界面活性劑Μ式VIII表示:
^(CH2CH20)mH ROCH2CH(CH3)OCH2CH(Y)N (VIII)
\ (CH2CH20}nH 其中R為包含約8到約1 2個碳原子之烷基,Y為甲基,或 羥基,m和η是整數,其缌數為約2到約2 0。 以式V111的表示之類型的胺乙氧化物界面活性劑顯示 具有增加較高程度之乙氧化作用的非離子性質之陽離子和 非離子性界面活性劑二者特性。亦卽,當X和y的總數增 加,乙氧化胺之作用更像非離子性界面活性劑。 K式VIII表示的界面活性劑其中Y為甲基者商業上可 利用例如得自Texaco化學公司的商品名稱1-300糸列”。 Μ - 3 0 0系列化合物目前可利用得自T e X a c 〇者且傾發現可有 效使用於本發明的水性酸電鍍浴者包括該等名為Μ - 3 0 2 ’’ ~14~ 本紙張尺度適用中國國家橾準(CNS ) Α4規格(210X297公釐〉 -------η -装------訂-----< 旅 - < (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
A 7 _B7_ 五、發明説明(/ ☆) M- 3 0 5 > Μ - 3 1 0,Μ - 3 1 5 和 Μ - 3 2 0,其係分別包含 2,5 ,1 0 ,1 5和2 0莫爾的環氧乙烷的缌數。在所有的該等化合物中 ,R為1 0和1 2個碳烷基的混合物。 陽離子界面活性劑亦可為: (a)式IX之四级銨鹽: (R.-N-R-·] χβ (,χ, 、R" / 其中X表鹵素,羥基,或Ci _5烷磺酸的殘基;Ri表烷基院 基R’和R”表Cx _4烷基;和R’”表Ci」0烷基或苄基; (b ) K通式X表示的吡錠鹽: χ® (X) -------- ''裝------訂-----^辣 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印装 其中X表鹵素,羥基,或C 1 _5烷磺酸的殘基;R1表 Cs _ς。烷基;及Ra表氫或 “ _4烷基; (c ) Μ通式X I表示的眯唑咐翁鹽: χθ (XI) -1 5-
N-CH,// RrC XN-CH
Rb H FT 本紙張尺度適用中國围家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) Α7 Β7 322516 _________ 五、發明説明(/ (Γ) 其中X表鹵素,羥基,或Ci」。烷磺酸的殘基;R1表 Cs _2 〇烷基;Rb表包含羥基之Ci _s烷基,·和R”’表 Cido烷基或苄基;及 、 U)以通式XII表示的高级烷基胺鹽: [FVNH3](+> CH3-{CH丄-COO(-i (XII) 其中R i表 c8 _2 ο烷基;和η為約0到約4。 上述陽離子界面活性劑的實施例,於鹽的形式,為月 桂基三甲銨盥,鯨臘基三甲銨鹽,硬脂基三甲銨鹽,月桂 基二甲铵鹽’十八基二甲基乙銨鹽,二甲基苄基月桂銨鹽 ,鯨臘基二甲基苄銨鹽鹽,十八基二甲基苄銨鹽,三甲基 苄銨鹽,三乙基苄銨塩,十六基毗錠鹽,月桂基吡錠鹽, 十二基甲基吡錠鹽,卜羥乙基-卜苄基-2-月桂基眯銼鹽, 卜羥乙基-1-苄基-2-油基咪銼鹽,硬脂基胺乙酸盥,月桂 基胺乙酸鹽,和十八基胺脂酸盥。 界面活性劑也可為陰離子界面活性劑。有效之陰離子 界面活性劑的實施例包括硫酸化烷基醇,硫酸化低级乙氧 化烷基酵,和其Μ例如其鹼金屬鹽。該界面活性劑的實施 例 包括月桂基硫酸鈉(來自DuPont的Duponol C或QC),混合 長鏈醇硫酸塩之納(得自DuPont之命為Duponol Ο),辛基 _ 1 6 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS > Α4規格(210X297公嫠〉 --------‘裝------訂-----* 線 ·*. (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央橾準局員工消費合作社印製. 經濟部中央樣準局貝工消費合作社印製 A7 ____B7_ 五、發明説明(/㈠ 硫酸納得自Alcolac股份有限公司為“”.^ 0LS),十三基 醱硫酸納(Sipex EST),月桂基醚硫酸納(sipon ES),月 桂基硫酸鎂(Sipon LM),月桂基硫酸鹽之铵鹽(sipon l -22),二乙酵胺月桂基硫酸塩(Sipon LD),十二烷基苯磺 酸納(Siponate DS)等。 . 本發明的電鍍溶液也可包含一個或更多用於保持置換 及/或於溶疲中取代金鼷之螫合劑。螫合劑(其偽使用於 本發明的溶液中)通常在包含Kirlj-Othmer,Encyclopedia of Chemical Technology,第三版,第 5 卷,pp 3 3 9 - 3 68 所揭露的各種不同類別之螫合劑和特殊的化合物。因此該 揭示合併於本文Μ參考。特較佳的螫合劑劑包含多元胺, 胺基羧酸和羥基羧酸。可使用的一些胺基羧酸包含乙二胺 四乙酸,羥乙基乙二胺四乙酸,硝基三乙酸,Ν-二羥乙基 甘胺酸’和亞乙基雙(羥苯基甘胺酸)。可使用的羥基羧酸 包含酒石酸,擰檬酸,葡萄糖酸和5 -磺酸基柳酸。其他有 用的螫合劑包括例如乙二胺,二甲基乙二醛二肟,二乙三 胺等。 可包含在該等電鍍溶液中之各種不同的還原劑,和該 等通常包含有機醛無論飽和或不飽和,脂族的或環的,具 有最大到约1 0個碳原子。具有最大到約6個碳原子之低级 烷基酲可使用於此觀點例如甲醛,乙醛,丙醛,丁醛,和 類似物。尤佳之醛包括羥基脂族醛例如甘油醛,赤蘚糖, 蘇糖,樹膠糖和其各種不同位置的異構物,和葡萄糖和其 -1 7 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ規格(210Χ297公釐) -------1 -裝------訂-----L.ii (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
