JPH069669A - 光開始剤としてのベンゾイル−置換フォスファビシクロアルカン及びフォスファビシクロスルフィド - Google Patents

光開始剤としてのベンゾイル−置換フォスファビシクロアルカン及びフォスファビシクロスルフィド

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JPH069669A
JPH069669A JP5077689A JP7768993A JPH069669A JP H069669 A JPH069669 A JP H069669A JP 5077689 A JP5077689 A JP 5077689A JP 7768993 A JP7768993 A JP 7768993A JP H069669 A JPH069669 A JP H069669A
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compound
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JP5077689A
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David G Leppard
ジー レパード ダビット
Ljubomir Misev
ミゼ ジュボミール
Gebhard Hug
ヒュ ゲプハート
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Abstract

(57)【要約】 【目的】エチレン性不飽和２重結合を含んだ光硬化性化
合物の光開始剤としてのベンゾイル−置換フォスファビ
シクロアルカン及びフォスファビシクロスルフィド、並
びに該化合物の使用方法。 【構成】式１： （ｎ：０もしくは１、ｐ：１ないし８、ｑ：２もしくは
３、Ｒ1 ：置換フェニル基）で表される化合物。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はベンゾイル−置換フォス
ファビシクロアルカン類及びフォスファビシクロスルフ
ィド類、エチレン性不飽和化合物の光重合の開始剤とし
てのその使用、及びベンゾイル−置換フォスファビシク
ロアルカン類及びフォスファビシクロスルフィド類から
なる組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】モノアシルフォスフィンオキサイド及び
光開始剤としてのその使用は特に、米国特許第−Ａ−４
２９８７３８号及び欧州特許第−Ａ−４０７２１号同様
に他の多くの出版物により当業者に公知である。光開始
剤としてのアシルホスフィンスルフィド及びその使用は
米国特許第−Ａ−４５２２６９３に記載されている。光
開始特性を持ったベンゾイル−置換フォスファビシクロ
アルカンオキサイド類は始め欧州特許第−Ａ−４１３６
５７に記載された。
【０００３】効果的な光開始剤は当業者に於いて依然と
して必要とされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】驚くことに、ベンゾイ
ル−置換フォスファビシクロアルカン類及びフォスファ
ビシクロスルフィド類が非常に良好な光硬化特性を持つ
ことが見出された。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は特に 式１： （式中 ｎは０もしくは１を表し、ｐは１ないし８の数
を表し、ｑは２もしくは３を表し、及びＲ1 は未置換フ
ェニル基もしくはハロゲン、炭素原子数１ないし８のア
ルキル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素
原子数２ないし８のアルコキシアルキル基もしくは／及
び炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基によって置換
されているフェニル基を表す。）で表される化合物に関
する。
【０００６】置換されたフェニル基は１個もしくはそれ
以上の置換基、好ましくは１ないし３、典型的には１も
しくは２及び、最も好ましくは、２もしくは３個の置換
基を持つ。
【０００７】ハロゲン−置換のフェニル基は塩素、臭
素、弗素もしくは沃素、好ましくは塩素により置換され
ている、そして典型的にはクロロフェニル基、２，４−
もしくは２，６−ジクロロフェニル基、２，４，６−ト
リクロロフェニル基、２，４−もしくは２，６−ジブロ
モフェニル基、２，４，６−トリブロモフェニル基、
２，４−もしくは２，６−ジフルオロフェニル基及び
２，４，６−トリフルオロフェニル基である。ハロゲン
置換フェニル基は好ましくはクロロフェニル基である。
【０００８】フェニル環上の炭素原子数１ないし８のア
ルキル置換基は枝別れかもしくは枝別れしていないもの
であり、そして典型的にはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ｎ−ブチル、第２級−ブチル、第３級−
ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチルもしくはオクチ
ル基である。メチル基が好ましい。相当する基は典型的
にはトリル、メジチル、キシリル、エチルフェニルもし
くは第３級−ブチルフェニル基である。メジチル基が好
ましい。
【０００９】炭素原子数１ないし８のアルコキシ−置換
フェニル基は典型的にはメトキシフェニル、ジメトキシ
フェニル、メトキシエトキシフェニル、エトキシフェニ
ル、プロポキシフェニル、メトキシイソプロポキシフェ
ニル、ブトキシフェニル、ジブトキシフェニルもしくは
ヘキソキシフェニル基である。２，６−ジメトキシフェ
ニル基が好ましい。
【００１０】炭素原子数２ないし８のアルコキシアルキ
ル−置換フェニル基は典型的にはメトキシメチルフェニ
ル、メトキシエチル−フェニル、エトキシメチルフェニ
ル、ジメトキシメチルフェニル、ジメトキシエチルフェ
ニル、ジエトキシメチルフェニル、メトキシエチルフェ
ニルもしくはエトキシエチルフェニル基である。
【００１１】炭素原子数１ないし４のアルキルチオ−置
換フェニル基は典型的にメチルチオフェニル、エチルチ
オフェニル、プロピルチオフェニル、イソプロピルチオ
フェニル、ブチルチオフェニルもしくは３級ブチルチオ
フェニル基である。
【００１２】置換されたフェニル基はまた前記の置換基
の中から幾つかの違った置換基を持っても良い、そして
典型的には２，４−ジブトキシ−６−メチルフェニル、
２，４−ジメトキシ−６−メチルフェニル、２，６−ジ
メトキシ−４−メチルフェニル、２，４−ジエトキシ−
６−メチルフェニル、２，４−ジイソプロポキシ−６−
メチルフェニル基である。
【００１３】好ましい式Ｉで表される化合物は式中、Ｒ
