SK281582B6 - Alkylbisacylfosfínoxidové zmesi - Google Patents
Alkylbisacylfosfínoxidové zmesi Download PDFInfo
- Publication number
- SK281582B6 SK281582B6 SK1371-99A SK137199A SK281582B6 SK 281582 B6 SK281582 B6 SK 281582B6 SK 137199 A SK137199 A SK 137199A SK 281582 B6 SK281582 B6 SK 281582B6
- Authority
- SK
- Slovakia
- Prior art keywords
- formula
- group
- compound
- alkyl
- carbon atoms
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 61
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims abstract description 3
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 26
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 15
- -1 2,4,4-trimethyl-l-pentyl Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxyphenol Chemical group COC1=CC=CC(OC)=C1O KLIDCXVFHGNTTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 claims description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 22
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 15
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 238000004383 yellowing Methods 0.000 description 10
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 9
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 9
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 8
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 8
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 8
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 8
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical class [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 5
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 4
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 4
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 4
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 3
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 3
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- UKRQMDIFLKHCRO-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trimethylbenzoyl chloride Chemical compound CC1=CC(C)=C(C(Cl)=O)C(C)=C1 UKRQMDIFLKHCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N N-Butyllithium Chemical compound [Li]CCCC MZRVEZGGRBJDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLIJPAHLBJIQHE-UHFFFAOYSA-N butylphosphane Chemical compound CCCCP DLIJPAHLBJIQHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 125000006612 decyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 2
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L sodium carbonate Substances [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- NSKMPZSNWLIAFB-UHFFFAOYSA-N (2,6-dichlorobenzoyl)phosphanyl-(2,6-dichlorophenyl)methanone Chemical compound ClC1=C(C(=O)PC(C2=C(C=CC=C2Cl)Cl)=O)C(=CC=C1)Cl NSKMPZSNWLIAFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NDXRPDJVAUCBOH-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethoxybenzoyl chloride Chemical compound COC1=CC=CC(OC)=C1C(Cl)=O NDXRPDJVAUCBOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFLAYISSADVCJH-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylbenzoyl chloride Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C(Cl)=O CFLAYISSADVCJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.CCC(CO)(CO)CO GTELLNMUWNJXMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBIZRLVIDXDGB-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropylphosphane Chemical compound CC(C)CP TXBIZRLVIDXDGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRLSTWVLSWCGBT-UHFFFAOYSA-N 4-((4,6-bis(octylthio)-1,3,5-triazin-2-yl)amino)-2,6-di-tert-butylphenol Chemical compound CCCCCCCCSC1=NC(SCCCCCCCC)=NC(NC=2C=C(C(O)=C(C=2)C(C)(C)C)C(C)(C)C)=N1 QRLSTWVLSWCGBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004939 Cariflex™ Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N Perchloroethylene Chemical group ClC(Cl)=C(Cl)Cl CYTYCFOTNPOANT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDPYUIXYWUBGFF-UHFFFAOYSA-N [2-methylpropyl-(2,4,6-trimethylbenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound CC=1C=C(C)C=C(C)C=1C(=O)P(=O)(CC(C)C)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C FDPYUIXYWUBGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXPDKFWWDLXDPH-UHFFFAOYSA-N [butyl-(2,6-dimethoxybenzoyl)phosphoryl]-(2,4,6-trimethylphenyl)methanone Chemical compound COC=1C=CC=C(OC)C=1C(=O)P(=O)(CCCC)C(=O)C1=C(C)C=C(C)C=C1C WXPDKFWWDLXDPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNDJLTOOWBUHAP-UHFFFAOYSA-N [butyl-(2,6-dimethoxybenzoyl)phosphoryl]-(2,6-dimethoxyphenyl)methanone Chemical compound COC=1C=CC=C(OC)C=1C(=O)P(=O)(CCCC)C(=O)C1=C(OC)C=CC=C1OC VNDJLTOOWBUHAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 150000003926 acrylamides Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N benzoyl chloride Chemical class ClC(=O)C1=CC=CC=C1 PASDCCFISLVPSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- 125000005805 dimethoxy phenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005446 heptyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003707 hexyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 238000007644 letterpress printing Methods 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- 125000006611 nonyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005447 octyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 229950011008 tetrachloroethylene Drugs 0.000 description 1
- 238000004402 ultra-violet photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 229920006337 unsaturated polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
- G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
- C07F9/02—Phosphorus compounds
- C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
- C07F9/50—Organo-phosphines
- C07F9/53—Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
- C07F9/5337—Phosphine oxides or thioxides containing the structure -C(=X)-P(=X) or NC-P(=X) (X = O, S, Se)
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D4/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J4/00—Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/1053—Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
- Y10S430/1055—Radiation sensitive composition or product or process of making
- Y10S430/114—Initiator containing
- Y10S430/126—Halogen compound containing
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Polymerisation Methods In General (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
Alkylbisacylfosfínoxidové zmesi podľa vynálezu, ktoré obsahujú a) aspoň jednu etylenicky nenasýtenú fotopolymerizovateľnú zlúčeninu a b) ako fotoiniciátor aspoň jednu zlúčeninu všeobecného vzorca (I) a ako dodatkový fotoiniciátor aspoň jednu zlúčeninu všeobecného vzorca (II), a/alebo zlúčeninu všeobecného vzorca (III), a/alebo alfa-hydroxyketónový fotoiniciátor, a/alebo prísadu.ŕ
Description
Oblasť techniky
Vynález sa týka alkylbisacylfosfinoxidových zmesí. Prihláška vynálezu je vylúčená z pôvodne podanej prihlášky vynálezu zn. spisu PV 2905-92.
Doterajší stav techniky
Mono- a bisacylfosfmoxidy sú ako fotoiniciátory známe. V EP-A-184 095 (= US 4,737,593 a US 4,792,632) sú bisacylfosflnoxidy opísané vgenerickej forme. Opísané zlúčeniny obsahujú napr. alkylové, cykloalkylové, fenylové, naftylové, bifenylylové alebo heterocyklické substituenty na karbonylovej skupine a zodpovedajúce substituenty na P=O skupine. Skutočne zverejnených je však len niekoľko aryl-bisacylfosfinoxidov a iba jediná alkyl-bisacylfosfínoxidová zlúčenina, t. j. bis(2,6-dichlórbenzoyl)-decyl-fosfínoxid. Zlúčeniny opísané v EP-A-184 095 sa používajú v dentálnych hmotách. Tiež v EP-A-262 629 boli opísané bisacylfosfmoxidové zlúčeniny v generickej forme v rovnakom rozsahu ako v EP-A-184 095. Žiadna jednotlivá alkyl-bisacylfosfínoxidová zlúčenina tu nie je špecificky zverejnená. Opísané zlúčeniny sa použili v pripravených vodno-alkalických zmesiach na výrobu tlačiarenských platní a reliéfových foriem. Ďalšie mono- a bisacylfosfinoxidové fotoiniciátory sú v širšej generickej forme zverejnené v EP-A-413 657. Konkrétne sú opísané len niektoré arylbisacylfosfínoxidy a cykloalkylbisacylfosfinoxidy.
Pre širokú oblasť použitia fotoiniciátorov je ďalšia potreba účinných, dobre vyrobiteľných fotoiniciátorov.
Podstata vynálezu
Teraz bolo zistené, že určité bisacylfosfmoxidové zlúčeniny s alkylovými zvyškami viazanými na fosfor sú účinné fotoiniciátory.
Predmetom vynálezu sú bisacylfosfinoxidové zmesi, ktoré obsahujú aspoň jednu etylenicky nenasýtenú fotopolymerizovateľnú zlúčeninu a ako fotoiniciátor aspoň jednu zlúčeninu všeobecného vzorca (I) v ktorom
R1 predstavuje alkylovú skupinu s 1 až 18 atómami uhlíka, cyklopentylovú skupinu alebo cyklohexylovú skupinu a
R2 a R3 predstavujú nezávisle od seba fenylovú skupinu, ktorá nie je substituovaná alebo je jeden až štyrikrát substituovaná alkylovou skupinou s 1 až 4 atómami uhlíka a/alebo alkoxy skupinou s 1 až 4 atómami uhlíka a ako dodatkový fotoiniciátor aspoň jednu zlúčeninu všeobecného vzorca (II) /=\_í? ŕ, R_V/~c“irR (’· kde
R4 predstavuje atóm vodíka, alkylovú skupinu s 1 až 18 atómami uhlíka, alkoxy skupinu s 1 až 18 atómami uhlíka, skupinu vzorca -OCH2CH2-R8, skupinu vzorca
CH, Γ Ύ
H,C—c— aleb0 -c-f--I
- G J n kde n má hodnotu od 2 do 10 a
G predstavuje skupinu vzorca
YAjí T * '---' r·
R5 a R6 predstavujú nezávisle od seba atóm vodíka, alkylovú skupinu s 1 až 6 atómami uhlíka, fenylovú skupinu, alkoxy skupinu s 1 až 16 atómami uhlíka alebo skupinu vzorca -O(CH2CH2O)m-Ci-C16-alkyl, kde m predstavuje číslo od 1 do 20, alebo
R5 a R6 predstavujú spolu s atómom uhlíka, na ktorý sú viazané, cyklohexylový kruh,
R7 prestavuje hydroxy skupinu, alkoxy skupinu s 1 až 16 atómami uhlíka alebo skupinu vzorca -O(CH2CH2O)ra-Ci-C16-alkyl, kde m predstavuje číslo od 1 do 20, pričom R5, R6 a R7 nemôžu súčasne všetky predstavovať alkoxy skupinu s 1 až 16 atómami uhlíka alebo skupinu vzorca -O(CH2CH2O)m- CrC16-alkyl, kde m má uvedený význam a R8 predstavuje atóm vodíka, skupinu vzorca n ϊ T’ —C-C=CH, alebo —c—c=ch, a/alebo zlúčeniny všeobecného vzorca (III)
v ktorom
R9, R10 a R11 predstavujú nezávisle od seba atóm vodika alebo metylovú skupinu,
R4 ako alkylová skupina s 1 až 18 atómami uhlíka môže mať rovnaký význam, ako je opísaný pre R1. Tiež R5 a R6 ako alkylová skupina s 1 až 6 atómami uhlíka a R7 ako alkylová skupina s 1 až 4 atómami uhlíka môžu mať rovnaké významy, ako sú opísané pre R1, až do práve uvedeného počtu atómov uhlíka.