五'發明説明(ο) S棰不同位置的異構物。己發現葡萄糖可避免金屬盥至較 胃化氧態之氧化作用,例如,錫(11)離子到錫(I V )離子, Μ是亦做為螫合劑和尤其對這些理由是有效的。其他使用 %邐原劑包括次磷酸,二甲胺基硼烷等。 該等電鍍溶液也可包含脲或、胨衍生物,其同等物或類 似物。有效的脲衍生物的簧施例可發現於Holtz man及其研 究同仁之美國專利第4,6 5 7,6 3 2號14-15播,其合併於本文 &供參考。特殊的實施例包括硝酸脲,草酸脲,1-乙醢基 腺’卜苄基脲,卜丁基脲,1,1-二乙基脲,1,卜二苯基脲 ’ 1-羥基脲等。較佳為脲。在一較佳具體實施例中,本發 $的電鍍溶液中實質上沒有硫脲和硫脲衍生物。 本發明的置換電鍍水溶液的各種不同的成分可存在於 上述之濃度。在一個具體實施例中,置換電鍍溶液將會包 I (Μ 1莫爾基質為基礎): 约1到約15份置換金屬離子; 約1 0到約1 2 5份的錯合劑化合物;及 約1到約3 6 0份的酸。 溶液也可包含(以1莫爾基質為基礎)·· 約10到約125份的脲化合物; 約5到約40份的螫合劑;及 約5到約1 1 0份之還原劑。 該等溶液澴度,當然,可視欲特別電鍍之應用改變。 本發明的電鍍溶液可藉由把該等成分加人水中而製準 -1 8 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X29*7公釐) --------> -^------1Τ------ ^ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央揉隼局貝工消費合作社印製 經濟部中央揉率局貝工消費合作社印製 A7 B7 五、發明説明(/少) 備。該等成分可Μ任何順序加入。 本發明的無電鍍水溶液利用浸漬,噴霧,溢流或階段 應用方法藉由化學置換可利用於底材例如铜,銅合金,和 其他金屬的電鍍中。較佳,金靥底材Μ電鍍溶疲藉由將該 等底材浸濱(i m m e r s i n g )或浸濱(、d i pp i n g)至維持於約1 5 °C 到約7 Q C之溫度的該等電鍍溶液中。較常,電鍍溶液的溫 度是在約2 5 °C到約3 5 °C之範圍。欲電鍍之金靥底材通常在 浴中維持為約1到約5分鐘Μ提供所需要的薄金靥板的品 質和厚度例如約1至約1 Q微米之電鍍厚度。該等電鍍溶液 可機械地攪拌或超音波Κ加速置換反應。該等Μ本發明的 電鍍溶液所產生的薄金靨板是密集的和緊緊地黏著在下面 的金靨底材。如上所述,Μ該等上述的電鍍溶液沈積的該 等薄金屬板可為錫,鉛,或鉍,絪,鎵,或緒或任何的二 個或更多該金屬的合金。 下列各實施例擧例說明本發明的電鍍溶液。除非在下 列各項實施例和在別處指示否則在說明書和申請專利範圍 中’所有的份和百分比為Μ重量計,溫度為懾氏度數,和 壓力為在或靠近大氣壓。 本發明的電鍍溶液於金屬底材上沈積金屬塗層之利用 藉由將銅,敷銅萡層合板,或在黃銅赫爾電池板浸湏在實 施例的溶液中經一分鐘示範。使用溫和機械浴搜拌,且浴 溫度維持在約2 5 °C到約3 5 °C。電鍍測試的结果報告於實施 例中。 . -1 9- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Μ规格(2ΐ〇Χ297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
、1T 322516 A7 B7 五、發明説明(^ ) 經濟部中央標準局員工消費合作社印震 宵 旅 例 1 克/升 作 為 甲 院 磺 酸 錫的錫 10 甲 烷 磺 酸 150 1 - .甲 基 -3 -丙基咪唑- ,2 - -硫 酮 85 水 加 至 1升 在 銅 和 黃 銅 底 材上觀 察 到 亮 錫電 鍍 0 W 旃 例 2 作 為 甲 烷 磺 酸 鉍的鉍 6 甲 院 磺 酸 100 1 - 甲 基 -3 -丙基咪唑- 2- 硫 酮 60 水 加 至 1升 在 銅 和 黃 銅 底 材上獲 得 亮 銀 -灰· .棕 沈 積 〇 奮 旃 例 3 作 為 甲 院 磺 酸 錫的錫 10 作 為 甲 院 磺 酸 鉍的鉍 6 甲 院 磺 酸 150 1 - 甲 基 -3 -丙基眯唑- 2- 硫 酮 80 水 加 至 1升 在 黃 銅 和 銅 底 材上獲 得 亮 銀 與輕 微 的 棕 色沈積 宵 旅 例 4 作 為 氟 硼 酸 鉛 的鉛 31 氟砸酸 110 -20- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -------- ,裝------訂-----1 線 '· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 60 5 加至1升 灰色的半亮沈積。 2 5 10 100 60 加至 1升 之灰色沈積且比以茛施例4獲 施例1中所獲得的沈積一樣有 6 10 0 60 加至1升 沈積。