1 が式 II （式中 Ｒ2 及びＲ3 は各々独立してハロゲン、好まし
くは塩素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基もし
くは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基を表し、そし
てＲ4 及びＲ5 は各々独立してハロゲン、好ましくは塩
素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭
素原子数１ないし４のアルコキシ基、又は水素原子を表
す。）で表される基である。
【００１４】他の興味のある式Ｉで表される化合物は、
Ｒ4 が炭素原子数１ないし４のアルキル基、炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基もしくは水素原子であり、及
びＲ5 が水素原子である化合物である。
【００１５】特に好ましい式Ｉで表される化合物は、Ｒ
2 及びＲ3 が各々独立して炭素原子数１ないし４のアル
キル基、好ましくはメチル基、又は炭素原子数１ないし
４のアルコキシ基、好ましくはメトキシ基であり、Ｒ4
が水素原子もしくは炭素原子数１ないし４のアルキル
基、好ましくはメチル基であり、またＲ5 が水素原子で
ある化合物である。
【００１６】興味のある式Ｉで表される化合物は、Ｒ4
がフェニル環のパラ位にある化合物である。
【００１７】ｐが１ないし４、好ましくは３および４で
ある式Ｉで表される化合物が好ましい。
【００１８】式中 ｎが１である式Ｉで表される化合物
が特に好ましい。
【００１９】式Ｉで表される化合物の具体例は： ９−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−９−フォスフ
ァビシクロ〔４．２．１〕ノナン ９−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−９−フォスフ
ァビシクロ〔３．３．１〕ノナン ９−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−９−フォ
スファビシクロ〔４．２．１〕ノナン ９−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−９−フォ
スファビシクロ〔３．３．１〕ノナン ９−（２，６−ジクロロベンゾイル）−９−フォスファ
ビシクロ〔４．２．１〕ノナン ９−（２，６−ジクロロベンゾイル）−９−フォスファ
ビシクロ〔３．３．１〕ノナン ９−（２，４−ジブトキシ−６−メチルベンゾイル）−
９−フォスファビシクロ〔４．２．１〕ノナン ９−（２，４−ジブトキシ−６−メチルベンゾイル）−
９−フォスファビシクロ〔３．３．１〕ノナン ９−（２，４−ジメトキシ−６−メチルベンゾイル）−
９−フォスファビシクロ〔４．２．１〕ノナン ９−（２，４−ジメトキシ−６−メチルベンゾイル）−
９−フォスファビシクロ〔３．３．１〕ノナン ７−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−７−フォスフ
ァビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン ７−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−７−フォ
スファビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン ７−（２，６−ジクロロベンゾイル）−７−フォスファ
ビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン ７−（２，４−ジブトキシ−６−メチルベンゾイル）−
７−フォスファビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン ７−（２，４−ジメトキシ−６−メチルベンゾイル）−
７−フォスファビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン ９−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−９−フォスフ
ァビシクロ〔４．２．１〕ノナン−９−スルフィド ９−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−９−フォスフ
ァビシクロ〔３．３．１〕ノナン−９−スルフィド ９−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−９−フォ
スファビシクロ〔４．２．１〕ノナン−９−スルフィド ９−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−９−フォ
スファビシクロ〔３．３．１〕ノナン−９−スルフィド ９−（２，６−ジクロロベンゾイル）−９−フォスファ
ビシクロ〔４．２．１〕ノナン−９−スルフィド ９−（２，６−ジクロロベンゾイル）−９−フォスファ
ビシクロ〔３．３．１〕ノナン−９−スルフィド ９−（２，４−ジブトキシ−６−メチルベンゾイル）−
９−フォスファビシクロ〔４．２．１〕ノナン−９−ス
ルフィド ９−（２，４−ジブトキシ−６−メチルベンゾイル）−
９−フォスファビシクロ〔３．３．１〕ノナン−９−ス
ルフィド ９−（２，４−ジメトキシ−６−メチルベンゾイル）−
９−フォスファビシクロ〔４．２．１〕ノナン−９−ス
ルフィド ９−（２，４−ジメトキシ−６−メチルベンゾイル）−
９−フォスファビシクロ〔３．３．１〕ノナン−９−ス
ルフィド ７−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−７−フォスフ
ァビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン−７−スルフィド ７−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−７−フォ
スファビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン−７−スルフィ
ド ７−（２，６−ジクロロベンゾイル）−７−フォスファ
ビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン−７−スルフィド ７−（２，４−ジブトキシ−６−メチルベンゾイル）−
７−フォスファビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン−７−
スルフィド ７−（２，４−ジメトキシ−６−メチルベンゾイル）−
