AT401265B - Alkyl-bisacylphosphinoxide, diese enthaltende zusammensetzungen und ihre verwendung - Google Patents

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Description

AT 401 265 B
Die Erfindung betrifft Bisacylphosphinoxid-Photoinitiatoren und Zusammensetzungen, die diese Photoinitiatoren enthalten.
Mono- und Bisacylphosphinoxide sind als Photoinitiatoren bekannt.
In der EP-A-184 095 sind Bisacylphosphinoxide beschrieben, die als Photohärter für Dentalmassen verwendet werden.
Der EP-A-262 629 ist die Verwendung von Bisacylphosphinoxiden in wässrig-alkalisch entwickelbaren Zusammensetzungen zur Herstellung von Druckplatten und Reliefformen zu entnehmen.
Weitere Mono- und Bisacylphosphinoxid-Photoinitiatoren sind in der EP-A-413 657 veröffentlicht. Für den umfangreichen Anwendungsbereich von Photoinitiatoren besteht weiterhin ein Bedarf an wirksamen, gut herstellbaren Photoinitiatoren.
Es wurde gefunden, dass bestimmte Bisacylphosphinoxid-Verbindungen mit Alkylresten am Phosphor wirksame Photoinitiatoren sind.
Gegenstand der Erfindung sind also Verbindungen der Formel I, 0 0 0
RrC-P-C-R3 (I)> R1 worin Ri Ci-Cis-Alkyl, Cyclopentyl oder Cyclohexyl bedeutet, und
Ri und R3 unabhängig voneinander für unsubstituiertes oder ein- bis vierfach mit Ci-C*-Alkyl und/oder C1-C*-Alkoxy substituiertes Phenyl stehen.
Ri als Ci -Ci s-Alkyl kann linear oder verzweigt sein und bedeute beispielsweise Methyl, Ethyl, n-Propyl, iso-Propyl, n-Butyl, iso-Butyl, sec-Butyl, tert-Butyl, Pentyl, Hexyl, Heptyl, Octyl, 2,4,4-Trimethyl-pent-1-yl, 2-Ethylhexyl, Nonyl, Decyl, Dodecyl oder Octadecyl.
Ri und R3 als ein- bis vierfach mit Ci -C*-Alkyl und/oder Ci-Ct-Alkoxy substituiertes Phenyl bedeuten beispielsweise, Tolyl, Dimethylphenyl, Mesityl, Tetramethylphenyl, Ethylphenyl, Diethylphenyl, Triethylphe-nyl, Methyl-Ethylphenyl, Dimethylethylphenyl, Methoxyphenyl, Dimethoxyphenyl, Trimethoxyphenyl, Dime-thoxymethylphenyl, Methoxymethylphenyl, Dimethylmethoxyphenyl, Ethoxyphenyl, Diethoxyphenyl, Diet-hoxymethylphenyl, Propyloxyphenyl, Butoxyphenyl, Dibutoxyphenyl, Butoxymethoxyphenyl, Ethoxymethox-yphenyl, Butoxyethoxyphenyl, bevorzugt Mesityl und Dimethoxyphenyl. R2 und R3 sind ein- bis vierfach, vorzugsweise ein* bis dreifach, insbesondere zwei- oder dreifach mit Ci -C*-Alkyl und/oder Ci-C*-Alkoxy substituiertes Phenyl.
Bevorzugt sind Verbindungen der Formel I, worin R2 und R3 gleich sind.
Interessante Verbindungen der Formel I sind solche, worin Ri Ci-Cie-Alkyl, beispielsweise C1-C12-Alkyl, insbesondere Ci -Cs-Alkyl oder Cyclohexyl bedeutet und R2 und R3 mit Ci-C*-Alkyl und/oder C1-C1-Alkoxy substituiertes Phenyl sind.
Wichtig sind Verbindungen der Formel I, worin Ri Cyclopentyl, Cyclohexyl, Ci-Cs-Alkyl oder C12-C18-Alkyl bedeutet.
Weiterhin interessant sind Verbindungen der Formel I, worin Ri C«-Cs-Alkyl oder Cyclohexyl bedeutet.
Andere bevorzugte Verbindungen der Formel I sind solche, worin R2 und R3 2,6- oder 2,4,6-Position substituiertes Phenyl bedeuten.
Bevorzugt sind Verbindungen der Formel I, worin R2 und R3 mit Ci -C*-Alkoxy, insbesondere Methoxy, oder/und Ci-C*-Alkyl, insbesondere Methyl, substituiertes Phenyl bedeuten.
Andere interessante Verbindungen der Formel I sind solche, worin R2 und Rs mit Ci -Ct-Alkoxy, insbesondere Methoxy substituiertes Phenyl bedeuten.
Die erfindungsgemässen Verbindungen können z.B. hergestellt werden durch doppelte Acylierung eines primären Phosphins III mit mindestens 2 Aequivalenten eines Säurechlorides II in Gegenwart von mindestens 2 Aequivalenten einer Base und anschliessende Oxydation des erhaltenen Diacylphosphins IV zum Phosphinoxid nach dem Schema: 2 5
AT 401 265 B
o II 2 R2-C-C! + HgP-R, (II) (III)
fO
Base n -► R,-P-C-R2
(IV) V
Oxidation 10 R ,-P-C-R, 15
Die unsymmetrischen Verbindungen der Formel R2-C —P-C — R3 (I)
Ri 25 erhält man, indem man je ein Aequivalent eines Säurechlorids (II) und
O
Rs-C-Cl (na) 30 einsetzt.
Als Base eignen sich z.B. tertiäre Amine, Alkalimetalle, Lithiumdiisopropylamid, Alkalialkoholate oder Alkalihydride. Die erste Reaktionsstufe geschieht vorzugsweise in Lösung. Als Lösemittel sind vor allem 35 Kohlenwasserstoffe geeignet, wie z.B. Alkane, Benzol, Toluol oder Xylol. Nach Abtrennen des gebildeten Basenchlorides kann das Phosphin (IV) durch Eindampfen isoliert werden oder man führt die zweite Reaktionsstufe ohne Isolierung von (IV) mit der Lösung des Rohproduktes durch. Als Oxidationsmittel für die zweite Stufe eignen sich vor allem Wasserstoffperoxid und organische Peroxyverbindungen, beispielsweise Peressigsäure oder Luft. 40 Die als Ausgangsmaterial benutzten primären Phosphine (III) sind bekannte, zum Teil kommerziell erhältliche Verbindungen oder können in Analogie zu bekannten Verbindungen hergestellt werden (siehe dazu Houben-Weyl, Methoden der Org. Chemie XI1/1, 60-63 (1963), G. Thieme-Verlag, Stuttgart). Auch die Herstellung der Säurechloride der Formel (II) bzw. (Ila) erfolgt nach bekannten Methoden aus dem Stand der Technik. 45 Erfindungsgemäss können die Verbindungen der Formel I als Photoinitiatoren für die Photopolymerisation von ethylenisch ungesättigten Verbindungen bzw. Gemischen, die solche Verbindungen enthalten, verwendet werden. Die ungesättigten Verbindungen können eine oder mehrere olefinische Doppelbindungen enthalten. Sie können niedermolekular (monomer) oder höhermolekular (oligomer) sein. Beispiele für Monomere mit einer Doppelbindung sind Alkyl- oder Hydroxyalkyl-acrylate oder -methacrylate, wie z.B. 50 Methyl-, Ethyl-, Butyl-, 2-Ethylhexyl- oder 2-Hydroxyethylacrylat, Isobornylacrylat, Methyl- oder Ethylmetha-crylat. Weitere Beispiele hierfür sind Acrylnitril, Acrylamid, Methacrylamid, N-substituierte (Meth)acrylamide, Vinylester wie Vinylacetat, Vinylether wie Isobutylvinylether, Styrol, Alkyl- und Halogenstyroie, N-Vinylpyrro-lidon, Vinylchlorid oder Vinylidenchlorid.
Beispiele für Monomere mit mehreren Doppelbindungen sind Ethylenglykol-, Propylenglykol-, Neopen- 55 tylglykol-, Hexamethylenglykol- oder Bisphenol-A-diacrylat, 4,4'-Bis(2-acryloyloxyethoxy)-diphenylpropan, Trimethylolpropan-triacrylat, Pentaerythritol-triacrylat oder -tetraacrylat, Pentaerythritoldivinylether, Vinyl-acrylat, Divinylbenzol, Divinylsuccinat, Diallylphthalat, Triallylphosphat, Triallylisocyanurat, Tris-(2-acry!oy-lethyl)isocyanurat oder Divinylether, z.B. Triethylenglykoldivinylether. 3
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Beispiele fUr höhermolekulare (Oligomere) mehrfach ungesättigte Verbindungen sind acrylierte Epoxidharze, acrylierte Polyether, acrylierte Polyurethane oder acrylierte Polyester. Weitere Beispiele für ungesättigte Oligomere sind ungesättigte Polyesterharze, die meist aus Maleinsäure, Phthalsäure und einem oder mehreren Diolen hergestellt werden und Molekulargewichte von etwa 500 bis 3000 besitzen. Solche ungesättigte Oligomere kann man auch als Prepolymere bezeichnen. Häufig verwendet man Zweikomponenten-Gemische eines Prepolymeren mit einem mehrfach ungesättigten Monomeren oder Dreikomponentengemische, die ausserdem noch ein einfach ungesättigtes Monomer enthalten. Das Prepolymere ist hierbei in erster Linie für die Eigenschaften des Lackfilmes massgebend, durch seine Variation kann der Fachmann die Eigenschaften des gehärteten Filmes beeinflussen. Das mehrfach ungesättigte Monomere fungiert als Vernetzer, das den Lackfilm unlöslich macht. Das einfach ungesättigte Monomere fungiert als reaktiver Verdünner, mit dessen Hilfe die Viskosität herabgesetzt wird, ohne dass man ein Lösungsmittel verwendet muss.
Solche Zwei- und Dreikomponentensysteme auf der Basis eines Prepolymeren werden sowohl für Druckfarben als auch für Lacke, Photoresists oder andere photohärtbare Massen verwendet.
Ungesättigte Polyesterharze werden meist in Zweikomponentensystemen zusammen mit einem einfach ungesättigten Monomer, vorzugsweise mit Styrol, verwendet. Für Photoresists werden oft spezifische Einkomponentensysteme verwendet, wie z.B. Polymaleinimide, Polychalkone oder Polyimide, wie sie in der DE-OS 2 308 830 beschrieben sind.