在黃銅上產生碳黑非黏 10 50 ' 2 1 - 五、發明説明(w) 1-甲基-3-丙基眯唑-2-硫酮 surfonic N-150 水 在銅和黃銅底材上獲得均勻 啻旃例 5 作為氟硼酸鉛的鉛 作為氟硼酸錫的錫 氟硼酸 1-甲基-3-丙基眯唑-2-硫酮 水 在銅和黃飼底材上獲得稍亮 得更有光澤。該沈積不像實 光澤。 筲旃例 fi 作為甲烷磺酸鉍的鉍 氟硼酸 卜甲基-3-丙基咪唑-2-硫酮 水 在銅上獲得均勻銀-灰-棕色 著沈積。 奮旃例 7 作為氟硼酸錫的錫 氟砸酸 本紙張尺度適用中國國家標率(0NS ) A4規格(21〇X297公嫠) -------- -裝------訂-----^瘃 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央揉率局貝工消费合作社印製 322516 五、發明説明(y) 甲烷磺酸 50 1-甲基-3-丙基蹄哇-2-硫嗣 40 水 加至1升 在黃銅和飼底材上獲得光澤銀沈積。 該等從本發明的電鍍溶液沈-積的塗層有效使用於電子 電路,電子裝置和電子連结器中。錫*鉛,及其合金的表 面層可作為保護層以在印刷電路或積體電路的製造期間避 免組成程序中之銅腐蝕。該等塗層也提供焊著或印刷接綫 板上之化學安定表面。 本發明的電鍍溶液可使用於多層印刷電路板的製造, 該多層印刷電路板具有支撐銅電路之介電材料的交錯層( 其可具有其他層例如插入其作為接地板之銅板),其係經 由中間產物層黏著至絕緣曆。電路板具有導電穿孔,該穿 孔形成通過板之全部厚度的電路。多層電路板可能包含幾 打導電層和非導電性層。在多層電路板的形成中,穿過該 等板之鑽孔是時常必需的,且由於在接近孔之周圍區域層 的分層而發生缺點。 起始材料為介電層,其係包括將銅包覆於表面之一 側或二側。銅層為至少4微米之厚度和更佳為32微米,且 該銅層用來形成導電電路。可使用廣為人知的技術M形成 該電路。介電層的組成沒有限制提供作為電子絕緣體之功 能。在導電電路形成後,在電路上形成錫,鉛或鉍,或二 個或更多該金屬的混合物之薄外層。印刷電路板的電路典 -22- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -------一丨裝------訂-----•線 (ti-先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明说明 A7 B7 , ,於解範 刻候對了之 触。同飾被圍 前中之修將範 之液例其它利 觸溶施時,專 接的實書此請 液明體明因申 溶發具說。於 鑛本佳讀的蓋.· 電於較閲知涵 的鍍關在易飾 明電相飾而修 發潰其修顯該 本浸於的為將 與板明同變欲 其路說不將意 在電經種士處 和刷已各人此 潔印明是之在 清將發的藝示 先由本解技揭 首藉在 了該明 。 地如 被熟發内 型例 可諳本圍 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 本紙張尺度適用中國國家橾率(CNS ) A4规格(210X297公釐)

Claims (1)

  1. 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A8 % % 2 |修正 32.2516 i | 補充 々、申請專利範圍 1 · 一種無電鍍水溶液,其像用於將一個或更多選自錫,鉛 ,鉍,絪,鎵和緒所組成之族群的金靥沈積至一金屬表 面上|包括: (A)至少一個選自錫鹽,鉛盟,鉍鹽,絪鹽,鎵鹽和鍺 鹽所組成之族群的溶液-可溶解的金靨鹽; (B )至少一涸選自氟硼酸,烷磺酸,烷醇磺酸,和其混 合物所組成之族群的酸; (C )其係為式I I I的咪唑-2 -硫麵化合物的錯合劑
    式中A和B為相同或不同的-RY基團,其中R為包含最多 12個碳原子之直鏈,支鏈或環烯基,和Y為氫,鹵素, 氰基,乙烯基,苯基,或继部分;和 (D)水: 2 ·根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中酸 (B ) 為K下式表示的烷磺酸 RS03H (I) 其中R為包含1到1 2個碳原子之烷基,或以下式表示的 烷酵磺酸 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0X297公釐) 丨·-----1^------、訂-------^ (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印裂 A8 68 C8 D8 々、申請專利範圍 CnH2n+1CH(0H)(CH2)m-S03H (⑴ 其中η為〇到1 0,m為1到1 1,和η + πι的總數為1到1 2 〇 3.根據申請專利範圍第2項的無電鍍水溶液,其中酸 (Β) 為式I的烷磺酸。 4 ·根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中酸(Β ) 是烷磺酸和氟硼酸的混合物。 5 ·根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中酸(Β ) 為甲烷磺酸。 6 .根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中錯合劑 (C)K式III為特徵,其中Α為甲基或乙基和Β為C3 _6烷 基或環烷基。 7.根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中錯合劑 (C)為1-甲基-3-丙基咪唑-2-硫酮。 