７−フォスファビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン−７−
スルフィドである。
【００２０】式Ｉ（Ｉａ：ｎ＝０、Ｉｂ：ｎ＝１）で表
される化合物は二環式フォスファン（II）とカルボニル
塩化物（III ）を塩基の存在下で反応させることにより
製造される。スルフィド（Ｉｂ）は、次いで式Ｉａで表
される化合物と当ｍｏｌ量の原子状硫黄とを反応させる
ことで得られる。反応は以下の図で示される： （式中 Ｒ1 、ｐ及びｑは請求項１での定義と同じであ
る。）
【００２１】反応は好ましくは適当な溶媒中で行なわれ
る。もし成分II及びIII が液体の場合、溶媒なしで第１
反応工程もまた行うことができる。特に適した溶媒は炭
化水素、典型的にはアルカン類及びアルカン類の混合
物、シクロヘキサン、ベンゼン、トルエンもしくはキシ
レンである。使用される溶媒及び抽出物によって、反応
は通常１０ないし１２０℃、好ましくは２０ないし８０
℃の温度範囲で行なわれる。もし溶媒が使用された場
合、溶媒は反応が完結した時点で蒸留により除かれる。
粗反応生成物は、蒸留、再結晶もしくはクロマトグラフ
ィーによって精製することができる。
【００２２】スルフィドの製造は米国特許第４５２２６
９３号に記載された方法によって通常行なわれる。その
反応は不活性気体雰囲気、一般的に窒素、アルゴンもし
くは二酸化炭素、好ましくは窒素中で行なわれるのが都
合良い。反応後に、スルフィドもしくはそれらの溶液を
残留硫黄からろ過によって分離することが必要である。
【００２３】適した塩基はアルカリ金属もしくはアルカ
リ土類金属炭酸塩、第３級アミン類、アルカリ金属類、
リチウムジイソプロピルアミド、アルカリ金属アルコレ
ート類もしくはアルカリ金属水素化物類である。
【００２４】二環式フォスファン（II）の製造方法は特
に、特開昭和５５−１２３７９０号に開示されている。
これら化合物もしくはその混合物はまた商業的に入手可
能である。フォスファンはホスフィンを式ＩＶで表され
るジエンに付加することで便利に製造される。 式ＩＶで表されるジエンの環の大きさはｐ＋ｑ＋２であ
り、式中ｐ及びｑは請求項１で定義するとおりである。
【００２５】出発化合物である式ＩＶのジエンは公知の
化合物であり、そのうちの若干のものは商業的に入手可
能であるかもしくは、公知化合物を製造する方法により
製造される。式III で表される酸塩化物はまた公知の方
法で製造される。
【００２６】実施は式IIで表される化合物の異性体の混
合物から開始される、その混合物は前記反応式に示され
たとおり、主にホスフィンを式IVで表わされる化合物に
付加することで製造される。この場合、式Ｉで表される
化合物の混合物がまた通常得られ、これも同様に請求項
１記載の範囲内に入る。通常、これら混合物は式Ｉ（式
中、ｐ及びｑは全ての数ではない。）によって表され
る。もし所望ならば、該混合物は通常の方法都合良くは
クロマトグラフィーによってもまた分離される。しかし
ながら、実際には、それらの混合物は光開始剤として使
用することができる。
【００２７】式Ｉで表される化合物はエチレン性不飽和
化合物もしくはそのような化合物を含んだ混合物の光重
合のための、光開始剤として本発明の実施に使用され
る。
【００２８】本発明はまた（ａ）少なくとも１種のエチ
レン性不飽和光重合性化合物、及び（ｂ）少なくとも１
種の光開始剤としての式Ｉで表わされる化合物、からな
り、場合により少なくとも１種の他の光開始剤及び／又
は他の添加剤からなっても良い光重合性組成物に関す
る。
【００２９】不飽和化合物は１個もしくはそれ以上のオ
レフィン２重結合をもって良い。それらは低分子（単量
体）もしくは高分子（オリゴマー）であって良い。
【００３０】１個の２重結合を持った単量体の例は、ア
ルキルもしくはヒドロキシアルキルアクリレート類又は
メタアクリレート類、典型的にはメチル、エチル、ブチ
ル、２−エチルヘキシルもしくは２−ヒドロキシエチル
アクリレート、イソボルニルアクリレート、メチル−も
しくはエチルメタアクリレートである。他の例はアクリ
ロニトリル、アクリルアミド、メタアクリルアミド、Ｎ
−置換（メタ）アクリルアミド類、ビニルアセテートの
ようなビニルエステル類、イソブチルビニルエーテルの
ようなビニルエーテル類、スチレン、アルキルスチレン
類及びハロスチレン類、Ｎ−ビニルピロリジン、ビニル
塩化物もしくはビニリデン塩化物である。
【００３１】幾つかの２重結合を持った単量体の例は、
エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、ヘキサメチレングリコールジアクリレートもし
くはビスフェノールＡジアクリレート、４，４’−ビス
（２−アクリロイルオキシエトキシ）ジフェニルプロパ
ン、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタ
エリトリトールトリアクリレートもしくはテトラアクリ
レート、ペンタエリトリトールジビニルエーテル、ビニ
ルアクリレート、ジビニルベンゼン、ジビニルスクシネ
ート、ジアリルフタレート、トリアリルホスフェート、
トリアリルイソシアヌレートもしくはトリ（２−アクリ
ロイルエチル）イソシアヌレートである。
【００３２】高い分子量のポリ不飽和化合物（オリゴマ
ー類）の典型的な例は、アクリレート化エポキシ樹脂、
アクリレート化ポリエーテル類、アクリレート化ポリウ
レタン類もしくはアクリレート化ポリエステル類であ
る。不飽和オリゴマー類の他の例は通常マレイン酸、フ
タール酸及び１個もしくは１個もしくはそれ以上のジオ
ールから製造され、また５００ないし３０００の範囲内
の分子量を持つ不飽和ポリエステル樹脂である。そのよ
うな不飽和ジオール類は、またプレポリマー類と言われ
る。
【００３３】特に適した不飽和化合物はエチレン性不飽
和カルボン酸、及びポリオール類もしくはポリエポキシ
ド類のエステル類、及び主鎖又は側鎖にエチレン性不飽
和基を含むポリマーであり、不飽和ポリエステル類、ポ
リアミド類及びポリウレタン並びにそれらの共重合体、
ポリブタジエン及びブタジエン共重合体類、ポリイソプ
レン及びイソプレン共重合体類、側鎖に（メタ）アクリ
ル基を含むポリマー及びコポリマー、及び１個もしくは
それ以上のそれらのポリマーの混合物を含む。
【００３４】不飽和カルボン酸は典型的にはアクリル
酸、メタアクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、桂皮
酸、リノレン酸、もしくはオレイン酸のような不飽和脂
肪酸である。アクリル酸及びメタアクリル酸が好まし
い。
【００３５】適当なポリオール類は芳香族ポリオール類
及び、好ましくは脂肪族及び環状脂肪族ポリオール類で
ある。芳香族ポリオール類の具体例はヒドロキノン、