Die ungesättigten Verbindungen können auch im Gemisch mit nicht-photopolymerisierbaren filmbildenden Komponenten verwendet werden. Diese können z.B. physikalisch trocknende Polymere bzw. deren Lösungen in organischen Lösungsmitteln sein, wie z.B. Nitrocellulose oder Celluloseacetobutyrat. Diese können aber auch chemisch bzw. thermisch härtbare Harze sein, wie z.B. Polyisocyanate, Polyepoxide oder Melaminharze. Die Mitverwendung von thermisch härtbaren Harzen ist für die Verwendung in sogenannten Hybrid-Systemen von Bedeutung, die in einer ersten Stufe photopolymerisiert werden und in einer zweiten Stufe durch thermische Nachbehandlung vernetzt werden.
Die photopolymerisierbaren Gemische können ausser dem Photoinitiator verschiedene Additive enthalten. Beispiele hierfür sind thermische Inhibitoren, die eine vorzeitige Polymerisation verhindern sollen, wie z.B. Hydrochinon oder sterisch gehinderte Phenole. Zur Erhöhung der Dunkellagerstäbilität können z.B. Kupferverbindungen, Phosphorverbindungen, quartäre Ammoniumverbindungen oder Hydroxylaminderivate verwendet werden. Zwecks Ausschluss des Luftsauerstoftes während der Polymerisation kann man Paraffin oder ähnliche wachsartige Stoffe zusetzen, die bei Beginn der Polymerisation an die Oberfläche wandern. Als Lichtschutzmittel können in geringer Menge UV-Absorber, wie z.B. solche vom Benztriazol-, Benzophe-non- Hydroxyphenyl-s-triazin- oder Oxalanilid-Typ, zugesetzt werden. Noch besser ist der Zusatz von Lichtschutzmitteln, die UV-Licht nicht absorbieren, wie z.B. von sterisch gehinderten Aminen (HALS).
Zur Beschleunigung der Photopolymerisation können Amine zugesetzt werden, wie z.B. Triethanolamin, N-Methyl-diethanolamin, p-Dimethylaminobenzoesäure-ethylester oder Michlers Keton. Die Wirkung der Amine kann verstärkt werden durch den Zusatz von aromatischen Ketonen vom Typ des Benzophenons. Eine Beschleunigung der Photopolymerisation kann weiterhin durch Zusatz von Photosensibilisatoren geschehen, welche die spektrale Empfindlichkeit verschieben bzw. verbreitern. Dies sind insbesondere aromatische Carbonylverbindungen wie z.B. Benzophenon-, Thioxanthon-, Anthrachinon- und 3-Acylcumar-inderivate sowie 3-(Aroylmethylen)-thiazoline.
Weitere übliche Zusätze sind - je nach Verwendungszweck - optische Aufheller, Füllstoffe, Pigmente, Farbstoffe, Netzmittel oder Verlaufhilfsmittel.
Die erfindungsgemässen Photoinitiatoren der Formel I eignen sich besonders zur Härtung von polymerisierbaren Massen, die Stoffe enthalten, welche die Lichtdurchlässigkeit vermindern.
Zur Härtung dicker und pigmentierter Beschichtungen eignet sich der Zusatz von Mikro-Glaskugeln oder pulverisierter Glasfasern, wie z.B. in US-A-5 013 768 beschrieben.
Die Erfindung betrifft daher auch photopolymerisierbare Zusammensetzungen, enthaltend (a) mindestens eine ethylenisch ungesättigte photopolymerisierbare Verbindung und (b) als Photoinitiator mindestens eine Verbindung der Formel I, wobei die Zusammensetzung ausserdem noch einen anderen Photoinitiator und/oder andere Additive enthalten kann.
Die photopolymerisierbaren Zusammensetzungen enthalten den Photoinitiator (b) zweckmässig in einer Menge von 0,05 bis 15 Gew.-%, vorzugsweise 0,2 bis 5 Gew.-%, bezogen auf den Gesamtfestkörper.
Gegenstand der Erfindung sind auch Zusammensetzungen enthaltend als Komponente (a) mindestens eine in Wasser gelöste oder emulgierte ethylenisch ungesättigte photopolymerisierbare Verbindung.
Solche strahlungshärtbaren wässrigen Prepolymerdispersionen sind in vielen Variationen im Handel erhältlich. Man versteht darunter eine Dispersion aus Wasser und mindestens einem darin dispergierten Prepolymeren, Die Konzentration des Wassers in diesen Systemen liegt z.B. bei 5 bis 80, insbesondere 30 4
AT 401 265 B bis 60 Gew.-%. Das strahlungshärtbare Prepolymere bzw. Prepolymerengemisch ist beispielsweise in Konzentrationen von 95 bis 20, insbesondere 70 bis 40 Gew.-% enthalten. In diesen Zusammensetzungen ist die Summe der für Wasser und Prepolymere genannten Prozentzahlen jeweils 100, die Hilfs- und Zusatzstoffe kommen, je nach Verwendungszweck, in unterschiedlichen Mengen hinzu.
Bei den strahlungshärtbaren, in Wasser dispergierten, oft auch gelösten filmbildenden Prepolymeren handelt es sich um für wässrige Prepolymerdispersionen an sich bekannte, durch freie Radikale initiierbare mono- oder polyfunktionelle ethylenisch ungesättigte Prepolymere, die beispielsweise einen Gehalt von 0,01 bis 1,0 Mol pro 100g Prepolymer an polymerisierbaren Doppelbindungen, sowie ein mittleres Molekulargewicht von z.B. mindestens 400, insbesondere von 500 bis 10000 aufweisen. Je nach Anwendungszweck kommen jedoch auch Prepolymere mit höheren Molekulargewichten in Frage.
Es werden beispielsweise polymerisierbare C-C-Doppelbindungen enthaltende Polyester mit einer Säurezahl von höchstens 10, polymerisierbare C-C-Doppelbindungen enthaltende Polyether, hydroxylgruppenhaltige Umsetzungsprodukte aus einem mindestens zwei Epoxidgruppen pro Molekül enthaltenden Polyepoxid mit mindestens einer α,,β-ethylenisch ungesättigten Carbonsäure, Polyurethan(meth-)acrylate sowie a,ß-ethylenisch ungesättigte Acrylreste enthaltende Acrylcopoiymere verwendet, wie sie in der EP-A-12 339 beschrieben sind. Gemische dieser Prepolymeren können ebenfalls verwendet werden. In Frage kommen ausserdem die in der EP-A-33 896 beschriebenen polymerisierbaren Prepolymere, bei denen es sich um Thioetheraddukte von polymerisierbaren Prepolymeren mit einem mittleren Molekulargewicht von mindestens 600, einem Carboxylgruppengehalt von 0,2 bis 15 % und einem Gehalt von 0,01 bis 0,8 Mol polymerisierbarer C-C-Doppelbindungen pro 100g Prepolymer handelt. Andere geeignete wässrige Dispersionen auf Basis von speziellen (Meth-)-Acrylsäurealkylester-Polymerisaten sind in der EP-A-41 125 beschrieben, geeignete in Wasser dispergierbare, strahlungshärtbare Prepolymere aus Urethanacrylaten sind der DE-A-29 36 039 zu entnehmen.
Als weitere Zusätze können diese strahlungshärtbaren wässrigen Prepolymerdispersionen Dispergierhilfsmittel, Emulgatoren, Antioxidantien, Lichtstabilisatoren, Farbstoffe, Pigmente, Füllstoffe, z.B. Talkum, Gips, Kieselsäure, Rutil, Russ, Zinkoxid, Eisenoxide, Reaktionsbeschleuniger, Verlaufsmittel, Gleitmittel, Netzmittel, Verdickungsmittel, Mattierungsmittel, Entschäumer und andere in der Lacktechnologie übliche Hilfsstoffe enthalten. Als Dispergierhilfsmittel kommen wasserlösliche hochmolekulare organische Verbindungen mit polaren Gruppen, wie z.B. Polyvinylalkohole, Polyvinylpyrrolidon oder Celluloseether in Frage. Als Emulgatoren können nicht-ionische, gegebenenfalls auch ionische Emulgatoren verwendet werden.
In bestimmten Fällen kann es von Vorteil sein, Gemische von zwei oder mehr der erfindungsgemässen Photoinitiatoren zu verwenden. Selbstverständlich können auch Gemische mit bekannten Photoinitiatoren verwendet werden, z.B. Gemische mit Benzophenon, Acetophenonderivaten, Benzoinethern, Benzilketaien. Monoacylphosphinoxiden, weiteren Bisacylphosphinoxiden, Perestern oder Titanocenen.
Gegenstand der Erfindung sind daher auch Zusammensetzungen, worin die zusätzlichen Photoinitiatoren Verbindungen der Formel II
(Π), worin R4 für Wasserstoff, Ci-Cis-Alkyl, Ci-Cie-Alkoxy, -OCH2CH2-OR8, eine Gruppe CH3
CH2=sC oder eine Gruppe 5
AT 401 265 B ch3i -C- n
G steht, worin n einen Wert von 2 bis 10 hat und G für den Rest
r7 steht,
Rs und Rß unabhängig voneinander Wasserstoff, Ci -Ce -Alkyl, Phenyl,
Ci-Cu-Alkoxy oder -0(CH2CH20)m-Ci-Cu-Alkyl, worin m für eine Zahl von 1-20 steht, bedeuten, oder Rs und Rs zusammen mit dem Kohlenstoffatom, an welches sie gebunden sind, einen Cyclohexylring bilden, R7 Hydroxy, Ci -Ci $ -Alkoxy oder -0(CH2CH2 0)m-Ci -Ci s-Alkyl darstellt, wobei Rs,
Rs und R7 nicht alle gleichzeitig Ci-Cu-Alkoxy oder -0(CH2CH2 0)m-Ci -Cu-Alkyl bedeuten, und Rs Wasserstoff,
11 II — C — CH= CH2 oder-c — C = CH2 bedeutet,
und/oder der Formel III
(ΠΙ), worin
Rs, Ri 0 und Ri 1 unabhängig voneinander Wasserstoff oder Methyl bedeuten, oder Mischungen davon sind. R4 als Ci -Ci s-Alkyl kann die gleichen Bedeutungen haben wie für Ri beschrieben. Auch Rs und Rs als Ci -Ce-Alkyl und R7 als Ci -C*-Alkyl können die gleichen Bedeutungen haben wie für Rt beschrieben, bis zur jeweiligen Anzahl der C-Atome. R4 als Ci-Ci β-Alkoxy bedeutet beispielsweise verzweigtes oder unverzweigtes Alkoxy wie z.B. Methy-oxy, Ethyoxy, n-Propyloxy, iso-Propyloxy, n-Butyloxy, iso-Butyloxy, sec-Butyloxy, tert-Butyloxy, Pentyloxy, Hexyloxy, Heptyloxy, Octyloxy, 2,4,4-Trimethyl-pent-1-yloxy, 2-Ethylhexyloxy, Nonyloxy, Decyloxy, Dodecy-loxy oder Octadecyloxy.