8 ·根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其沒有硫胨 9 .根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中金屬表 面為銅或銅合金。 1 0 .根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中可溶解 的金屬鹽(A )為錫鹽: Η .根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中可溶解 的金屬鹽(A )為錫和鉛鹽混合物。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(2丨0X297公釐) : :^1T------ii (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁)
    322516 B8 D8 六、申請專利範圍 1 2 .根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中可溶解 的金屬鹽(A)包括錫和鉍鹽的混合物。 1 3 .根據申請專利範圍第1項的無電鍍水溶液,其中可溶解 的金屬鹽(A)為烷磺酸的錫鹽。 1 4 · 一種無電鍍浸濱水溶液,其係用於將一個或更多選自錫 ,鉛和鉍所組成之族群的金屬沈積至一金靨表面上,包 括: (A) 至少一個選自錫鹽,鉛鹽和鉍鹽所組成之族群的溶 液-可溶解的金屬鹽; (B) 至少一個選自氟硼酸和烷磺酸所組成之族群的酸; (C )以式I I I為特徵之錯合劑 S II Γ I—‘---;-----i------IT-------it (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 液 溶 水 濱 浸 〇 C6鍍鹽 _ 電的 C3無酸 為 的磺 B 項烷 和14為 基 第 } 乙 圍 U 或 範鹽 基 利的 甲 專解 為。請溶 A 水申可 中 } 據 1 其(D根液 基 烷 環 或 基 烷 及 溶 中 其 烷 中 其 液 溶 水 漬 浸 鍍 電 無 的 項 14徵 第特 圍為 範式 利下 專 Μ 請 } 申(Β 據酸 根磺 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 RS03H (I) 其中R為包含1到1 2涸碳原子之烷基。 1 7 .根據申請專利範圍第1 4項的無電鍍浸濱水溶液,其中酸 (B )包含氟硼酸和烷磺酸的混合物。 18.根據申請專利範圍第14項的無電鍍浸湏水溶液,其中錯 合劑(C)為卜甲基-3-丙基咪唑-2-硫嗣。 1 9 .根據申請專利範圍第1 4項的無電鍍浸漬水溶液,其中金 屬表面為銅表面或銅合金表面。 2 0 .根據申請專利範圍第1 4項的無電鍍浸漬水溶液,其係沒 有硫腺。 2 1 . —種無電鍍浸濱水溶液,其係用於將一個或更多選自錫 ,鉛和铋所組成之族群的金屬沈積至一金屬表面上,包 括:
    本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210 X 297公釐) — __--------^------1T------.ii (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 322516 Α8 Β8 C8 D8 六、申請專利範圍 式中A和B為相同或不同的_RY基團,其中r為包含最多 12個碳原子之直键,支鏈或環烯基,和γ為氫,鹵素, 氰基,乙烯基,笨基,或醚部分;和 (D )水。 2 2 .根據申請專利範圍第2丨項的無電鍍浸漬水溶液,其亦包 含至少一個選自非離子,陽離子,陰離子或兩性界面活 1性劑所組成之族群的界面活性劑。 23· —種金屬表面,其係藉由使用根據申請專利範圍第1項 S勺無電辕水溶液浸堉電鍍金羼表面而電鍍一個或更多選 自錫,$'πι,祕,烟*鎵和緒所組成之金羼。 24.—種金靥表面,其係藉由使用根據申請專利範圍第21項 的無電鍍浸漬水溶液浸濱電鍍金靥表面而電鍍一個或更 多選自錫’鉛和鉍所組成之金靥。 ---------^-- •· (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 線- 經濟部中央標隼局貝Η.消費合作社印褽 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(2l〇x297公釐)
TW085108025A 1995-11-15 1996-07-02 TW322516B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US08/559,712 US5554211A (en) 1995-11-15 1995-11-15 Aqueous electroless plating solutions

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW322516B true TW322516B (zh) 1997-12-11

Family

ID=24234709

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW085108025A TW322516B (zh) 1995-11-15 1996-07-02