４，４’−ジヒドロキシジフェニル、２，２−ビス（４
−ヒドロキシフェニル）プロパン、同様にノボラッック
類及びレゾール類である。ポリエポキシド類は上述のポ
リオール類、好ましくは芳香族ポリオール類及びエピク
ロロヒドリンに基づいたポリエポキシドを含む。他の適
したポリオール類はポリマー鎖もしくは側鎖に水酸基を
含んだポリマー及びコポリマーである、例えばポリビニ
ルアルコール及びそのコポリマーもしくはポリメタアク
リルヒドロキシアルキルエステルもしくはそのコポリマ
ーである。他の適したポリオール類はヒドロキシ末端基
を含むオリゴエステル類である。
【００３６】脂肪族及び環状脂肪族ポリオールの具体例
は好ましくは２ないし１２の炭素原子を含むアルキレン
ジオール類、エチレングリコール、１，２−もしくは
１，３−プロパンジオール、１，２−、１，３−もしく
は１，４−ブタンジオール、ペンタンジオール、オクタ
ンジオール、ドデカンジオール、ジエチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、好ましくは２００ないし
１５００の分子量を持ったポリエチレングリコール類、
１，３−シクロペンタンジオール、１，２−、１，３−
もしくは１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ジ
ヒドロキシメチルシクロヘキサン、グリセロール、トリ
（β−ヒドロキシエチル）アミン、トリメチロールエタ
ン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、
ジペンタエリトリトール及びソルビトールである。
【００３７】ポリオール類は１個かもしくは違った不飽
和カルボン酸によって部分的にもしくは完全にエステル
化される、この場合部分エステルの遊離水酸基は変性さ
れる、例えばエーテル化、もしくは他のカルボン酸によ
るエステル化である。
【００３８】エステルの具体例は：トリメチロールプロ
パントリアクリレート、トリメチロールエタントリアク
リレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレー
ト、トリメチロールエタントリメタアクリレート、テト
ラメチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレ
ングリコールジメタアクリレート、テトラエチレングリ
コールジアクリレート、ペンタエリトリトールジアクリ
レート、ペンタエリトリトールトリアクリレート、ペン
タエリトリトールテトラアクリレート、ジペンタエリト
リトールジアクリレート、ジペンタエリトリトールトリ
アクリレート、ジペンタエリトリトールテトラアクリレ
ート、ジペンタエリトリトールペンタアクリレート、ジ
ペンタエリトリトールヘキサアクリレート、トリペンタ
エリトリトールオクトアクリレート、ペンタエリトリト
ールジメタアクリレート、ペンタエリトリトールトリメ
タアクリレート、ジペンタエリトリトールジメタアクリ
レート、ジペンタエリトリトールテトラメタアクリレー
ト、トリペンタエリトリトールオクタメタアクリレー
ト、ペンタエリトリトールジイタコネート、ジペンタエ
リトリトールトリシタコネート、ジペンタエリトリトー
ルペンタイタコネート、ジペンタエリトリトールヘキサ
イタコネート、エチレングリコールジアクリレート、
１，３−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブタ
ンジオールジメタアクリレート、１，４−ブタンジオー
ルジイタコネート、ソルビトールトリアクリレート、ソ
ルビトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトール
−変性トリアクリレート、ソルビトールテトラメタアク
リレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビト
ールヘキサアクリレート、オリゴエステルアクリレート
類及びメタアクリレート類、グリセロールジ−及びトリ
−アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレー
ト、ビスアクリレート類及び２００ないし１５００の分
子量を持ったポリエチレングリコールのビスメタアクリ
レート類、もしくはその混合物。
【００３９】また成分（ａ）としての使用に適するもの
は、好ましくは２ないし６、より好ましくは２ないし４
のアミノ基を含む、芳香族、環状脂肪族及び脂肪族ポリ
アミン類の同一もしくは異なる不飽和カルボン酸のアミ
ド基である。そのポリアミン類の例はエチレンジアミ
ン、１，２−もしくは１，３−プロピレンジアミン、
１，２−、１，３−もしくは１，４−ブチレンジアミ
ン、１，５−ペンチレンジアミン、１，６−ヘキシレン
ジアミン、オクチレンジアミン、ドデシレンジアミン、
１，４−ジアミノシクロヘキサン、イソホロンジアミ
ン、フェニレンジアミン、ビスフェニレンジアミン、ビ
ス（β−アミノエチル）エーテル、ジエチレントリアミ
ン、トリエチレンテトラアミン、ビス（β−アミノエト
キシ）エタンもしくはビス（β−アミノプロポキシ）エ
タンである。他の適したポリアミン類は側鎖に更にアミ
ノ基を含むことのできるポリマー類もしくはコポリマー
類、及びアミノ末端基を含有するオリゴアミド類であ
る。そのような不飽和アミド類の例は：メチレンビスア
クリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビスアクリルア
ミド、ジエチレントリアミントリメタアクリルアミド、
ビス（メタアクリルアミドプロポキシ）エタン、β−メ
タアクリルアミドエチルメタアクリレート、Ｎ−〔（β
−ヒドロキシエトキシ）エチル〕−アクリルアミドであ
る。
【００４０】適した不飽和ポリエステル類及びポリアミ
ド類はマレイン酸及びジオールもしくはジアミン類より
誘導される。マレイン酸は他のジカルボン酸により部分
的に置換される。それらはスチレンのようなエチレン性
不飽和コモノマーと一緒に使用することができる。ポリ
エステル類及びポリアミド類はジカルボン酸及びエチレ
ン性不飽和ジオール類もしくはジアミン類、特に典型的
には６ないし２０の炭素原子を含む長い鎖から誘導され
る。ポリウレタンは典型的には飽和もしくは不飽和ジイ
ソシアネート類及び不飽和また飽和ジオール類から誘導
される。
【００４１】ポリブタジエン及びポリイソプレンまたそ
のコポリマーは公知である。適した共単量体はエチレ
ン、プロペン、ブテン、ヘキセン、（メタ）アクリレー
ト、アクリロニトリル、スチレンもしくはビニル塩化物
のようなオレフィン類を含む。側鎖に（メタ）アクリレ
ート基を含むポリマーもまた公知である。それらは典型
的にはノボラックに基づくエポキシ樹脂と（メタ）アク
リル酸、ポリビニルアルコールのホモ−もしくはコポリ
マー、または、それらのヒドロキシアルキル誘導体（該
誘導体は、メタアクリル酸もしくはヒドロキシアルキル
（メタ）アクリレートによってエステル化された（メ
タ）アクリレート類のホモ−及びコポリマーによってエ
ステル化されている。）との反応生成物であって良い。
【００４２】光重合性化合物はそれ自身かもしくは様々
な所望の混合物により使用される。ポリオール（メタ）
アクリレート類の混合物を使用することが好ましい。
【００４３】結合剤を本発明の組成物に加えることもで
きる。もし光重合性化合物が液体もしくは粘稠な物質の
場合、結合剤の添加は特に便利である。結合剤の量は全
組成に基ずいて５−９５、好ましくは１０−９０、最も
好ましくは４０−９０重量％の範囲内である。結合剤の
選択は使用する分野及び水性及び有機溶媒系で現像され
る組成物の能力、基質への接着性及び酸素原子に対する
感受性等望まれる特性に依存するであろう。
【００４４】適した結合剤は典型的には約５０００−２
００００００、好ましくは１００００−１００００００
の分子量を持ったポリマーである。具体例は：メチルメ
タアクリレート／エチルアクリレート／メタアクリル酸
のコポリマー、ポリ（アルキルメタアクリレート類）、
ポリ（アルキルアクリレート類）を含むアクリレート類
及びメタアクリレート類のホモ−及びコポリマー；セル
ロースアセテート、セルロースアセトブチレート、メチ
ルセルロース、エチルセルロースのようなセルロースエ
ステル類及びエーテル類；ポリビニルブチラール、ポリ
ビニルホルマール、環化ゴム、ポリエチレンオキサイ
ド、ポリプロピレンオキサイド、ポリテトラヒドロフラ
ンのようなポリエーテル類；ポリスチレン、ポリカーボ
ネート、ポリウレタン、塩素化ポリオレフィン類、ポリ
ビニルクロライド、ビニルクロライド／ビニリデンクロ
ライドのコポリマー類、ビニリデンクロライドとアクリ
ロニトリルのコポリマー、メチルメタアクリレート及び
ビニルアセテート、ポリビニルアセテート、（エチレン
／ビニルアセテート）コポリマー、ポリカプロラクタム
及びポリ（ヘキサメチレンアジパミド）のようなポリマ
ー、ポリ（エチレングリコールテレフタレート）及びポ
リ（ヘキサメチレングリコールスクシネート）のような
ポリエステル類。
【００４５】不飽和化合物は、非光重合性フィルム形成
成分との混合物の形でまた使用される。それらの成分は
物理的に乾燥するポリマー類もしくはその有機溶媒溶液
である、例えばニトロセルロースもしくはセルロースア
セトブチレートである。しかしながら、それらはまたポ
リイソシアネート類、ポリエポキシド類もしくはメラミ
ン樹脂のように化学的もしくは熱的硬化性樹脂であって
も良い。熱硬化性樹脂の最近の使用は第１段階で、光重
合され、第２段階で熱処理によって架橋されるいわゆる
ハイブリッド系に使用するために重要である。
【００４６】光開始剤に加えて、光重合性組成物は種々
の添加剤を含むことができる。そのような他の種々の添
加剤の例は早期重合を妨げる熱阻害剤、ヒドロキノン、
ヒドロキノン誘導体、ｐ−メトキシフェノール、βナフ
トールもしくは２，６−ジ（３級−ブチル）−ｐ−クレ
ゾールといった立体ヒンダードフェノール類である。貯
蔵安定性を向上するために、銅ナフテネート、銅ステア
レートもしくは銅オクトエートを含む銅化合物、トリフ
ェニルホスフィン、トリブチルフォスファイト、トリエ
チルフォスファイト、トリフェニルフォスファイトもし
くはトリベンジルフォスファイトを含む燐化合物、テト
ラメチルアンモニウム塩化物もしくはトリメチルベンジ
ルアンモニウム塩化物のような第４級アンモニウム化合
物類、もしくはＮ−ジエチルヒドロキシルアミンのよう
なヒドロキシルアミン誘導体を添加することができる。
重合中の雰囲気酸素の排除はパラフィンもしくは類似の
ワックスを加えることによって行なうこたができ、該物
質は重合が開始すると、ポリマー中における溶解性の欠
如により表面へ移動し、そして系を空気の侵入から防ぐ
透明フィルムを形成する。少量のＵＶ吸収剤、典型的に
はベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、オキシアニリ
ドもしくはヒドロキシフェニル−Ｓ−トリアジンタイプ
のものが光安定剤として添加することができる。ＵＶ光
を吸収しない光安定剤、例えば立体阻害アミン類（ＨＡ
Ｌ）を加えるほうが更に良い。
【００４７】光重合はトリエタノールアミン、Ｎ−メチ
ル−ジエタノールアミン、エチルｐ−ジメチルアミノベ
ンゾエートもしくはミッチェルケトン(Michler's keton
)といったアミン類を加えることによって加速される。
アミン類の作用がベンゾフェノンタイプの芳香族ケトン
の添加によって増強される。
【００４８】光重合がスペクトル感度をシフトもしくは
広げる感光剤を加えることにより更に促進される。この
感光剤は好ましくはベンゾフェノン、チオキサントン、
アントラキノン及び３−アクリルコマリン誘導体のよう
な芳香族カルボニル化合物、及び３−（アロイルメチレ
ン）チアゾリン類である。
【００４９】最終目的に応じた、他の慣用の添加物は蛍
光増白剤、充填剤、顔料、染料、湿潤剤、もしくは流動
調整剤である。硬化の厚み及び顔料を添加した被覆のた
めに、特に米国特許第Ａ−５０１３７６８号に記載され
るように微小ガラスビーズもしくは微粉ガラス繊維を加
えることが都合良い。
【００５０】本発明は成分（ａ）として水に溶解もしく
は乳化した少なくとも１個のエチレン性不飽和光重合性
化合物からなる組成物に関する。
【００５１】多くの種類のそのような光重合性水性プレ
ポリマー分散物は商業的に入手可能である。そのような
分散物は水及びその中に分散される少なくとも１個のプ
レポリマーからなる分散物を意味するものとして一般に
理解される。これらの系における水の濃度は典型的には
５ないし８０重量％、好ましくは３０ないし６０重量％
である。分散物は９５ないし２０重量％、好ましくは７
０ないし４０重量％の濃度の光硬化性プレポリマーもし
くはその混合物を含む。これらの組成物中の指摘された
水及びプレポリマーのパーセンテージの合計はいつも１
００である。変性剤及び添加剤は最終目的に応じて種々
の量において添加される。
【００５２】水中で分散し、しばしば溶解する光硬化性
フィルム形成性プレポリマーは単もしくは多官能価で、
遊離基によって開始されるエチレン性不飽和プレポリマ
ー類であり、また水溶性プレポリマー分散物としての使
用は公知である。それらは典型的にはプレポリマーの１
００ｇ当たりに０．０１ないし１．０ｍｏｌの重合しう
る２重結合を含む及びまた平均分子量を少なくとも４０
０、好ましくは５００ないし１００００持つ。しかしな
がら、使用目的によって、１０を越えない酸価を持ち及
び重合しうるＣ−Ｃ二重結合を持ったポリエステル類、
重合しうるＣ−Ｃ二重結合を持ったポリエーテル類、分
子当たり少なくとも２つのエポキシ基を含むポリエポキ
シドと少なくとも１つのα、β−エチレン性不飽和カル
ボン酸との水酸基含有反応生成物、ポリウレタン（メ
タ）アクリレート同様に欧州特許第Ａ−１２３３９号に
記載のα、β−エチレン性不飽和アクリル基を含むアク
リルコポリマーを含む高分子量のプレポリマーもまた適
している。これらのプレポリマーの混合物を使用するこ
とも可能である。また適したものは、重合性プレポリマ
ーであり、欧州特許第Ａ−３３８９６号に記載される平
均分子量が少なくとも６００、カルボキシル基価が０．
２ないし１５％、及びプレポリマー１００ｇ当たりの重
合可能なＣ−Ｃ二重結合を０．０１ないし０．８ｍｏｌ
持つ重合性プレポリマーのチオエーテルポリ添加物であ
る。他の適した特別なアルキル（メタ）アクリレートポ
リマー類に基づく水性分散物は欧州特許第Ａ−４１１２
５号に記載される。適したウレタンアクリレートの水分
解性光硬化性プレポリマーは独特許第Ａ−２９３６０３
９号に記載される。
【００５３】他の添加物として、これらの光硬化性水性
プレポリマー分散液は分散剤、乳化剤、酸化防止剤、光
安定剤、染料、顔料、タルクのような充填剤、石膏、ル
チル、カーボンブラック、酸化亜鉛、酸化鉄類、反応促
進剤、流動調節剤、潤滑剤、湿潤剤、増粘剤、艶消し
剤、消治剤及び被覆技術に通常使用される他の変性剤を
含む。適した分散剤は極性基を持つ水に可溶な高い分子
量の有機化合物、典型的にはポリビニルアルコール類、
ポリビニルピロリジンもしくはセルロースエーテル類で
ある。適した乳化剤は非イオン乳化剤であり、所望なら
ばイオン乳化剤も使用される。
【００５４】光重合性組成物は通常光開始剤を組成物に
基づいて０．０５ないし１５重量％、好ましくは０．２
ないし５重量％含む。
【００５５】特別な場合、本発明における光開始剤２種
もしくはそれ以上を含む混合物を使用することが有効で
ある。公知の光開始剤との混合物がもちろん使用され
る、通常ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェ
ニルケトン類、ベンゾイルアルキルエーテル類及びベン
ジルケタール類のようなアセトフェノン誘導体、又はア
シルホスフィンオキサイド類、ビスアシルホスフィンオ
キサイド類もしくはチタノン類との混合物である。
【００５６】好ましい組成物は成分（ｂ）がｐ及びｑが
違った価を持つ式Ｉで表わされる異性体化合物の混合物
である。
【００５７】光硬化性組成物は幅広い用途に使用され
る、特にプリントインク組成物、透明被覆組成物、木材
もしくは金属のための白いエナメル組成物、紙、木材も
しくはプラスチックのための被覆物質として、外部被覆
及びロードマークのためのＵＶ−硬化性被覆物質とし
て、写真複製のためのプリントインク組成物として、イ
メージ記録もしくは有機溶媒もしくは水溶性アルカリン
媒体によって現像されるプリントプレートの製造のため
に、スクリーンプリントのためのマスクの形成のため
に、歯科用充填剤として、接着剤として、放電もしくは
永久レジストとして、電気回路のためのハンダマスクと
して、マス硬化（透明状態のＵＶ硬化）もしくは米国特
許第Ａ−４５７５３３０号に記載のステレオリトグラフ
ィー法による、３次元物品を製造するため複合材料（即
ち、ガラス繊維及び他の変性剤を含むスチレンポリエス
テル類）及び他の厚い層の物質の製造のために、電子部
品の被覆もしくはシールのためにもしくは光ファイバー
の被覆として使用される。
【００５８】被覆組成物においてしばしばプレポリマー
と更にモノ−不飽和単量体を含んでもよいポリ不飽和モ
ノマー類の混合物が使用される、。プレポリマーはま
ず、被覆の性質を決定する、そして当業者はそれを変性
することにより硬化したフィルムの特性に影響を与える
ことができる。ポリ不飽和単量体は被覆フィルムを不溶
性にする架橋剤としての役割を果たす。モノ−不飽和単
量体は反応性希釈剤として作用しそれを加えることで溶
媒を使用せずに粘性を低下させる。
【００５９】不飽和ポリエステル樹脂はモノ−不飽和単
量体、好ましくはスチレンとの通常２成分系において使
用される。特別な一成分系はしばしば光レジストのため
に使用される、例えばポリマレイミド類、ポリカルコン
もしくはポリイミド類はDE-OS ２３００８８３０号に記
載されている。
【００６０】本発明の光硬化性組成物は、例えば木材、
紙、セラミックス、ポリエステルのような合成樹脂及び
セルロースアセテートフィルム、銅及びアルミニウムの
ような金属類等の光重合により保護層または画像を適用
することが望まれるあらゆる種類の基質のための被覆組
成物として使用しうる。
【００６１】基質に対して、液体組成物、溶液もしくは
懸濁液を適用することで基質が被覆される。これは典型
的には浸漬被覆、ブラッシング、噴霧もしくはリバース
ローラー被覆によって行なわれる。アド−オン（add-o
n) （層の厚み）及び基質支持体の性質は望まれる用途
分野に依存する。写真情報の記録のための適した基質は
ポリエステルのシート、セルロースアセテートもしくは
樹脂−被覆紙である。特別に処理されたアルミニウムが
オフセットプリントフォーム、及びプリント回路基板製
造のための銅−被着積層物に使用される。写真物質及び
オフセットプリントフォームのための層の厚みは通常お
よそ０．５ないし１０μｍである。共用される溶媒は被
覆の後で除去される。
【００６２】光硬化はプリントインクのために非常に重
要である、結合剤の乾燥時間は写真製造の製造速度の重
大な要因であるので、秒単位で行なわれるべきである。
ＵＶ硬化性プリントインクはスクリーン印刷のために特
に重要である。
【００６３】本発明における光硬化性組成物はまたプリ
ント板を作るのに非常に適している。この用途のために
可溶性線状ポリアミド類もしくはスチレン／ブタジエン
ゴムと光重合性単量体、典型的にはアクリルアミド類、
及び光開始剤の混合物が使用される。これらの系（湿潤
もしくは乾燥）のフィルム及び板はオリジナルのネガ
（もしくはポジ）を介して露出されるそして非硬化部分
が次に溶媒で溶離される。
【００６４】光硬化の他使用分野は金属板及び管、缶も
しくは瓶詮といった金属被覆、また樹脂の被覆の光硬
化、例えばＰＶＣの床もしくは壁被覆である。
【００６５】紙被覆の光硬化の例はラベルの無色被覆、
記録ラベルもしくは本の表紙である。
【００６６】光硬化性組成物の使用はイメージ技術のた
め及び情報担体の光学的製造のためにも大切である。こ
のような用途のために、基質に対して適用された層（湿
質もしくは乾燥）はフォトマスクを通して短波長光で照
射される、そして層の末露光の領域が溶媒（現像液）処
理によって除去される。光硬化性層の適用はまた金属面
における電着に効果的である。露出部分は架橋重合し、
そして不溶性となり、基質上に残る。目に見えるイメー
ジは適当な着色によって形成される。もし基質が金属層
の場合、金属は露光及び末露光部分の現像後にエッチン
グされまたは亜鉛メッキにより強化される。この方法に
よってプリント回路及び光レジストを作ることが可能で
ある。
【００６７】重合が太陽光もしくは短波照射に富む光の
照射による公知の光重合の方法により行なわれる。適し
た光源は典型的には水銀中圧力、高圧力及び低圧力ラン
プ、超化学線蛍光灯、金属ハロゲン化物ランプもしくは
最大放出が２５０−４５０ｎｍのレーザー光である。レ
ーザー光源は制御されたレーザー光が光硬化層を直接描
くのでフォトマスクが必要ないという利点を有する。光
増感剤と共に使用した場合、長波長の光もしくは６００
ｎｍまでのレーザービームを使用することが可能であ
る。
【００６８】本発明は更に上述の組成物を２００ないし
６００ｎｍの範囲内の光によって照射することからなる
エチレン性不飽和２重結合を持った化合物のための光重
合方法に関する。
【００６９】本発明は更に前記された方法により得られ
る硬化された組成物に関する。
【００７０】本発明は以下に示される実施例によって更
に詳しく示される、部及びパーセンテージは指示されな
いかぎり重量による。
【００７１】実施例１： Ａ）９−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−９−フォ
スファビシクロ〔４．２．１〕ノナン及び９−（２，６
−ジメトキシベンゾイル）−９−フォスファビシクロ
〔３．３．１〕ノナンの製造 トルエン５０ｍｌ中の２，６−ジメトキシベンゾイル塩
化物２２．１ｇ（０．１１ｍｏｌ）溶液を２０−３０℃
において６０分にわたって９Ｈ−フォスファビシクロ
〔４．２．１〕ノナンおよび９Ｈ−フォスファビシクロ
〔３．３．１〕ノナン異性体（商標名フォバンPhoban；
HOECHST ）の混合物２５．６ｇ（０．１０ｍｏｌ、トル
エン中５３．５％）及びトルエン１００ｍｌ中の炭酸カ
リウム３０．４ｇ（０．２２ｍｏｌ）に滴下する。反応
混合物は同じ温度において２時間にわたり反応が完結す
るまで攪拌される。反応混合物は１度水で洗浄され、そ
して有機相は分離され、硫酸マグネシウムの上で乾燥さ
れ、そして濃縮される。残渣はエチルアセテートから再
結晶され、融点１１９−１２２℃の黄色い粉末として表
題の化合物１１．３ｇ（理論値：３６．９％）が得られ
る。 計算値 Ｃ：６６．５％ 実際値 Ｃ：６６．３４％ Ｈ： ７．５７％ Ｈ： ７．１０％ Ｂ）９−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−９−フォ
スファビシクロ〔４．２．１〕ノナン−９−スルフィド
及び９−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−９−フォ
スファビシクロ〔３．３．１〕ノナン−９−スルフィド
の製造トルエン５０ｍｌ中の９−（２，６−ジメトキシ
ベンゾイル）−９−フォスファビシクロ〔４．２．１〕
ノナン及び９−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−９
−フォスファビシクロ〔３．３．１〕ノナン異性体７．
７ｇ（０．０２５ｍｏｌ）混合物を反応機に充填する、
そして窒素を導入しながら、６０℃まで加熱する、抽出
物を完全に溶解する。次いで６０℃において硫黄０．８
ｇ（０．０２５ｍｏｌ）を加え、次いで６時間にわたっ
て反応混合物を攪拌する。室温に冷却した後に、反応混
合物は真空下で濃縮され、残渣はエチルアセテートから
再結晶される融点１３５−１４０℃の黄色い粉末として
表題の化合物６．５ｇ（理論値：７６．７％）が得られ
る。 元素分析： 計算値 Ｃ：６０．３４％ 実際値 Ｃ：６０．１７％ Ｈ： ６．８５％ Ｈ： ６．７５％ Ｓ： ９．４７％ Ｓ： ９．７４％
【００７２】実施例２： ９−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−９−フォ
スファビシクロ〔４．２．１〕ノナンスルフィド及び９
−（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−９−フォス
ファビシクロ〔３．３．１〕ノナンスルフィドの製造 トルエン５０ｍｌ中の２，４，６−トリメチルベンゾイ
ル塩化物２０．１ｇ（０．１１ｍｏｌ）溶液を２０−３
０℃において３０分にわたって９Ｈ−フォスファビシク
ロ〔４．２．１〕ノナンおよび９Ｈ−フォスファビシク
ロ〔３．３．１〕ノナン異性体（商標名フォバンPhoba
n;HOECHEST ）の混合物２５．６ｇ（０．１ｍｏｌ、ト
ルエン中５５．５％）及びトルエン１５０ｍｌ中の炭酸
カリウム３０．４ｇ（０．２２ｍｏｌ）に滴下する。反
応混合物は同じ温度において１０時間にわたり反応が完
結するまで攪拌される。反応混合物は水で１度洗浄され
そして有機相は分離され、硫酸マグネシウムの上で乾燥
されそしてろ過される。得られた黄色い溶液を６０℃ま
で加熱する、そして一方で窒素を導入しながら、この温
度において硫黄３．２ｇ（０．１０ｍｏｌ）が加えられ
る。３時間にわたって反応混合物を攪拌し、そして室温
に冷却、そして黄色い溶液は真空下で濃縮される。異性
体の混合物はクロマトグラフィーにより精製され（溶離
剤：ヘキサン／ジイソプロピルエーテル９：１）、次い
でヘキサンエチルエーテルの混合物から再結晶され、黄
色い粉末の融点が９４−９５℃の９−（２，４，６−ト
リメチルベンゾイル）−９−フォスファビシクロ〔３．
３．１〕ノナンスルフィド（Ｉ）５．０ｇ（理論値１
５．６％）と融点が１４２−１４４℃の９−（２，４，
６−トリメチルベンゾイル）−９−フォスファビシクロ
〔４．２．１〕ノナンスルフィド（ＩＩ）２．５ｇ（理
論値８．８％）を得る。 元素分析： （Ｉ） 計算値 Ｃ：６７．４７％ 実際値 Ｃ：６７．３４％ Ｈ： ７．８６％ Ｈ： ７．９１％ Ｓ：１０．０１％ Ｓ：１０．４０％ （II） 計算値 Ｃ：６７．４７％ 実際値 Ｃ：６５．８３％ Ｈ： ７．８６％ Ｈ： ８．０１％ Ｓ：１０．０１％ Ｓ：１２．６１％
【００７３】実施例３：白いエナメル組成物中での反応
性 ＵＶ硬化性の白いエナメル組成物は ６７．５重量部 のポリエステルアクリレートオリゴマ
ー（商標名Ebecryl 830,UCB,Belgium) ５．０重量部 のヘキサンジオールジアクリレート ２．５重量部 のトリメチロールプロパントリアクリレ
ート ２５．０重量部 の二酸化チタン（ルチルタイプ 商標
名R-TC2,Tioxide,France) ２．０重量部 の光開始剤 を混合することにより調整される。組成物は１００μｍ
スプリットドクターブレードによってコイルコートされ
