CZ292028B6 - Derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu, směs pro polymeraci s jeho obsahem a použití - Google Patents

Derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu, směs pro polymeraci s jeho obsahem a použití Download PDF

Info

Publication number
CZ292028B6
CZ292028B6 CS19922905A CS290592A CZ292028B6 CZ 292028 B6 CZ292028 B6 CZ 292028B6 CS 19922905 A CS19922905 A CS 19922905A CS 290592 A CS290592 A CS 290592A CZ 292028 B6 CZ292028 B6 CZ 292028B6
Authority
CZ
Czechia
Prior art keywords
alkyl
formula
compounds
group
carbon atoms
Prior art date
Application number
CS19922905A
Other languages
English (en)
Inventor
David G. Dr. Leppard
Manfred Dr. Köhler
Ljubomir Dr. Misev
Original Assignee
Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority claimed from CH3322/91A external-priority patent/CH682666A5/de
Application filed by Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. filed Critical Ciba Specialty Chemicals Holding Inc.
Publication of CZ290592A3 publication Critical patent/CZ290592A3/cs
Publication of CZ292028B6 publication Critical patent/CZ292028B6/cs

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50Organo-phosphines
    • C07F9/53Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50Organo-phosphines
    • C07F9/53Organo-phosphine oxides; Organo-phosphine thioxides
    • C07F9/5337Phosphine oxides or thioxides containing the structure -C(=X)-P(=X) or NC-P(=X) (X = O, S, Se)
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F2/00Processes of polymerisation
    • C08F2/46Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
    • C08F2/48Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
    • C08F2/50Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D4/00Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; Coating compositions, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09D183/00 - C09D183/16
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J4/00Adhesives based on organic non-macromolecular compounds having at least one polymerisable carbon-to-carbon unsaturated bond ; adhesives, based on monomers of macromolecular compounds of groups C09J183/00 - C09J183/16
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/1053Imaging affecting physical property or radiation sensitive material, or producing nonplanar or printing surface - process, composition, or product: radiation sensitive composition or product or process of making binder containing
    • Y10S430/1055Radiation sensitive composition or product or process of making
    • Y10S430/114Initiator containing
    • Y10S430/126Halogen compound containing

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Inks, Pencil-Leads, Or Crayons (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

Deriv ty alkyl-bisacylfosfinoxidu obecn ho vzorce I, kde znamen R.sub.1.n. alkylovou skupinu s 1 a 18 atomy uhl ku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a R.sub.2.n. a R.sub.3.n. nez visle na sob fenylovou skupinu pop° pad substituovanou jedn m a ty°mi substituenty ze souboru zahrnuj c ho alkylovou skupinu s 1 a 4 atomy uhl ku a alkoxyskupinu s 1 a 4 atomy uhl ku, a jejich pou it jako fotoinici tor pro fotopolymeraci slou enin s ethylenicky nenasycen²mi dvojn²mi vazbami. Jsou pops ny tak sm si pro polymeraci, kter obsahuj alespo jednu ethylenicky nenasycenou fotopolymerovatelnou slou eninu a jako fotoinci tor alespo jeden uveden² deriv t obecn ho vzorce I.\