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5554211A (zh)
EP (1) EP0774534B1 (zh)
JP (1) JPH09176863A (zh)
KR (1) KR100394315B1 (zh)
DE (2) DE69607106D1 (zh)
TW (1) TW322516B (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2093486A2 (en) 2008-02-20 2009-08-26 Grand Mate Co., Ltd. Gas flow rate control valve
US9614493B2 (en) 2013-06-10 2017-04-04 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Quartz crystal device and method for fabricating the same

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5928790A (en) * 1996-04-23 1999-07-27 Mcgean-Rohco, Inc. Multilayer circuit boards and processes of making the same
US6331201B1 (en) * 1997-04-28 2001-12-18 Fry's Metals, Inc. Bismuth coating protection for copper
EP0924777A3 (en) * 1997-10-15 1999-07-07 Canon Kabushiki Kaisha A method for the formation of an indium oxide film by electro deposition process or electroless deposition process, a substrate provided with said indium oxide film for a semiconductor element, and a semiconductor element provided with said substrate
US6284309B1 (en) 1997-12-19 2001-09-04 Atotech Deutschland Gmbh Method of producing copper surfaces for improved bonding, compositions used therein and articles made therefrom
US6063172A (en) * 1998-10-13 2000-05-16 Mcgean-Rohco, Inc. Aqueous immersion plating bath and method for plating
US6086779A (en) * 1999-03-01 2000-07-11 Mcgean-Rohco, Inc. Copper etching compositions and method for etching copper
US6806236B2 (en) * 1999-05-13 2004-10-19 Schlumberger Technology Corporation Composition and method for treating a subterranean formation
US6821323B1 (en) * 1999-11-12 2004-11-23 Enthone Inc. Process for the non-galvanic tin plating of copper or copper alloys
US6361823B1 (en) 1999-12-03 2002-03-26 Atotech Deutschland Gmbh Process for whisker-free aqueous electroless tin plating
US6506314B1 (en) 2000-07-27 2003-01-14 Atotech Deutschland Gmbh Adhesion of polymeric materials to metal surfaces
US6551931B1 (en) 2000-11-07 2003-04-22 International Business Machines Corporation Method to selectively cap interconnects with indium or tin bronzes and/or oxides thereof and the interconnect so capped
US7037559B2 (en) * 2003-05-01 2006-05-02 International Business Machines Corporation Immersion plating and plated structures
JP2005060822A (ja) * 2003-08-08 2005-03-10 Rohm & Haas Electronic Materials Llc 複合基体の電気メッキ