た金属シートに塗布されそして硬化される。試験片を８
０Ｗ／ｃｍ水銀中圧ランプ（Hanovia:、USA)下、１０ｍ
／秒の速度で移動するベルトに乗せて通過させること
で、層が硬化される。拭き取り強度（ＷＲ）は、拭き取
り抵抗表面を得るのに必要な通過回数により決定され
る。Ｋｏｎｉｇ（ＤＩＮ５３１５７）による秒単位の振
子強度（ＰＨ）もまた決定される。測定は拭き取り抵抗
表面の試験により次いでＴＬ４０／０３低圧力水銀ラン
プ（Philips;430 μｍにおける放出最大) 下において更
に１５分照射された後に再度検査される。結果は表２に
示される。 表２： 実施例の光開始剤 ＷＲ ＰＨ〔ｓ〕 ＰＨ〔ｓ〕 ｎ×１０ｍ／ｍｉｎ ＷＲ １５分後 １Ｂ ５ １２６ １４２
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ジュボミール ミゼ スイス国，4123 アールシュヴィル，バス ラーストラ ーセ260 (72)発明者 ゲプハート ヒュ スイス国，1700 フリブルグ，ル ド シ フェネ３

Claims (17)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式１： （式中 ｎは０もしくは１を表し、ｐは１ないし８の数
    を表し、ｑは２もしくは３を表し、及びＲ1 は未置換フ
    ェニル基もしくはハロゲン、炭素原子数１ないし８のア
    ルキル基、炭素原子数１ないし８のアルコキシ基、炭素
    原子数２ないし８のアルコキシアルキル基もしくは／及
    び炭素原子数１ないし４のアルキルチオ基によって置換
    されているフェニル基を表す。）で表される化合物。
  2. 【請求項２】式中 Ｒ1 が式 II （式中 Ｒ2 及びＲ3 が各々独立してハロゲン、好まし
    くは塩素原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基もし
    くは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基を表し、及び
    Ｒ4 及びＲ5 が各々独立してハロゲン、好ましくは塩素
    原子、炭素原子数１ないし４のアルキル基もしくは炭素
    原子数１ないし４のアルコキシ基、又は水素原子を表
    す。）で表される基である請求項１記載の化合物。
  3. 【請求項３】Ｒ4 が炭素原子数１ないし４のアルキル
    基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基もしくは水素
    原子であり、及びＲ5 が水素原子である請求項２記載の
    化合物。
  4. 【請求項４】Ｒ2 及びＲ3 が各々独立して炭素原子数１
    ないし４のアルキル基、好ましくはメチル基、又は炭素
    原子数１ないし４のアルコキシ基、好ましくはメトキシ
    基であり、Ｒ4 が水素原子もしくは炭素原子数１ないし
    ４のアルキル基、好ましくはメチル基であり、及びＲ5
    が水素原子である請求項２記載の化合物。
  5. 【請求項５】Ｒ4 がフェニル環のパラ位にある請求項２
    ないし４のいずれかに記載の化合物。
  6. 【請求項６】ｐが１ないし４である請求項１ないし５の
    いずれかに記載の化合物。
  7. 【請求項７】ｎが１である請求項１記載の式１で表わさ
    れる化合物。
  8. 【請求項８】（ａ）少なくとも１種のエチレン性不飽和
    光重合性化合物、及び（ｂ）少なくとも１種の光開始剤
    として式１で表わされる化合物からなる光重合性組成
    物。
  9. 【請求項９】成分（ａ）として水に溶解もしくは乳化し
    た少なくとも１種のエチレン性不飽和光重合性化合物か
    らなる請求項８記載の光重合性組成物。
  10. 【請求項１０】式中、成分（ｂ）がｐ及びｑが異なる価
    を持つ式１で表わされる化合物の異性体の混合物である
    請求項８もしくは９記載の組成物。
  11. 【請求項１１】光開始剤（ｂ）に加えて、少なくとも１
    種の他の光開始剤及び／又は他の付加物からなる請求項
    ８ないし１０のいずれか１つに記載の組成物。
  12. 【請求項１２】前記組成物に基づいて、０．０５ないし
    １５重量％、好ましくは０．２ないし５重量％の成分
    （ｂ）からなる請求項８ないし１１のいずれか１つに記
    載の組成物。
  13. 【請求項１３】請求項８ないし１２のいずれか１つに記
    載の組成物に２００ないし６００ｎｍの範囲の光を照射
    することからなる、エチレン性不飽和２重結合を持つ化
    合物を光重合させる製造方法。
  14. 【請求項１４】請求項１３記載の方法により得られる硬
    化された組成物。
  15. 【請求項１５】エチレン性不飽和化合物の光重合のため
    の光開始剤として、請求項１において定義された式１で
    表わされる化合物の使用方法。
  16. 【請求項１６】好ましくは木材及び金属の被覆のための
    白いエナメル組成物、外部被覆及びロードマーキングの
    ためのＵＶ−硬化性被覆物質、プリントインク組成物、
    歯科用充填組成物、マス硬化もしくはステレオリトグラ
    フィーによる３次元物質、複合材料、プリント板、スク
    リーンプリントのためのマスク、電子回路のための光レ
    ジスト、接着剤、及び電子部品の被覆もしくは密封もし
    くは光ファイバーの被覆のための被覆組成物の製造のた
    めの請求項８ないし１２のいずれか１つに記載の組成物
    の使用方法。
  17. 【請求項１７】好ましくは木材及び金属の被覆のための
    白いエナメル組成物、外部被覆及びロードマーキングの
    ためのＵＶ−硬化性被覆物質、プリントインク組成物、
    歯科用充填組成物、マス硬化もしくはステレオリトグラ
    フィーによる３次元物質、複合材料、プリント板、スク
    リーンプリントのためのマスク、電子基板のための光レ
    ジスト、接着剤、及び電子部品の被覆もしくは被覆及び
    シーラントもしくは光ファイバーの被覆のための被覆組
    成物の製造のための請求項１３記載の組成物の使用方
    法。
JP5077689A 1992-03-11 1993-03-11 光開始剤としてのベンゾイル−置換フォスファビシクロアルカン及びフォスファビシクロスルフィド Pending JPH069669A (ja)

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EP0560724B1 (de) 1997-09-24
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