R4 ako alkoxy skupina s 1 až 18 atómami uhlíka znamená napríklad rozvetvenú alebo nerozvetvenú alkoxy skupinu, ako je metoxy skupina, etoxy skupina, n-propoxy skupina, izopropoxy skupina, n-butoxy skupina, izobutoxy skupina, sek.-butoxy skupina, tere.-butoxy skupina, pentyloxy skupina, hexyloxy skupina, heptyloxy skupina, oktyloxy skupina, 2,4,4-trimetyl-l-pentyloxy skupina, 2-etylhexyloxy skupina, nonyloxy skupina, decyloxy skupina, dodecyloxy skupina alelrn oktadecyloxy skupina.
R5, R6 a R7 ako alkoxy skupiny obsahujúce s 1 až 16 atómov uhlíka môžu mať rovnaké významy, ako sú opísané pre R4 až do zodpovedajúceho počtu atómov uhlíka. Výhodne znamenajú napríklad decyloxy skupinu, metoxy skupinu a etoxy skupinu, predovšetkým metoxy skupinu a etoxy skupinu.
Zvyšok vzorca -O(CH2CH2O)m-alk, kde alk predstavuje alkylovú skupinu s 1 až 16 atómami uhlíka, predstavuje 1 až 20 za sebou nasledujúcich jednotiek odvodených od etylénoxidu, ktorých reťazec je ukončený alkylovou skupinou s 1 až 16 atómami uhlíka. Symbol m výhodne znamená 1 až 10, napríklad 1 až 8, predovšetkým 1 až 6. Výhodne je reťazec tvorený jednotkami odvodenými od etylénoxidu ukončený alkylovou skupinou obsahujúcou 1 až 10, napríklad 1 až 8, predovšetkým 1 až 4 atómy uhlíka.
Výhodné sú zmesi, kde v zlúčenine všeobecného vzorca (II) R5 a R6 predstavujú nezávisle od seba alkylovú skupinu s 1 až 6 atómami uhlíka alebo tvoria spolu s atómom uhlíka, na ktorý sú viazané, cyklohexylový kruh a R7 predstavuje hydroxy skupinu.
Ďalšie výhodné sú také zmesi, v ktorých podiel zlúčenín vzorca (I) v zmesi so zlúčeninami všeobecného vzorca
SK 281582 Β6 (II) a/alebo zlúčeninami všeobecného vzorca (III) sa rovná od 5 do 95 % hmotnostných, výhodne od 30 do 70 % hmotnostných.
Dôležité sú také zmesi, v ktorých v zlúčenine všeobecného vzorca (I) R1 predstavuje n-butylovú skupinu, izobutylovú skupinu alebo 2,4,4,-trimetyl-l-pentylovú skupinu, R2 a R3 sú rovnaké a predstavujú 2,6-dimetoxyfenylovú skupinu alebo 2,4,6-trimetylfenylovú skupinu a v zlúčenine všeobecného vzorca (II) R5 a R6 sú rovnaké a predstavujú metylovú skupinu a R7 predstavuje hydroxy skupinu alebo izopropoxy skupinu.
Zmes podľa vynálezu výhodne obsahuje zlúčeninu všeobecného vzorca (I), v ktorej R1 predstavuje n-butylovú skupinu, izobutylovú skupinu alebo 2,4,4-trimetyl-l-pentylovú skupinu a R2 a R3 sú rovnaké a predstavujú 2,6-dimetoxyfenylovú skupinu alebo 2,4,6-trimetylfenylovú skupinu a zmes zlúčenín všeobecného vzorca (III), v ktorq zlúčeniny všeobecného vzorca (III) s R9 a R10, rovnakého významu, predstavujú atóm vodíka a R11 predstavuje metylovú skupinu, sú obsiahnuté v množstve až do 20 % a zlúčeniny všeobecného vzorca (III) s R9, R10 a R11 predstavujúcimi vždy metylovú skupinu, sú obsiahnuté v množstve až do 80 %.
Predmetom vynálezu sú ďalej také zmesi, ktoré obsahujú
a) aspoň jednu etylenicky nenasýtenú fotopolymerizovateľnú zlúčeninu a
b) ako fotoiniciátor aspoň jednu zlúčeninu všeobecného vzorca (I), v ktorom R1, R2 a R3 majú uvedený význam a okrem komponentu (b) ešte α-hydroxyketónový fotoiniciátor a/alebo prísadu.
Zaujímavé zo všetkých prípadov sú opísané zmesi, ktoré obsahujú zmesi fotoiniciátorov tvorených zlúčeninami všeobecného vzorca (I), všeobecného vzorca (II) a/alebo všeobecného vzorca (III), ktoré sú pri laboratórnej teplote kvapalné.
Spôsob výroby zlúčenín všeobecného vzorca (II) a (VII) je všeobecne známy a časť zlúčenín je dostupná na trhu. Spôsob výroby oligomémych zlúčenín všeobecného vzorca (II) je napríklad opísaný v európskom patente č. 0 161 463A. Opis výroby zlúčenín všeobecného vzorca (III) možno získať napríklad z európskeho patentu č. 209 831A.
Príklady uskutočnenia vynálezu
Nasledujúce príklady ďalej ozrejmujú vynález. Údaje v dieloch alebo percentách sa vzťahujú na hmotnosť, pokiaľ nie je uvedené inak, a to sa týka tiež zostávajúceho opisu a patentových nárokov. V tabuľkách sa uvádzajú skratky „vyp“ pre vypočítané hodnoty elementárnej analýzy. Skratka „náj“ sa v tabuľkách uvádza pre skutočne stanovené hodnoty elementárnej analýzy.
Príklad 1
Spôsob výroby bis-(2,4,6-trimetylbenzoyl)izobutylfosfmoxidu
Do roztoku 31,9 ml (0,225 mol) diizopropylamínu v 80 ml tetrahydrofuránu sa pod dusíkovou atmosférou nakvapká počas 30 minút 140,6 g (0,225 mol, 1,6 molámeho) butyllítia pri teplote 0 °C. Získaný roztok sa počas 90 minút pri teplote -30 °C nakvapká do roztoku 41,1 g (0,225 mol)
2,4,6-trimetylbcnzoylchloridu a 12 ml (0,102 mol) izobutylfosflnu v 200 ml tetrahydrofuránu. Po 2 hodinách miešania pri teplote -30 °C sa nechá žltý roztok ohriať na laboratórnu teplotu a jedenkrát sa premyje vodou. Organická fáza sa vysuší síranom horečnatým, filtruje a odparí na rotačnej odparke. Odparok sa rozpustí v 200 ml toluénu a uvedie do styku s 11,6 g (0,102 mol) 30 % peroxidu vodíka. Po dvojhodinovom miešaní sa uskutoční prepranie vodou a potom nasýteným roztokom hydrogenuhličitanu sodného. Reakčná zmes sa potom vysuší síranom horečnatým, odfiltruje a roztok sa odparí na rotačnej odparke. Po kryštalizácii z hexánu sa získa 24,8 g vyššie pomenovanej zlúčeniny, ktorú tvorí žltý prášok, ktorého teplota topenia je 85 až 86 °C. Výťažok zodpovedá 68,5 % teórie. Elementárna analýzy: vypočítané: 72,34 % C, 7,84 % H, nájdené: 72,13 % C, 7,94 % H.
Príklad 2
Spôsob výroby bis-(2,6-dimetoxybenzoyl)-n-butylfosfinoxidu
Do roztoku 44,1 g (0,22 mol) 2,6-dimetoxybenzoylchloridu v 200 ml toluénu sa pri teplote 100 až 110 °C nakvapká počas 60 minút zmes 18 g (0,10 mol, 50 % v toluéne) n-butylfosfinu a 30,7 ml (0,22 mol) trietylamínu. Po šesť hodinovom miešaní pri teplote 100 až 110 °C sa vzniknutá suspenzia ochladí na laboratórnu teplotu, zriedi toluénom a premyje najskôr jedenkrát vodou a potom jedenkrát nasýteným roztokom hydrogenuhličitanu sodného. Organická fáza sa uvedie do styku s 11,3 g (0,10 mol) 30 % peroxidu vodíka a mieša pri teplote 40 °C počas 2 hodín. Reakčná zmes.sa potom postupne premyje vodou a nasýteným roztokom hydrogenuhličitanu sodného, vysuší síranom horečnatým, filtruje a odparí na rotačnej odparke. Po kryštalizácii z etylacetátu sa získa 30,2 g zlúčeniny pomenovanej v nadpise, ktorú tvorí žltý prášok, ktorého teplota topenia je 151 až 152 °C. Výťažok zodpovedá 69,6 % teórie. Elementárna analýza: vypočítané; 60,83 % C, 6,26 % H, nájdené: 60,84 % C, 6,35 % H.
Príklady 3 až 25
Zlúčeniny z príkladov 3 až 25 sa vyrobia analogickým spôsobom ako zlúčenina z príkladu 1 (= metóda A) alebo ako zlúčenina z príkladu 2 (= metóda B), pri použití zodpovedajúceho substituovaného benzoylchloridu a fosílnu. Zlúčeniny a ich analytické údaje sú zhromaždené v tabuľke 1.