DE102004030930A1 (de) * 2004-06-25 2006-02-23 Ormecon Gmbh Zinnbeschichtete Leiterplatten mit geringer Neigung zur Whiskerbildung
DE102004047423C5 (de) * 2004-09-28 2011-04-21 AHC-Oberflächentechnik GmbH & Co. OHG Außenstromlos aufgebrachte Nickellegierung und ihre Verwendung
US7410899B2 (en) * 2005-09-20 2008-08-12 Enthone, Inc. Defectivity and process control of electroless deposition in microelectronics applications
US7507321B2 (en) * 2006-01-06 2009-03-24 Solopower, Inc. Efficient gallium thin film electroplating methods and chemistries
US7892413B2 (en) * 2006-09-27 2011-02-22 Solopower, Inc. Electroplating methods and chemistries for deposition of copper-indium-gallium containing thin films
US20100139557A1 (en) * 2006-10-13 2010-06-10 Solopower, Inc. Reactor to form solar cell absorbers in roll-to-roll fashion
US20090183675A1 (en) * 2006-10-13 2009-07-23 Mustafa Pinarbasi Reactor to form solar cell absorbers
US20080175993A1 (en) * 2006-10-13 2008-07-24 Jalal Ashjaee Reel-to-reel reaction of a precursor film to form solar cell absorber
JP5497261B2 (ja) 2006-12-15 2014-05-21 ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. インジウム組成物
US7868182B2 (en) * 2007-01-12 2011-01-11 Arduengo Iii Anthony J Solventless one-step process for the production of imidazole-2-thiones
US20080176096A1 (en) * 2007-01-22 2008-07-24 Yen-Hang Cheng Solderable layer and a method for manufacturing the same
JP2008260981A (ja) * 2007-04-10 2008-10-30 Yuken Industry Co Ltd めっき液、めっき方法およびめっき皮膜が形成された物品
US8425753B2 (en) * 2008-05-19 2013-04-23 Solopower, Inc. Electroplating methods and chemistries for deposition of copper-indium-gallium containing thin films
US20090145764A1 (en) * 2007-12-11 2009-06-11 Enthone Inc. Composite coatings for whisker reduction
US8226807B2 (en) 2007-12-11 2012-07-24 Enthone Inc. Composite coatings for whisker reduction
US8722609B2 (en) * 2008-04-04 2014-05-13 Ecolab Inc Limescale and soap scum removing composition containing methane sulfonic acid
EP2123799B1 (en) 2008-04-22 2015-04-22 Rohm and Haas Electronic Materials LLC Method of replenishing indium ions in indium electroplating compositions
KR101330878B1 (ko) 2008-05-29 2013-11-18 니혼 파커라이징 가부시키가이샤 비스무트 피막 부착 금속재료 및 그의 제조방법, 그것에 사용하는 표면처리액 및 양이온 전착도장 금속재료 및 그의 제조방법
US20100226629A1 (en) * 2008-07-21 2010-09-09 Solopower, Inc. Roll-to-roll processing and tools for thin film solar cell manufacturing