Description

Oblast techniky
Tento vynález se týká derivátů alkyl-bisacylfosfinoxidu ajejich použití jako fotoiniciátorů pro fotopolymeraci sloučenin s ethylenicky nenasycenými dvojnými vazbami. Jsou popsány také směsi pro polymeraci, které obsahují alespoň jednu ethylenicky nenasycenou fotopolymerovatelnou sloučeninu a jako fotoiniciátor alespoň jeden zmíněný derivát.
Dosavadní stav techniky
Monoacylfosfinoxidy a bisacylfosfinoxidy jsou jako fotoiniciátory známé.
V patentu EP 184 095 a DE 3 443 221 jsou popsány bisacylfosfinoxidy, které se používají jako fotovytvrzovací prostředky pro dentální hmoty.
V patentu EP262 629 je možné najít použití bisacylfosfinoxidů ve směsích, které se mohou vyvíjet ve vodné alkalickém prostředí, pro výrobu tiskových desek a reliéfních forem.
Další monoacylfosfinoxidové a bisacylfosfinoxidové fotoiniciátory jsou zveřejněny v patentu EP 413 657.
Pro širokou oblast použití fotoiniciátorů je další potřeba účinných, dobře vyrobitelných fotoiniciátorů.
Podstata vynálezu
Nyní bylo nalezeno, že určité bisacylfosfinoxidové sloučeniny s alkylovými zbytky vázanými na fosforu jsou účinné fotoiniciátory.
Předmětem tohoto vynálezu jsou tedy deriváty alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I
O 0 o
•t « u
r2 - c - P - I c - r3 (I),
1 R1
ve kterém
Ri znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a
R2 a R3 znamenají nezávisle na sobě fenylovou skupinu, který je nesubstituována nebo je jednou až čtyřikrát substituována alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku.
Ri jako alkylová skupina obsahující 1 až 18 atomů uhlíku může mít přímý nebo rozvětvený řetězec a znamená například methylovou skupinu, ethylovou skupinu, n-propylovou skupinu, izopropylovou skupinu, butylovou skupinu, izobutylovou skupinu, sek-butylovou skupinu, terc
-1 CZ 292028 B6 butylovou skupinu, pentylovou skupinu, hexylovou skupinu, heptylovou skupinu, oktylovou skupinu, 2,4,4-trimethyl-l -pentylovou skupinu, 2-ethylhexylovou skupinu, nonylovou skupinu, decylovou skupinu, dodecylovou skupinu nebo oktadecylovou skupinu.
R.2 a R3, jako fenylová skupina jednou až čtyřikrát substituovaná alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku, znamená například tolylovou skupinu, dimethylfenylovou skupinu, mesitylovou skupinu, tetramethylfenylovou skupinu, ethylfenylovou skupinu, diethylfenylovou skupinu, triethylfenylovou skupinu, methylethylfenylovou skupinu, dimethylethylfenylovou skupinu, methoxyfenylovou skupinu, dimethoxyfenylovou skupinu, trimethoxyfenylovou skupinu, dimethoxymethylfenylovou skupinu, methoxymethylfenylovou skupinu, dimethylmethoxyfenylovou skupinu, ethoxyfenylovou skupinu, diethoxyfenylovou skupinu, diethoxymethylfenylovou skupinu, propoxyfenylovou skupinu, butoxyfenylovou skupinu, dibutoxyfenylovou skupinu, butoxymethoxyfenylovou skupinu, ethoxymethoxyfenylovou skupinu, butoxyethoxyfenylovou skupinu, přičemž výhodná je mesitylová skupina a dimethoxyfenylová skupina.
R2 a R3 znamenají jednou až čtyřikrát substituovanou fenylovou skupinu, s výhodou jednou až třikrát substituovanou fenylovou skupinu, zvláště fenylovou skupinu substituovanou 2 nebo 3 alkylovými skupinami s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo alkoxyskupinami s 1 až 4 atomy uhlíku.
Výhodné jsou deriváty alkyl-bisacylfosfínoxidu obecného vzorce I, kde Ri znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a R2 aR3 jsou stejné a znamenají nezávisle na sobě fenylovou skupinu popřípadě substituovanou jedním až čtyřmi substituenty ze souboru zahrnujícího alkylovou skupinu s 1 až 4 atomy uhlíku a alkoxyskupinu s 1 až 4 atomy uhlíku.
Zajímavé jsou deriváty alkyl-bisacylfosfínoxidu obecného vzorce I, kde Ri znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, například s 1 až 12 atomy uhlíku, zvláště alkylovou skupinu s 1 až 8 atomy uhlíku, nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu substituovanou alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku.
Dále jsou zajímavé deriváty alkyl-bisacylfosfínoxidu obecného vzorce I, kde Ri znamená alkylovou skupinu obsahující 4 až 8 atomů uhlíku nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu substituovanou alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku.
Jiné výhodné deriváty alkyl-bisacylfosfínoxidu obecného vzorce I jsou takové, kde Rj znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu substituovanou v polohách 2 a 6 nebo 2, 4 a 6 alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku.
Výhodně jsou deriváty alkyl-bisacylfosfínoxidu obecného vzorce I, kde R] znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu, která je substituována alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku, zvláště methoxyskupinou nebo/a alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku, zvláště methylovou skupinou.
Jiné zajímavé sloučeniny obecného vzorce I jsou takové sloučeniny, kde R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu, která je substituována alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku, zvláště methoxyskupinou.
Sloučeniny podle tohoto vynálezu se mohou například vyrobit dvojí acylaci primárního fosfmu obecného vzorce XIII alespoň 2 ekvivalenty chloridu kyseliny obecného vzorce XII v přítomnosti
-2CZ 292028 B6 nejméně 2 ekvivalentů báze a následující oxidací získaného diacylfosfinu obecného vzorce XIV na fosfinoxid podle reakčního schématu:
O
II
R2-C-CI báze (XII) + H2P-Rt (XIII) /0 r,-p|c-R2 (Xiv) oxidace
V
O fo > lt II RrP-C-R2 \ 7
Asymetrické sloučeniny obecného vzorce I
O 0 0
n tt
r2 - c - P - | c - r3
1 R1
(I), ve kterém
Ri, R2 a R3 mají významy uvedené výše, še získají, když se použije jednoho ekvivalentu chloridu kyseliny obecného vzorce XII a jednoho ekvivalentu sloučeniny obecného vzorce Xlla
O
II r3-c-gi (Xlla), ve kterém
R3 má význam uvedený výše.
Jako báze se hodí například terciární aminy, alkalické kovy, lithiumdiizopropylamid, alkoxidy alkalických kovů nebo hydridy alkalických kovů. První reakční stupeň se s výhodou provádí v rozpouštědle. Jako rozpouštědla jsou především vhodné uhlovodíky, jako například alkany, benzen, toluen nebo xylen. Po oddělení vzniklého chloridu kyseliny se může fosfín obecného vzorce XIV izolovat odpařením nebo se druhý reakční stupeň provede bez izolace sloučeniny obecného vzorce XIV s roztokem surového produktu. Jako oxidační činidlo se pro druhý reakční stupeň hodí především peroxid vodíku a organické peroxysloučeniny, například kyselina peroctová nebo vzduch.
Primární fosfiny obecného vzorce XIII, potřebné jako výchozí látky, jsou známé, zčásti komerčně dostupné sloučeniny nebo se mohou vyrobit analogicky jako známé sloučeniny (bližší viz Houben-Weyl, Methoden der organische Chemie, sv. XU/1, str. 60 až 63 /1963/, vyd. G. Thieme, Stuttgart). Také výroba chloridu kyselin obecného vzorce XII nebo Xlla se provádí podle způsobů, které jsou známé ze stavu techniky.
-3CZ 292028 B6
Sloučeniny obecného vzorce I se podle tohoto vynálezu mohou používat jako fotoiniciátory pro fotopolymerizaci ethylenicky nenasycených sloučenin nebo směsí, které takové sloučeniny obsahují. Nenasycené sloučeniny mohou obsahovat jednu nebo větší počet olefmických dvojných vazeb. Tyto sloučeniny mohou být nízkomolekulámí (monomemí) nebo vysokomolekulámí (oligomemí). Příkladem monomerů s jednou dvojnou vazbou jsou alkylakryláty, alkylmethakryláty, hydroxyalkylakryláty nebo hydroxyalkylmethakryláty, jako například methylakrylát, ethylakrylát, butylakrylát, 2-ethylhexylakrylát, 2-hydroxyethylakrylát, izobomylakrylát, methylmethakrylát nebo ethylmethakrylát. Dalšími příklady takových sloučenin jsou akrylnitril, akrylamid, methakrylamid, N-substituovaný akrylamid, N-substituovaný methakrylamid, vinylestery, jako vinylacetát, vinylethery, jako izobutylvinylether, dále styren, alkylstyreny, halogenstyreny, N-vinylpyrrolidon, vinylchlorid nebo vinylidenchlorid.
Příkladem monomerů s větším počtem dvojných vazeb jsou ethylenglykoldiakrylát, propylenglykoldiakrylát, neopentylglykoldiakrylát, hexamethylenglykoldiakrylát nebo bisfenol-A-diakrylát, 4,4'-bis-(2-akiyloyloxyethoxy)difenylpropan, trimethylolpropan-triakrylát, pentaerythritol-trialkylát, pentaerythritol-tetraalkylát, pentaerythritol-divinylether, vinylakrylát, divinylbenzen, divinylsukcinát, diallylftalát, triallylfosfát, triallylizokyanurát, tris-(2-akryloylethyl)izokyanurát nebo divinylethery, například triethylenglykoldivinylether.
Příkladem vysokomolekulámích (oligomemích) několikanásobně nenasycených sloučenin jsou akrylované epoxidové pryskyřice, akrylované polyethery, akrylované polyurethany nebo akrylované polyestery. Dalšími příklady nenasycených oligomerů jsou nenasycené polyesterové pryskyřice, které se nejčastěji vyrobí z kyseliny maleinové nebo kyseliny ftalové a jednoho nebo většího počtu diolů a které mají molekulovou hmotnost přibližně od 500 do 3000. Takové nenasycené oligomery se mohou také označit jako prepolymery.
Často se používají dvojsložkové směsi prepolymeru sjedním několikanásobně nenasyceným monomerem nebo třísložkové směsi, které ještě kromě svrchu uvedených složek obsahují jednoduše nenasycený monomer. Prepolymery jsou přitom v první řadě směrodatné pro vlastnosti lakového filmu a odborník může jejich změnou ovlivnit vlastnosti vytvrzeného filmu. Několikanásobně nenasycené monomery fungují jako zesíťovací prostředky, které způsobují nerozpustnost lakového filmu. Jednoduše nenasycený monomer působí jako reaktivní ředidlo, s jejichž pomocí se snižuje viskozita, aniž by se muselo použít rozpouštědlo.
Takové dvojsložkové a třísložkové systémy na bázi prepolymerů se používají jak pro tiskové barvy, tak také pro laky, fotorezisty nebo jiné fotovytvrditelné hmoty.
Nenasycené polyesterové pryskyřice se používají nej častěji ve dvoj složkovém systému společně s jednoduše nenasyceným monomerem, s výhodou se styrenem. Pro fotorezisty se používají zvláštní jednosložkové systémy, jako například polymaleinimidy, polychalkony nebo polyimidy, jako jsou popsány v německém zveřejňovacím spise č. 23 08 830.
Nenasycené sloučeniny se mohou také používat ve směsi s nefotopolymerovatelnou složkou vytvářející film. Takovou látkou může být například látka fyzikálně vysušující polymer nebo její roztoky v organických rozpouštědlech, jako je nitrocelulóza nebo acetobutyrát celulózy. Takovou látkou však také může být chemicky nebo tepelně vytvrditelná pryskyřice, jako je polyizokyanát, polyepoxid nebo melaminová piyskyřice. Společné použití tepelně vytvrditelných piyskyřic je důležité pro použití v tak zvaných hybridních systémech, které se v prvním stupni fotopolymerují a ve druhém stupni zesíťují dodatečným tepelným zpracováním.
Fotopolymerovatelné směsi mohou kromě fotoiniciátoru obsahovat různé přísady. Jejich příkladem jsou tepelné inhibitory, které zabraňují předčasné polymerací, jako například hydrochinon nebo stericky bráněné fenoly. Ke zvýšení stálosti při skladování v temnu se může použít například sloučenin mědi, sloučenin fosforu, kvartémích amoniových sloučenin nebo hydroxylaminoderivátů. Za účelem vyloučení vzdušného kyslíku během polymerace se může přidávat parafín
-4CZ 292028 B6 nebo podobné voskovité látky, které se na počátku polymerace dostanou na povrch. Jako prostředky proti působení světla se mohou přidávat malá množství absorbéru ultrafialového záření, jako například benztriazolového, benzofenonového, hydroxyfenyl-sym.-triazinového nebo oxalanilidového typu. Ještě lepší je přídavek prostředku zabraňujícího působení světla, který neabsorbuje ultrafialové záření, jako například stericky bráněných aminů (HALS).
K urychlení fotopolymerace se mohou přidávat aminy, jako například triethanolamin, Nmethyldiethanolamin, ethylester kyseliny p-dimethylaminobenzoové nebo Michlersův keton. Účinek aminu se může zesílit přidáním aromatických ketonů typu benzofuranu.