Tabuľka 1
| Pr. | Ri | Rr | Rr | R. | Teplota topenia (°C) | Spôsob syntézy | Elementárna analýza | vyp. zis. |
| 3 | C4H, | CHj | CHj | CHj | 58 | A | C 72,34 72,08 | H 7,84 8,01 |
| 4 | CH(CH,)C2H5 | CHj | CHj | CHj | 115 | A | C 72,34 72,23 | H 7,84 7,93 |
| 5 | C(CHs)3 | CHj | CHj | CH, | 160 | A | C 72,34 72,21 | H 7,84 8,06 |
SK 281582 Β6
| 6 | cyklohexyl | ch3 | CH, | CH, | 140 | A | C | 73,56 73,39 | H | 7,84 8,06 |
| 7 | CbH|7 | ch3 | CH, | CH, | živica | A | C | 73,98 73,83 | H | 8,65 8,89 |
| 8 | CH2CH(CH,)CH2C(CH,), | ch3 | CH, | CH, | živica | A | C | 73,98 73,97 | H | 8,65 8,98 |
| 9 | CH2CH(CH3)2 | och3 | OCH, | H | 183 | B | C | 60,83 60,70 | H | 636 6,09 |
| 10 | CH(CH,)C2H3 | och3 | OCH, | H | 159 | B | c | 60,83 60,75 | H | 636 6,24 |
| 11 | C(CH3)3 | OCH, | OCH, | H | 235 | B | c | 60,83 60,00 | H | 6/26 6,17 |
| 12 | cyklohexyl | OCH, | OCH, | H | 165 | B | c | 62,60 62,40 | H | 635 6,39 |
| 13 | c8hI7 | OCH, | OCH, | H | 118 | B | c | 63,66 63,36 | H | 7,19 732 |
| 14 | CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3 | OCH, | OCH, | H | 118 | B | c | 63,06 63,60 | H | 7,19 7,04 |
| 15 | CH(CH3)C2H5 | OC2H3 | OC2H3 | H | živica | B | c | 63,66 62,47 | H | 7,19 7,33 |
| 16 | CH2CH(CH3)2 | oc2h5 | oc2h3 | H | 110 | B | c | 63,66 63,54 | H | 7,19 7,02 |
| 17 | CH2CH(CH3)2 | oc4h9 | oc4h, | H | 70 | B | c | 67,75 67,35 | H | 8,53 8,49 |
| 18 | CH2CH(CH3)2 | CH, | CH, | H | 54 | A | c | 71,33 71,32 | H | 7,35 7,54 |
| 19 | CH2CH(CH,)2 | CH, | OCH, | OCH, | 161 | B | c | 62,33 62,23 | H | 6,76 6,76 |
| 20 | CH2CH(CH3)2 | OCH, | H | H | 175 | B | c | 62,33 6239 | H | 6,76 6,86 |
| 21 | CH(CH,)C2H3 | OCH, | H | H | 153 | B | c | 62,33 62,10 | H | 6,76 6,70 |
| 22 | CH3CH(CH3)2 | Cl | Cl | H | 153 | B | c | 47,82 47,74 | H | 3,34 335 |
| 23 | CH(CH3)C2Hs | Cl | Cl | H | 136 | B | c | 47,82 47,41 | H | 334 3,53 |
| 24 | cyklohexyl | Cl | Cl | H | 182 | B | c | 50,24 50,56 | H | 3,58 3,90 |
| 25 | c8h17 | Cl | Cl | H | 100 | B | c | 51,99 51,87 | H | 4,56 4,63 |
| 26 | CH2CH(CH3)2 | OCH, | OCH2CH, | H | 174-175 | B | c | 62,33 62,29 | H | 636 6,86 |
| 27 | CH(CH3)C2Hs | OCH, | OCH2CH, | H | 152-153 | B | c | 62,33 62,10 | H | 6,76 6,70 |
| 28 | CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3 | CH, | CH, | H | živica | A | c | 73,21 73,15 | H | 837 8,47 |
| 29 | c4h, | CH, | CH, | OC4H, | olej | A | c | 70,02 69,93 | H | 8,42 8,65 |
| 30 | c4h, | CH, | CH, | OCH, | olej | A | c | 66,96 67,01 | H | 736 7,32 |
| 31 | c4h, | CH, | CH2CH, | OCH, | olej | A | c | 68,11 68,09 | H | 7,69 7,76 |
| 32 | c4h, | CH, | CHjCHíCH, | OCH, | olej | A | c | 69,12 68,73 | H | 8,08 8,18 |
| 33 | C.H, | CH, | OC4H, | OC4H, | 68-69 | B | c | 68,55 68,21 | H | 8.79 8.80 |
| 34 | CH2CH(CH3)CH2C(CH3)3 | CH, | oc4h, | oc4h, | olej | B | c | 69,94 69,37 | H | 934 930 |
| 35 | c4ii, | Cl | Cl | H | 151-153 | B | c | 47,82 47,85 | H | 334 335 |
| 36 | C(CH3)3 | Cl | Cl | H | 209-213 | B | c | 47.82 47.83 | H | 334 2,92 |
| 37 | CH2CH(CH,)CH2C(CH,), | Cl | Cl | H | 127 -128 | B | c | 51,99 51,75 | H | 4,56 4,53 |
| 38 | Ci8H37 | OCH, | OCH, | H | 84 | B | c | 68,55 68,20 | H | 8,79 8,83 |
Príklad 39
Spôsob výroby 2,6-dimetoxybenzoyl-2,4,6-trimetylbenzoyl-n-butylfosfinoxidu
Do roztoku 9,1 g (0,05 mol) 2,4,6-trimetylbenzoylchloridu v 100 ml toluénu sa nakvapká pod dusíkovou atmosférou pri teplote 100 až 110 °C zmes 9,0 g (0,05 mol, 50 % v toluéne) n-butylfosflnu a 10,1 ml (0,10 mol) trietylamínu počas 10 minút. Po trojhodinovom miešaní pri teplote 100 až 110 °C sa pri nezmenenej teplote počas 30 minút nakvapká roztok 10 g ((0,05 mol) 2,6-dimetylbenzoylchloridu v 50 ml toluénu. Po ďalšom päť hodinovom miešaní pri teplote 100 až 110 °C sa vzniknutá žltkavá suspenzia nechá
SK 281582 Β6 ochladiť na laboratórnu teplotu a premyje jedenkrát vodou a jedenkrát nasýteným roztokom hydrogénuhličitanu sodného. Organická fáza sa uvedie do styku s 5,7 g (0,05 mol) 30 % peroxidu vodíka a mieša pri teplote 60 °C počas 2 hodín. Reakčná zmes sa potom postupne premyje vodou a nasýteným roztokom hydrogénuhličitanu sodného, vysuší síranom horečnatým, filtruje a odparí na rotačnej odparke. Po chromatografickom prečistení (elučné činidlo: zmes hexánu a etylacetátu v pomere 1 : 1) a nasledujúcej kryštalizácii z cyklohexánu sa získa 1,80 g zlúčeniny pomenovanej v nadpise, ktorú tvorí žltý prášok, ktorého teplota topenia je 94 až 96 °C. Výťažok zodpovedá 8,7 % teórie. Elementárna analýza:
vypočítané: 66,33 % C, 7,02 % H, nájdené: 65,61 % C, 7,04 % H.
Príklad 40 Reaktivita fotoiniciátorov v bielom laku
Fotoiniciátory v koncentrácii 0,5 a 1 % hmotn. sa zapracujú do formulácie bieleho laku, ktorá pozostáva z:
67.5 dielov REbecryl 830 (polyesterakrylát firmy UCB, Belgicko),
5,0 dielov hexándioldiakrylátu,
2.5 dielov trimetylolpropántriakrylátu a
25,0 dielov oxidu titaničitého (R-TC2) typu rútil.
Skúšobná vzorka sa nanesie pomocou 100 pm štrbinového stierača na upinaciu dosku a vytvrdí pôsobením stredne tlakového ortuťového žiariča (80 W, typ Hanovia) pri rýchlosti pásky 10 m/min. Určí sa počet priechodov až do dosiahnutia odolnosti proti stieraniu. Pri takto vytvrdenej vrstve bieleho laku sa hneď po vytvrdení meria tvrdosť zisťovaná kladivovým prístrojom podľa Kóniga (podľa nemeckej formy DIN 53 157). Potom sa vzorka ďalej ožaruje pod štyrmi 40 W zdrojmi žiarenia (Philips TL 03) a po 15 minútach alebo 16 hodinách sa znova určí tvrdosť zisťovaná kladivovým prístrojom. Index žltnutia sa určí podľa americkej normy ASTM D 1925-70 po 16 hodinách.
Tvrdosť zisťovaná kladivovým prístrojom a odolnosť proti stieraniu sú mierkou reaktivity testovaného fotoiniciátora. Čím menší je počet priechodov na dosiahnutie odolnosti proti stieraniu a čím sa zmeria vyššia hodnota tvrdosti stanovená kladivovým prístrojom, tým reaktívnejší je vytvrdzovací prostriedok. Mierkou žltnutia je hodnota indexu žltnutia. Čím menšia je táto hodnota, tým menšie je žltnutie testovanej formulácie.
Výsledky merania sú zhrnuté v nižšie uvedenej tabuľke 2.
Tabuľka 2
| Zlúč, zpr. | Koncen. (% hmotn.) | Počet priechodov (10 m/min.) | Tvrdosť * | Index žltnutia po 16 hoď | ||
| hneď | PO 15 min. | P» 16 hod. | ||||
| 4 | 0,5 | 5 | 165 | 179 | 185 | 1,2 |
| 1,0 | 3 | 164 | 182 | 197 | 1,2 | |
| 7 | 0,5 | 6 | 164 | 169 | 178 | 1,1 |
| 1,0 | 4 | 178 | 184 | 199 | 1,2 | |
| 13 | 0,5 | 6 | 157 | 160 | 174 | 1,4 |
| 1,0 | 4 | 158 | 172 | 186 | 1,6 |
*) Tvrdosť zisťovaná kladivovým prístrojom
Príklad 41
Reaktivita fotoiniciátorov v bielom laku
Biely lak sa pripraví zo 75 dielov formulácie, ktorá pozostáva z 99,5 % Roskydal UV 502A (firma Bayer, SRN), 0,5 % Byk 300 (Byk-Mallinckrodt) a 25 dielov oxidu titaničitého. Do tohto bieleho laku sa zapracuje fotoiniciátor v nižšie uvedenej koncentrácii pretrepanim s guľôčkami (pri koncentrácii 2 % hmotn. fotoiniciátorov) alebo miešaním pri teplote 50 °C (pri koncentrácii 1,5 % hmotn. fotoiniciátora). Potom sa formulácia so 150 pm štrbinovým stieračom nanesie na upinaciu dosku a podrobí predbežnému ožarovaniu počas 90 sekúnd pod štyrmi 40 W zdrojmi žiarenia (Philips TL 03). Ďalšie vytvrdzovanie sa uskutočňuje dvomi variantmi ožarovania:
a) Skúšobná vzorka sa ožaruje pri rýchlosti pásky 10 m/min. dvakrát pod stredne tlakovým ortuťovým žiaričom (80 W/cm, typ Hanovia).
b) Skúšobná vzorka sa vytvrdzuje pri rýchlosti pásky 3 m/min. dvakrát pod zdrojom žiarenia 120 W/cm Fusion D a stredne tlakovým ortuťovým žiaričom (80 W/cm, typ Hanovia), ktoré sú usporiadané za sebou.
Pri vytvrdenej vrstve sa zmeria tvrdosť zisťovaná kladivovým prístrojom podľa Kôniga (DIN 53 157) hneď, po 15 minútach a po 16 hodinách ďalšieho ožarovania pod zdrojom žiarenia 40 W (Philips TL 03). Čím vyššia hodnota, tým lepšie je formulácia vytvrdená. Žltnutie (index žltnutia, YI) vrstiev sa stanoví po dodatočnom ožarovaní počas 16 hodin podľa normy ASTM D 1925-70. Čim nižšia hodnota, tým menšia je žltnutie vrstvy. Výsledky ožarovania podľa variantu a) sú uvedené v tabuľke 3. Výsledky ožarovania podľa variantu b) sú uvedené v tabuľke 4.
Tabuľka 3
Ožarovanie podľa variantu a)
| Zlúčenina z príkladu | Koncentrácia (% hmotn.) | Tvrdosť *) | Index žltnutia po 16 hoď | ||
| hneď | po 15 min. | P® 16 hoď | |||
| 4 | 1,5 | 108 | 130 | 179 | 1,0 |
| 2,0 | 115 | 147 | 179 | 1,0 | |
| 6 | 1,5 | 113 | 130 | 182 | 0,8 |
| 2,0 | 120 | 154 | 188 | 1,0 |
*) Tvrdosť zisťovaná kladivovým prístrojom
Tabuľka 4
Ožarovanie podľa variantu b)
| Zlúčenina z príkladu | Koncentrácia (% hmotn.) | Tvrdosť *) | Index žltnutia po 16 hoď | ||
| hneď | PO 15 min. | po 16 hoď | |||
| 4 | 1,5 | 150 | 153 | 179 | 1,1 |
| 2,0 | 160 | 165 | 167 | 1,1 | |
| 6 | 1,5 | 151 | 158 | 181 | 1,8 |
| 2,0 | 165 | 170 | 176 | 1,1 |
*) Tvrdosť zisťovaná kladivovým prístrojom
Príklad 42
Reaktivita fotoiniciátorov v bielom laku
Fotopolymerizačná zmes sa pripravi z týchto zložiek:
13,5 dielov REbecryl 830 (polyesterakrylát firmy UCB, Belgicko),
0,5 dielov trimetylolpropántrisakrylátu (Degussa),
1,0 diel 1,6-hexándioldiakrylátu (Rohm) a
5,0 dielov oxidu titaničitého (rR-TC2 firmy Tioxide, Francúzsko) typu rútil.
Do tejto zmesi sa primieša zmes fotoiniciátorov z príkladu 14(A) s 1-benzoyl-l-hydroxy-1-metyletánom (B) v množstve zrejmom z tabuľky 5. Formulácia sa nanesie vo vrstve s hrúbkou 100 pm na hliníkový plech, a takto získaná vzorka sa ožaruje stredne tlakovým ortuťovým žiaričom (80 W/cm, typ Hanovia). Pritom sa skúšobná vzorka vedie tak často pod zväzkom zdrojov žiarenia, ktorý sa pohybuje rýchlosťou 10 m/min., až sa dosiahne odolnosť proti zotreniu lakovej vrstvy. Čím menší je počet priechodov (n),
SK 281582 Β6 tým lepši je účinok testovaného fotoiniciátora alebo zmesi fotoiniciátorov. Žltnutie skúšobnej vzorky sa stanovuje ako index žltnutia podľa normy ASTM D 1925-70. Čím menšia je hodnota, tým menšie je žltnutie skúšobnej vzorky. Žltnutie sa meria hneď po vytvrdení, po dodatočnom ožarovaní počas 15 minút a 16 hodín pod 4 zdrojmi typu TL 40/03 (40 W, Philips). Výsledky sú zhrnuté do tabulky 5.
Tabuľka 5
| Zlúčenina | Koncentrácia (% hmotn.) | Počet priechodov (10 m/min.) | Index žltnutia | ||
| hneď | po 15 min. | po 16 hod. | |||
| A | 0,5 | 8 | 1,0 | 1,0 | -0,7 |
| A | 1,0 | 5 | 1,9 | 2,3 | -0,5 |
| A | 1,5 | 4 | 3,3 | 4,2 | -0,1 |
| A | 2,0 | 3 | 4,1 | 5,9 | -0,2 |
| A | 0,5 | 4 | 0,8 | 1,0 | -1,2 |
| B | 0,5 | ||||
| A | 0,75 | 3 | 1,6 | 1,7 | -0,6 |
| B | 0,75 | ||||
| A | 1,0 | 2 | 1,8 | 3,1 | -0,8 |
| B | 1,0 | ||||
| A | 0,65 | 4 | 1,3 | 1,6 | -0,9 |
| B | 0,35 | ||||
| A | 1,0 | 3 | 1,1 | 0,8 | -1,4 |
| B | 0,5 | ||||
| A | 1,3 | 2 | 2,9 | 4,2 | -0,2 |
| B | 0,7 | ||||
| A | 0,35 | 4 | 0,8 | 0,7 | -0,8 |
| B | 0,65 | ||||
| A | 0,5 | 4 | 0,7 | 0,8 | -1,2 |
| B | 1,0 | ||||
| A | 0,7 | 2 | 1,9 | 2,2 | -0,6 |
| B | 1,3 |
Príklad 43
Reaktivita fotoiniciátorov v bielom laku
Pripraví sa fotopolymerizovateľná zmes, ktorá pozostáva z týchto zložiek:
99,5 dielov Roskydal UV 502A (firma Bayer, SRN - roztok UPES a styrénu, obsahujúci 35 % styrénu a 25 % oxidu titaničitého rutilového typu) a
0,5 dielov Byk 300 (pomocný prostriedok firmy Byk-Mallinckrodt uľahčujúci rozlievanie).
Do tejto zmesi sa primieša zmes fotoiniciátorov:
(C) (50 % fotoiniciátorov z príkladu 14 a % 1-benzoyl-l-hydroxy-1-metyletánu) a (D) (50 % fotoiniciátorov z príkladu 14 a % 1-benzoyl-l-hydroxy-1-metyletánu).
v množstve, ktoré je zrejmé z tabuľky 6.
Formulácia sa nanesie v hrúbke vrstvy 150 pm na upínaciu dosku a vytvrdzuje za rôznych podmienok ožarovania:
1. Skúšobná vrstva sa predbežne ožaruje počas 90 minút pod štyrmi zdrojmi typu TL 40/03 (40 W, Philips). Potom sa uskutoční vytvrdzovanie pod stredne tlakovým ortuťo vým žiaričom (80 W/cm) tým, že sa skúšobná vzorka jedenkrát vedie pod zdrojom žiarenia rýchlosťou 3 m/min.
2. Na vytvrdenie sa skúšobná vzorka bez predbežného ožarovania jedenkrát vedie pod dvomi stredne tlakovými ortuťovými žiaričmi (80 W/cm) rýchlosťou 3 m/min. Ako kritérium na posúdenie sa stanoví tvrdosť zistená kladivkovým prístrojom podľa Kôniga (podľa normy DIN 53 157), index žltnutia podľa normy ASTM D 1925-70 a hodnota lesku pri teplote 20 a 60 °C. Výsledky sú zahrnuté do tabuľky 6.
Tabuľka 6
| Fotoiniciátor | Množstvo (% hmotn.) | Tvrdosť*) | Index žltnutia | Lesk (20/60°) |
| 1. s predbežným ožarovaním | ||||
| C | 2 | 93 | 2,3 | 84/92 |
| C | 4 | 91 | 3,6 | 84/92 |
| D | 2 | 75 | 2,2 | 84/92 |
| D | 4 | 92 | 2,9 | 84/92 |
2. bez predbežného ožarovania
| C | 4 | 117 | 4,1 | 86/93 |
| D | 4 | 102 | 3,5 | 86/93 |
*) Tvrdosť zisťovaná kladivovým prístrojom
Príklad 44
Reaktivita fotoiniciátorov v čírom laku
V 100 dieloch RRoskydal 502 (nenasýtená polyesterová živica firmy Bayer, rozpustená približne na 80 % roztok v butylacatáte) sa rozpusti fotoiniciátor v koncentráciách uvedených v tabuľke 7. Použitý je fotoiniciátor z príkladu 1 a 22, rovnako ako 2,2-dimetoxy-l,2-difenyletán-l-on (= E). Formulácie sa nanesú vo vrstve s hrúbkou 100 pm na upínacie dosky a vysuší počas jednej minúty pri teplote 50 °C. Vytvrdzovanie sa uskutočňuje ožarovaním dvomi stredne tlakovými ortuťovými žiaričmi (80 W/c), pričom skúšobná vzorka sa vedie pod zväzkom zdrojov žiarenia rýchlosťou 20 m/min. Na stanovenie reaktivity sa určí počet priechodov, ktorý je potrebný, aby sa dosiahla tvrdosť zistená proti stieraniu (= n). Okrem toho sa stanoví tvrdosť zistená kladivovým prístrojom podľa Kôniga (podľa normy DIN 53 157) a index žltnutia skúšobnej vzorky podľa normy ASTM D 1925-70. Tvrdosť zistené kladivovým prístrojom sa dodatočne po n + 1 priebehu ožarovania skúšobnej vzorky. Výsledky možno zistiť z tabuľky 7.
Tabuľka 7
| Fotoiniciátor z príkladu | Množstvo (% hmotn.) (20 m/min.) | Počet priechodov (n) | Tvrdosť ’) po | Index žltnutia | |
| n | n+1 | ||||
| E | 2 | 2 | 69 | 91 | 7,2 |
| 1 | 2 | 2 | 124 | 134 | 8,3 |
| 22 | 2 | 3 | 81 | 112 | 7,8 |
| E | 1,25 | ||||
| 2 | 139 | 148 | 7,5 | ||
| 1 | 0,75 | ||||
| E | 1,25 | ||||
| 2 | 127 | 132 | 6,9 | ||
| 1 | 0,75 | ||||
| E | 1,25 | ||||
| 2 | 127 | 132 | 6,9 | ||
| 22 | 0,75 |
*) Tvrdosť zisťovaná kladivovým prístrojom
SK 281582 Β6
Príklad 45
Spôsob výroby flex grafickej tlačiarenskej dosky
a) 1,13 dielov RIrganox 565 (antioxidačný prostriedok firmy Ciba-Geigy, Švajčiarsko), 0,03 diely RCeres Blank (pigment Sudan Black Nr, 86015 firmy Fluka, Švajčiarsko) a 0,6 % fotoiniciátora určeného na skúšanie sa rozpustí v
41,54 dieloch 1,6-hexándioldiakrylátu (HDDA) pri miešaní počas 30 minút pri teplote najviac 50 °C. Ďalej sa 332,30 dielov “Cariflex TR 1107 (blokový polymér z polyizoprénu a polystyrénu firmy Shell Chemie, Holandsko) taví s 2 g zvyšku počas 10 minút pri teplote 140 °C na kalandre na koži a pri teplote 110 °C sa nakvapká roztok HDDA. Kvapkanie trvá približne 15 minút. Potom sa celá formulácia homogenizuje ešte 15 minút pri teplote 100 °C na kalandre. Po vybraní z kalandra sa hrubá koža vloží medzi dve teflónové fólie a ochladí vo vodou chladenom lise pri tlaku 10 MPa. 70 g kože sa roztaví v 2 mm hrubom ráme lisu medzi dvomi polyesterovými fóliami s hrúbkou 76 pm a zlisuje na dosku s hrúbkou 2 mm tým, že sa „sendvič“ najskôr zahrieva jednu minútu bez použitia tlaku medzi plochami lisu predhriateho na teplotu 90 °C a potom sa lisuje pri tlaku 20 MPa počas 10 minút. Potom sa „sendvič“ ochladí najskôr na teplotu 15 °C na vodou chladenom lise počas 10 minút pri lisovacom tlaku 20 MPa a potom sa vyreže z lisovacieho rámu.
b) Teraz sa na stanovenie optimálneho času ožarovania na vytvorenie sokla dosky s obojstrannou polyesterovou fóliou odrežú pásiky s rozmerom 4 x 24 cm. Tieto pásiky sa ožarujú pod rôznymi maskami medzi 9 ožarovanými vrstvami vždy postupne 20 sekúnd v ožarovacom zariadení BASF Nyloprit s trubicou W Nyloprit 2051. Pritom vzniknú na pásikoch vzorky vytvrdenia desiatich úsekov, ktoré zodpovedajú ožarovaniu počas 0, 20, 40, 60, 80, 100, 120, 140, 160 a 180 sekúnd. Dosky sa otáčajú a odkrýva sa stredný pásik so šírkou 1,5 cm v pozdĺžnom smere. Celá štruktúra sa prevrství fóliou transparentnou pre ultrafialové žiarenie, odsaje vo vákuu na ožarovacom kopírovacom stroji a ožaruje počas 6 minút. Ožiarené dosky sa vyvolajú, pričom nedostatočne zosieťovaná oblasť sa vymyje v rotačnej práčke BASF Nyloprint pri teplote 20 °C premývacím roztokom, ktorý tvorí zmes tetrachlóretylénu a n-butanolu v pomere 4:1. Doska sa suší v cirkulačnej sušiarni pri teplote 80 °C počas jednej hodiny a potom sa na fixáciu ponorí do 0,4 % roztoku brómu a na 10 sekúnd ponorí do vodného roztoku 1,15 % tiosíranu sodného a uhličitanu sodného. Stredný pásik takto ošetrenej dosky sa vyhodnotí. Stanoví sa čas ožarovania, ktorý vedie k vytvoreniu sokla s hrúbkou 1400 pm (= čas ožarovania zadnej strany).
c) Kus sendvičovej dosky vyrobenej podľa a) sa celoplošne ožaruje počas ožarovania stanoveného podľa b) na vytvorenie sokla dosky. Potom sa doska otočí, polyesterová fólia sa odstráni a testovaný negatív sa zhotoví so 4 poliami. Ožarovaním 4 testovacích polí testovaného negatívu sa uskutoční postupne pri použití kotúčovej masky. Prvé pole sa ožaruje počas 6 minút a ožarovanie poli 2 až 4 sa zvyšuje vždy o jednu minútu. Vyvíjanie a fixácia dosky sa uskutoční tak, ako je opísané. Potom sa doska na oboch stranách celoplošne ožaruje ešte počas 6 minút. Stanoví sa čas ožarovania potrebný na dosiahnutie hodnoty tonu 2 % (= čas ožarovania prednej strany). Výsledky sú uvedené v tabuľke 8.
Tabuľka 8
| Zlúčenina | Čas ožarovania | Čas ožarovania prednej strany |
| z príkladu | zadnej strany (s) | pri hodnote tonu 2 % (min.) |
| 1 | 80 | 7 |
| 8 | 80 | 8 |
Priemyselná využiteľnosť
Fotopolymerizovateľné zmesi sa môžu používať na rôzne účely napríklad ako tlačiarenské farby, ako číre laky alebo ako biele laky, napríklad na drevo a kovy, ako náterová hmota okrem iného na papier, drevo, kov alebo plastickú hmotu, ako pestro pigmentované laky, ako náter na stavby a pouličné označenie vytvrditeľné denným svetlom, na výrobu čírych alebo pigmentovaných vodných disperzií, na fotografické reprodukčné spôsoby, na spôsoby zobrazovania alebo na výrobu tlačiarenských dosiek, ktoré sa môžu vyvíjať organickými rozpúšťadlami alebo vo vodnom alkalickom prostredí, na výrobu masiek pre sieťovú tlač, ako zubné výplne, ako lepidlá, ako leptané alebo permanentné rezistory a ako masky zastavujúce leptanie pre tlakové elektronické spoje, na výrobu trojrozmerných predmetov vytvrdzovaním hmoty (ultrafialovým žiarením v transparentnej forme) alebo podľa stereo litografického spôsobu, ako je napríklad opísaný v US patente č. 4 575, na výrobu kombinovaných technických materiálov (napríklad styrénom modifikovaných polyesterov, ktoré prípadne môžu obsahovať sklenú výplň alebo iné pomocné látky) a iných hrubo vrstvových hmôt, na povrstvenie alebo nepriepustné uzavretie elektronických častí alebo ako povlaky pre optické vlákna.
Fotovytvrditeľné zmesi podľa tohto vynálezu sa hodia napríklad ako látky na povrstvenie substrátov všetkých druhov, napríklad papiera, keramiky, plastických hmôt, ako polyesteru a filmu z acetátu celulózy a tiež kovov, ako medi a hliníka, pri ktorých sa má fotopolymerizáciou vytvoriť ochranná vrstva alebo zaistiť zobrazenie.
Povrstvenie substrátu sa môže realizovať, ak sa kvapalná zmes, roztok alebo suspenzia nanesie na substrát. To «a realizuje napríklad máčaním, nanášaním štetcom alebo nanášaním pomocou reverzného valca. Nanesené množstvo (hrúbka vrstvy) a druh substrátu (látka nesúca vrstvu) sú nezávislé od požadovanej oblasti aplikácie. Ako látka nesúca vrstvu pre fotografický informačný záznam slúži napríklad fólia z papiera vybaveného vrstvou polyesteru, acetátu celulózy alebo plastickej hmoty, pre ofsetové tlačiarenské formy zvláštnym spôsobom spracovaný hliník a na výrobu tlačených spojov meďou kašírované lamináty. Hrúbka vrstvy pre fotografické materiály a ofsetové tlačiarenské formy je všeobecne približne od 0,5 do asi 10 pm. Pri spoločnom použití rozpúšťadla sa toto rozpúšťadlo odstraňuje po povrstvení.
Veľký význam má fotovytvrdzovanie pre tlačiarenské farby, pretože čas sušenia spojiva je rozhodujúcim faktorom pre rýchlosti produkcie grafických výrobkov a má mať rádovo veľkosť zlomkov sekúnd. Predovšetkým pre ofsetovú tlač majú význam farby vytvrditeľné ultrafialovým žiarením.
Zmesi podľa tohto vynálezu sa dobre hodia tiež na výrobu tlačiarenských dosiek pre flex tlač alebo kníhtlač. Pritom sa používajú napríklad zmesi rozpustných polyamidov s priamym reťazcom alebo styrénbutadiénového kaučuku s fotopolymerizovateľnými monomérmi, napríklad akrylamidy alebo akrylestery s fotoiniciátorom. Filmy a dosky z týchto systémov (vlhké alebo suché) sa osvetlia cez negatív (alebo pozitív) tlačiarenskej predlohy a nevytvrdená časť sa nakoniec eluuje vhodným rozpúšťadlom. Vyvíjanie sa môže realizovať ako v organickom rozpúšťadle, taktiež vo vodnom alkalickom prostredí.
Ďalšou oblasťou použitia fotovytvrdzovania je povrstvovanie kovov, napríklad pri lakovaní plechov, trubiek, škatúľ alebo uzáverov fliaš, rovnako ako fotovytvrdzovanie
SK 281582 Β6 pri povrstvení plastických hmôt, napríklad podlahových plôch alebo obkladových stien na báze polyvinylchloridu.
Príkladom pre fotovytvrdzovanie povrstveného papiera je bezfarebné lakovanie etikiet, obalov gramofónových platní alebo obalov kníh.
Dôležité je tiež použitie fotovytvrditeľných zmesí na spôsoby zobrazenia a na optickú výrobu informačných nosičov Pritom sa vrstva nanesená na nosnú látku (vlhká alebo suchá) ožaruje cez foto masku krátkovlnným žiarením a neožiarená časť vrstvy sa odstráni pôsobením rozpúšťadla (vyvíjajúceho činidlo). Nanesenie fotovytvrditeľnej vrstvy sa môže realizovať tiež elektrickým spôsobom vylučovania na kov. Ožiarené miesta polyméme zosieťujú, tým sa stanú nerozpustnými a zostanú na nosnej látke. Pri zodpovedajúcom vyfarbení vzniká viditeľný obraz. V nosnej látke je metalizovaná vrstva, tak sa môže po ožiarení a vyvolaní na neosvetlených miestach odleptať kov alebo sa kov zosilní galvanizáciou. Týmto spôsobom sa vyrábajú tlačené elektronické spoje a fotorezistory.
Polymerizácia sa realizuje známymi spôsobmi fotopolymerizačného ožarovania slnečným svetlom alebo žiarením, ktoré je bohaté v krátkovlnnej oblasti. Ako zdroje žiarenia sú vhodné napríklad stredne tlakové, vysoko tlakové alebo nízko tlakové ortuťové žiariče super aktínickej trubice s luminiscenčnou látkou, zdroje svetla na báze halogenidu kovov alebo lasery, ktorých emisné maximum je v oblasti od 250 do 450 pm. Žiarenie vyžarované laserovým zdrojom má prednosť v tom, že nie je potrebná maska, preto tiež môže laserové žiarenie písať riadeným laserovým lúčom priamo na fotovytvrditeľnú vrstvu. V prípade kombinácie s fotosenzibilizačným činidlom sa môže použiť tiež dlhovlnné žiarenie alebo laserové žiarenie až do vlnovej dĺžky 600 nm.
Predmetom vynálezu je tiež spôsob fotopolymerizácie zlúčenín s etylenicky nenasýtenými dvojitými väzbami, ktorý spočíva v tom, že sa zmes, ako je opísané, ožaruje žiarením s vlnovou dĺžkou v rozsahu od 200 do 600 nm.
Fotoiniciátory podľa tohto vynálezu majú vysokú reaktivitu a pri ich použití sa získavajú lakované povrchy s dobrou hodnotou lesku. Kvôli malému sklonu žltnutia sú zlúčeniny podľa tohto vynálezu predovšetkým vhodné na použitie v bielych lakoch, ich schopnosť umožňuje vytvrdiť tenké vrstvy, ktoré sa používajú na výrobu tlačiarenských dosiek a technických materiálov. Lakovaním vytvrditeľných zmesí podľa tohto vynálezu na dennom svetle sa môže ich tvrdosť zvýšiť a môže ešte ďalej poklesnúť hodnota zmeny sfarbenia.
Claims (6)
- PATENTOVÉ NÁROKY1. Zmes, vyznačujúca sa tým, že obsahuje:a) aspoň jednu etylenicky nenasýtenú fotopolymerizovateľnú zlúčeninu ab) ako fotoiniciátor aspoň jednu zlúčeninu všeobecného vzorca (I) v ktoromR1 predstavuje alkylovú skupinu s 1 až 18 atómami uhlíka, cyklopentylovú skupinu alebo cyklohexylovú skupinu aR2 a R3 predstavujú nezávisle od seba fenylovú skupinu, ktorá nie je substituovaná alebo je jeden až štyrikrát substituovaná alkylovou skupinou s 1 až 4 atómami uhlíka a/alebo alkoxy skupinou s 1 až 4 atómami uhlíka a ako dodatkový fotoiniciátor aspoň jednu zlúčeninu všeobecného vzorca (II) kdeR4 predstavuje atóm vodíka, alkylovú skupinu s 1 až 18 atómami uhlíka, alkoxy skupinu s 1 až 18 atómami uhlíka, skupinu vzorca -OCH2CH2-R8, kde n má hodnotu od 2 do 10 aG predstavuje skupinu vzorcaR5 a R6 predstavujú nezávisle od seba atóm vodíka, alkylovú skupinu s 1 až 6 atómami uhlíka, fenylovú skupinu, alkoxy skupinu s 1 až 16 atómami uhlíka alebo skupinu vzorca -O(CH2CH2O)m-C1-C|6-alkyl, kde m predstavuje číslo od 1 do 20, aleboR5 a R8 predstavujú spolu s atómom uhlíka, na ktorý sú viazané, cyklohexylový kruh,R7 prestavuje hydroxy skupinu, alkoxy skupinu s 1 až 16 atómami uhlíka alebo skupinu vzorca -O(CH2CH2O)m- Cr -Ci6-alkyl, kde m predstavuje číslo od 1 do 20, pričom R5, R6 a R7 nemôžu súčasne všetky predstavovať alkoxy skupinu s 1 až 16 atómami uhlíka alebo skupinu vzorca -O(CH2CH2O)m- CrC|6-alkyl, kde m má uvedený význam aR8 predstavuje atóm vodíka, skupinu vzorca o 0 íH>—C—C—CH, ätet» —C—C=CH, >a/alebo zlúčeniny všeobecného vzorca (III) v ktoromR9, R10 a R11 predstavujú nezávisle od seba atóm vodíka alebo metylovú skupinu.
- 2. Zmes podľa nároku 1, vyznačujúca sa tým, že v zlúčenine všeobecného vzorca (II) R5 a R6 predstavujú nezávisle od seba alkylovú skupinu s 1 až 6 atómami uhlíka alebo tvoria spolu s atómom uhlíka, na ktorý sú viazané, cyklohexylový kruh a R7 predstavuje hydroxy skupinu.
- 3. Zmes podľa nároku 1, vyznačujúca sa tým, že podiel zlúčenín vzorca (I) v zmesi so zlúčeninami všeobecného vzorca (II) a/alebo zlúčeninami všeobecného vzorca (III) sa rovná od 5 do 95 % hmotn., výhodne od 30 do 70 % hmotn.
- 4. Zmes podľa nároku 1, vyznačujúca sa tým, že v zlúčenine všeobecného vzorca (I) R1 predstavuje n-butylovú skupinu, izobutylovú skupinu alebo2,4,4,-trimetyl-l-pentylovú skupinu, R2 a R3 sú rovnaké a predstavujú 2,6-dimctoxyfenylovú skupinu alebo 2,4,6-trimetylfenylovú skupinu a v zlúčenine všeobecného vzorcaSK 281582 Β6 (II) R5 a R6 sú rovnaké a predstavujú metylovú skupinu a R7 predstavuje hydroxy skupinu alebo izopropoxy skupinu.
- 5. Zmes podľa nároku 1, vyznačujúca sa tým, že obsahuje zlúčeninu všeobecného vzorca (I), v ktorej R1 predstavuje n-butylovú skupinu, izobutylovú skupinu alebo 2,4,4-trimetyl-l-pentylovú skupinu a R* a R3 sú rovnaké a predstavujú 2,6-dimetoxyfenylovú skupinu alebo 2,4,6-trimetylfenylovú skupinu a zmes zlúčenín všeobecného vzorca (III), v ktorej zlúčeniny všeobecného vzorca (III) s R9 a R10, rovnakého významu, predstavujú atóm vodíka a R11 predstavuje metylovú skupinu, sú obsiahnuté v množstve až do 20 % a zlúčeniny všeobecného vzorca (III) s R9, R10 a R11 predstavujúcimi vždy metylovú skupinu, sú obsiahnuté v množstve až do 80 %.
- 6. Zmes, vyznačujúca sa tým, že obsahujea) aspoň jednu etylenicky nenasýtenú fotopolymerizovateľnú zlúčeninu ab) ako fotoiniciátor aspoň jednu zlúčeninu všeobecného vzorca (I) v ktoromR1 predstavuje alkylovú skupinu s 1 až 18 atómami uhlíka, cyklopentylovú skupinu alebo cyklohexylovú skupinu aR2 a R3 predstavujú nezávisle od seba fenylovú skupinu, ktorá nie je substituovaná alebo je jeden až štyrikrát substituovaná alkylovou skupinou s 1 až 4 atómami uhlika a/alebo alkoxy skupinou s 1 až 4 atómami uhlika, a ešte α-hydroxyketónový fotoiniciátor a/alebo prísadu.
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH280991 | 1991-09-23 | ||
| CH3322/91A CH682666A5 (de) | 1991-11-14 | 1991-11-14 | Alkyl-Bisacylphosphinoxide. |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| SK137199A3 SK137199A3 (en) | 2001-05-10 |
| SK281582B6 true SK281582B6 (sk) | 2001-05-10 |
Family
ID=25691451
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SK2905-92A SK281581B6 (sk) | 1991-09-23 | 1992-09-22 | Alkylbisacylfosfínoxidy, zmesi s ich obsahom a ich použitie ako fotoiniciátorov |
| SK1371-99A SK281582B6 (sk) | 1991-09-23 | 1992-09-22 | Alkylbisacylfosfínoxidové zmesi |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| SK2905-92A SK281581B6 (sk) | 1991-09-23 | 1992-09-22 | Alkylbisacylfosfínoxidy, zmesi s ich obsahom a ich použitie ako fotoiniciátorov |
Country Status (20)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5399770A (sk) |
| JP (1) | JP3211039B2 (sk) |
| KR (1) | KR100236584B1 (sk) |
| AT (1) | AT401265B (sk) |
| AU (1) | AU655675B2 (sk) |
| BE (1) | BE1006011A4 (sk) |
| BR (1) | BR9203707A (sk) |
| CA (1) | CA2078722C (sk) |
| CZ (1) | CZ292028B6 (sk) |
| DE (1) | DE4231579C2 (sk) |
| ES (1) | ES2050607B1 (sk) |
| FR (1) | FR2681599B1 (sk) |
| GB (1) | GB2259704B (sk) |
| HK (1) | HK1000208A1 (sk) |
| IT (1) | IT1255509B (sk) |
| MX (1) | MX9205345A (sk) |
| NL (1) | NL194946C (sk) |
| RU (1) | RU2091385C1 (sk) |
| SE (2) | SE503060C2 (sk) |
| SK (2) | SK281581B6 (sk) |
Families Citing this family (136)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4336748C3 (de) * | 1992-11-17 | 2001-09-06 | Ciba Sc Holding Ag | Verfahren zur Blitztrocknung und Blitzhärtung, Verwendung des Verfahrens und dafür geeignete Vorrichtungen |
| ZA941879B (en) * | 1993-03-18 | 1994-09-19 | Ciba Geigy | Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators |
| EP0693002B2 (en) † | 1993-04-01 | 2001-05-02 | PPG Industries Ohio, Inc. | Methods for producing high gloss radiaton curable coatings |
| TW381106B (en) * | 1994-09-02 | 2000-02-01 | Ciba Sc Holding Ag | Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides |
| AU682793B2 (en) * | 1994-09-08 | 1997-10-16 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Novel acylphosphine oxides |
| JP3117394B2 (ja) * | 1994-11-29 | 2000-12-11 | 帝人製機株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
| JPH08171209A (ja) * | 1994-12-15 | 1996-07-02 | Japan Synthetic Rubber Co Ltd | 放射線硬化性組成物 |
| US6117612A (en) * | 1995-04-24 | 2000-09-12 | Regents Of The University Of Michigan | Stereolithography resin for rapid prototyping of ceramics and metals |
| TW330945B (en) | 1995-04-28 | 1998-05-01 | Nippon Chemicals Pharmaceutical Co Ltd | Ultraviolet-curable adhesive composition |
| US6284185B1 (en) | 1995-04-28 | 2001-09-04 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Ultraviolet-curable adhesive composition for bonding opaque substrates |
| US5707781A (en) * | 1995-05-05 | 1998-01-13 | Bayer Corporation | Photopolymerizable compositions having acyl or diacyl phosphine oxide and a fluorescent optical brightner |
| US6361925B1 (en) | 1996-03-04 | 2002-03-26 | Ciba Specialty Chemicals Corporation | Photoinitiator mixtures and compositions with alkylphenylbisacylphosphine oxides |
| SE520727C2 (sv) * | 1996-03-04 | 2003-08-19 | Ciba Sc Holding Ag | Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar |
| GB9605712D0 (en) * | 1996-03-19 | 1996-05-22 | Minnesota Mining & Mfg | Novel uv-curable compositions |
| CA2248616A1 (en) * | 1996-04-05 | 1997-10-16 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Visible light polymerizable composition |
| DE69710657T3 (de) * | 1996-08-23 | 2007-07-05 | Showa Denko K.K. | Photohärtbare Zusammensetzung und Härtungsverfahren |
| SG53043A1 (en) * | 1996-08-28 | 1998-09-28 | Ciba Geigy Ag | Molecular complex compounds as photoinitiators |
| DE19650562A1 (de) * | 1996-12-05 | 1998-06-10 | Basf Ag | Photoinitiatorgemische, enthaltend Acylphosphinoxide und Benzophenonderivate |
| US6075065A (en) * | 1996-12-20 | 2000-06-13 | Takeda Chemical Industries, Ltd. | Photocurable resin composition and a method for producing the same |
| US5922783A (en) * | 1997-02-27 | 1999-07-13 | Loctite Corporation | Radiation-curable, cyanoacrylate-containing compositions |
| EP1408017A3 (en) * | 1997-05-06 | 2006-01-11 | DSM IP Assets B.V. | Radiation curable ink compositions |
| US6197422B1 (en) | 1997-05-06 | 2001-03-06 | Dsm, N.V. | Ribbon assemblies and radiation-curable ink compositions for use in forming the ribbon assemblies |
| CN100519674C (zh) * | 1997-05-06 | 2009-07-29 | Dsm;Ip;财产有限公司 | 油墨涂层组合物、其固化方法、光导玻璃纤维和带状组件 |
| US6130980A (en) * | 1997-05-06 | 2000-10-10 | Dsm N.V. | Ribbon assemblies and ink coating compositions for use in forming the ribbon assemblies |
| US6301415B1 (en) | 1997-08-14 | 2001-10-09 | Dsm N.V | Optical glass fiber ribbon assemblies, matrix forming compositions radiation-curable compositions |
| US6391936B1 (en) | 1997-12-22 | 2002-05-21 | Dsm N.V. | Radiation-curable oligomers radiation-curable compositions, coated optical glass fibers, and ribbon assemblies |
| DE19907957A1 (de) * | 1998-02-27 | 1999-09-02 | Ciba Geigy Ag | Pigmentierte photohärtbare Zusammensetzung |
| CA2323795A1 (en) | 1998-03-13 | 1999-09-23 | Akzo Nobel Nv | Non-aqueous coating composition based on an oxidatively drying alkyd resin and a photo-initiator |
| DE19812859A1 (de) * | 1998-03-24 | 1999-09-30 | Basf Ag | Photoinitiatorgemische |
| CN1172995C (zh) * | 1998-07-31 | 2004-10-27 | 三菱丽阳株式会社 | 涂层剂及具有涂层的树脂模塑制品 |
| DE19851567A1 (de) * | 1998-11-09 | 2000-05-11 | Emtec Magnetics Gmbh | Durch UV-Bestrahlung härtbare Bindemittelzusammensetzung für magnetische Aufzeichnungsmedien und Photoinitiatormischung |
| CZ302512B6 (cs) | 1998-11-30 | 2011-06-29 | Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. | Zpusob prípravy acylfosfinu, acylfosfinoxidu a acylfosfinsulfidu |
| SE9904080D0 (sv) | 1998-12-03 | 1999-11-11 | Ciba Sc Holding Ag | Fotoinitiatorberedning |
| EP1106627B1 (en) * | 1999-12-08 | 2003-10-29 | Ciba SC Holding AG | Novel phosphine oxide photoinitiator systems and curable compositions with low color |
| GB2360283B (en) | 2000-02-08 | 2002-08-21 | Ciba Sc Holding Ag | Monoacylarylphosphines and acylphosphine oxides and sulphides |
| GB2365430B (en) * | 2000-06-08 | 2002-08-28 | Ciba Sc Holding Ag | Acylphosphine photoinitiators and intermediates |
| US6908663B1 (en) * | 2000-11-15 | 2005-06-21 | Awi Licensing Company | Pigmented radiation cured wear layer |
| US6737216B2 (en) * | 2000-12-08 | 2004-05-18 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Laser engravable flexographic printing element and a method for forming a printing plate from the element |
| JP3969109B2 (ja) * | 2002-02-08 | 2007-09-05 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 感光性平版印刷版及びその記録方法 |
| DE10206117A1 (de) * | 2002-02-13 | 2003-08-14 | Basf Ag | Acyl- und Bisacylphosphinderivate |
| DE10244684A1 (de) * | 2002-09-24 | 2004-04-01 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Acylphosphinoxiden |
| US7144544B2 (en) * | 2003-02-20 | 2006-12-05 | Texas Research International, Inc. | Ultraviolet light curing compositions for composite repair |
| DE10315671A1 (de) * | 2003-04-04 | 2004-10-14 | Basf Ag | Verfahren zur Herstellung von Acylphosphinoxid-Feststoffen |
| TW200523265A (en) * | 2003-07-31 | 2005-07-16 | Basf Ag | A process for the preparation of acylphosphines |
| US20050176841A1 (en) * | 2003-12-30 | 2005-08-11 | Krohn Roy C. | UV curable ink compositions |
| US20050270755A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Inventec Corporation | Method for preventing pins of semiconductor package from short circuit during soldering |
| US20060033793A1 (en) * | 2004-08-10 | 2006-02-16 | Webster Grant A | Coupling agent patterning |
| JP5394608B2 (ja) * | 2005-01-14 | 2014-01-22 | 株式会社カネカ | 活性エネルギー線硬化型硬化性組成物および該硬化物 |
| ATE424178T1 (de) | 2005-08-01 | 2009-03-15 | Ivoclar Vivadent Ag | Photopolymerisierbare dentalmaterialien mit bisacylphosphinoxiden als initiator |
| JPWO2007018287A1 (ja) | 2005-08-11 | 2009-02-19 | 協和発酵ケミカル株式会社 | 樹脂組成物 |
| US7915319B2 (en) * | 2005-12-19 | 2011-03-29 | Henkel Corporation | Visible light curing systems, methods for reducing health risks to individuals exposed to systems designed to cure curable compositions by exposure to radiation, methods for bonding substrates and visible light curing compositions |
| JP2009541554A (ja) * | 2006-07-04 | 2009-11-26 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 異相重合技術によって作製された光開始剤の水ベースの濃縮されたプロダクト形態 |
| DE102006050153A1 (de) | 2006-10-25 | 2008-05-08 | Ivoclar Vivadent Ag | Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien |
| EP2091989A2 (en) * | 2006-12-11 | 2009-08-26 | Dow Global Technologies Inc. | Aldehyde and alcohol compositions derived from seed oils |
| TW200848081A (en) * | 2007-01-17 | 2008-12-16 | Kuraray Medical Inc | Composition and dental material |
| EP1958994B1 (en) | 2007-01-31 | 2010-12-08 | FUJIFILM Corporation | Ink set for inkjet recording and inkjet recording method |
| JP5227521B2 (ja) | 2007-02-26 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット |
| JP5416581B2 (ja) * | 2007-03-20 | 2014-02-12 | クラレノリタケデンタル株式会社 | 重合性単量体、重合性組成物及び歯科用材料 |
| JP4601009B2 (ja) | 2007-03-30 | 2010-12-22 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用インクセット及びインクジェット記録方法 |
| JP5243072B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-07-24 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物 |
| JP5306681B2 (ja) | 2007-03-30 | 2013-10-02 | 富士フイルム株式会社 | 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法 |
| US9199934B2 (en) | 2007-04-04 | 2015-12-01 | Basf Se | Alpha-hydroxyketones |
| US9207373B2 (en) | 2007-04-10 | 2015-12-08 | Stoncor Group, Inc. | Methods for fabrication and highway marking usage of agglomerated retroreflective beads |
| US8076393B2 (en) | 2007-09-26 | 2011-12-13 | Fujifilm Corporation | Ink composition, inkjet recording method, and printed material |
| JP5236238B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-17 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用ホワイトインク組成物 |
| JP5227560B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-07-03 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
| JP5148235B2 (ja) | 2007-09-28 | 2013-02-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物 |
| GB0724863D0 (en) | 2007-12-21 | 2008-01-30 | Unilever Plc | Fabric treatment active |
| JP5457636B2 (ja) | 2008-01-22 | 2014-04-02 | 富士フイルム株式会社 | 光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、光硬化物の製造方法、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5254632B2 (ja) | 2008-02-07 | 2013-08-07 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物 |
| JP4914862B2 (ja) | 2008-03-26 | 2012-04-11 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
| JP5414367B2 (ja) | 2008-06-02 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物 |
| EP2342237B1 (en) | 2008-11-03 | 2014-04-23 | Basf Se | Photoinitiator mixtures |
| JP2010180330A (ja) | 2009-02-05 | 2010-08-19 | Fujifilm Corp | 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物 |
| JP5350827B2 (ja) | 2009-02-09 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5349097B2 (ja) | 2009-03-19 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法 |
| DE102009016025B4 (de) | 2009-04-02 | 2014-12-11 | Voco Gmbh | Kunststoffmodifizierter Glasionomerzement, seine Verwendung sowie Verfahren zu seiner Herstellung |
| JP5424764B2 (ja) | 2009-07-28 | 2014-02-26 | 富士フイルム株式会社 | 顔料分散物、インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP2011068783A (ja) | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Fujifilm Corp | インク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5530141B2 (ja) | 2009-09-29 | 2014-06-25 | 富士フイルム株式会社 | インク組成物及びインクジェット記録方法 |
| JP5437824B2 (ja) | 2010-01-14 | 2014-03-12 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| US9248468B2 (en) | 2010-01-15 | 2016-02-02 | Texas Research International, Inc. | Ultraviolet light curing compositions for composite repair |
| DE102010003884A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Voco Gmbh | Dualhärtende, mehrkomponentige dentale Zusammensetzung |
| DE102010003881A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Voco Gmbh | Dentale Abdeckmasse |
| DE102010003883A1 (de) | 2010-04-12 | 2011-10-13 | Voco Gmbh | Lichthärtbares Kompositmaterial |
| JP5515070B2 (ja) * | 2010-06-30 | 2014-06-11 | ディーエスエム アイピー アセッツ ビー．ブイ． | Ｄ１４９２液体ｂａｐｏ光開始剤および放射線硬化性組成物におけるその使用 |
| JP5687964B2 (ja) | 2010-07-27 | 2015-03-25 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
| US8915736B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-12-23 | Voco Gmbh | Composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element for filling and/or sealing a root canal |
| US8697769B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-04-15 | Voco Gmbh | Lacquer composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element |
| EP2436668B1 (de) | 2010-09-30 | 2012-09-12 | VOCO GmbH | Polymerisierbare Verbindungen umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement |
| US8669302B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-03-11 | Voco Gmbh | Composite material comprising a monomer with a polyalicyclic structure element as a sealing material |
| US9023916B2 (en) | 2010-09-30 | 2015-05-05 | Voco Gmbh | Composite material comprising a monomer with a polyalicyclic structure element |
| EP2450025B1 (de) | 2010-11-08 | 2012-11-28 | VOCO GmbH | Polymerisierbare Phosphorsäurederivate umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement |
| JP5240799B2 (ja) | 2010-11-25 | 2013-07-17 | 富士フイルム株式会社 | インクセット、インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置 |
| JP2012113228A (ja) | 2010-11-26 | 2012-06-14 | Sony Corp | 表示装置およびその製造方法 |
| DE102011003289A1 (de) | 2011-01-27 | 2012-08-02 | Voco Gmbh | Dentale provisorische Suprakonstruktionen sowie Materialien zu ihrer Herstellung und entsprechende Verfahren |
| JP5349543B2 (ja) | 2011-02-03 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
| US8816211B2 (en) | 2011-02-14 | 2014-08-26 | Eastman Kodak Company | Articles with photocurable and photocured compositions |
| US20120208914A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photoinitiator compositions and uses |
| US20120207935A1 (en) | 2011-02-14 | 2012-08-16 | Deepak Shukla | Photocurable inks and methods of use |
| JP5351293B2 (ja) | 2011-02-16 | 2013-11-27 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物及びその製造方法、並びに、インクジェット記録方法 |
| JP5474882B2 (ja) | 2011-07-12 | 2014-04-16 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5419934B2 (ja) | 2011-07-12 | 2014-02-19 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| JP5566979B2 (ja) | 2011-09-22 | 2014-08-06 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録用インク組成物、インクパック、及び、インクジェット記録方法 |
| DE102012001979A1 (de) | 2012-02-02 | 2013-08-08 | Voco Gmbh | Härtbares Gemisch umfassend Weichmacher mit einem polyalicyclischen Strukturelement zur Anwendung bei der Herstellung dentaler Werkstoffe |
| DE102012001978A1 (de) | 2012-02-02 | 2013-08-08 | Voco Gmbh | Dentale Kompositmaterialien enthaltend tricyclische Weichmacher |
| JP2013193349A (ja) | 2012-03-21 | 2013-09-30 | Fujifilm Corp | インクジェット記録装置およびインクジェット記録方法 |
| JP5758832B2 (ja) | 2012-03-30 | 2015-08-05 | 富士フイルム株式会社 | 活性線硬化型インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物 |
| JP5718845B2 (ja) | 2012-03-30 | 2015-05-13 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法及び印刷物 |
| DE102012212429A1 (de) | 2012-07-16 | 2014-01-16 | Voco Gmbh | Dentalhandgerät, Verfahren und Verwendung desselben zum Aushärten lichthärtbaren Materials |
| DE102012214540A1 (de) | 2012-08-15 | 2014-02-20 | Helmholtz-Zentrum für Infektionsforschung GmbH | Zahnfüllungsmaterialien und Zahnlacke zur Hemmung der Biofilmbildung von Streptococcus mutans und deren Herstellung |
| JP5642125B2 (ja) | 2012-08-24 | 2014-12-17 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法 |
| JP5752652B2 (ja) | 2012-08-29 | 2015-07-22 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物及びその製造方法、インクジェット記録方法、並びに、顔料分散物及びその製造方法 |
| DE102013008176A1 (de) | 2012-10-05 | 2014-04-10 | Voco Gmbh | Kit und Verfahren zur indirekten chairside Herstellung von Kompositinlays |
| JP5788918B2 (ja) | 2013-02-19 | 2015-10-07 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置 |
| JP5980702B2 (ja) | 2013-03-07 | 2016-08-31 | 富士フイルム株式会社 | インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法 |
| JP5939640B2 (ja) | 2013-03-08 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 多層構成物、及び、多層構成物の製造方法 |
| KR102306373B1 (ko) | 2013-05-30 | 2021-10-01 | 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하 | 사출 성형용 프라이머 조성물 |
| EP2821436A1 (en) | 2013-07-01 | 2015-01-07 | Allnex Belgium, S.A. | Transparent composite composition |
| JP5939644B2 (ja) | 2013-08-30 | 2016-06-22 | 富士フイルム株式会社 | 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット |
| CN105884824A (zh) * | 2014-10-16 | 2016-08-24 | 郑成 | 酰基膦(氧)或磺酰膦(氧)类化合物的制备方法 |
| DE102014116389A1 (de) | 2014-11-11 | 2016-05-12 | Voco Gmbh | Radikalisch härtbare dentale Zusammensetzungen |
| DE102014116402A1 (de) | 2014-11-11 | 2016-05-12 | Voco Gmbh | Verwendung radikalisch härtbarer Zusammensetzungen in generativen Fertigungsverfahren |
| CN104558031B (zh) * | 2014-12-09 | 2016-08-03 | 天津久联科技有限公司 | 一种苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦的制备方法 |
| CN105884809A (zh) * | 2015-01-14 | 2016-08-24 | 郑成 | 酰基膦(氧)或磺酰膦(氧)类化合物的制备方法 |
| GB2542629B (en) | 2015-09-28 | 2020-05-06 | Henkel IP & Holding GmbH | Polystyrene copolymer curable primer compositions for injection molding |
| JP6671485B2 (ja) * | 2016-09-07 | 2020-03-25 | 富士フイルム株式会社 | 光重合開始剤、重合性組成物、インクジェット記録方法、並びに、アシルホスフィンオキシド化合物 |
| DE102017103084A1 (de) | 2017-02-15 | 2018-08-16 | Voco Gmbh | Dentaler Kompositblock zur Herstellung permanenter indirekter Restaurationen im CAD/CAM Verfahren |
| WO2018159236A1 (ja) | 2017-02-28 | 2018-09-07 | 富士フイルム株式会社 | インクジェット用液体組成物、及び、インクジェット記録方法 |
| DE102017105841A1 (de) | 2017-03-17 | 2018-09-20 | Voco Gmbh | Fräsrohling zur Herstellung einer indirekten dentalen Restauration, entsprechende Verwendungen und Verfahren |
| RU2684387C2 (ru) * | 2017-05-03 | 2019-04-08 | Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук (БИП СО РАН) | Фотополимерная композиция для изготовления термостойких объектов методом лазерной стереолитографии |
| EP3409680B1 (en) | 2017-05-30 | 2021-01-06 | IGM Group B.V. | Synthesis of bis(acyl)phosphines by activation of unreactive metal phosphides |
| DE102018103415A1 (de) | 2018-02-15 | 2019-08-22 | Voco Gmbh | Dentale Formkörper mit kontinuierlichem Farbverlauf |
| DE102018114690A1 (de) | 2018-06-19 | 2019-12-19 | Voco Gmbh | Thermowirksame dentale Kompositzusammensetzung |
| WO2020167621A1 (en) | 2019-02-14 | 2020-08-20 | Sirrus, Inc. | Particles encapsulated with dicarbonyl-substituted-1- alkenes |
| DE102019122174A1 (de) | 2019-08-19 | 2021-02-25 | Voco Gmbh | Dentale polymerisierbare Zusammensetzung auf der Basis kondensierter Silane |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3668093A (en) * | 1971-05-06 | 1972-06-06 | Du Pont | Photoinitiation of vinyl polymerization by triaroylphosphines |
| DE3443221A1 (de) * | 1984-11-27 | 1986-06-05 | ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld | Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung |
| IT1187703B (it) * | 1985-07-23 | 1987-12-23 | Lamberti Fratelli Spa | Benzofenoni sostituiti e loro miscele liquide,atti all'impiego come iniziatori di fotopolimerizzazione |
| DE3534645A1 (de) * | 1985-09-28 | 1987-04-02 | Merck Patent Gmbh | Copolymerisierbare fotoinitiatoren |
| DE3633436A1 (de) * | 1986-10-01 | 1988-04-14 | Basf Ag | Photopolymerisierbare aufzeichnungsmasse, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen |
| ES2098260T3 (es) * | 1989-08-04 | 1997-05-01 | Ciba Geigy Ag | Oxidos de mono- y diacilfosfina. |
| DE59201477D1 (de) * | 1991-01-14 | 1995-04-06 | Ciba Geigy Ag | Bisacylphosphinsulfide. |
-
1992
- 1992-09-03 RU SU925053215A patent/RU2091385C1/ru active
- 1992-09-14 GB GB9219402A patent/GB2259704B/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-16 SE SE9202668A patent/SE503060C2/sv not_active IP Right Cessation
- 1992-09-17 US US07/947,653 patent/US5399770A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-17 KR KR1019920016952A patent/KR100236584B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1992-09-21 DE DE4231579A patent/DE4231579C2/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-21 CA CA002078722A patent/CA2078722C/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-21 MX MX9205345A patent/MX9205345A/es not_active IP Right Cessation
- 1992-09-21 AU AU25251/92A patent/AU655675B2/en not_active Ceased
- 1992-09-22 IT ITMI922173A patent/IT1255509B/it active IP Right Grant
- 1992-09-22 AT AT0188592A patent/AT401265B/de not_active IP Right Cessation
- 1992-09-22 JP JP27820092A patent/JP3211039B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-22 FR FR9211250A patent/FR2681599B1/fr not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-22 ES ES09201889A patent/ES2050607B1/es not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-22 NL NL9201641A patent/NL194946C/nl not_active IP Right Cessation
- 1992-09-22 BE BE9200823A patent/BE1006011A4/fr not_active IP Right Cessation
- 1992-09-22 CZ CS19922905A patent/CZ292028B6/cs not_active IP Right Cessation
- 1992-09-22 SK SK2905-92A patent/SK281581B6/sk unknown
- 1992-09-22 SK SK1371-99A patent/SK281582B6/sk unknown
- 1992-09-23 BR BR929203707A patent/BR9203707A/pt not_active IP Right Cessation
-
1994
- 1994-04-28 US US08/234,887 patent/US5472992A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-04-12 SE SE9501365A patent/SE509829C2/sv not_active IP Right Cessation
-
1997
- 1997-09-05 HK HK97101725A patent/HK1000208A1/xx not_active IP Right Cessation
Also Published As
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| SK281582B6 (sk) | Alkylbisacylfosfínoxidové zmesi | |
| AU700479B2 (en) | Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides | |
| JP4171073B2 (ja) | 不揮発性フェニルグリオキシル酸エステル | |
| DE19708294B4 (de) | Alkylphenylbisacylphosphinoxide | |
| CA2213886C (en) | Molecular complex compounds comprising a mono-, bis- or trisacylphosphine oxide with an .alpha.-hydroxy ketone as photoinitiators | |
| KR950008287B1 (ko) | 티타노센 및 그의 용도 | |
| EP0007508A2 (de) | Acylphosphinoxidverbindungen, ihre Herstellung und ihre Verwendung | |
| KR19990022661A (ko) | a-아미노아세토페논으로부터 아민의 광생성 방법 | |
| CA1318684C (en) | 6-acyl-(6h)-dibenz[c,e] [1,2]oxaphosphorin 6-oxides, their preparation and their use as photoinitiators | |
| CA1243325A (en) | Liquid thioxanthonecarboxylic acid esters | |
| US6054251A (en) | Photopolymerizable composition | |
| JP4478475B2 (ja) | ホスフィンオキシド化合物 | |
| JP2010248355A (ja) | 感光性難燃性組成物及びその利用 | |
| JP2003122003A (ja) | 感光性樹脂組成物 | |
| JP2003121610A (ja) | 遮光パターンを有するレンズシート及びその製造方法 | |
| CH689774A5 (de) | Alkoxyphenyl-substituierte Bisacylphosphinoxide. | |
| JP2002311578A (ja) | 感光性樹脂組成物及び遮光パターン形成方法 |