US8895441B2 (en) 2012-02-24 2014-11-25 Lam Research Corporation Methods and materials for anchoring gapfill metals
US20150221930A1 (en) * 2014-02-03 2015-08-06 Ayyakkannu Manivannan ELECTROLESS DEPOSITION OF Bi, Sb, Si, Sn, AND Co AND THEIR ALLOYS
US10753007B2 (en) 2015-10-06 2020-08-25 Atotech Deutschland Gmbh Process for indium or indium alloy deposition and article
EP3199666B1 (en) 2016-01-29 2018-09-26 ATOTECH Deutschland GmbH Aqueous indium or indium alloy plating bath and process for deposition of indium or an indium alloy
US20180016690A1 (en) 2016-07-18 2018-01-18 Rohm And Haas Electronic Materials Llc Indium electroplating compositions containing 2-imidazolidinethione compounds and methods for electroplating indium
KR20180024765A (ko) * 2016-08-31 2018-03-08 주식회사 호진플라텍 전기도금을 이용한 주석-비스무트-납 삼원합금 솔더 조성물
WO2019125951A1 (en) * 2017-12-18 2019-06-27 New Mexico Tech University Research Park Corporation Tin-indium alloy electroplating solution

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2433395A (en) 1945-01-01 1947-12-30 Standard Oil Co Process for production of oxygenated sulfur compounds
US2433396A (en) 1945-04-28 1947-12-30 Standard Oil Co Process for production of sulfonic acids
US3855085A (en) 1973-06-14 1974-12-17 Du Pont Acid zinc electroplating electrolyte, process and additive
US4871429A (en) * 1981-09-11 1989-10-03 Learonal, Inc Limiting tin sludge formation in tin or tin/lead electroplating solutions
KR890004583B1 (ko) * 1984-06-29 1989-11-16 히다찌가세이고오교 가부시끼가이샤 금속표면 처리공정
US4582576A (en) * 1985-03-26 1986-04-15 Mcgean-Rohco, Inc. Plating bath and method for electroplating tin and/or lead
US4715894A (en) * 1985-08-29 1987-12-29 Techno Instruments Investments 1983 Ltd. Use of immersion tin and tin alloys as a bonding medium for multilayer circuits
US4657632A (en) * 1985-08-29 1987-04-14 Techno Instruments Investments 1983 Ltd. Use of immersion tin coating as etch resist
US5039576A (en) * 1989-05-22 1991-08-13 Atochem North America, Inc. Electrodeposited eutectic tin-bismuth alloy on a conductive substrate
US5160422A (en) * 1989-05-29 1992-11-03 Shimizu Co., Ltd. Bath for immersion plating tin-lead alloys
JP3180918B2 (ja) * 1991-03-12 2001-07-03 石原薬品株式会社 無電解錫及び無電解錫−鉛合金メッキ浴