Urychlení fotopolymerace se může dále dosáhnout přídavkem fotosenzibilizátorů, které posunují nebo rozšiřují spektrální citlivost. Takovými sloučeninami jsou zvláště aromatické karbonylové sloučeniny, jako jsou deriváty benzofenonu, deriváty thioxanthonu, deriváty anthrachinonu a deriváty 3-akiylkumarinu, stejně jako 3-(aroylmethylen)thiazoliny.
Dalšími obvyklými přísadami jsou, vždy podle účelu použití, optické zjasňovací prostředky, plniva, pigmenty, barviva, povrchově aktivní látky nebo prostředky usnadňující rozliv.
Sloučeniny obecného vzorce I podle tohoto vynálezu se jako fotoiniciátory hodí zvláště k vytvrzování polymerovatelných hmot, jež obsahují látky, které zamezují průsvitnosti světla.
K vytvrzení přímého nebo pigmentovaného povrstvení se hodí přísada skleněných mikrokuliček nebo skleněných vláken v práškové formě, jako je popsáno v patentu US 5 013 768.
Předmětem tohoto vynálezu je také směs pro polymeraci, jejíž podstata spočívá v tom, že obsahuje
a) alespoň jednu ethylenicky nenasycenou fotopolymerovatelnou sloučeninu a
b) jako fotoiniciátor hmotnostně 0,05 až 15 %, zvláště 0,2 až 5 %, vztaženo na směs jako celek, alespoň jednoho derivátu alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I, vymezeného výše.
Uvedená směs kromě toho může obsahovat ještě jiný fotoiniciátor a/nebo jiné přísady.
Účelně směs uvedená výše obsahuje jako složku a) alespoň jednu fotopolymerovatelnou ethylenicky nenasycenou sloučeninu rozpustnou nebo emulgovatelnou ve vodě.
Podle výhodného provedení tohoto vynálezu směs pro polymeraci vymezená výše obsahuje jako (b) fotoiniciátor hmotnostně 0,05 až 15 %, zvláště 0,2 až 5 %, vztaženo na směs jako celek, alespoň jednoho derivátu alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I, a kromě této složky (b) obsahuje hmotnostně 0,05 až 15 %, vztaženo na směs jako celek, ještě jiného fotoiniciátoru a/nebo přísady.
Vodné prepolymerové disperze vytvrditelné zářením jsou v řadě variací komerčně dostupné. Pod použitím označením se rozumí disperze vody a alespoň jednoho prepolymeru dispergovatelného ve vodě. Koncentrace vody v těchto systémech je například od 5 až do 80 % hmotnostních, zvláště od 30 do 60 % hmotnostních. Prepolymery nebo směsi prepolymerů vytvrditelné zářením jsou obsaženy například v koncentracích od 95 do 20 % hmotnostních, zvláště od 70 do 40 % hmotnostních. V těchto směsích je součet procentuálního údaje obsahu vody a prepolymeru vždy 100, přičemž pomocné látky a přísady se ke směsím přidávají vždy podle účelu v rozdílných množstvích.
U zářením vytvrditelných a často také rozpuštěných fílmotvomých prepolymerů dispergovaných ve vodě jde o vodné disperze prepolymerů o sobě známých monofunkčních nebo polyfunkčních ethylenicky nenasycených prepolymerů iniciovatelných volnými radikály, které například
-5CZ 292028 B6 obsahují od 0,01 do 1,0 mol, na 100 g prepolymeru, polymerovatelných dvojných vazeb, stejně jako mají přinejmenším molekulovou hmotnost například alespoň 400, zvláště od 500 až do 1000. Vždy podle účelu použití přicházejí však také v úvahu prepolymery s vyšší molekulovou hmotností. Jde například o polyestery obsahující polymerovatelné dvojné vazby uhlík-uhlík s číslem kyselosti nejvýše 10, polyethery obsahující polymerovatelné dvojné vazby uhlík-uhlík, reakční produkty z polyepoxidů obsahujících alespoň dvě epoxidové skupiny na molekulu, které obsahují hydroxyskupiny, s nejméně jednou α,β-ethylenicky nenasycenou karboxylovou kyselinou, polyurethanakiyláty a polyurethanmethakryláty, jakož i akiylové kopolymery obsahující α,β-ethylenicky nenasycené akrylové zbytky, jako jsou popsány v evropském patentu EP 12 339. Směsi těchto prepoiymerů mohou být rovněž použity. Kromě toho v úvahu přicházejí polymerovatelné prepolymery popsané v evropském patentu EP 33 896, u kterých jde o thioetherové adukty polymerovatelných prepoiymerů se střední molekulovou hmotností alespoň 600, obsahem karboxyskupin od 0,2 do 15 % a obsahem polymerovatelných dvojných vazeb uhlík-uhlík od 0,01 do 0,8 mol na 100 g prepolymeru. Jiné vhodné vodné disperze na bázi zvláštních polymerů alkylesteru kyseliny akiylové a alkylesteru kyseliny methakrylové jsou popsány v evropském patentu EP41 125. Vhodné ve vodě dispergovatelné prepolymery vyrobené z urethanakrylátů, které jsou vytvrditelné zářením, se uvádějí v německém patentu DE 29 36 039A.
Jako další přísady mohou vodné prepolymeraci disperze vytvrditelné zářením obsahovat dispergační pomocná činidla, emulgátory, antioxidační přípravky, stabilizátory proti účinkům světla, barviva, pigmenty, plniva, jako například mastek, sádru, kyselinu křemičitou, rutil, saze, oxid zinečnatý, oxid železitý, urychlovače reakce, prostředek usnadňující rozliv, mazadlo, povrchově aktivní látku, zahušťovadlo, matovací prostředek, odpěňovač a jiné pomocné prostředky obvyklé v lakařské technologii. Jako dispergační pomocné činidlo přicházejí v úvahu vysokomolekulámí organické sloučeniny s polárními skupinami, jako například polyvinylalkoholy, polyvinylpyrrolidon nebo estery celulózy. Jako emulgátory se mohou používat emulgátory neiontcvého nebo popřípadě také iontového charakteru.
V určitých případech může být výhodné používat směsi dvou nebo většího počtu fotoiniciátorů podle tohoto vynálezu. Je samozřejmé, že se mohou používat také směsi se známými fotoiniciátory, například směsi s benzofenonem, deriváty acetofenonu, ethery benzoinu, benzilketaly, monoacylfosfinoxidy, dalšími bisacylfosfinoxidy, peroxyestery nebo titanoceny.
Předmětem tohoto vynálezu je také směs pro polymeraci vymezená svrchu, jejíž podstata spočívá v tom, že dodatkovými fotoiniciátory jsou sloučeniny obecného vzorce II
kde znamená
R» atom vodíku,
R5 a Ré nezávisle na sobě atom vodíku, alkylovou skupinu s 1 až 6 atomy uhlíku, fenylovou skupinu, alkoxyskupinu s 1 až 4 atomy uhlíku, nebo
R5 a Ré dohromady s atomem uhlíku, na který jsou vázány, cyklohexylový kruh,
R7 hydroxyskupinu nebo alkoxyskupinu s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo sloučeniny obecného vzorce III
-6CZ 292028 B6
(III), ve kterém znamenají
Rg, Rio a Rn nezávisle na sobě atom vodíku nebo methylovou skupinu, nebo jejich směsi.
Podle výhodného provedení tohoto vynálezu směs pro polymeraci obsahuje sloučeninu obecného vzorce II, kde R5 a R^ znamenají nezávisle na sobě alkylovou skupinu s 1 až 6 atomy uhlíku nebo ío tvoří dohromady s atomem uhlíku, na který jsou vázány, cyklohexylový kruh a R7 znamená hydroxyskupinu.
Podle jiného výhodného provedení tohoto vynálezu ve směsi pro polymeraci odpovídá hmotnostní podíl derivátu alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I smíšeného se sloučeninami obecné15 ho vzorce II a/nebo sloučeninami obecného vzorce III 5 až 95 %, s výhodou 30 až 70 %.
Podle účelného provedení tohoto vynálezu směs pro polymeraci obsahuje derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I, kde Ri znamená n-butylovou, izobutylovou nebo 2,4,4-trimethyl-l-pentylovou skupinu, R2 a R3 jsou stejné a znamenají 2,6-dimethoxyfenylovou skupinu 20 nebo 2,4,6-trimethylfenylovou skupinu a sloučeninu obecného vzorce II, kde Rs a jsou stejné a znamenají methylovou skupinu a R7 znamená hydroxyskupinu nebo izopropoxyskupinu.
Podle jiného účelného provedení tohoto vynálezu směs pro polymeraci obsahuje derivát alkylbisacylfosfinoxidu obecného vzorce I, kde Ri znamená n-butylovou, izobutylovou nebo 2,4,425 trimethyl-l-pentylovou skupinu a R2 a R3 jsou stejné a znamenají 2,6-dimethoxyfenylovou skupinu nebo 2,4,6-trimethylfenylovou skupinu, a směs sloučenin obecného vzorce III, kde sloučeniny obecného vzorce III, ve kterém Ř9 a R]0 jsou stejné a znamenají atom vodíku a Rn znamená methylovou skupinu, jsou obsaženy ve hmotnostním množství až do 20 % a sloučeniny obecného vzorce III, ve kterém R9, Ri0 a Rn jsou stejné a znamenají methylovou skupinu, jsou 30 obsaženy v hmotnostním množství až do 80 %.
Předmětem tohoto vynálezu konečně je použití derivátu alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I vymezeného svrchu jako fotoiniciátoru pro fotopolymeraci ethylenicky nenasycených sloučenin.
Rs a Rg jako alkylová skupina s 1 až 6 atomy uhlíku a R7 jako alkylová skupina s 1 až 4 atomy uhlíku mohou mít stejné významy, jako jsou popsány pro Rb až do právě uvedeného počtu atomů uhlíku.
R5, Re a R7 jako alkoxyskupiny obsahující 1 až 4 atomy uhlíku mohou mít stejné významy, jako jsou popsány pro R> až do odpovídajícího počtu atomů uhlíku. S výhodou znamenají zvláště methoxyskupinu a ethoxyskupinu.
Výhodné jsou směsi, kde ve sloučenině obecného vzorce II R5 a R6 představují nezávisle na sobě 45 alkylovou skupinu s 1 až 6 atomy uhlíku nebo tvoří dohromady s atomem uhlíku, na který jsou vázány, cyklohexylový kruh a R7 představuje hydroxyskupinu.
Důležité jsou tedy směsi, ve kterých ve sloučenině obecného vzorce I Ri znamená n-butylovou skupinu, izobutylovou skupinu nebo 2,4,4-trimethyl-l-pentylovou skupinu, R2 a R3 jsou stejné a znamenají 2,6-dimethoxyfenylovou skupinu nebo 2,4,6-trimethylfenylovou skupinu a ve sloučenině obecného vzorce II R5 a Ré jsou stejné a znamenají methylovou skupinu a R?
představuje hydroxyskupinu nebo izopropoxyskupinu.
Rovněž důležité jsou směsi obsahující sloučeninu obecného vzorce I, ve kterém Ri znamená n-butylovou skupinu, izobutylovou skupinu nebo 2,4,4-trimethyl-l-pentylovou skupinu, R2 aR3jsou stejné a znamenají 2,6-dimethoxyfenylovou skupinu nebo 2,4,6-trimethylfenylovou skupinu a směs sloučenin obecného vzorce III, ve které sloučeniny obecného vzorce III, kde R9 aRio, které jsou stejné, znamenají atom vodíku a Rn představuje methylovou skupinu, jsou obsaženy v množství až do 20 % a sloučeniny obecného vzorce III s R9, Ri0 a Rn znamenajícím vždy methylovou skupinu, jsou obsaženy v množství až do 80 %.
Zajímavé ze všech případů jsou svrchu popsané směsi, které obsahují směsi fotoiniciátorů tvořených sloučeninami obecného vzorce I, obecného vzorce II a/nebo obecného vzorce III, které jsou za teploty místnosti kapalné.
Způsob výroby sloučenin obecného vzorce II a obecného vzorce III je obecně znám a část sloučenin je dostupná na trhu. Způsob výroby oligomemích sloučenin obecného vzorce II je například popsán v patentu EP 0 161 463 A. Popis výroby sloučenin obecného vzorce III lze seznat například z patentu EP 209 831 A.
Průmyslová využitelnost
Směsi pro polymeraci se mohou používat k různým účelům, jako pro fotopolymeraci, například jako tiskové barvy, jako čiré laky nebo jako bílé laky, například pro dřevo a kovy, jako nátěrová hmota mimo jiné pro papír, dřevo, kov nebo plastickou hmotu, jako pestře pigmentované laky, jako nátěr pro stavby a pouliční značení vytvrditelné denním světlem, pro výrobu čirých nebo pigmentovaných vodných disperzí, pro fotografické reprodukční způsoby, pro způsoby zobrazování nebo pro výrobu tiskových desek, které se mohou vyvíjet organickými rozpouštědly nebo ve vodně alkalickém prostředí, pro výrobu masek pro sítový tisk, jako zubní výplně, jako lepidla, jako leptané nebo permanentní rezisty a jako masky zastavující leptání pro tištěné elektronické spoje, pro výrobu trojrozměrných předmětů vytvrzováním hmoty (ultrafialovým zářením v transparentní formě) nebo podle stereolitografického způsobu, jako je například popsán v patentu US 4 575 330, pro výrobu kombinovaných technických materiálů (například styrenem modifikovaných polyesterů, které popřípadě mohou obsahovat skelnou výplň nebo jiné pomocné látky) a jiných tlustovrstvých hmot, kpovrstvení nebo neprodyšnému uzavření elektronických částí nebo jako povlaky pro optická vlákna.
Fotovytvrditelné směsi podle tohoto vynálezu se hodí například jako látky k povrstvené substrátů všeho druhu, například papíru, keramiky, plastických hmot, jako polyesteru a filmu zacetátu celulózy a také kovů, jako mědi a hliníku, u kterých se má fotopolymeraci vytvořit ochranná vrstva nebo zajistit zobrazení.
Povrstvení substrátu se může provést, jestliže se kapalná směs, roztok nebo suspenze nanese na substrát. To se provádí například máčením, nanášením štětcem nebo nanášením pomocí reverzního válce. Nanesené množství (tloušťka vrstvy) a druh substrátu (látka nesoucí vrstvu) jsou nezávislé na požadované oblasti aplikace. Jako látka nesoucí vrstvu pro fotografický informační záznam slouží například fólie z papíru, opatřeného vrstvou polyesteru, acetátu celulózy nebo plastické hmoty, pro ofsetové tiskové formy zvláštním způsobem zpracovaný hliník a pro výrobu tištěných spojů mědi kašírované lamináty. Tloušťka vrstvy pro fotografické materiály a ofsetové tiskové formy činí obecně od přibližně 0,5 do zhruba 10 pm. Při společném použití rozpouštědla se toto rozpouštědlo odstraňuje po povrstvení.
-8CZ 292028 B6
Velký význam má fotovytvrzování pro tiskové barvy, protože doba sušení pojívaje rozhodujícím faktorem pro rychlosti produkce grafických výrobků a má být řádové velikosti zlomků sekund.
Zvláště pro ofsetový tisk mají význam barvy vytvrditelné ultrafialovým zářením.
Směsi podle tohoto vynálezu se dobře hodí také pro výrobu tiskových desek pro flexotisk nebo knihtisk. Přitom se používají například směsi rozpustných polyamidů s přímým řetězcem nebo styrenbutadienového kaučuku s fotopolymerovateínými monomery, například akiylamidy nebo akiylestery a fotoiniciátorem. Filmy a desky z těchto systémů (vlhké nebo suché) se osvětlí přes negativ (nebo pozitiv) tiskové předlohy a nevytvrzená část se nakonec eluuje vhodným rozpouštědlem. Vyvíjení se může provádět jak v organickém rozpouštědle, tak také ve vodné alkalickém prostředí.
Další oblastí použití fotovytvrzování je povrstvování kovů, například při lakování plechů, trubek, krabic nebo uzávěrů láhví, stejně jako fotovytvrzování při povrstvení plastických hmot, například podlahových ploch nebo obkladových stěn na bázi polyvinylchloridu.
Příkladem pro fotovytvrzování povrstveného papíru je bezbarvé lakování etiket, obalů gramofonových desek nebo přebalů knih.
Důležité je také použití fotovytvrditelných směsí pro způsob zobrazení a k optické výrobě informačních nosičů. Přitom se vrstva nanesená na nosnou látku (vlhká nebo suchá) ozařuje přes fotomasku krátkovlnným zářením a neozářená část vrstvy se odstraní působením rozpouštědla (vyvíjecího činidla). Nanesení fotovytvrditelné vrstvy se může provádět také elektrickým způsobem vylučování na kov. Ozářená místa polymemě zesíťují, tím se stanou nerozpustnými a zůstanou na nosné látce. Při odpovídajícím vybarvení vzniká viditelný obraz. V nosné látce je metalizovaná vrstva, tak se může po ozáření a vyvolání na neosvětlených místech odleptat kov nebo se kov může zesílit galvanizací. Tímto způsobem se vyrábějí tištěné elektronické spoje a fotorezisty.
Polymerace se provádí o sobě známými způsoby fotopolymeračního ozařování slunečním světlem nebo zářením, které je bohaté v krátkovlnné oblasti. Jako zdroje záření jsou vhodné například středotlaké, vysokotlaké a nízkotlaké ruťové zářiče, superaktinické trubice s luminiscenční látkou, zdroje světla na bázi halogenidu kovu nebo lasery, kterých emisní maximum je v oblasti od 250 do 450 pm. Záření vyzařované laserovým zdrojem má přednost v tom, že není zapotřebí maska, protože laserové záření může psát řízeným laserovým paprskem přímo na fotovytvrditelnou vrstvu. V případě kombinace s fotosenzibilizačním činidlem se může použít také dlouhovlnné záření nebo laserové záření až do vlnové délky 600 nm.
Předmětem vynálezu je také způsob fotopolymerace sloučenin sethylenicky nenasycenými dvojnými vazbami, který spočívá v tom, že se směs, jako je popsaná výše, ozařuje zářením o vlnové délce v rozmezí od 200 do 600 nm.
Fotoiniciátory podle tohoto vynálezu mají vysokou reaktivitu a při jejich použití se získají lakované povrchy s dobrou hodnotou lesku. Kvůli malému sklonu ke žloutnutí jsou sloučeniny podle tohoto vynálezu zvláště vhodné k použití v bílých lacích, jejich schopnost umožňuje vytvrdit tenké vrstvy, které se používají pro výrobu tiskových desek a kombinovaných technických materiálů. Lakováním vytvrditelných směsí podle tohoto vynálezu na denním světle se může jejich tvrdost ještě zvýšit a může ještě dále poklesnout hodnota změny zbarvení.
Příklady provedení vynálezu
Následující příklady dále osvětlují vynález. Údaje v dílech nebo procentech se vztahují na hmotnost, pokud není uvedeno jinak a tak je tomu i ve zbývajícím popisu a patentových nárocích.
-9CZ 292028 B6
V tabulkách se uvádí zkratka ,.vyp.“ pro vypočtené hodnoty elementární analýzy. Zkratka „nal.“ se v tabulkách uvádí pro skutečně stanovené hodnoty elementární analýzy.
Příklad 1
Způsob výroby bis-(2,4,6-trimethylbenzoyl)izobutylfosfínoxidu
K roztoku 31,9 ml (0,225 mol) diizopropylaminu v 80 ml tetrahydrofuranu se pod dusíkovou atmosférou přikape během 30 minut 140,6 g (0,225 mol, l,6molámího) butyllithia za teploty 0 °C. Získaný roztok se během 90 minut za teploty -30 °C přikape k roztoku 41,1 g (0,225 mol) 2,4,6-trimethylbenzoylchloridu a 12 ml (0,102 mol) izobutylfosfinu ve 200 ml tetrahydrofuranu. Po 2 hodinách míchání za teploty -30 °C se nechá žlutý roztok ohřát na teplotu místnosti a promyje se jednou vodou. Organická fáze se vysuší síranem hořečnatým, filtruje a odpaří na rotační odparce. Odparek se rozpustí ve 200 ml toluenu a uvede do styku s 11,6 g (0,102 mol) 30% peroxidu vodíku. Po dvouhodinovém míchání se provede proprání vodou a potom nasyceným roztokem hydrogenuhličitanu sodného. Reakční směs se poté vysuší síranem hořečnatým, odfiltruje a roztok se odpaří na rotační odparce. Po krystalizací z hexanu se získá 27,8 g svrchu pojmenované sloučeniny, kterou tvoří žlutý prášek, jehož teplota tání činí 85 až 86 °C. Výtěžek odpovídá 68,5 % teorie.
Elementární analýza:
vypočteno: 72,34 % C, 7,84 % H, nalezeno: 72,13 % C, 7,94 % H.
Příklad 2
Způsob výroby bis-(2,6-dimethoxybenzoyl)-n-butylfosfinoxÍdu
K roztoku 44,1 g (0,22 mol) 2,6-dimethoxybenzoylchloridu ve 200 ml toluenu se za teploty 100 až 110°C přikape během 60 minut směs 18 g (0,10 mol, 50% v toluenu) n-butylfosfinu a 30,7 ml (0,22 mol) triethylaminu. Po šestihodinovém míchání za teploty 100 až 110°C se vzniklá suspenze ochladí na teplotu místnosti, zředí toluenem a promyje nejprve jednou vodou a potom jednou nasyceným roztokem hydrogenuhličitanu sodného. Organická fáze se uvede do styku s 11,3 g (0,10 mol) 30% peroxidu vodíku a míchá za teploty 40 °C po dobu 2 hodin. Reakční směs se potom postupně promyje vodou a nasyceným roztokem hydrogenuhličitanu sodného, vysuší síranem hořečnatým, filtruje a odpaří na rotační odparce. Po krystalizací z ethylacetátu se dostane 30,2 g sloučeniny pojmenované v nadpise, kterou tvoří žlutý prášek, jehož teplota tání je 151 až 152 °C. Výtěžek odpovídá 69,6 % teorie.
Elementární analýza:
vypočteno: 60,83 % C, 6,26 % H, nalezeno: 60,84 % C, 6,35 % H.
Příklady 3 až 25
Sloučeniny z příkladů 3 až 25 se vyrobí analogickým způsobem jako sloučeniny z příkladu 1 (= metoda A) nebo jako sloučenina z příkladu 2 (= metoda B), za použití odpovídajícím způsobem substituovaného benzoylchloridu a fosfinu. Sloučeniny a jejich analytické údaje jsou shromážděny v tabulce 1.
-10CZ 292028 B6
« a • i—1 íO 'Ν’ *- *r co T co rr co to σι co co CD Ol CD Ν' CO b- in cn
G co o co σι cq o. co o co co o cd CM O CM CM CM v co co
/< co r*‘ b- b~ co b- co CO CO co o CD CD CO CD CO CD CD CD
X X X X X X X X X
Ή
c 0*
4vJ 4J nJ co «<r co xř T- co σ» co co CO b~ co o co to CO o O o
G bJ co o CO CM CO. CM ui co. 01 co Ol Ol co b. C3 b- CD O <0 v
OJ CM í* CM CM CM CM co co co co CO CO O o O o O o CN CN
E b· b- b· Γ- b· b· b- r* b- b- h*. b» CD CO CO CD CO CD CD CD
0) o o o O O o O o O O
r-4 c
a
>,
Ό N
O d)
+J 4J < < < < < < ω CD CD CD
0) C
Σ >1
1 'flj ·**» a Φ
4J u 1 ϋ i u
» tt -H W -1-i
rH cn IO o O >1 >L CO cn LO LD
a U) v* CD Μ- u >< K, >1 03 m co O
0) •rl T— T“· a x a x T“ CN
C
rs co eo CO CO CO
u cr I o CH CH X o Q X o 23 X X
co co <0 co
CQ CO <0 o <0 co CO X X T
rr X X X X X X o o o Ó
o ϋ o o o o o o o o
co ¢0 co CO
« co co co co eo T X ·. - X
cc X X X X X X o o o o
o o o o o O o o o o
Tabulka
J Ό
•P rH
a X
o
-Si <n
X w
o X
X o
o o
o
*co o
X -?i
o -r
z
o o
-11 CZ 292028 B6
« o. « rH cn cm
>1 <0 T- CM
> c b b
Ή ·**·* X
c
Li
p ίΰ co to cd n
C <D N '>1
E 2 8
w a G o
w <0
<3 >1
Ό N
0 0)
-U P o
<D c
X
σ> ττ o © CD © co σ> ID N co co co co to
>— O T- CO T- O LO V CO ID b b b © b
b-‘ b·’ b b b b © 00 b b co CD co' td td
X X X X X X X
CO X X OJ «·« X OJ VI X
O o o ϋ
o o o o
Tabulka 1 - pokračováni
í Ό
*r4 ΐϋ
•M rH
0* X
o Ίο X o X o CM X o ID X CN O co X O X Q © © X O X o CM τΟ J© © X o X o J© ó © Ίο X o X o © -r ΰ © © X o ·*-»* T· 6 © X o _© © X O X o © X o
v tD © b co σ> o
V“ T“ v— ©
- 12CZ 292028 B6
• ♦ Qc r-i > c
Ή -
S <N> CO CO co o b~ b. 04 tO tp OJ
M s-* b- co r~ b- OJ v V CO OJ co
íB co co co <o co co CO CO F- Γ-
4-> «J C N I X X T X
ω ·>, n
CO O) co o v- co OJ co <0
0) <0 OJ CO V- CM v- o σ> cn o
i—í η CO OJ 04 OJ co co o σί co’ b-
M tO o <° CO co b- b- F- co CO CD
O O O O
«5 >i Ό. N OX(D 4-» 4-> m m < < <
Φ C S >4
ω
1 '(0 m CO Φ
•u o • · iH **— b- 1 v U) CXI i υ » ·Η •o Φ •rv Φ
0« O ·Η ft e Ύ— m H >1 a a rH 0 *—i O
O
X ,3 rt X
arf X X 8 8
rt o
X X
o o
CM CM
« X X rt rt rt
Q o X X X
cc O O o o o
co rt
X X rt rt rt
rf! o o X X X
c? o o o o ω
rt
'rt
X
o
o
CM
X
<M V) o
rt X
[CH CM O X o
X X II
O Q o o O
Ύ· x CM X X CM X X X
o o o o ω
t Ό a co OJ
rl UJ M r-4 OJ u> OJ CD OJ
PL 44
-13CZ 292028 B6
Tabulka 1 - pokračováni
EU Γ-1
>( (0
> c
Ή σ> co
c co co o o v o co o
s—* co b- O T- r> co CM CO b- co
•<0 K b- co co- co co cn σ> CO co
4J <0 I Z Z X X
C N
Φ ·>, t- O> CM CO
g tn w- M· b- m o
Φ rt3 t- O r- CO CM σ> co ΙΛ CM
H 5? c (C gg σ> co co co co co CO CO O) cn CD CO cd co co CD
o O O o o
za
Ό N
0 s Φ
4J 4-» < < m m co
Φ c
S
«Α- >ja
•fij
4J υ
H • Χ-» •n Φ •n Φ co Tl Φ
Uj Φ Ή H 0 i-í 0 8 O N co
u <0 X Z* £ w o> χ
o O Q Q
£C o O 0 Ó X
z
o
CO CM
Z Z a O
o o z z o
ffl CM CM *r í-
Z Z O o o
oc o o o O o
to
co r> <*3 O -r
<< z z X X o
tt o o o o o
rj
to
z
o
o
CM
X
ϋ
z
o
X
O) X o X £
v *T X
Q Q o O o
1 Ό
Ή 10 r- OD σ> o t-4
»k r4 CM CN CM cn co
Uj 24
- 14CZ 292028 B6
Příklad 39
Způsob výroby 2,6-dimethoxybenzoyl-2,4,6-trimethylbenzoyl-n-butylfosfinoxidu
K roztoku 9,1 g (0,05 mol) 2,4,6-trimethylbenzoylchloridu ve 100 ml toluenu se přikape pod dusíkovou atmosférou za teploty 100 až 110°C směs 9,0 g (0,05 mol, 50% v toluenu) nbutylfosfinu a 10,1 ml (0,10 mol) triethylaminu v průběhu 10 minut. Po tříhodinovém míchání za teploty 100 až 110 °C se při nezměněné teplotě během 30 minut přikape roztok 10 g (0,05 mol) 2,6-dimethylbenzoylchloridu v 50 ml toluenu. Po dalším pětihodinovém míchání za teploty 100 až 110°C se vzniklá žlutavá suspenze nechá ochladit na teplotu místnosti a promyje jednou vodou a jednou nasyceným roztokem hydrogenuhličitanu sodného. Organická fáze se uvede do styku s 5,7 g (0,05 mol) 30% peroxidu vodíku a míchá za teploty 60 °C po dobu 2 hodin. Reakční směs se potom postupně promyje vodou a nasyceným roztokem hydrogenuhličitanu sodného, vysuší síranem hořečnatým, filtruje a odpaří na rotační odparce. Po chromatografickém přečištění (eluční činidlo: směs hexanu a ethylacetátu v poměru 1:1) a následující krystalizací z cyklohexanu se dostane 1,80 g sloučeniny pojmenované v nadpise, kterou tvoří žlutý prášek, jehož teplota tání je 94 až 96 °C. Výtěžek odpovídá 8,7 % teorie.
Elementární analýza:
vypočteno: 66,33 % C, 7,02 % H, nalezeno: 65,61 % C, 7,04 % H.
Příklad 40
Reaktivita fotoiniciátoru v bílém laku
Fotoiniciátory v koncentraci 0,5 a 1 % hmotnostní se zapracují do formulace bílého laku, která sestává z:
67,5 dílů ®Ebercryl 830 (polyesterakrylát firmy UCB, Belgie),
5,0 dílů hexandioldiakrylátu,
2,5 dílů trimethylolpropantriakrylátu a
25,0 dílů oxidu titaničitého (R-TC2) typu rutilu.
Zkušební vzorek se nanese pomocí 100 pm štěrbinového stěrače na upínací desku a vytvrdí působením středotlakého rtuťového zářiče (80 W, typ Hanovia) při rychlosti pásku lOm/min. Stanoví se počet průchodů až do dosažení odolnosti proti stírání. U takto vytvrzené vrstvy bílého laku se hned po vytvrzení měří tvrdost zjišťovaná kladivovým přístrojem podle Koniga (podle německé normy DIN 53 157). Poté se vzorek dále ozařuje pod čtyřmi 40W zdroji záření (Philips TL 03) a po 15 minutách nebo 16 hodinách se znovu stanoví tvrdost zjišťovaná kladivovým přístrojem. Index žloutnutí se stanoví podle americké normy ASTM D 1925-70 po 16 hodinách.
Tvrdost zjišťovaná kladivovým přístrojem a odolnost proti stírání jsou měřítkem reaktivity testovaného fotoiniciátoru. Čím menší je počet průchodů k dosažení odolnosti proti stírání a čím se změří vyšší hodnota tvrdosti stanovená kladivovým přístrojem, tím reaktivnější je fotovytvrzovací prostředek. Měřítkem žloutnutí je hodnota indexu žloutnutí. Čím menší je tato hodnota, tím menší je žloutnutí testované formulace.
Výsledky měření jsou shrnuty v dále uvedené tabulce 2.
- 15CZ 292028 B6
Tabulka 2
Sloučenina z příkladu Koncentrace (% hmot.) Počet průchodů (10 m/min) hned Tvrdost*’ Ρθ 15 min Ρθ 16h Index žloutnutí po 16 h
4 0,5 5 165 179 185 1,2
1,0 3 164 182 197 1,2
7 0,5 6 164 169 178 1,1
1,0 4 178 184 199 1,2
13 0,5 6 157 160 174 1,4
1,0 4 158 172 186 1,6
Tvrdost zjišťována kladivovým přístrojem
Příklad 41
Reaktivita fotoiniciátoru v bílém laku
Bílý lak se připraví ze 75 dílů formulace, která sestává z 99,5 % Roskydal UV 502A (firma Bayer, SRN), 0,5 % Byk 300 (Byk-Mallinckrodt) a 25 dílů oxidu titaničitého. Do tohoto bílého laku se zapracuje fotoiniciátor v dále uvedené koncentraci protřepáním s kuličkami (při koncentraci 2 % hmotnostních fotoiniciátoru) nebo mícháním za teploty 50 °C (při koncentraci 1,5 % hmotnostního fotoiniciátoru). Poté se formulace se 150pm štěrbinovým stěračem nanese na upínací desku a podrobí předběžnému ozařování po dobu 90 sekund pod čtyřmi 40W zdroji záření (Philips TL 03). Další vytvrzování se provádí dvěma variantami ozařování:
a) Zkušební vzorek se ozařuje při rychlosti pásku lOm/min dvakrát pod středotlakým rtuťovým zářičem (80 W/cm, typ Hanovia).
b) Zkušební vzorek se vytvrzuje při rychlosti pásku 3 m/min dvakrát pod zdrojem záření 120 W/cm Fusion D a středotlakým rtuťovým zářičem (80 W/cm, typ Hanovia), které jsou uspořádány za sebou.
U vytvrzené vrstvy se změří tvrdost zjišťovaná kladivovým přístrojem podle Koniga (DIN 53 157) hned, po 15 minutách a po 16 hodinách dalšího ozařování pod zdrojem záření 40 W (Philips TL 03). Čím vyšší hodnota, tím lépe je formulace vytvrzena. Žloutnutí (index žloutnutí, YI) vrstev se stanoví po dodatečném ozařování po dobu 16 hodin podle normy ASTM D 192570. Čím nižší hodnota, tím menší je žloutnutí vrstvy. Výsledky ozařování podle varianty a) jsou uvedeny v tabulce 3. Výsledky ozařování podle varianty b) jsou uvedeny v tabulce 4.
Tabulka 3
Ozařování podle varianty a)
Sloučenina z příkladu Koncentrace (% hmot.) hned Tvrdost*’ po 15 min PO 16 h Index žloutnutí po 16 h
4 1,5 108 130 179 1,0
2,0 115 147 179 1,0
6 1,5 113 130 182 0,8
2,0 120 154 188 1,0
’ Tvrdost zjišťována kladivovým přístrojem
-16CZ 292028 B6
Tabulka 4
Ozařování podle varianty b)
Sloučenina z příkladu Koncentrace (% hmot.) hned Tvrdost*) po 15 min Ρθ 16 h Index žloutnutí po 16 h
4 1,5 150 153 179 1,1
2,0 160 165 167 1,1
6 1,5 151 158 181 1,0
2,0 165 170 176 1,1
') Tvrdost zjišťována kladivovým přístrojem
Příklad 42
Reaktivita fotoiniciátorů v bílém laku
Fotopolymerační směs se připraví z těchto složek:
13,5 dílů ®Ebecryl 830 (polyesterakrylát firmy USB, Belgie),
0,5 dílu trimethylolpropantrisakrylátu (Degussa),
1,0 díl 1,6-hexandioldiakrylátu (Rohm) a
5,0 dílů oxidu titaničitého (®R-TC2 firmy Tioxide, Francie) typu rutilu.
Ktéto směsi se přimísí směs fotoiniciátorů z příkladu 14(A) s 1-benzoyl-l-hydroxy-l-methylethanem (B) v množství zřejmém z tabulky 5. Formulace se nanese ve vrstvě o tloušťce 100 μιη na hliníkový plech a takto získaný vzorek se ozařuje středotlakým rtuťovým zářičem (80 W/cm, typ Hanovia). Přitom se zkušební vzorek vede tak často pod svazkem zdrojů záření, kteiý se pohybuje rychlostí 10 m/min, až se dosáhne odolnosti proti setření lakové vrstvy. Čím menší je počet průchodů (n), tím lepší je účinek testovaného fotoiniciátorů nebo směsi fotoiniciátorů. Žloutnutí zkušebního vzorku se stanovuje jako index žloutnutí podle normy ASTMD 1925-70. Čím menší je hodnota, tím menší je žloutnutí zkušebního vzorku. Žloutnutí se měří hned po vytvrzení, po dodatečném ozařování po dobu 15 minut a 16 hodin pod 4 zdroji záření typu TL 40/03 (40 W, Philips). Výsledky jsou shrnuty do tabulky 5.
Tabulka 5
Sloučenina Koncentrace (% hmot.) Počet průchodů (10 m/min) hned Index žloutnutí Ρθ 15 min po 16 h
A 1,5 8 1,0 1,0 -0,7
A 1,0 5 1,9 2,3 -0,5
A 1,5 4 3,3 4,2 -o,i
A 2,0 3 4,1 5,9 —0,2
A 0,5 4 0,8 1,0 -1,2
B 0,5
A 0,75 3 1,6 1,7 -0,6
B 0,75
- 17CZ 292028 B6
Tabulka 5 - pokračování
Sloučenina Koncentrace (% hmot.) Počet průchodů (10 m/min) hned Index žloutnutí Ρθ 15 min po 16 h
A 1,0 2 1,8 3,1 -0,8
B 1,0
A 0,65 4 1,3 1,6 -0,9
B 0,35
A 1,0 3 1,1 0,8 -1,4
B 0,5
A 1,3 2 2,9 4,2 -0,2
B 0,7
A 0,35 4 0,8 0,7 -0,8
B 0,65
A 0,5 4 0,7 0,8 -1,2
B 1,0
A 0,7 2 1,9 2,2 -0,6
B 1,3
Příklad 43
Reaktivita fotoiniciátoru v bílém laku
Připraví se fotopolymerovatelná směs, která sestává z těchto složek:
99,5 dílů Roskydal UV 502A (firma Bayer, SRN - roztok UPES a styrenu, obsahující % styrenu a 25 % oxidu titaničitého rutilového typu) a
0,5 dílu Byk 300 (pomocný prostředek usnadňující rozliv firmy Byk-Mallinckrodt).
K této směsi se přimíchá směs fotoiniciátorů:
(C) (50 % fotoiniciátoru z příkladu 14 a % 1-benzoyl-l-hydroxy-l-methylethanu) a (D) (33 % fotoiniciátoru z příkladu 14 a % 1-benzoyl-l-hydroxy-l-methylethanu) v množství, které je zřejmé z tabulky 6.
Formulace se nanese v tloušťce vrstvy 150 pm na upínací desku a vytvrzuje za různých podmínek ozařování:
1) Zkušební vzorek se předběžně ozařuje po dobu 90 sekund pod čtyřmi zdroji záření typu TL 40/30 (40 W, Philips). Poté se provede vytvrzování pod středotlakým rtuťovým zářičem (80 W/cm) tím, že se zkušební vzorek jednou vede pod zdrojem záření rychlostí 3 m/min.
-18CZ 292028 B6
2) K vytvrzení se zkušební vzorek bez předběžného ozařování jednou vede pod dvěma středotlakými rtuťovými zářiči (80 W/cm) rychlostí 3 m/min. Jako kritérium pro posouzení se stanoví tvrdost zjištěná kladivovým přístrojem podle Koniga (podle normy DIN 53 157), index žloutnutí podle normy ASTM D 1925-70 a hodnota lesku při teplotě 20 a 60 °C. Výsledky jsou shrnuty do tabulky 6.
Tabulka 6
Fotoiniciátor Množství (% hmot.) TvrdosP Index žloutnutí Lesk (20/60 °)
1) s předběžným ozařováním C 2 93 2,3 84/92
C 4 91 3,6 84/92
D 2 75 2,2 84/92
D 4 92 2,9 84/92
2) bez předběžného ozařování
C 4 117 4,1 86/93
D 4 102 3,5 86/93
} Tvrdost zjišťována kladivovým přístrojem
Příklad 44
Reaktivita fotoiniciátoru v čirém laku
Ve 100 dílech ®Roskydal 502 (nenasycená polyesterová pryskyřice firmy Bayer, rozpuštěno na přibližně 80% roztok v butylacetátu) se rozpustí fotoiniciátor v koncentracích uvedených v tabulce 7. Je použito fotoiniciátoru z příkladu 1, stejně jako 2,2-dimethoxy-l,2-difenylethan-l-onu (= E). Formulace se nanesou ve vrstvě o tloušťce 100 pm na upínací desky a vysuší během jedné minuty za teploty 50 °C. Vytvrzování se provádí ozařováním dvěma středotlakými rtuťovými zářiči (80 W/cm), přičemž zkušební vzorek se vede pod svazkem zdrojů záření rychlostí 20 m/min. Ke stanovení reaktivity se určí počet průchodů, kterého je zapotřebí, aby se dosáhl povrch odolný proti stírání (= n). Kromě toho se stanoví tvrdost zjištěná kladivovým přístrojem podle Koniga (podle normy DIN 53 157) a index žloutnutí zkušebního vzorku podle normy ASTM D 1925-70. Tvrdost zjištěná kladivovým přístrojem se dodatečně změří po η + 1 průběhu ozařování zkušebního vzorku. Výsledky lze seznat z tabulky 7.
-19CZ 292028 B6
Tabulka 7
Fotoiniciátor Množství Počet Tvrdost^ Index
z příkladu (% hmot.) průchodů (n) (20 m/min) n Ρθ n+1 žloutnutí
E 2 2 69 91 7,2
1 2 2 124 134 8,3
22 2 3 81 112 7,8
E 1,25 2 139 148 7,5
1 0,75
E 1,25 2 127 132 6,9
1 0,75
E 1,25 2 127 132 6,9
22 0,75
*) Tvrdost zjišťována kladivovým přístrojem
Příklad 45
Způsob výroby flexografické tiskové desky
a) 1,13 dílu ®Irganox565 (antioxidační prostředek firmy Ciba-Geigy, Švýcarsko), 0,03 dílu ®Ceres Blank (pigment Sudan Black Nr. 86015 firmy Fluka, Švýcarsko) a 0,6 % fotoiniciátoru určeného ke zkoušení se rozpustí v 41,54 dílech 1,6-hexandioldiakrylátu (HDDA) při míchání během 30 minut za teploty nejvýše 50 °C. Dále se 332,30 dílů ®Cariflex TR 1107 (blokový polymer z polyizoprenu a polystyrenu firmy Shell Chemie, Nizozemsko) taví s 2g přebytkem po dobu 10 minut za teploty 140 °C na kalandru na kůži a za teploty 110 °C se přikape roztok HDDA. Přikapávání trvá přibližně 15 minut. Poté se celá formulace homogenizuje ještě 15 minut za teploty 100 °C na kalandru. Po vyjmutí z kalandru se hrubá kůže vloží mezi dvě teflonové fólie a ochladí ve vodou chlazeném lisu za tlaku 10 MPa. 70 g kůže se roztaví v 2 mm tlustém rámu lisu mezi dvěma polyesterovými fóliemi o tloušťce 76 pm a slisuje na desku o tloušťce 2 mm tím, že se „sendvič“ nejprve zahřívá jednu minutu bez použití tlaku mezi plochami lisu předehřátého na teplotu 90 °C a poté se lisuje za tlaku 20 MPa po dobu 10 minut. Poté se „sendvič“ chladí nejprve na teplotu 15 °C na vodou chlazeném lisu během 10 minut při lisovacím tlaku 20 MPa a poté se vyřízne z lisovacího rámu.
b) Nyní se ke stanovení optimální doby ozařování pro vytvoření soklu desky s oboustrannou polyesterovou fólií odříznou pásky o rozměru 4 x 24 cm. Tyto pásky se ozařují pod různými maskami mezi 9 ozařovanými vrstvami vždy postupně 20 sekund v ozařovacím zařízení BASF Nyloprit s trubicí 20 W Nyloprit2051. Přitom vzniknou na páscích vzorky vytvrzení deseti úseků, které odpovídají ozařování po dobu 0, 20, 40, 60, 80, 100, 120, 140, 160 a 180 sekund. Desky se otáčejí a odkrývá se střední pásek o šířce 1,5 cm v podélném směru. Celá struktura se převrství fólií transparentní pro ultrafialové záření, odsaje za vakua na ozařovacím kopírovacím stole a ozařuje po dobu 6 minut. Ozářené desky se vyvolají, přičemž nedostatečně zesíťovaná oblast se vymyje v rotační pračce BASF Nyloprint za teploty 20 °C promývacím roztokem, který
-20CZ 292028 B6 tvoří směs tetrachlorethylenu a n-butanolu v poměru 4:1. Deska se suší v cirkulační sušárně za teploty 80 °C po dobu jedné hodiny a poté se k fixaci na dobu 5 minut ponoří do 0,4% roztoku bromu a na dobu 10 sekund ponoří do vodného roztoku 1,15% thiosíranu sodného a uhličitanu sodného. Střední pásek takto ošetřené desky se vyhodnotí. Stanoví se doba ozařování, která vede k vytvoření soklu o tloušťce 1400 pm (= doba ozařování zadní strany).
c) Kus sendvičové desky vyrobené pod a) se celoplošně ozařuje po dobu ozařování stanovenou pod b) k vytvoření soklu desky. Poté se deska otočí, polyesterová fólie se odstraní a testovaný negativ se zhotoví se 4 polemi. Ozařování 4 testovaných polí testovaného negativu se provede postupně za použití kotoučové masky. První pole se ozařuje po dobu 6 minut a ozařování polí 2 až 4 se zvyšuje vždy o jednu minutu. Vyvíjení a fixace desky se provede jak je popsáno výše. Poté se deska na obou stranách celoplošně ozařuje ještě po dobu 6 minut. Stanoví se doba ozařování potřebná pro dosažení hodnoty tonu 2 % (= doba ozařování přední vrstvy). Výsledky jsou uvedeny v tabulce 8.

Claims (15)

1. Derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I
O 0 0 n IV R2 - c - P - 1 c - r3 (I), 1 R1
kde znamená
Ri alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a
R2 a R3 nezávisle na sobě fenylovou skupinu popřípadě substituovanou jedním až čtyřmi substituenty ze souboru zahrnujícího alkylovou skupinu s 1 až 4 atomy uhlíku a alkoxyskupinu s 1 až 4 atomy uhlíku.
2. Derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu podle nároku 1 obecného vzorce I, kde Ri znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 jsou stejné a znamenají nezávisle na sobě fenylovou skupinu popřípadě substituovanou jedním až čtyřmi substituenty ze souboru zahrnujícího alkylovou skupinu s 1 až 4 atomy uhlíku a alkoxyskupinu s 1 až 4 atomy uhlíku.
-21 CZ 292028 B6
3. Derivát alkyl-bisacylfosfínoxidu podle nároku 2 obecného vzorce I, kde R] znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, zvláště alkylovou skupinu s 1 až 8 atomy uhlíku, nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu substituovanou alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku.
4. Derivát alkyl-bisacylfosfínoxidu podle nároku 3 obecného vzorce I, kde Ri znamená alkylovou skupinu obsahující 4 až 8 atomů uhlíku nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu substituovanou alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku.
5. Derivát alkyl-bisacylfosfínoxidu podle nároku 2 obecného vzorce I, kde Ri znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu substituovanou v polohách 2 a 6 nebo 2, 4 a 6 alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku a/nebo alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku.
6. Derivát alkyl-bisacylfosfínoxidu podle nároku 2 obecného vzorce I, kde Ri znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu, která je substituována alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku nebo/a alkylovou skupinou s 1 až 4 atomy uhlíku.
7. Derivát alkyl-bisacylfosfínoxidu podle nároku 6 obecného vzorce I, kde Rj znamená alkylovou skupinu s 1 až 18 atomy uhlíku, cyklopentylovou skupinu nebo cyklohexylovou skupinu a R2 a R3 znamenají fenylovou skupinu, která je substituována alkoxyskupinou s 1 až 4 atomy uhlíku, zvláště methoxyskupinou.
8. Směs pro polymeraci, vyznačující se tím, že obsahuje
a) alespoň jednu ethylenicky nenasycenou fotopolymerovatelnou sloučeninu a
b) jako fotoiniciátor hmotnostně 0,05 až 15 %, zvláště 0,2 až 5 %, vztaženo na směs jako celek, alespoň jednoho derivátu alkyl-bisacylfosfínoxidu obecného vzorce I podle nároku 1.
9. Směs pro polymeraci podle nároku 8, vyznačující se tím, že obsahuje jako (b) fotoiniciátor hmotnostně 0,05 až 15 %, zvláště 0,2 až 5 %, vztaženo na směs jako celek, alespoň jednoho derivátu alkyl-bisacylfosfínoxidu obecného vzorce I podle nároku 1 a kromě této složky (b) obsahuje hmotnostně 0,05 až 15 %, vztaženo na směs jako celek, ještě jiného fotoiniciátoru a/nebo přísady.
10. Směs pro polymeraci podle nároku 9, vyzn ač u j í cí se t í m, že dodatkovými fotoiniciátory jsou sloučeniny obecného vzorce II
R.
O R, 11 Γ kde znamená
R4 atom vodíku,
R5 a R$ nezávisle na sobě atom vodíku, alkylovou skupinu s 1 až 6 atomy uhlíku, fenylovou skupinu, alkoxyskupinu s 1 až 4 atomy uhlíku nebo
-22CZ 292028 B6
R5 a Ré dohromady s atomem uhlíku, na který jsou vázány, cyklohexylový kruh,
R7 hydroxyskupinu nebo alkoxyskupinu s 1 až 4 atomy uhlíku, a/nebo sloučeniny obecného vzorce III ve kterém znamenají
R9, Rio a Ru nezávisle na sobě atom vodíku nebo methylovou skupinu, nebo jejich směsi.
11. Směs pro polymeraci podle nároku 10, vyznačující se tím, že obsahuje sloučeninu obecného vzorce II, kde R5 a R6 znamenají nezávisle na sobě alkylovou skupinu s 1 až 6 atomy uhlíku nebo tvoří dohromady s atomem uhlíku, na který jsou vázány, cyklohexylový kruh a R7 znamená hydroxyskupinu.
12. Směs pro polymeraci podle nároku 10, v y z π a č u j í c í se t í m, že hmotnostní podíl derivátu alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I ve směsi se sloučeninami obecného vzorce II a/nebo sloučeninami obecného vzorce III je 5 až 95, s výhodou 30 až 70 %.
13. Směs pro polymeraci podle nároku 10, vyznačující se tím, že obsahuje derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I, kde Ri znamená n-butyíovou, izobutylovou nebo 2,4,4-trimethyl-l-pentylovou skupinu, R2 a R3 jsou stejné a znamenají 2,6-dimethoxyfenylovou skupinu nebo 2,4,6-trimethylfenylovou skupinu a sloučeninu obecného vzorce II, kde R5 a Rs jsou stejné a znamenají methylovou skupinu a R7 znamená hydroxyskupinu nebo izopropoxyskupinu.
14. Směs pro polymeraci podle nároku 10, vyznačující se tím, že obsahuje derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I, kde Ri znamená n-butylovou, izobutylovou nebo 2,4,4-trimethyl-l-pentylovou skupinu a R2 a R3 jsou stejné a znamenají 2,6-dimethoxyfenylovou skupinu nebo 2,4,6-trimethylfenylovou skupinu, a směs sloučenin obecného vzorce III, kde sloučeniny obecného vzorce III, ve kterém R9 a Rio jsou stejné a znamenají atom vodíku a Ru znamená methylovou skupinu, jsou obsaženy ve hmotnostním množství až do 20 % a sloučeniny obecného vzorce III, ve kterém R9, Rio a Ru jsou stejné a znamenají methylovou skupinu, jsou obsaženy v hmotnostním množství až do 80 %.
15. Použití derivátu alkyl-bisacylfosfinoxidu obecného vzorce I podle nároku 1 jako fotoiniciátoru pro fotopolymeraci ethylenicky nenasycených sloučenin.
Konec dokumentu
CS19922905A 1991-09-23 1992-09-22 Derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu, směs pro polymeraci s jeho obsahem a použití CZ292028B6 (cs)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CH280991 1991-09-23
CH3322/91A CH682666A5 (de) 1991-11-14 1991-11-14 Alkyl-Bisacylphosphinoxide.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CZ290592A3 CZ290592A3 (en) 1993-08-11
CZ292028B6 true CZ292028B6 (cs) 2003-07-16

Family

ID=25691451

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CS19922905A CZ292028B6 (cs) 1991-09-23 1992-09-22 Derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu, směs pro polymeraci s jeho obsahem a použití

Country Status (20)

Country Link
US (2) US5399770A (cs)
JP (1) JP3211039B2 (cs)
KR (1) KR100236584B1 (cs)
AT (1) AT401265B (cs)
AU (1) AU655675B2 (cs)
BE (1) BE1006011A4 (cs)
BR (1) BR9203707A (cs)
CA (1) CA2078722C (cs)
CZ (1) CZ292028B6 (cs)
DE (1) DE4231579C2 (cs)
ES (1) ES2050607B1 (cs)
FR (1) FR2681599B1 (cs)
GB (1) GB2259704B (cs)
HK (1) HK1000208A1 (cs)
IT (1) IT1255509B (cs)
MX (1) MX9205345A (cs)
NL (1) NL194946C (cs)
RU (1) RU2091385C1 (cs)
SE (2) SE503060C2 (cs)
SK (2) SK281581B6 (cs)

Families Citing this family (136)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4336748C3 (de) * 1992-11-17 2001-09-06 Ciba Sc Holding Ag Verfahren zur Blitztrocknung und Blitzhärtung, Verwendung des Verfahrens und dafür geeignete Vorrichtungen
ZA941879B (en) * 1993-03-18 1994-09-19 Ciba Geigy Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators
DK0693002T3 (da) 1993-04-01 1998-06-02 Ppg Industries Inc Midler til og fremgangsmåder til fremstilling af strålingshærdbare højglansovertræk
TW381106B (en) * 1994-09-02 2000-02-01 Ciba Sc Holding Ag Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides
CA2197787A1 (en) * 1994-09-08 1996-03-14 David George Leppard Novel acylphosphine oxides
JP3117394B2 (ja) * 1994-11-29 2000-12-11 帝人製機株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
JPH08171209A (ja) * 1994-12-15 1996-07-02 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 放射線硬化性組成物
US6117612A (en) * 1995-04-24 2000-09-12 Regents Of The University Of Michigan Stereolithography resin for rapid prototyping of ceramics and metals
US6284185B1 (en) 1995-04-28 2001-09-04 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Ultraviolet-curable adhesive composition for bonding opaque substrates
KR100491543B1 (ko) 1995-04-28 2005-12-29 니폰 가야꾸 가부시끼가이샤 자외선경화형접착제조성물
US5707781A (en) * 1995-05-05 1998-01-13 Bayer Corporation Photopolymerizable compositions having acyl or diacyl phosphine oxide and a fluorescent optical brightner
CH691970A5 (de) * 1996-03-04 2001-12-14 Ciba Sc Holding Ag Alkylphenylbisacylphosphinoxide und Photoinitiatormischungen.
US6361925B1 (en) 1996-03-04 2002-03-26 Ciba Specialty Chemicals Corporation Photoinitiator mixtures and compositions with alkylphenylbisacylphosphine oxides
GB9605712D0 (en) * 1996-03-19 1996-05-22 Minnesota Mining & Mfg Novel uv-curable compositions
EP0883653A1 (en) * 1996-04-05 1998-12-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Visible light polymerizable composition
DE69710657T3 (de) * 1996-08-23 2007-07-05 Showa Denko K.K. Photohärtbare Zusammensetzung und Härtungsverfahren
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
DE19650562A1 (de) * 1996-12-05 1998-06-10 Basf Ag Photoinitiatorgemische, enthaltend Acylphosphinoxide und Benzophenonderivate
US6075065A (en) * 1996-12-20 2000-06-13 Takeda Chemical Industries, Ltd. Photocurable resin composition and a method for producing the same
US5922783A (en) * 1997-02-27 1999-07-13 Loctite Corporation Radiation-curable, cyanoacrylate-containing compositions
US6197422B1 (en) 1997-05-06 2001-03-06 Dsm, N.V. Ribbon assemblies and radiation-curable ink compositions for use in forming the ribbon assemblies
EP1408017A3 (en) * 1997-05-06 2006-01-11 DSM IP Assets B.V. Radiation curable ink compositions
US6130980A (en) * 1997-05-06 2000-10-10 Dsm N.V. Ribbon assemblies and ink coating compositions for use in forming the ribbon assemblies
CN100519674C (zh) * 1997-05-06 2009-07-29 Dsm;Ip;财产有限公司 油墨涂层组合物、其固化方法、光导玻璃纤维和带状组件
US6301415B1 (en) 1997-08-14 2001-10-09 Dsm N.V Optical glass fiber ribbon assemblies, matrix forming compositions radiation-curable compositions
US6391936B1 (en) 1997-12-22 2002-05-21 Dsm N.V. Radiation-curable oligomers radiation-curable compositions, coated optical glass fibers, and ribbon assemblies
DE19907957A1 (de) * 1998-02-27 1999-09-02 Ciba Geigy Ag Pigmentierte photohärtbare Zusammensetzung
DK1062288T3 (da) 1998-03-13 2003-08-04 Akzo Nobel Nv Ikke-vandig belægningssammensætning baseret på en oxidativt tørrende alkydharpiks og en fotoinitiator
DE19812859A1 (de) * 1998-03-24 1999-09-30 Basf Ag Photoinitiatorgemische
CN1172995C (zh) * 1998-07-31 2004-10-27 三菱丽阳株式会社 涂层剂及具有涂层的树脂模塑制品
DE19851567A1 (de) * 1998-11-09 2000-05-11 Emtec Magnetics Gmbh Durch UV-Bestrahlung härtbare Bindemittelzusammensetzung für magnetische Aufzeichnungsmedien und Photoinitiatormischung
WO2000032612A1 (en) * 1998-11-30 2000-06-08 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Process for preparing acylphosphines and derivatives
SE9904080D0 (sv) 1998-12-03 1999-11-11 Ciba Sc Holding Ag Fotoinitiatorberedning
DE60006210T2 (de) 1999-12-08 2004-07-15 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Neues Photoinitiatorsystem aus Phosphinoxidverbindungen und wenig gefärbte härtbare Zusammensetzungen
GB2360283B (en) 2000-02-08 2002-08-21 Ciba Sc Holding Ag Monoacylarylphosphines and acylphosphine oxides and sulphides
GB2365430B (en) * 2000-06-08 2002-08-28 Ciba Sc Holding Ag Acylphosphine photoinitiators and intermediates
US6908663B1 (en) * 2000-11-15 2005-06-21 Awi Licensing Company Pigmented radiation cured wear layer
US6737216B2 (en) * 2000-12-08 2004-05-18 E.I. Du Pont De Nemours And Company Laser engravable flexographic printing element and a method for forming a printing plate from the element
JP3969109B2 (ja) * 2002-02-08 2007-09-05 コニカミノルタホールディングス株式会社 感光性平版印刷版及びその記録方法
DE10206117A1 (de) * 2002-02-13 2003-08-14 Basf Ag Acyl- und Bisacylphosphinderivate
DE10244684A1 (de) * 2002-09-24 2004-04-01 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Acylphosphinoxiden
WO2005021634A2 (en) * 2003-02-20 2005-03-10 Texas Research International, Inc. Ultraviolet light curing compositions for composite repair
DE10315671A1 (de) * 2003-04-04 2004-10-14 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Acylphosphinoxid-Feststoffen
TW200523265A (en) * 2003-07-31 2005-07-16 Basf Ag A process for the preparation of acylphosphines
US20050176841A1 (en) * 2003-12-30 2005-08-11 Krohn Roy C. UV curable ink compositions
US20050270755A1 (en) * 2004-06-04 2005-12-08 Inventec Corporation Method for preventing pins of semiconductor package from short circuit during soldering
US20060033793A1 (en) * 2004-08-10 2006-02-16 Webster Grant A Coupling agent patterning
WO2006075712A1 (ja) * 2005-01-14 2006-07-20 Kaneka Corporation 活性エネルギー線硬化型硬化性組成物および該硬化物
EP1749513B1 (de) 2005-08-01 2009-03-04 Ivoclar Vivadent AG Photopolymerisierbare Dentalmaterialien mit Bisacylphosphinoxiden als Initiator
WO2007018287A1 (ja) 2005-08-11 2007-02-15 Kyowa Hakko Chemical Co., Ltd. 樹脂組成物
US7915319B2 (en) * 2005-12-19 2011-03-29 Henkel Corporation Visible light curing systems, methods for reducing health risks to individuals exposed to systems designed to cure curable compositions by exposure to radiation, methods for bonding substrates and visible light curing compositions
US20100234484A1 (en) * 2006-07-04 2010-09-16 Carsten Schellenberg Water based concentrated product forms of photoinitiators made by a heterophase polymerization technique
DE102006050153A1 (de) 2006-10-25 2008-05-08 Ivoclar Vivadent Ag Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien
WO2008073729A2 (en) * 2006-12-11 2008-06-19 Dow Global Technologies Inc. Aldehyde and alcohol compositions derived from seed oils
JP5378804B2 (ja) * 2007-01-17 2013-12-25 クラレノリタケデンタル株式会社 重合性単量体含有組成物
EP1958994B1 (en) 2007-01-31 2010-12-08 FUJIFILM Corporation Ink set for inkjet recording and inkjet recording method
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
CN101663336B (zh) * 2007-03-20 2012-10-10 可乐丽则武齿科株式会社 聚合性单体、聚合性组合物及牙科用材料
JP4601009B2 (ja) 2007-03-30 2010-12-22 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インクセット及びインクジェット記録方法
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
EP2129659B1 (en) 2007-04-04 2013-05-29 Basf Se Alpha-hydroxyketones
US9207373B2 (en) 2007-04-10 2015-12-08 Stoncor Group, Inc. Methods for fabrication and highway marking usage of agglomerated retroreflective beads
US8076393B2 (en) 2007-09-26 2011-12-13 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
JP5148235B2 (ja) 2007-09-28 2013-02-20 富士フイルム株式会社 インク組成物
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5236238B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用ホワイトインク組成物
GB0724863D0 (en) 2007-12-21 2008-01-30 Unilever Plc Fabric treatment active
JP5457636B2 (ja) 2008-01-22 2014-04-02 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、光硬化物の製造方法、及び、インクジェット記録方法
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
US8507726B2 (en) 2008-11-03 2013-08-13 Basf Se Photoinitiator mixtures
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
DE102009016025B4 (de) 2009-04-02 2014-12-11 Voco Gmbh Kunststoffmodifizierter Glasionomerzement, seine Verwendung sowie Verfahren zu seiner Herstellung
JP5424764B2 (ja) 2009-07-28 2014-02-26 富士フイルム株式会社 顔料分散物、インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2011068783A (ja) 2009-09-25 2011-04-07 Fujifilm Corp インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5437824B2 (ja) 2010-01-14 2014-03-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法
US9248468B2 (en) 2010-01-15 2016-02-02 Texas Research International, Inc. Ultraviolet light curing compositions for composite repair
DE102010003884A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Dualhärtende, mehrkomponentige dentale Zusammensetzung
DE102010003881A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Dentale Abdeckmasse
DE102010003883A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Lichthärtbares Kompositmaterial
WO2012012067A1 (en) * 2010-06-30 2012-01-26 Dsm Ip Assets B.V. D1492 liquid bapo photoinitiator and its use in radiation curable compositions
JP5687964B2 (ja) 2010-07-27 2015-03-25 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
EP2436363B1 (de) 2010-09-30 2017-01-18 VOCO GmbH Zusammensetzung umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement zum Füllen und/oder Versiegeln eines Wurzelkanals
US8669302B2 (en) 2010-09-30 2014-03-11 Voco Gmbh Composite material comprising a monomer with a polyalicyclic structure element as a sealing material
EP2436364B1 (de) 2010-09-30 2017-05-31 VOCO GmbH Lackzusammensetzung umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement
EP2436365B1 (de) 2010-09-30 2017-03-08 VOCO GmbH Kompositmaterial umfassend ein Monomer mit einem polyalicyclischen Strukturelement
EP2436668B1 (de) 2010-09-30 2012-09-12 VOCO GmbH Polymerisierbare Verbindungen umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement
EP2450025B1 (de) 2010-11-08 2012-11-28 VOCO GmbH Polymerisierbare Phosphorsäurederivate umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement
JP5240799B2 (ja) 2010-11-25 2013-07-17 富士フイルム株式会社 インクセット、インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP2012113228A (ja) 2010-11-26 2012-06-14 Sony Corp 表示装置およびその製造方法
DE102011003289A1 (de) 2011-01-27 2012-08-02 Voco Gmbh Dentale provisorische Suprakonstruktionen sowie Materialien zu ihrer Herstellung und entsprechende Verfahren
JP5349543B2 (ja) 2011-02-03 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、及び、印刷物
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
JP5351293B2 (ja) 2011-02-16 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物及びその製造方法、並びに、インクジェット記録方法
JP5474882B2 (ja) 2011-07-12 2014-04-16 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5419934B2 (ja) 2011-07-12 2014-02-19 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5566979B2 (ja) 2011-09-22 2014-08-06 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクパック、及び、インクジェット記録方法
DE102012001979A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Voco Gmbh Härtbares Gemisch umfassend Weichmacher mit einem polyalicyclischen Strukturelement zur Anwendung bei der Herstellung dentaler Werkstoffe
DE102012001978A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Voco Gmbh Dentale Kompositmaterialien enthaltend tricyclische Weichmacher
JP2013193349A (ja) 2012-03-21 2013-09-30 Fujifilm Corp インクジェット記録装置およびインクジェット記録方法
JP5718845B2 (ja) 2012-03-30 2015-05-13 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法及び印刷物
JP5758832B2 (ja) 2012-03-30 2015-08-05 富士フイルム株式会社 活性線硬化型インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
DE102012212429A1 (de) 2012-07-16 2014-01-16 Voco Gmbh Dentalhandgerät, Verfahren und Verwendung desselben zum Aushärten lichthärtbaren Materials
DE102012214540A1 (de) 2012-08-15 2014-02-20 Helmholtz-Zentrum für Infektionsforschung GmbH Zahnfüllungsmaterialien und Zahnlacke zur Hemmung der Biofilmbildung von Streptococcus mutans und deren Herstellung
JP5642125B2 (ja) 2012-08-24 2014-12-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5752652B2 (ja) 2012-08-29 2015-07-22 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物及びその製造方法、インクジェット記録方法、並びに、顔料分散物及びその製造方法
DE102013008176A1 (de) 2012-10-05 2014-04-10 Voco Gmbh Kit und Verfahren zur indirekten chairside Herstellung von Kompositinlays
JP5788918B2 (ja) 2013-02-19 2015-10-07 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
JP5939640B2 (ja) 2013-03-08 2016-06-22 富士フイルム株式会社 多層構成物、及び、多層構成物の製造方法
EP3004260B1 (en) 2013-05-30 2020-06-17 Henkel IP & Holding GmbH Primer compositions for injection molding
EP2821436A1 (en) 2013-07-01 2015-01-07 Allnex Belgium, S.A. Transparent composite composition
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
CN105884824A (zh) * 2014-10-16 2016-08-24 郑成 酰基膦(氧)或磺酰膦(氧)类化合物的制备方法
DE102014116389A1 (de) 2014-11-11 2016-05-12 Voco Gmbh Radikalisch härtbare dentale Zusammensetzungen
DE102014116402A1 (de) 2014-11-11 2016-05-12 Voco Gmbh Verwendung radikalisch härtbarer Zusammensetzungen in generativen Fertigungsverfahren
CN104558031B (zh) * 2014-12-09 2016-08-03 天津久联科技有限公司 一种苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦的制备方法
CN105884809A (zh) * 2015-01-14 2016-08-24 郑成 酰基膦(氧)或磺酰膦(氧)类化合物的制备方法
GB2542629B (en) 2015-09-28 2020-05-06 Henkel IP & Holding GmbH Polystyrene copolymer curable primer compositions for injection molding
WO2018047484A1 (ja) * 2016-09-07 2018-03-15 富士フイルム株式会社 光重合開始剤、重合性組成物、インクジェット記録方法、並びに、アシルホスフィンオキシド化合物
DE102017103084A1 (de) 2017-02-15 2018-08-16 Voco Gmbh Dentaler Kompositblock zur Herstellung permanenter indirekter Restaurationen im CAD/CAM Verfahren
CN110325601B (zh) 2017-02-28 2022-03-15 富士胶片株式会社 喷墨用液体组合物以及喷墨记录方法
DE102017105841A1 (de) 2017-03-17 2018-09-20 Voco Gmbh Fräsrohling zur Herstellung einer indirekten dentalen Restauration, entsprechende Verwendungen und Verfahren
RU2684387C2 (ru) * 2017-05-03 2019-04-08 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук (БИП СО РАН) Фотополимерная композиция для изготовления термостойких объектов методом лазерной стереолитографии
EP3409680B1 (en) 2017-05-30 2021-01-06 IGM Group B.V. Synthesis of bis(acyl)phosphines by activation of unreactive metal phosphides
DE102018103415A1 (de) 2018-02-15 2019-08-22 Voco Gmbh Dentale Formkörper mit kontinuierlichem Farbverlauf
DE102018114690A1 (de) 2018-06-19 2019-12-19 Voco Gmbh Thermowirksame dentale Kompositzusammensetzung
WO2020167621A1 (en) 2019-02-14 2020-08-20 Sirrus, Inc. Particles encapsulated with dicarbonyl-substituted-1- alkenes
DE102019122174A1 (de) 2019-08-19 2021-02-25 Voco Gmbh Dentale polymerisierbare Zusammensetzung auf der Basis kondensierter Silane

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3668093A (en) * 1971-05-06 1972-06-06 Du Pont Photoinitiation of vinyl polymerization by triaroylphosphines
DE3443221A1 (de) * 1984-11-27 1986-06-05 ESPE Fabrik pharmazeutischer Präparate GmbH, 8031 Seefeld Bisacylphosphinoxide, ihre herstellung und verwendung
IT1187703B (it) * 1985-07-23 1987-12-23 Lamberti Fratelli Spa Benzofenoni sostituiti e loro miscele liquide,atti all'impiego come iniziatori di fotopolimerizzazione
DE3534645A1 (de) * 1985-09-28 1987-04-02 Merck Patent Gmbh Copolymerisierbare fotoinitiatoren
DE3633436A1 (de) * 1986-10-01 1988-04-14 Basf Ag Photopolymerisierbare aufzeichnungsmasse, insbesondere zur herstellung von druckplatten und reliefformen
EP0413657B1 (de) * 1989-08-04 1996-12-27 Ciba SC Holding AG Mono- und Diacylphosphinoxide
DE59201477D1 (de) * 1991-01-14 1995-04-06 Ciba Geigy Ag Bisacylphosphinsulfide.

Also Published As

Publication number Publication date
AU2525192A (en) 1993-04-01
SE9202668D0 (sv) 1992-09-16
ES2050607B1 (es) 1995-11-16
GB2259704B (en) 1995-05-17
SE9202668L (sv) 1993-03-24
CZ290592A3 (en) 1993-08-11
NL194946B (nl) 2003-04-01
FR2681599A1 (fr) 1993-03-26
HK1000208A1 (en) 1998-02-06
SK290592A3 (en) 2001-05-10
DE4231579A1 (de) 1993-03-25
SK281581B6 (sk) 2001-05-10
NL194946C (nl) 2003-08-04
US5472992A (en) 1995-12-05
CA2078722A1 (en) 1993-03-24
CA2078722C (en) 2003-01-07
SE503060C2 (sv) 1996-03-18
ES2050607A1 (es) 1994-05-16
SE509829C2 (sv) 1999-03-08
RU2091385C1 (ru) 1997-09-27
IT1255509B (it) 1995-11-09
JP3211039B2 (ja) 2001-09-25
GB9219402D0 (en) 1992-10-28
ITMI922173A0 (it) 1992-09-22
NL9201641A (nl) 1993-04-16
DE4231579C2 (de) 2002-11-07
JPH05345790A (ja) 1993-12-27
AT401265B (de) 1996-07-25
SE9501365D0 (sv) 1995-04-12
SK137199A3 (en) 2001-05-10
US5399770A (en) 1995-03-21
ITMI922173A1 (it) 1994-03-22
MX9205345A (es) 1993-04-01
KR930006035A (ko) 1993-04-20
AU655675B2 (en) 1995-01-05
GB2259704A (en) 1993-03-24
BE1006011A4 (fr) 1994-04-19
SK281582B6 (sk) 2001-05-10
FR2681599B1 (fr) 1995-08-04
KR100236584B1 (ko) 2000-02-01
BR9203707A (pt) 1993-04-20
ATA188592A (de) 1995-12-15
SE9501365L (sv) 1995-04-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CZ292028B6 (cs) Derivát alkyl-bisacylfosfinoxidu, směs pro polymeraci s jeho obsahem a použití
RU2071610C1 (ru) Фотополимеризующаяся композиция
RU2180667C2 (ru) Алкилфенилбисацилфосфиноксиды, их смеси, фотополимеризуемая композиция, содержащая их, способ фотополимеризации и субстрат, покрытый этой композицией
JP3834738B2 (ja) アルコキシフェニル置換ビスアシルホスフィンオキシド
JP4850353B2 (ja) 有機金属モノアシルアルキルホスフィン
JP4869463B2 (ja) 光開始剤の組み合わせ
JP2001270894A (ja) 有機金属モノアシルアリールホスフィン類
KR20040028996A (ko) 장파장 모노- 및 비스-아실포스핀 옥사이드 및 설파이드와광개시제로서의 이의 용도
JP3653676B2 (ja) 二量体ビスアシルホスフィン、ビスアシルホスフィンオキシドおよびビスアシルホスフィンスルフィド
JP4478475B2 (ja) ホスフィンオキシド化合物
JPH069669A (ja) 光開始剤としてのベンゾイル−置換フォスファビシクロアルカン及びフォスファビシクロスルフィド
MXPA01001448A (en) Organometallic monoacylarylphosphines
CH694732A5 (de) Metallorganische Monoacyl-Aryl-Phosphine.

Legal Events

Date Code Title Description
PD00 Pending as of 2000-06-30 in czech republic
MM4A Patent lapsed due to non-payment of fee

Effective date: 19920922