Rs, Re und R7 als Ci -Cu-Alkoxy können die gleichen Bedeutungen haben wie Für R* beschrieben, bis zur entsprechenden Anzahl der C-Atome, vorzugsweise sind sie Decyloxy, Methoxy und Ethoxy, insbesondere Methoxy und Ethoxy.
Der Rest -0(CH2CH2 0)m-Ci-Cu-Alkyl steht für 1 bis 20 aufeinanderfolgende Ethylenoxid-Einheiten, deren Kette mit einem Ci-Cu-Alkyl beendet ist. Bevorzugt ist m 1 bis 10, z.B. 1 bis 8, insbesondere 1 bis 6. Vorzugsweise ist die Ethylenoxid-Einheiten-Kette mit einem C1-C10-, z.B. Ci-Cs-, insbesondere mit einem C1-C4-Alkyl terminiert.
Bevorzugt sind Zusammensetzungen, worin in der Formel II Rs und Re unabhängig voneinander C1-C6-Alkyl bedeuten, oder zusammen mit dem Kohlenstoffatom, an welches sie gebunden sind, einen Cyclohex- 6
AT 401 265 B ylring bilden und R7 für Hydroxy steht.
Weitere bevorzugte Zusammensetzungen sind solche, worin der Anteil an Verbindungen der Formel I im Gemisch mit Verbindungen der Formeln II und/oder III 5 bis 95 %, bevorzugt 30 bis 70 %, beträgt.
Wichtig sind auch Zusammensetzungen, worin in den Verbindungen der Formel I Ri n-Butyl, i-Butyl oder 2,4,4-Trimethyl-pent-1-yl bedeutet, R2 und R3 gleich sind und 2,6-Dimethoxyphenyl oder 2,4,6-Trimethylphenyl bedeuten, und in den Verbindungen der Formel II Rs und Re gleich sind und für Methyl stehen und R7 Hydroxy oder i-Propoxy ist.
Ebenfalls bevorzugt sind Zusammensetzungen, enthaltend Verbindungen der Formel I, in welchen Ri n-Butyl, i-Butyl oder 2,4,4-Trimethyl-pent-1-yl bedeutet, R2 und R3 gleich sind und 2,6-Dimethoxyphenyl oder 2,4,6-Trimethylphenyl bedeuten, und ein Gemisch von Verbindungen der Formel lil, in welchem Verbindungen der Formel III mit Rs und Rio gleich Wasserstoff und R11 gleich Methyl zu 20 % und Verbindungen der Formel III mit Rs, R10 und Ri 1 gleich Methyl zu 80 %, enthalten sind.
Interessant sind vor allen Dingen Zusammensetzungen wie oben beschrieben, welche Photoinitiatormischungen der Formeln l, II und/oder III enthalten, und bei Raumtemperatur flüssig sind.
Die Herstellung der Verbindungen der Formeln II und III ist allgemein bekannt und ein Teil der Verbindungen ist im Handel erhältlich. Die Herstellung von oligomeren Verbindungen der Formel II ist beispielsweise in der EP-A-0161 463 beschrieben. Eine Beschreibung der Herstellung von Verbindungen der Formel III ist z.B. der EP-A-209 831 zu entnehmen.
Die photopolyrmerisierbaren Zusammensetzungen können für verschiedene Zwecke verwendet werden, beispielsweise als Druckfarbe, als Klarlack, als Weisslack, z.B. für Holz oder Metall, als Anstrichstoff, u.a. für Papier, Holz, Metall oder Kunststoff, als bunt-pigmentierter Lack, als tageslichthärtbarer Anstrich für Bauten und Strassenmarkierungen, zur Herstellung von klaren oder pigmentierten wässrigen Dispersionen, für photographische Reproduktionsverfahren, für Bildaufzeichnungsverfahren oder zur Herstellung von Druckplatten, die mit organischen Lösemitteln oder wässrig-alkalisch entwickelbar sind, zur Herstellung von Masken für den Siebdruck, als Zahnfüllmassen, als Klebstoffe, als Aetz- oder Permanentresists und als Lötstoppmasken für gedruckte elektronische Schaltungen, zur Herstellung von dreidimensionalen Gegenständen durch Massenhärtung (UV-Härtung in transparenten Formen) oder nach dem Stereolithographie-Verfahren, wie es z.B. im US-Patent Nr. 4,575,330 beschrieben ist, zur Herstellung von Verbundwerkstoffen (z.B. styrolischen Polyestern, die gegebenenfalls Glasfasern und andere Hilfsstoffe enthalten können und anderen dickschichtigen Massen, zur Beschichtung oder Versiegelung von elektronischen Teilen oder als Ueberzüge für optische Fasern.
Die erfindungsgemässen photohärtbaren Zusammensetzungen eignen sich z.B. als Beschichtungsstoffe für Substrate aller Art, z.B. Holz, Papier, Keramik, Kunststoffe wie Polyester und Celluloseacetatfilme und Metalle wie Kupfer und Aluminium, bei denen durch Photopolymerisation eine Schutzschicht oder eine Abbildung aufgebracht werden soll.
Die Beschichtung der Substrate kann erfolgen, indem man eine flüssige Zusammensetzung, eine Lösung oder Suspension auf das Substrat aufbringt. Das geschieht z.B. durch Tauchen, Aufpinseln, Spritzen oder Reverseroll-Beschichtung. Die Auftragsmenge (Schichtdicke) und Art des Substrates (Schichtträger) sind abhängig vom gewünschten Applikationsgebiet. Als Schichtträger für photographische Informationsaufzeichnung dienen z.B. Folien aus Polyester, Celluloseacetat oder mit Kunststoff beschichtete Papiere; für Offsetdruckformen speziell behandeltes Aluminium und für die Herstellung gedruckter Schaltungen kupferkaschierte Laminate. Die Schichtdicken für photographische Materialien und Offsetdruckformen betragen im allgemeinen ca. 0,5 bis ca. 10 u.m. Bei Mitverwenden von Lösemitteln werden diese nach dem Beschichten entfernt.
Grosse Bedeutung hat die Photohärtung für Druckfarben, da die Trocknungszeit des Bindemittels ein massgeblicher Faktor für die Produktionsgeschwindigkeit graphischer Erzeugnisse ist und in der Grössenordnung von Bruchteilen von Sekunden liegen soll. Insbesondere für den Offsetdruck sind UV-härtbare Farben von Bedeutung.
Gut geeignet sind die erfindungsgemässen Gemische auch zur Herstellung von Druckplatten für Flexo-oder Buchdruck. Hierbei werden z. B. Gemische von löslichen linearen Polyamiden oder Styrol/Butadien Kautschuk mit photopolymerisierbaren Monomeren, beispielsweise Acrylamiden oder Acrylestern, und einem Photoinitiator verwendet. Filme und Platten aus diesen Systemen (nass oder trocken) werden über das Negativ (oder Positiv) der Druckvorlage belichtet und die ungehärteten Teile anschliessend mit einem geeigneten Lösemittel eluiert. Die Entwicklung kann sowohl in einem organischen Lösemittel, als auch in wässrig-alkalischem Medium erfolgen.
Ein weiteres Einsatzgebiet der Photohärtung ist die Metallbeschichtung, beispielsweise bei der Lackierung von Blechen und Tuben, Dosen oder Flaschenverschlüssen, sowie die Photohärtung auf Kunststoffbeschichtungen, beispielsweise von Fussboden- oder Wandbelägen auf PVC-Basis. 7
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Beispiele für die Photohärtung von Papierbeschichtungen sind die farblose Lackierung von Etiketten, Schallplattenhüllen oder Buchumschlägen.
Wichtig ist auch die Verwendung von photohärtbaren Zusammensetzungen für Abbildungsverfahren und zur optischen Herstellung von Informationsträgern. Hierbei wird die auf dem Träger aufgebrachte Schicht (nass oder trocken) durch eine Photomaske mit kurzwelligem Licht bestrahlt und die unbelichteten Stellen der Schicht durch Behandlung mit einem Lösemittel ( = Entwickler) entfernt. Das Aufbringen der photohärtbaren Schicht kann auch im Elektroabscheidungsverfahren auf Metall geschehen. Die belichteten Stellen sind vernetzt-polymer und dadurch unlöslich und bleiben auf dem Träger stehen. Bei entsprechender Anfärbung entstehen sichtbare Bilder. Ist der Träger eine metallisierte Schicht, so kann das Metall nach dem Belichten und Entwickeln an den unbelichteten Stellen weggeätzt oder durch Galvanisieren verstärkt werden. Auf diese Weise lassen sich gedruckte elektronische Schaltungen und Photoresists herstellen.
Die Polymerisation erfolgt nach den bekannten Methoden der Photopolymerisation durch Bestrahlung mit Sonnenlicht oder mit Licht, das reich an kurzwelliger Strahlung ist. Als Lichquellen sind z.B. Quecksilbermitteldruck-, -hochdruck- und -niederdruckstrahier, superaktinische Leuchtstoffröhren, Metallhalogenid-Lampen oder Laser geeignet, deren Emissionsmaxima im Bereich zwischen 250 und 450 nm liegen. Laserlichtquellen haben den Vorteil, dass keine Photomasken notwendig sind, da der gesteuerte Laserstrahl direkt auf die photohärtbare Schicht schreibt. Im Falle einer Kombination mit Photosensibilisatoren können auch längerwelliges Licht oder Laserstrahlen bis 600 nm verwendet werden.
Gegenstand der Erfindung ist auch ein Verfahren zur Photopolymerisation von Verbindungen mit ethylenisch ungesättigten Doppelbindungen, dadurch gekennzeichnet, dass man eine wie oben beschriebene Zusammensetzung mit Licht im Bereich von 200 bis 600 nm bestrahlt.
Die erfindungsgemässen Photoinitiatoren besitzen hohe Reaktivität und bei ihrer Verwendung werden Lackoberflächen mit guten Glanzwerten erhalten. Wegen der geringen Vergilbungsneigung sind die erfindungsgemässen Verbindungen besonders zur Anwendung in Weisslacken geeignet, ihr Vermögen dicke Schichten zu Härten ermöglicht die Anwendung zur Herstellung von Druckplatten und Verbundwerkstoffen. Durch Lagerung der gehärteten erfindungsgemässen Zusammensetzungen am Tageslicht kann deren Härte noch erhöht werden und können die Verfärbungswerte noch weiter sinken.
Die nachfolgenden Beispiele erläutern die Erfindung weiter. Angaben in Teilen oder Prozenten beziehen sich, ebenso wie in der übrigen Beschreibung und in den Patentansprüchen, auf das Gewicht, sofern nichts anderes angegeben ist. In den Beispielen und Tabellen steht die Abkürzung "ber." für die berechneten Werte der Elementaranalysen, die Abkürzung "gef." für die tatsächlich ermittelten Werte.
Beispiel 1: Herstellung von Bis(2,4,6-trimethylbenzoyl)-isobutylphosphinoxid
Zu einer Lösung aus 31,9 ml (0,225 mol) Diisopropylamin in 80 ml Tetrahydrofuran werden unter Stickstoff bei 0 *C 140,6 ml (0,225 mol; 1,6 Butyllithium innerhalb von 30 min getropft. Diese Lösung wird bei -30 *C innerhalb von 90 min zu einer Lösung aus 41,1 g (0,225 mol) 2,4,6-Trimethylbenzoylchlorid und 12 ml (0,102 mol) Isobutylphosphin in 200 ml Tetrahydrofuran getropft. Nach 2 h Rühren bei -30 *C lässt man die gelbe Lösung auf Raumtemperatur erwärmen und wäscht einmal mit Wasser. Die organische Phase wird mit Magnesiumsulfat getrocknet, filtriert und am Rotationsverdampfer eingeengt. Der Rückstand wird in 200 ml Toluol gelöst und mit 11,6 g (0,102 mol) 30 %igem Wasserstoffperoxid versetzt Nach 2 h Rühren wird zuerst mit Wasser, dann mit gesättigter Natriumhydrogencarbonatlösung nachgewaschen. Danach wird mit Magnesiumsulfat getrocknet, abfiltriert und die Lösung am Rotationsverdampfer eingeengt. Nach Kristallisation aus Hexan erhält man 27,8 g (68,5 % der Theorie) der oben genannten Verbindung als gelbes Pulver. Der Schmelzpunkt liegt bei 85-86 · C.
Elementaranalyse; ber. % C 72,34 gef. % C 72,13 ber. % H 7,84 gef. % H 7,94
Beispiel 2: Herstellung von Bis(2,6-dimethoxybenzoyl-n-butylphosphinoxid
Zu einer Lösung von 44,1 g (0,22 mol) 2,6-Dimethoxybenzoylchlorid in 200 ml Toluol wird bei 100-110 ’C innerhalb von 60 min ein Gemisch aus 18g (0,10 mol, 50 %ig in Toluol) n-Butylphosphin und 30,7 ml (0,22 mol) Triethylamin getropft. Nach 6 h Rühren bei 100-110 *C lässt man die gebildete Suspension auf Raumtemperatur abkühlen, verdünnt mit Toluol und wäscht zuerst einmal mit Wasser, dann einmal mit 8
AT 401 265 B gesättigter Natriumbicarbonatlösung. Die organiosche Phase wird mit 11,3 g (0,10 mol) 30 %igem Wasserstoffperoxid versetzt und 2 h bei 40 *C gerührt. Danach wird mit Wasser und gesättigter Natriumbicarbonatlösung nachgewaschen, mit Magnesiumsulfat getrocknet, filtriert und am Rotationsverdampfer eingeengt. Nach Kristallisation aus Essigester erhält man 30,2 g (69,6 % der Theorie) der oben genannten Verbindung als gelbes Pulver. Der Schmelzpunkt liegt bei 151-152 *C.
Elementaranalyse: ber. % C 60,83 gef. % C 60,84 ber. % H 6,26 gef. % H 6,35
Beispiele 3-25:
Die Verbindungen der Beispiele 3 - 25 werden analog zu der Verbindung des Beispiels 1 (= Methode A), bzw. der Verbindung des Beispiels 2 (= Methode B), unter Verwendung der entsprechend substituierten Benzoylchloride und Phosphine, hergestellt. Die Verbindungen und deren analytische Daten sind in der Tabelle 1 wiedergegeben.
9 50
Tabelle 1:
ΑΤ 401 265 B
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Tabelle 1 (Fortsetzung): C*5 Xo Xo ΛΙ Xo in X cvo n Xo Xo
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Beispiel 32: Herstellung von 2,6-Dimethoxybenzoyl-2,4,6-trimethylbenzoyl-n-butyl phosphinoxid
Zu einer Lösung von 9,1 g (0,05 mol) 2,4,6-Trimethylbenzoylchlorid in 100 ml Toluol wird unter Stickstoff bei 100-110 *C ein Gemisch aus 9,0 g (0,05 mol 50%rg in Toluol) n-Butylphosphin und 10,1 g (0,10 mol) Triethylamin innerhalb von 10 Minuten getropft. Nach 3 Stunden Rühren bei 100-110 *C wird bei unveränderter Temperatur innerhalb 30 Minuten eine Lösung aus 10g (0,05 mol) 2,6-Dimethylbenzoylchlorid in 50 ml Toluol zugetropft. Nach weiteren 5 Stunden Rühren bei 100-110 *C wird die gebildete gelbliche 13 ΑΤ 401 265 Β
Suspension auf Raumtemperatur abkühlen lassen und einmal mit Wasser und einmal mit Natriumbicarbonat gewaschen. Die organische Phase wird mit 5,7 g (0,05 mol) 30%igem Wasserstoffperoxid versetzt und 2 Stunden bei 60 *C gerührt. Danach wird mit Wasser und gesätrigter Natriumbicarbonatlösung nachgewaschen, mit Magnesiumsulfat getrocknet, filtriert und am Rotationsverdampfer eingeengt. Nach Reinigung mittels Chromatographie (Laufmittel: Hexan/Essigester 1:1) und anschliessender Kristallisation aus Cyclohe-xan erhält man 1,80 g (8,7 % d. Theorie) der Titelverbindung als gelbes Pulver mit einem Schmelzpunkt von 94-96 * C.
Elementaranalyse: ber. % C 66,33 gef. % C 65,61 ber. % H 7,02 gef. % H 7,04
Beispiel 33: Photoinitiatorreaktivität in einem Weisslack
Die Photoinitiatoren werden in Konzentrationen von 0,5 und 1 Gew.-% in eine Weisslackformulierung bestehend aus: 67.5 Teilen ©Ebecryl 830 (Polyesteracrylat der Fa. UCB, Belgien) 5.0 Teilen Hexandioldiacrylat 2.5 Teilen Trimethylolpropantriacrylat und 25.0 Teilen Titandioxid (R-TC2) vom Rutil-Typ eingearbeitet.
Die Proben werden mit einer 100 nm-Spaltrakel auf Spanplatten aufgetragen und mit einer 80 W/cm Quecksilbermitteldrucklampe (Typ Hanovia) bei einer Bandgeschwindigkeit von 10 m/min gehärtet. Die Anzahl der Durchläufe bis zur Erreichung der Wischfestigkeit wird bestimmt Von den so gehärteten Weisslackschichten wird die Pendelhärte nach König (DIN 53157) sofort nach der Härtung gemessen. Dann wird unter vier 40 W Lampen (Philips TL 03) nachbelichtet und nach 15 Minuten bzw. 16 Stunden die Pendelhärte erneut bestimmt. Der Yellowness Index nach ASTM D 1925-70 wird nach 16 Stunden gemessen.
Die Pendethärte und die Wischfestigkeit sind ein Mass für die Reaktivität des getesteten Photoinitiators: Je geringer die Anzahl der Durchläufe zur Erreichung der Wischfestigkeit und je höher die Werte der Pendelhärtemessung, desto reaktiver ist der Photohärter. Ein Mass für die Vergilbung sind die Yellowness Index Werte: Je kleiner die Werte, desto geringer ist die Vergilbung der getesteten Formulierung.
Die Messergebnisse sind in der folgenden Tabelle 2 aufgelistet.
Tabelle 2
Verbindung aus Bsp. Konzentration [Gew.-%] Anzahl Durchläufe [10 m/min] Pendelhärte Yellowness Index nach 16 h sofort nach 15 min nach 16 h 4 0,5 5 165 179 185 1,2 1,0 3 164 182 197 1,2 7 0,5 6 164 169 178 1,1 1,0 4 178 184 199 1,2 13 0,5 6 157 160 174 1,4 1,0 4 158 172 186 1,6
Beispiel 34: Photoinitiatorreaktivität in einem Weisslack
Es wird ein Weisslack bereitet aus 75 Teilen einer Formulierung aus 99,5 % Roskydal UV 502 A (BAYER, BRD), 0,5 % Byk 300 (Byk-Mallinckrodt) und 25 Teilen Titandioxid. Die Photoinitiatoren werden in den angegebenen Konzentrationen durch Schütteln mit Kugeln (bei 2 Gew.-% Photoinitiator) oder durch Rühren bei 50 · C (bei 1,5 Gew.-% Photoinitiator) eingearbeitet. Dann wird die Formulierung mit einer 150 14
AT 401 265 B um-Spaltrakel auf Spanplatten aufgetragen und 1,5 min unter vier 40 W Lampen (Philips TL 03) vorbelichtet. Die weitere Härtung erfolgt in zwei Belichtungsvarianten: a) Die Proben werden bei einer Bandgeschwindigkeit von 10 m/min zweimal unter einer 80 W/cm Quecksilbermitteldrucklampe (Typ Hanovia) belichtet, b) Die Proben werden mit einer Bandgeschwindigkeit von 3 m/min zweimal unter einer 120 W/cm Fusion D und einer 80 W/cm Quecksilbermitteldrucklampe (Typ Hanovia), die hintereinander angeordnet sind, gehärtet.
Von den gehärteten Schichten wird die Pendelhärte nach König (Din 53157) sofort, nach 15 min und 16 h Nachbelichtung unter 40 W Lampen (Philips TL 03) gemessen. Je höher die Werte, desto besser gehärtet ist die Formulierung. Die Vergilbung (Yellowness Index; Yl) der Schichten wird nach 16 h Nachbelichtung nach ASTM D 1925-70 bestimmt. Je niedriger die Werte, desto geringer ist die Vergilbung der Schicht. Die Ergebnisse der Bestrahlungsvariante a) sind in der Tabelle 3 wiedergegeben. Die Resultate der Bestrahlungsvariante b) sind der Tabelle 4 zu entnehmen.
Tabelle 3 (Bestrahlungsvariante a)) Verbindung Konzentration [Gew.-%] Pendelhärte Yellowness Index nach 16 h aus Bsp. sofort nach 15 min nach 16 h 4 1,5 108 130 179 1,0 2,0 115 147 179 1,0 6 1,5 113 130 182 0,8 2,0 120 154 188 1,0
Tabelle 4 (Bestrahlungsvariante b)) Verbindung aus Bsp. Konzentration [Gew.-%] Pendelhärte Yellowness Index nach 16 h sofort nach 15 min nach 16 h 4 1,5 150 153 179 1,1 2,0 160 165 167 1,1 6 1,5 151 158 181 1,0 2,0 165 170 176 1,1
Beispiel 35: Photoinitiatorreaktivität in einem Weisslack
Es wird eine photopolymerisierbare Zusammensetzung bereitet aus; 13,5 Teilen ®Ebecryl 830 (Polyesteracrylat der Fa. UCB, Belgien) 0,5 Teilen Trimethylolpropan-trisacrylat (Degussa) 1.0 Teilen 1,6-Hexandiol-diacrylat (Röhm) 5.0 Teilen Titandioxid (Rutil-Typ, ®R-TC 2 der Fa. Tioxide, Frankreich).
Zu dieser Zusammensetzung werden Mischungen des Photoinitiators aus Beispiel 14 (A) mit 1-BenzoyM-hydroxy-1-methyl-ethan (B) in den aus der Tabelle 5 ersichtlichen Mengen gemischt. Die Formulierung wird in einer Schichtdicke von 100 um auf Aluminiumbleche aufgetragen und die so erhaltenen Proben mit einer Quecksilbermitteldrucklampe (80 W/cm, Typ; Hanovia) bestrahlt. Dabei werden die Proben so oft auf einem Band, welches mit einer Geschwindigkeit von 10 m/min läuft, unter der Lampe hergeführt bis eine wischfeste Lackschicht entstanden ist. Je geringer die Anzahl der Durchläufe (n), desto besser ist die Wirkung der getesteten Photoinitiatoren bzw. Photoinitiatormischungen. Die Vergilbung der Proben wird als Yellowness Index nach ASTM D 1925-70 bestimmt. Je kleiner der Wert, desto geringer ist die Vergilbung 15 ΑΤ 401 265 Β der Probe. Die Vergilbung wird sofort nach der Härtung, nach einer zusätzlichen Belichtung von 15 min und 16 h unter 4 Lampen des Typs TL 40/03(40 W; Philips) gemessen. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 5 zusammengefasst.
Tabelle 5
Verbindung Konzentration [Gew.-%] Anzahl Durchläufe [10m/min] Yellowness Index sofort nach 15 min nach 16 h A 0,5 8 1,0 1,0 -0.7 A 1,0 5 1.9 2,3 -0,5 A 1.5 4 3,3 4,2 -0,1 A 2,0 3 4,1 5,9 -0.2 A 0,5 4 0,8 1,0 -1.2 B 0.5 A 0.75 3 1,6 1,7 -0,6 B 0,75 A 1,0 2 1,8 3,1 -0,8 B 1,0 A 0,65 4 1,3 1,6 -0,9 B 0,35 A 1,0 3 1,1 0,8 -1,4 B 0,5 A 1.3 2 2,9 4,2 -0,2 B 0,7 A 0,35 4 0,8 0,7 -0,8 B 0,65 A 0,5 4 0,7 0,8 -1,2 B 1,0 A 0,7 2 1,9 2,2 CD Ö 1 B 1,3
Beispiel 36: Photoinitiatorreaktivität in einem Weisslack
Es wird eine photopolymerisierbare Zusammensetzung bereitet aus: 99,5 Teilen ©Roskydal UV 502 A (UPES/Styrol-Lösung; Fa. BAYER; enthält 35 % Styrol und 25 % Rutil-Titandioxid) 0,5 Teilen ®Byk 300 (Verlaufhilfsmittel; Fa. Byk-Mallinckrodt)
Zu dieser Zusammensetzung werden die Initiatormischungen (C) [= 50 % des Photoinitiators aus Beispiel 14 + 50 % 1-Benzoy 1-1-hydroxy-1-methylethan] und (D) [= 33 % des Photoinitiators aus Beispiel 14 + 67 % 1-Benzoyl-1-hydroxy-1-methylethan] in den aus der Tabelle 6 ersichtlichen Mengen gemischt.
Die Formulierung wird in einer Schichtdicke von 150 (im auf Spanplatten aufgetragen und unter verschiedenen Belichtungsbedingungen gehärtet. 1) Die Proben werden 1,5 Minuten unter 4 Lampen des Typs TL 40/03(40 W; Philips) vorbelichtet. Danach erfolgt die Härtung unter einer 80 W/cm Quecksilbermitteldrucklampe, indem die Probe einmal mit einer Geschwindigkeit von 3 m/min unter der Lampe hindurchgeführt wird. 2) Zur Härtung werden die Proben ohne Vorbelichtung einmal unter zwei 80 W/cm Quecksilbermitteldrucklampen mit einer Geschwindigkeit von 3 m/min hindurchgeführt.
Als Beurteilungskriterien werden die Pendelhärte nach König (DIN 53157), der Yellowness Index nach ASTM D 1925-70 und der Glanzwert bei 20 und 60 · gemessen. Die Ergebnisse sind in der Tabelle 6 zusammengefasst. 16
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Tabelle 6
Photoinitiator Menge [Gew.-%] Pendelhärte Yellowness Index Glanz [20/60*] 1) mit Vorbelichtung C 2 93 2,3 84/92 C 4 91 3,6 84/92 D 2 75 2,2 84/92 D 4 92 2,9 84/92 2) ohne Vorbelichtung C 4 117 4,1 86/93 D 4 102 3,5 86/93
Beispiel 37: Photoinitiatorreaktivität in einem Klarlack
In 100 Teilen ©Roskydal 502 (ungesättigtes Polyesterharz, zu ca. 80 % in Butylacetat gelöst der Fa. BAYER) werden die Photoinitiatoren in den in der Tabelle 7 angegebenen Konzentrationen gelöst. Verwendet werden die Photoinitiatoren aus den Beispielen 1, sowie 2,2-Dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-on (= E)..
Die Formulierungen werden in einer Schichtdicke von 100 um auf Spanplatten aufgetragen und eine Minute bei 50 *C getrocknet. Die Härtung erfolgt durch Belichtung mit zwei 80 W/cm Quecksilbermitteldrucklampen, indem die Proben bei einer Bandgeschwindigkeit von 20 m/min unter den Lampen durchgeführt werden. Zur Bestimmung der Reaktivität wird die Anzahl der Durchläufe gemessen, die nötig ist um eine wischfeste Oberfläche zu erlangen (= n). Ausserdem werden die Pendelhärte nach König (DIN 53157) und der Yellowness Index nach ASTM D 1925-70 der Proben bestimmt, Die Pendelhärte wird zusätzlich nach n + 1 Belichtungsdurchläufen der Proben gemessen.Die Ergebnisse sind der Tabelle 7 zu entnehmen.
Tabelle 7
Photoinititator aus Beispiel Menge [Gew.-%] Anzahl Durchläufe (n) [20m/min] Pendelhärte nach Yellowness Index n n +1 E 2 2 69 91 7,2 1 2 2 124 134 8,3 E 1,25 2 139 148 7,5 1 0,75
Beispiel 38: Herstellung einer flexographischen Druckplatte a) 1,13 Teile ®lrganox 565 (Antioxidans; Ciba-Geigy, Schweiz), 0,03 Teile ®Ceres Black (Pigment, Sudan Black Nr. 86015; Fluka, Schweiz) und 0,6 % des zu prüfenden Photoinitiators werden bei max. 50 *C unter 30 minütigem Rühren in 41,54 Teilen 1,6-Hexandioldiacrylat (HDDA) gelöst. 332,30 Teile ®Cariflex TR 1107 (Blockpolymerisat aus Polyisopren und Polystyrol;Shell Chemie, Niederlande) werden mit 2 g Ueberschuss 10 min bei 140 ’ C auf dem Kalander zu einem Fell geschmolzen. Bei 110 *C wird mit dem Zutropfen der zuvor angesetzten HDDA-Lösung begonnen. Das Zutropfen dauert ca. 15 min. Danach wird die Gesamtformulierung noch weitere 15 min bei 100 · C auf dem Kalander homogenisiert. Nach der Entnahme aus dem Kalander wird das grobe Fell zwischen zwei Teflonfolien gelegt und in einer wassergekühlten Pressse bei einem Druck von 100 kp/cm2 abgekühlt. 70 g des Fells werden in einem 2 mm dicken Pressrahmen zwischen zwei 76 um Polyesterfolien eingeschlossen und zu 2 mm dicken Platten verpresst, indem der "Sandwich" zunächst eine Minute ohne Anwendung von Druck zwischen den Flächen einer zweiten auf 90 * C vorgeheizten Presse aufgeheizt und darauf 10 min bei 17

Claims (19)

  1. AT 401 265 B einem Pressdruck von 200 kp/cm2 verpresst wird. Oanach wird der "Sandwich" in der ersten auf 15 *C wassergekühlten Presse 10 min bei einem Pressdruck von 200 kp/cm2 gekühlt und anschliessend aus dem Pressrahmen herausgeschnitten. b) Nun wird zur Ermittlung der optimalen Belichtungszeit für die Sockelbildung von der beidseitig mit Polyesterfolie belegten Platte ein Streifen von 4x24 cm abgeschnitten. Dieser Streifen wird durch Verschieben einer Maske zwischen 9 Belichtungsschritten von je 20 s stufenweise in einem BASF Nyloprint Belichter mit 20 W Nyloprint 2051 Röhren belichtet. Dabei entsteht auf dem Streifen ein Härtungsmuster aus zehn Abschnitten, dem die Belichtungszeiten 0, 20. 40, 60, 80, 100, 120, 140, 160 und 180 s entsprechen. Die Platte wird umgedreht und ein 1,5 cm breiter Mittelstreifen in der Längsrichtung abgedeckt. Der ganze Aufbau wird mit einer dünnen UV-transparenten Folie überdeckt, mit Vakuum an den Belichtungstisch angesaugt und 6 min lang belichtet. Die belichtete Platte wird entwickelt, indem die ungenügend vernetzten Bereiche im BASF Nyloprint Rundwascher bei 20 *C mit einer Waschlösung aus einer 4:1 Mischung aus Tetrachlorethylen und n-Butanol ausgewaschen werden. 5 Minuten nach der einstündigen Trocknung bei 80 *C im Umluftofen wird die Platte zur Fixierung in eine 0,4 %ige Bromlösung getaucht und zur Neutralisierung 10 s lang in eine wässrige Lösung von 1,15 % Natriumthiosulfat/Natriumcarbonat getaucht. Anschliessend wird 30 s mit deionisiertem Wasser gespült. Ausgewertet wird der Mittelstreifen der so behandelten Platte. Es wird die Belichtungszeit ermittelt, welche zur Ausbildung eines 1400 um Sockels führt (= Rückseitenbelichtungszeit). c) Ein Stück eines wie unter a) hergestellten Platten-Sandwiches wird ganzflächig mit der unter b) ermittelten Belichtungszeit zur Bildung eines Plattensockels belichtet. Danach wird die Platte umgedreht, die Poiyesterfolie entfernt und ein Testnegativ mit 4 Feldern aufgebracht. Die Belichtung der 4 Testfelder des Tesmegativs erfolgt stufenweise unter Verwendung einer Schiebemaske. Das erste Feld wird 6 min belichtet, die Belichtungzeit der Felder 2-4 wird jeweils um eine Minute erhöht. Entwicklung und Fixierung der Platte erfolgt wie oben beschrieben. Danach wird die Platte auf beiden Seiten noch 6 min ganzflächig belichtet. Ermittelt wird die Belichtungszeit zur Erreichung eines Tonwerts von 2 % ( = Vorderseitenbelichtungszeit). Die Ergebnisse sind der Tabelle 8 zu entnehmen. Tabelle 8 Verbindung Rückseitenbelichtungszeit Vorderseitenbelichtungszeit aus Bsp. [s] bis Tonwert = 2 % [min] 1 80 7 8 80 8 Patentansprüche 1. Verbindungen der Formel I o o o R2-C-P-C — R3 (I), Ri dadurch gekennzeichnet, dass Ri Ci-Cie-Alkyl, Cyclopentyl oder Cyclohexyl bedeutet, und R2 und R3 unabhängig voneinander für unsubstituiertes oder ein- bis vierfach mit O -C*-Alkyl und/oder Ci -Ci-Alkoxy substituiertes Phenyl stehen.
  2. 2. Verbindungen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass R2 und R3 gleich sind.
  3. 3. Verbindungen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass Ri Ci -Cie-Alkyl, insbesondere C1-Ce-Alkyl, oder Cyclohexyl bedeutet und R2 und R3 mit C1-C4-Alkyl und/oder Ci-C*-Aikoxy substituiertes Phenyl sind. 18 AT 401 265 B
  4. 4. Verbindungen nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass Ri C4-Cs-Alkyl oder Cyclohexyl bedeutet.
  5. 5. Verbindungen nach Anspruch 2. dadurch gekennzeichnet, dass R2 und R3 in 2,6- oder 2,4,6-Position substituiertes Phenyl bedeuten.
  6. 6. Verbindungen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass R2 und R3 mit Ci-C*-Alkoxy, insbesondere Methoxy substituiertes Phenyl bedeuten.
  7. 7. Verbindungen nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass R2 und R3 mit C1-C4-Alkyl, insbesondere Methyl, substituiertes Phenyl bedeuten.
  8. 8. Zusammensetzung enthaltend (a) mindestens eine ethylenisch ungesättigte photopolymerisierbare Verbindung, dadurch gekennzeichnet, dass sie (b) als Photoinitiator mindestens eine Verbindung der Formel I wie in Anspruch 1 definiert, enthält.
  9. 9. Zusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass sie neben der Komponente (b) noch andere Photoinitiatoren und/oder Additive enthält.
  10. 10. Zusammensetzung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass sie 0,05-15, insbesondere 0,2-5 Gew.-% der Komponente (b), bezogen auf die Zusammensetzung, enthält.
  11. 11. Zusammensetzung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die zusätzlichen Photoinitiatoren Verbindungen der Formel II
    (II), worin Rt für Wasserstoff, Ci-Cie-Alkyl, Ci-Ci3-Alkoxy, -OCH2CH2-OR8. eine Gruppe 1 CH3 oder eine Gruppe ch3i
    G n steht, worin n einen Wert von 2 bis 10 hat und G für den Rest O Rs
    19 AT 401 265 B steht, Rs und Re unabhängig voneinander Wasserstoff, Ci -Gs-Alkyl, Phenyl, Ci-Ci6-Alkoxy oder -0-(CH2CH20)m-Ci-Ci6-Alkyl, worin m für eine Zahl von 1-20 steht, bedeuten, oder Rs und R6 zusammen mit dem Kohlenstoffatom, an welches sie gebunden sind, einen Cyclohexylring bilden, R7 Hydroxy, Ci -Ci e-Alkoxy oder -0(CH2 CH2 0)m-C: -Ci 6 -Alkyl darstellt, wobei Rs, R6 und R7 nicht alle gleichzeitig Ci-Cu-Alkoxy oder -0(CH2CH20)m-Ci -Cu-Alkyl bedeuten, und Rs Wasserstoff, OIIC CH— CH2 oder O CH3 — c—c=ch2 bedeutet, und/oder der Formel III
    aiD, worin R9, Ri 0 und Ri 1 unabhängig voneinander Wasserstoff oder Methyl bedeuten, oder Mischungen davon sind.
  12. 12. Zusammensetzung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass in der Formel II Rs und Re unabhängig voneinander Ci-Ce-Alkyl bedeuten, oder zusammen mit dem Kohlenstoffatom, an welches sie gebunden sind, einen Cyclohexylring bilden und R7 für Hydroxy steht.
  13. 13. Zusammensetzung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass der Anteil an Verbindungen der Formel I im Gemisch mit Verbindungen der Formeln II und/oder III 5 bis 95 %, bevorzugt 30 bis 70 %, beträgt.
  14. 14. Zusammensetzung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass in den Verbindungen der Formel I Ri n-Butyl, i-Butyl oder 2,4,4-Trimethyl-pent-1-yl bedeutet, R2 und R3 gleich sind und 2,6-Dimethoxyphenyl oder 2,4,6-Trimethylphenyl bedeuten, und in den Verbindungen der Formel II Rs und R& gleich sind und für Methyl stehen und R7 Hydroxy oder i-Propoxy ist.
  15. 15. Zusammensetzung nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass sie Verbindungen der Formel I, in welchen Ri n-Butyl, i-Butyl oder 2,4,4-Trimethyl-pent-1-yl bedeutet, R2 und R3 gleich sind und 2,6-Dimethoxyphenyl oder 2,4,6-Trimethylphenyl bedeuten, und ein Gemisch von Verbindungen der Formel III, in welchem Verbindungen der Formel III mit R9 und R10 gleich Wasserstoff und R11 gleich Methyl zu 20 % und Verbindungen der Formel III mit R9, Rio und Rn gleich Methyl zu 80 %, enthalten sind, enthält.
  16. 16. Verwendung von in Anspruch 1 definierten Verbindungen als Photoinitiatoren für die Photopolymerisation ethylenisch ungesättigter Verbindungen.
  17. 17. Verfahren zur Photopolymerisation von Verbindungen mit ethylenisch ungesättigten Doppelbindungen, dadurch gekennzeichnet, dass man eine Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 8-15 mit Licht im Bereich von 200 bis 600 nm bestrahlt.
  18. 18. Verwendung einer Zusammensetzung nach einem der Ansprüche 8-15 zur Herstellung von Anstrichstoffen, insbesondere Weisslacken für Holz- und Metallanstriche oder Klarlacken, zur Herstellung von buntpigmentierten Lacken, zur Herstellung von Klaren oder pigmentierten wässrigen Dispersionen, zur 20 AT 401 265 B Herstellung von Druckfärben, zur Herstellung von dreidimensionalen Gegenständen durch Massenhärtung oder Stereolithographie, zur Herstellung von Zahnfüllmassen, zur Herstellung von Verbundwerkstoffen, zur Herstellung von Druckplatten, zur Herstellung von Masken für den Siebdruck, zur Herstellung von Photoresists für gedruckte elektronische Schaltungen, zur Herstellung von Klebstoffen, als Ueberzug für optische Fasern oder als Beschichtung oder Versiegelung von elektronischen Bauteilen.
  19. 19. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass es nach der Methode der Massenhärtung oder Stereolithographie durchgeführt wird. 21
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Families Citing this family (136)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4336748C3 (de) * 1992-11-17 2001-09-06 Ciba Sc Holding Ag Verfahren zur Blitztrocknung und Blitzhärtung, Verwendung des Verfahrens und dafür geeignete Vorrichtungen
ZA941879B (en) * 1993-03-18 1994-09-19 Ciba Geigy Curing compositions containing bisacylphosphine oxide photoinitiators
EP0693002B2 (de) 1993-04-01 2001-05-02 PPG Industries Ohio, Inc. Verfahren zur herstellung von hoch-glänzend, strahlunghärtbaren beschichtungen
TW381106B (en) * 1994-09-02 2000-02-01 Ciba Sc Holding Ag Alkoxyphenyl-substituted bisacylphosphine oxides
AU682793B2 (en) * 1994-09-08 1997-10-16 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Novel acylphosphine oxides
JP3117394B2 (ja) * 1994-11-29 2000-12-11 帝人製機株式会社 光学的立体造形用樹脂組成物
JPH08171209A (ja) * 1994-12-15 1996-07-02 Japan Synthetic Rubber Co Ltd 放射線硬化性組成物
US6117612A (en) * 1995-04-24 2000-09-12 Regents Of The University Of Michigan Stereolithography resin for rapid prototyping of ceramics and metals
TW330945B (en) 1995-04-28 1998-05-01 Nippon Chemicals Pharmaceutical Co Ltd Ultraviolet-curable adhesive composition
US6284185B1 (en) 1995-04-28 2001-09-04 Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha Ultraviolet-curable adhesive composition for bonding opaque substrates
US5707781A (en) * 1995-05-05 1998-01-13 Bayer Corporation Photopolymerizable compositions having acyl or diacyl phosphine oxide and a fluorescent optical brightner
US6361925B1 (en) 1996-03-04 2002-03-26 Ciba Specialty Chemicals Corporation Photoinitiator mixtures and compositions with alkylphenylbisacylphosphine oxides
SE520727C2 (sv) * 1996-03-04 2003-08-19 Ciba Sc Holding Ag Alkylfenylbisacylfosfinoxid och fotoinitiatorblandningar
GB9605712D0 (en) * 1996-03-19 1996-05-22 Minnesota Mining & Mfg Novel uv-curable compositions
CA2248616A1 (en) * 1996-04-05 1997-10-16 Minnesota Mining And Manufacturing Company Visible light polymerizable composition
DE69710657T3 (de) * 1996-08-23 2007-07-05 Showa Denko K.K. Photohärtbare Zusammensetzung und Härtungsverfahren
SG53043A1 (en) * 1996-08-28 1998-09-28 Ciba Geigy Ag Molecular complex compounds as photoinitiators
DE19650562A1 (de) * 1996-12-05 1998-06-10 Basf Ag Photoinitiatorgemische, enthaltend Acylphosphinoxide und Benzophenonderivate
US6075065A (en) * 1996-12-20 2000-06-13 Takeda Chemical Industries, Ltd. Photocurable resin composition and a method for producing the same
US5922783A (en) * 1997-02-27 1999-07-13 Loctite Corporation Radiation-curable, cyanoacrylate-containing compositions
EP1408017A3 (de) * 1997-05-06 2006-01-11 DSM IP Assets B.V. Strahlunghärtbare Tintenzusammensetzungen
US6197422B1 (en) 1997-05-06 2001-03-06 Dsm, N.V. Ribbon assemblies and radiation-curable ink compositions for use in forming the ribbon assemblies
CN100519674C (zh) * 1997-05-06 2009-07-29 Dsm;Ip;财产有限公司 油墨涂层组合物、其固化方法、光导玻璃纤维和带状组件
US6130980A (en) * 1997-05-06 2000-10-10 Dsm N.V. Ribbon assemblies and ink coating compositions for use in forming the ribbon assemblies
US6301415B1 (en) 1997-08-14 2001-10-09 Dsm N.V Optical glass fiber ribbon assemblies, matrix forming compositions radiation-curable compositions
US6391936B1 (en) 1997-12-22 2002-05-21 Dsm N.V. Radiation-curable oligomers radiation-curable compositions, coated optical glass fibers, and ribbon assemblies
DE19907957A1 (de) * 1998-02-27 1999-09-02 Ciba Geigy Ag Pigmentierte photohärtbare Zusammensetzung
CA2323795A1 (en) 1998-03-13 1999-09-23 Akzo Nobel Nv Non-aqueous coating composition based on an oxidatively drying alkyd resin and a photo-initiator
DE19812859A1 (de) * 1998-03-24 1999-09-30 Basf Ag Photoinitiatorgemische
CN1172995C (zh) * 1998-07-31 2004-10-27 三菱丽阳株式会社 涂层剂及具有涂层的树脂模塑制品
DE19851567A1 (de) * 1998-11-09 2000-05-11 Emtec Magnetics Gmbh Durch UV-Bestrahlung härtbare Bindemittelzusammensetzung für magnetische Aufzeichnungsmedien und Photoinitiatormischung
CZ302512B6 (cs) 1998-11-30 2011-06-29 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Zpusob prípravy acylfosfinu, acylfosfinoxidu a acylfosfinsulfidu
SE9904080D0 (sv) 1998-12-03 1999-11-11 Ciba Sc Holding Ag Fotoinitiatorberedning
EP1106627B1 (de) * 1999-12-08 2003-10-29 Ciba SC Holding AG Neues Photoinitiatorsystem aus Phosphinoxidverbindungen und wenig gefärbte härtbare Zusammensetzungen
GB2360283B (en) 2000-02-08 2002-08-21 Ciba Sc Holding Ag Monoacylarylphosphines and acylphosphine oxides and sulphides
GB2365430B (en) * 2000-06-08 2002-08-28 Ciba Sc Holding Ag Acylphosphine photoinitiators and intermediates
US6908663B1 (en) * 2000-11-15 2005-06-21 Awi Licensing Company Pigmented radiation cured wear layer
US6737216B2 (en) * 2000-12-08 2004-05-18 E.I. Du Pont De Nemours And Company Laser engravable flexographic printing element and a method for forming a printing plate from the element
JP3969109B2 (ja) * 2002-02-08 2007-09-05 コニカミノルタホールディングス株式会社 感光性平版印刷版及びその記録方法
DE10206117A1 (de) * 2002-02-13 2003-08-14 Basf Ag Acyl- und Bisacylphosphinderivate
DE10244684A1 (de) * 2002-09-24 2004-04-01 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Acylphosphinoxiden
US7144544B2 (en) * 2003-02-20 2006-12-05 Texas Research International, Inc. Ultraviolet light curing compositions for composite repair
DE10315671A1 (de) * 2003-04-04 2004-10-14 Basf Ag Verfahren zur Herstellung von Acylphosphinoxid-Feststoffen
TW200523265A (en) * 2003-07-31 2005-07-16 Basf Ag A process for the preparation of acylphosphines
US20050176841A1 (en) * 2003-12-30 2005-08-11 Krohn Roy C. UV curable ink compositions
US20050270755A1 (en) * 2004-06-04 2005-12-08 Inventec Corporation Method for preventing pins of semiconductor package from short circuit during soldering
US20060033793A1 (en) * 2004-08-10 2006-02-16 Webster Grant A Coupling agent patterning
JP5394608B2 (ja) * 2005-01-14 2014-01-22 株式会社カネカ 活性エネルギー線硬化型硬化性組成物および該硬化物
ATE424178T1 (de) 2005-08-01 2009-03-15 Ivoclar Vivadent Ag Photopolymerisierbare dentalmaterialien mit bisacylphosphinoxiden als initiator
JPWO2007018287A1 (ja) 2005-08-11 2009-02-19 協和発酵ケミカル株式会社 樹脂組成物
US7915319B2 (en) * 2005-12-19 2011-03-29 Henkel Corporation Visible light curing systems, methods for reducing health risks to individuals exposed to systems designed to cure curable compositions by exposure to radiation, methods for bonding substrates and visible light curing compositions
JP2009541554A (ja) * 2006-07-04 2009-11-26 チバ ホールディング インコーポレーテッド 異相重合技術によって作製された光開始剤の水ベースの濃縮されたプロダクト形態
DE102006050153A1 (de) 2006-10-25 2008-05-08 Ivoclar Vivadent Ag Mikroverkapselte Photoinitiatoren und deren Verwendung für Dentalmaterialien
EP2091989A2 (de) * 2006-12-11 2009-08-26 Dow Global Technologies Inc. Aus samenölen gewonnene aldehyd- und alkohol-zusammensetzungen
TW200848081A (en) * 2007-01-17 2008-12-16 Kuraray Medical Inc Composition and dental material
EP1958994B1 (de) 2007-01-31 2010-12-08 FUJIFILM Corporation Tintensatz zur Tintenstrahlaufzeichnung und Verfahren zur Tintenstrahlaufzeichnung
JP5227521B2 (ja) 2007-02-26 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、インクセット
JP5416581B2 (ja) * 2007-03-20 2014-02-12 クラレノリタケデンタル株式会社 重合性単量体、重合性組成物及び歯科用材料
JP4601009B2 (ja) 2007-03-30 2010-12-22 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インクセット及びインクジェット記録方法
JP5243072B2 (ja) 2007-03-30 2013-07-24 富士フイルム株式会社 インク組成物、並びに、それを用いた画像記録方法及び画像記録物
JP5306681B2 (ja) 2007-03-30 2013-10-02 富士フイルム株式会社 重合性化合物、重合体、インク組成物、印刷物及びインクジェット記録方法
US9199934B2 (en) 2007-04-04 2015-12-01 Basf Se Alpha-hydroxyketones
US9207373B2 (en) 2007-04-10 2015-12-08 Stoncor Group, Inc. Methods for fabrication and highway marking usage of agglomerated retroreflective beads
US8076393B2 (en) 2007-09-26 2011-12-13 Fujifilm Corporation Ink composition, inkjet recording method, and printed material
JP5236238B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用ホワイトインク組成物
JP5227560B2 (ja) 2007-09-28 2013-07-03 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
JP5148235B2 (ja) 2007-09-28 2013-02-20 富士フイルム株式会社 インク組成物
GB0724863D0 (en) 2007-12-21 2008-01-30 Unilever Plc Fabric treatment active
JP5457636B2 (ja) 2008-01-22 2014-04-02 富士フイルム株式会社 光硬化性組成物、光硬化性インク組成物、光硬化物の製造方法、及び、インクジェット記録方法
JP5254632B2 (ja) 2008-02-07 2013-08-07 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物
JP4914862B2 (ja) 2008-03-26 2012-04-11 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP5414367B2 (ja) 2008-06-02 2014-02-12 富士フイルム株式会社 顔料分散物及びそれを用いたインク組成物
EP2342237B1 (de) 2008-11-03 2014-04-23 Basf Se Fotoinitiatormischungen
JP2010180330A (ja) 2009-02-05 2010-08-19 Fujifilm Corp 非水系インク、インクセット、画像記録方法、画像記録装置、および記録物
JP5350827B2 (ja) 2009-02-09 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5349097B2 (ja) 2009-03-19 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インク組成物、インクジェット記録方法、印刷物、及び、成形印刷物の製造方法
DE102009016025B4 (de) 2009-04-02 2014-12-11 Voco Gmbh Kunststoffmodifizierter Glasionomerzement, seine Verwendung sowie Verfahren zu seiner Herstellung
JP5424764B2 (ja) 2009-07-28 2014-02-26 富士フイルム株式会社 顔料分散物、インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP2011068783A (ja) 2009-09-25 2011-04-07 Fujifilm Corp インク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5530141B2 (ja) 2009-09-29 2014-06-25 富士フイルム株式会社 インク組成物及びインクジェット記録方法
JP5437824B2 (ja) 2010-01-14 2014-03-12 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法
US9248468B2 (en) 2010-01-15 2016-02-02 Texas Research International, Inc. Ultraviolet light curing compositions for composite repair
DE102010003884A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Dualhärtende, mehrkomponentige dentale Zusammensetzung
DE102010003881A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Dentale Abdeckmasse
DE102010003883A1 (de) 2010-04-12 2011-10-13 Voco Gmbh Lichthärtbares Kompositmaterial
JP5515070B2 (ja) * 2010-06-30 2014-06-11 ディーエスエム アイピー アセッツ ビー.ブイ. D1492液体bapo光開始剤および放射線硬化性組成物におけるその使用
JP5687964B2 (ja) 2010-07-27 2015-03-25 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
US8915736B2 (en) 2010-09-30 2014-12-23 Voco Gmbh Composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element for filling and/or sealing a root canal
US8697769B2 (en) 2010-09-30 2014-04-15 Voco Gmbh Lacquer composition comprising a monomer with a polyalicyclic structure element
EP2436668B1 (de) 2010-09-30 2012-09-12 VOCO GmbH Polymerisierbare Verbindungen umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement
US8669302B2 (en) 2010-09-30 2014-03-11 Voco Gmbh Composite material comprising a monomer with a polyalicyclic structure element as a sealing material
US9023916B2 (en) 2010-09-30 2015-05-05 Voco Gmbh Composite material comprising a monomer with a polyalicyclic structure element
EP2450025B1 (de) 2010-11-08 2012-11-28 VOCO GmbH Polymerisierbare Phosphorsäurederivate umfassend ein polyalicyclisches Strukturelement
JP5240799B2 (ja) 2010-11-25 2013-07-17 富士フイルム株式会社 インクセット、インクジェット記録方法、及び、インクジェット記録装置
JP2012113228A (ja) 2010-11-26 2012-06-14 Sony Corp 表示装置およびその製造方法
DE102011003289A1 (de) 2011-01-27 2012-08-02 Voco Gmbh Dentale provisorische Suprakonstruktionen sowie Materialien zu ihrer Herstellung und entsprechende Verfahren
JP5349543B2 (ja) 2011-02-03 2013-11-20 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクセット、インクジェット記録方法、及び、印刷物
US8816211B2 (en) 2011-02-14 2014-08-26 Eastman Kodak Company Articles with photocurable and photocured compositions
US20120208914A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photoinitiator compositions and uses
US20120207935A1 (en) 2011-02-14 2012-08-16 Deepak Shukla Photocurable inks and methods of use
JP5351293B2 (ja) 2011-02-16 2013-11-27 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物及びその製造方法、並びに、インクジェット記録方法
JP5474882B2 (ja) 2011-07-12 2014-04-16 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5419934B2 (ja) 2011-07-12 2014-02-19 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、及び、インクジェット記録方法
JP5566979B2 (ja) 2011-09-22 2014-08-06 富士フイルム株式会社 インクジェット記録用インク組成物、インクパック、及び、インクジェット記録方法
DE102012001979A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Voco Gmbh Härtbares Gemisch umfassend Weichmacher mit einem polyalicyclischen Strukturelement zur Anwendung bei der Herstellung dentaler Werkstoffe
DE102012001978A1 (de) 2012-02-02 2013-08-08 Voco Gmbh Dentale Kompositmaterialien enthaltend tricyclische Weichmacher
JP2013193349A (ja) 2012-03-21 2013-09-30 Fujifilm Corp インクジェット記録装置およびインクジェット記録方法
JP5758832B2 (ja) 2012-03-30 2015-08-05 富士フイルム株式会社 活性線硬化型インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、印刷物
JP5718845B2 (ja) 2012-03-30 2015-05-13 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法及び印刷物
DE102012212429A1 (de) 2012-07-16 2014-01-16 Voco Gmbh Dentalhandgerät, Verfahren und Verwendung desselben zum Aushärten lichthärtbaren Materials
DE102012214540A1 (de) 2012-08-15 2014-02-20 Helmholtz-Zentrum für Infektionsforschung GmbH Zahnfüllungsmaterialien und Zahnlacke zur Hemmung der Biofilmbildung von Streptococcus mutans und deren Herstellung
JP5642125B2 (ja) 2012-08-24 2014-12-17 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法
JP5752652B2 (ja) 2012-08-29 2015-07-22 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物及びその製造方法、インクジェット記録方法、並びに、顔料分散物及びその製造方法
DE102013008176A1 (de) 2012-10-05 2014-04-10 Voco Gmbh Kit und Verfahren zur indirekten chairside Herstellung von Kompositinlays
JP5788918B2 (ja) 2013-02-19 2015-10-07 富士フイルム株式会社 インクジェット記録方法及びインクジェット記録装置
JP5980702B2 (ja) 2013-03-07 2016-08-31 富士フイルム株式会社 インクジェットインク組成物、インクジェット記録方法、及び、成型印刷物の製造方法
JP5939640B2 (ja) 2013-03-08 2016-06-22 富士フイルム株式会社 多層構成物、及び、多層構成物の製造方法
KR102306373B1 (ko) 2013-05-30 2021-10-01 헨켈 아이피 앤드 홀딩 게엠베하 사출 성형용 프라이머 조성물
EP2821436A1 (de) 2013-07-01 2015-01-07 Allnex Belgium, S.A. Transparente Verbundzusammensetzung
JP5939644B2 (ja) 2013-08-30 2016-06-22 富士フイルム株式会社 画像形成方法、インモールド成型品の製造方法、及び、インクセット
CN105884824A (zh) * 2014-10-16 2016-08-24 郑成 酰基膦(氧)或磺酰膦(氧)类化合物的制备方法
DE102014116389A1 (de) 2014-11-11 2016-05-12 Voco Gmbh Radikalisch härtbare dentale Zusammensetzungen
DE102014116402A1 (de) 2014-11-11 2016-05-12 Voco Gmbh Verwendung radikalisch härtbarer Zusammensetzungen in generativen Fertigungsverfahren
CN104558031B (zh) * 2014-12-09 2016-08-03 天津久联科技有限公司 一种苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦的制备方法
CN105884809A (zh) * 2015-01-14 2016-08-24 郑成 酰基膦(氧)或磺酰膦(氧)类化合物的制备方法
GB2542629B (en) 2015-09-28 2020-05-06 Henkel IP & Holding GmbH Polystyrene copolymer curable primer compositions for injection molding
JP6671485B2 (ja) * 2016-09-07 2020-03-25 富士フイルム株式会社 光重合開始剤、重合性組成物、インクジェット記録方法、並びに、アシルホスフィンオキシド化合物
DE102017103084A1 (de) 2017-02-15 2018-08-16 Voco Gmbh Dentaler Kompositblock zur Herstellung permanenter indirekter Restaurationen im CAD/CAM Verfahren
WO2018159236A1 (ja) 2017-02-28 2018-09-07 富士フイルム株式会社 インクジェット用液体組成物、及び、インクジェット記録方法
DE102017105841A1 (de) 2017-03-17 2018-09-20 Voco Gmbh Fräsrohling zur Herstellung einer indirekten dentalen Restauration, entsprechende Verwendungen und Verfahren
RU2684387C2 (ru) * 2017-05-03 2019-04-08 Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Байкальский институт природопользования Сибирского отделения Российской академии наук (БИП СО РАН) Фотополимерная композиция для изготовления термостойких объектов методом лазерной стереолитографии
EP3409680B1 (de) 2017-05-30 2021-01-06 IGM Group B.V. Synthese von bis(acyl)phosphinen durch aktivierung von nicht-reaktiven metallphosphiden
DE102018103415A1 (de) 2018-02-15 2019-08-22 Voco Gmbh Dentale Formkörper mit kontinuierlichem Farbverlauf
DE102018114690A1 (de) 2018-06-19 2019-12-19 Voco Gmbh Thermowirksame dentale Kompositzusammensetzung
WO2020167621A1 (en) 2019-02-14 2020-08-20 Sirrus, Inc. Particles encapsulated with dicarbonyl-substituted-1- alkenes
DE102019122174A1 (de) 2019-08-19 2021-02-25 Voco Gmbh Dentale polymerisierbare Zusammensetzung auf der Basis kondensierter Silane

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0184095A2 (de) * 1984-11-27 1986-06-11 ESPE Stiftung & Co Produktions- und Vertriebs KG Bisacylphosphinoxide, ihre Herstellung und Verwendung
EP0262629A2 (de) * 1986-10-01 1988-04-06 Ciba-Geigy Ag Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmasse, insbesondere zur Herstellung von Druckplatten und Reliefformen
EP0413657A2 (de) * 1989-08-04 1991-02-20 Ciba-Geigy Ag Mono- und Diacylphosphinoxide

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3668093A (en) * 1971-05-06 1972-06-06 Du Pont Photoinitiation of vinyl polymerization by triaroylphosphines
IT1187703B (it) * 1985-07-23 1987-12-23 Lamberti Fratelli Spa Benzofenoni sostituiti e loro miscele liquide,atti all'impiego come iniziatori di fotopolimerizzazione
DE3534645A1 (de) * 1985-09-28 1987-04-02 Merck Patent Gmbh Copolymerisierbare fotoinitiatoren
DE59201477D1 (de) * 1991-01-14 1995-04-06 Ciba Geigy Ag Bisacylphosphinsulfide.

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0184095A2 (de) * 1984-11-27 1986-06-11 ESPE Stiftung & Co Produktions- und Vertriebs KG Bisacylphosphinoxide, ihre Herstellung und Verwendung
EP0262629A2 (de) * 1986-10-01 1988-04-06 Ciba-Geigy Ag Photopolymerisierbare Aufzeichnungsmasse, insbesondere zur Herstellung von Druckplatten und Reliefformen
EP0413657A2 (de) * 1989-08-04 1991-02-20 Ciba-Geigy Ag Mono- und Diacylphosphinoxide

Also Published As

Publication number Publication date
ES2050607A1 (es) 1994-05-16
FR2681599A1 (fr) 1993-03-26
SE9202668D0 (sv) 1992-09-16
CA2078722C (en) 2003-01-07
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SK137199A3 (en) 2001-05-10
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CZ290592A3 (en) 1993-08-11
ITMI922173A0 (it) 1992-09-22
US5472992A (en) 1995-12-05
BR9203707A (pt) 1993-04-20
BE1006011A4 (fr) 1994-04-19
GB9219402D0 (en) 1992-10-28
NL9201641A (nl) 1993-04-16
ES2050607B1 (es) 1995-11-16
FR2681599B1 (fr) 1995-08-04
AU655675B2 (en) 1995-01-05
JPH05345790A (ja) 1993-12-27
ITMI922173A1 (it) 1994-03-22
HK1000208A1 (en) 1998-02-06
NL194946B (nl) 2003-04-01
CA2078722A1 (en) 1993-03-24
SK281582B6 (sk) 2001-05-10
SE503060C2 (sv) 1996-03-18
AU2525192A (en) 1993-04-01
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GB2259704B (en) 1995-05-17
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US5399770A (en) 1995-03-21
NL194946C (nl) 2003-08-04
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KR100236584B1 (ko) 2000-02-01
SE509829C2 (sv) 1999-03-08
SE9202668L (sv) 1993-03-24
CZ292028B6 (cs) 2003-07-16
RU2091385C1 (ru) 1997-09-27
JP3211039B2 (ja) 2001-09-25
SE9501365D0 (sv) 1995-04-12
IT1255509B (it) 1995-11-09
DE4231579A1 (de) 1993-03-25

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