US5266103A (en) * 1991-07-04 1993-11-30 C. Uyemura & Co., Ltd. Bath and method for the electroless plating of tin and tin-lead alloy
US5196053A (en) * 1991-11-27 1993-03-23 Mcgean-Rohco, Inc. Complexing agent for displacement tin plating
US5391402A (en) * 1993-12-03 1995-02-21 Motorola Immersion plating of tin-bismuth solder

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2093486A2 (en) 2008-02-20 2009-08-26 Grand Mate Co., Ltd. Gas flow rate control valve
US9614493B2 (en) 2013-06-10 2017-04-04 Nihon Dempa Kogyo Co., Ltd. Quartz crystal device and method for fabricating the same
TWI583033B (zh) * 2013-06-10 2017-05-11 日本電波工業股份有限公司 晶體器件以及晶體器件的製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0774534B1 (en) 2000-03-15
DE69607106T4 (de) 2002-03-14
DE69607106T2 (de) 2000-08-10
EP0774534A1 (en) 1997-05-21
JPH09176863A (ja) 1997-07-08
US5554211A (en) 1996-09-10
KR970027362A (ko) 1997-06-24
DE69607106D1 (de) 2000-04-20
KR100394315B1 (ko) 2003-10-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW322516B (zh)
US4582576A (en) Plating bath and method for electroplating tin and/or lead
KR880001664B1 (ko) 비촉매성 금속기질의 촉매화방법
US6361823B1 (en) Process for whisker-free aqueous electroless tin plating
JP4603812B2 (ja) 改良されたスズめっき方法
KR100636995B1 (ko) 주석-구리 합금 전기도금 욕 및 그것을 사용하는 도금방법
TW211588B (zh)
TWI441945B (zh) Ni-P層系統及其製備方法
TWI328621B (en) Tin electroplating solution and tin electroplating method
JP2009114548A (ja) スズめっき
US20040118696A1 (en) Tin plating method
US6555170B2 (en) Pre-plate treating system
CA2060121A1 (en) Zincate solutions for treatment of aluminum and aluminum alloys
CN102191522A (zh) 电镀预处理剂、用于电镀的预处理方法以及电镀方法
US5147454A (en) Electrolessly solder plating composition
KR101736211B1 (ko) 알루미늄 및 알루미늄 합금과의 접합특성이 우수한 안테나용 접촉 단자 박막 시트의 제조 및 처리방법
TW573071B (en) Tin-copper alloy composition deposited on substrate and plating method for the same
ES2305035T3 (es) Procedimiento de produccion de capas conductoras sobre superficies dielectricas.
JPH08311663A (ja) ニッケル被膜またはニッケル合金被膜の剥離液
EP0375179A2 (en) Copper plating process for difficult to plate metals
JPH0247311B2 (zh)
JPH0319310B2 (zh)
TW555892B (en) Method of electroplating a substrate
JP3984082B2 (ja) 電気銅めっき用の前処理洗浄剤
SE2150946A1 (en) Compositions, methods and preparations of cyanide-free copper solutions, suitable for electroplating of copper deposits and alloys thereof

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees