KR960026762A - 복합형 mosfet - Google Patents

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Abstract

부의 드레인내압을 갖게 하기 위한 부전압 보호회로를 갖는 복합형 MOSFET에 관한 것으로, 드레인단자가 소오스단자에 대해서 정방향으로도 부방향으로도 모두 높은 내압을 갖고, 종래의 파워 MOSFET와 동일한 프로세스를 사용해서 원칩으로 실현하기 위해, 드레인단자의 전압이 소오스단자의 전압에 대해서 부인 동안에는 제2MOSFET를 오프로 하는 부전압검출수단과 드레인단자에서 부전압검출구동수단을 거쳐서 게이트단자로 흐르는 전류를 지지함과 동시에 게이트단자에 입력된 입력전압신호에 따라서 제2MOSFET를 온하는 입력전달수단을 포함하는 구성으로 하였다.
이러한 구성으로 하는 것에 의해, 내압확보를 위한 다이오드를 부가한 경우와 같은 순방향 전압강하분의 손실이 없는 매우 저저항인 전자 스위치를 구성할 수 있다.

Description

복합형 MOSFET
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제1도는 본 발명에 관한 복합형 MOSFET의 제1실시예를 도시한 블럭도, 제2도는 본 발명에 관한 복합형 MOSFET의 제2실시예를 도시한 회로도.

Claims (35)

  1. 제1MOSFET와 제2MOSFET의 드레인끼리를 접속해서 제1MOSFET의 소오스를 소오스단자로 하고, 제2MOSFET의 소오스를 드레인단자로 하고, 제1MOSFET의 게이트를 게이트단자로 한 복합형 MOSFET로서, 상기 드레인단자의 전압이 상기 소오스단자의 전압에 대해서 부인 동안에는 제2MOSFET를 오프로 하는 부전압검출구동수단과 드레인단자에서 부전압검출구동수단을 거쳐서 게이트단자로 흐르는 전류를 저지함과 동시에 상기 게이트단자에 입력된 입력전압신호에 따라서 제2MOSFET를 온하는 입력전달수단을 갖는 복합형 MOSFET.
  2. 제1항에 있어서, 상기 부전압검출구동수단은 드레인단자의 전압이 소오스단자의 전압에 대해서 부인 것을 검출하는 검출수단과 상기 검출수단의 출력에 따라서 상기 제2MOSFET를 오프하도록 구동하는 제3MOSFET로 이루어지는 복합형 MOSFET.
  3. 제2항에 있어서, 상기 검출수단은 상기 드레인단자와 상기 제2MOSFET의 드레인 사이에 접속된 제1 및 제2저항의 직렬회로로 구성되고, 제1 및 제2저항의 접속점을 제3MOSFET의 게이트에 접속해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  4. 제2항에 있어서, 상기 검출수단은 상기 제3MOSFET의 게이트를 상기 제2MOSFET의 드레인에 접속해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  5. 제2항에 있어서, 상기 검출수단은 상기 드레인단자와 상기 제2MOSFET의 드레인 사이에 접속된 제3저항과 적어도 1개의 다이오드로 구성되고, 상기 제3항을 상기 제2MOSFET의 드레인과 상기 제3MOSFET의 게이트 사이에 접속하고, 상기 다이오드를 상기 제3MOSFET의 게이트와 소오스 사이에 접속해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  6. 제5항에 있어서, 상기 제3저항의 저항값을 0으로 설정해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  7. 제2항에 있어서, 상기 검출수단은 각각 저항과 적어도 1개의 다이오드를 직렬 접속한 제1 및 제2직렬회로로 구성하고, 제1직렬회로와 제2직렬회로를 직렬 접속해서 상기 드레인단자와 상기 소오스단자 사이에 접속함과 동시에, 제1직렬회로와 제2직렬회로의 접속점을 제3MOSFET의 게이트에 접속해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  8. 제7항에 있어서, 상기 제1 및 제2직렬회로를 구성하는 저항의 저항값을 0으로 설정해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  9. 제1항~제8항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 입력전달수단을 저항과 상기 드레인단자에서 상기 부전압검출구동수단을 거쳐서 게이트단자로 흐르는 전류를 저지하는 적어도 1개의 다이오드로 이루어지는 직렬회로를 게이트단자와 제2MOSFET의 게이트 사이에 접속해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  10. 제1항~제9항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 입력전달수단은 게이트단자와 제2MOSFET의 게이트 사이에 접속한 저항 및 상기 저항과 상기 제3MOSFET의 드레인 사이에 접속해서 상기 드레인단자에서 상기 부전압검출구동수단을 거쳐서 게이트단자로 흐르는 전류를 저지하는 적어도 1개의 다이오드로 이루어지는 복합형 MOSFET.
  11. 제1항에 있어서, 상기 부전압검출구동수단은 드레인단자의 전압이 소오스단자의 전압에 대해서 부인 것을 검출하는 검출수단과 상기 검출수단의 출력에 따라서 상기 제2MOSFET를 오프하도록 구동하는 제1스위치 수단으로 이루어지는 복합형 MOSFET.
  12. 제11항에 있어서, 상기 검출수단은 각각 저항과 적어도 1개의 다이오드를 직렬 접속한 제1 및 제2직렬회로로 구성되고, 제1직렬회로와 제2직렬회로를 직렬접속해서 상기 드레인단자와 상기 소오스단자 사이에 접속함과 동시에 제1직렬회로와 제2직렬회로의 접속점을 상기 제1스위치수단의 게이트에 접속해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  13. 제12항에 있어서, 상기 제1 및 제2직렬회로를 구성하는 각 저항의 저항값을 0으로 설정해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  14. 제11항~제13항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1스위치수단은 소오스끼리가 접속된 제4MOSFET 및 제5MOSFET로 구성하고, 제4MOSFET의 드레인이 상기 제2MOSFET의 게이트에 접속되고, 제5MOSFET의 드레인이 상기 드레인단자에 접속되고, 제4 및 제5MOSFET의 게이트는 상기 검출수단에 접속되어 이루어지는 복합형 MOSFET.
  15. 제11항~제14항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 드레인단자에 정의 전압이 인가된 경우에 온해서 상기 제1스위치수단을 오프하도록 동작하는 제2스위치수단을 또 마련해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  16. 제15항에 있어서, 상기 제2스위치수단은 상기 제4MOSFET의 드레인과 게이트 사이에 접속됨과 동시에 소오스끼리와 게이트끼리가 접속된 제6 및 제7MOSFET로 구성되며, 제6 및 제7MOSFET의 게이트 상기 드레인단자에 접속되어 이루어지는 복합형 MOSFET.
  17. 제1항~제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2MOSFET의 스레쉬홀드를 상기 제1MOSFET의 스레쉬홀드보다 낮게 설정해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  18. 제1항~제16항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2MOSFET의 드레인ㆍ소오스간 내압을 상기 제1MOSFET의 드레인 ㆍ소오스간 내압보다 낮게 설정해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  19. 제1항~제18항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1~제3MOSFET의 각 게이트ㆍ소오스 사이에 게이트파괴를 보호하기 위한 게이트보호다이오드를 마련해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  20. 제1항~제19항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 드레인단자에 부의 전압을 인가한 경우에 상기 게이트단자의 전압저하를 클램프하는 적어도 1개의 다이오드를 상기 게이트단자와 상기 소오스단자 사이에 마련해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  21. 제1항~제20항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1MOSFET의 온도를 검출하는 온도검출소자와 이 검출온도가 소정의 온도에 도달한 경우에 상기 제1MOSFET의 드레인전류를 제한하는 회로로 구성되는 과열보호회로를 또 마련해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  22. 제1항~제21항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1MOSFET의 드레인전류를 검출하는 전류검출회로와 이 드레인전류가 소정의 전류값을 초과하지 않도록 상기 제1MOSFET의 게이트전압을 제한하는 회로로 구성되는 과열보호회로를 또 마련해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  23. 제1항~제22항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 드레인단자의 전압이 소정의 전압에 도달한 경우에 상기 제1MOSFET를 온시키고 상기 드레인단자의 전압이 소정의전압을 초과하지 않도록 제한하는 과전압보호회로를 또 마련해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  24. 제1항~제23항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제1MOSFET와 상기 제2MOSFET를 드레인기판을 공유하는 종형 MOSFET로 구성해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  25. 제24항에 있어서, 상기 각 다이오드 및 상기 각 저항을 다결정 실리콘층으로 형성함과 동시에 상기 각 MOSFET와 동일 반도체칩 상에 형성해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  26. 제25항에 있어서, 상기 제1MOSFET와 상기 제2MOSFET 사이에 상기 제1MOSFET의 본체용 p형 확산층보다 얕은 n형 확산층을 형성해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  27. 제24항 또는 제25항에 있어서, 상기제1MOSFET와 상기 제2MOSFET 사이에 상기 제1MOSFET의 본체용 p형 확산층보다 얕은 n형 확산층과 상기 얕은 n형 확산층과 동일 전위로 설정한 필드 플레이트를 형성해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  28. 제24항~제27항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 제2MOSFET를 형성하는 바로 아래의 드레인영역의 불순물농도를 상기 제1MOSFET를 형성하는 바로 아래의 드레인영역의 불순물농도보다 높게 해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  29. 제28항에 있어서, 상기온도검출소자를 상기 제1MOSFET의 소오스단자용 패드에 인접하는 활성영역상에 형성해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  30. 제29항에 있어서, 상기 전류검출회로를 동일 반도체칩 상에 형성해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  31. 제24항~제30항 중의 어느 한 항에 있어서, 상기 제1MOSFET의 활성영역상에 소오스단자용 패드를 마련하고, 상기 제2MOSFET의 활성영역상에 드레인단자용 패드를 마련해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  32. 특허청구의 범위 제24항~제31항 중의 어느 한 항에 기재된 복합형 MOSFET를 형성한 반도체칩을 소오스단자용 리이드선 및 드레인단자용 리이드선이 인접하는 반도체칩의 변과는 다른 변에 게이트단자의 리이드선이 인접하도록 게이트단자용 리이드선을 마련한 패키지에 실장해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  33. 제32항에 있어서, 상기 반도체칩을 상기 제1MOSFET의 드레인과 상기 제2MOSFET의 드레인을 단락시키는 금속층을 갖는 패키지에 실장해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  34. 제33항에 있어서, 방열휜에 접속된 상기 금속층을 갖는 패키지에 실장해서 이루어지는 복합형 MOSFET.
  35. 특허청구의 범위 제1항~제34항 중의 어느 한 항에 기재된 복합형 MOSFET를 사용하고, 상기 복합형 MOSFET의 게이트단자에 게이트구동회로를 접속하고, 드레인단자와 소오스단자 사이에 전지와 부하를 접속해서 이루어지는 역접속보호기능을 갖는 전지구동시스템.
    ※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100817972B1 (ko) * 2001-04-12 2008-03-31 후지 덴키 홀딩스 가부시키가이샤 반도체 장치

Families Citing this family (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3584502B2 (ja) * 1994-10-07 2004-11-04 ソニー株式会社 充電制御装置
JPH09119870A (ja) * 1995-10-26 1997-05-06 Nec Corp 温度検出方法、半導体装置及び温度検出回路
DE19606100C2 (de) * 1996-02-19 2002-02-14 Infineon Technologies Ag Integrierte Schaltungsanordnung zum Ansteuern eines Leistungs-MOSFET mit sourceseitiger Last, insbesondere geeignet für die Verwendung im Kraftfahrzeugbereich
US5909103A (en) * 1997-07-24 1999-06-01 Siliconix Incorporated Safety switch for lithium ion battery
DE19735543A1 (de) 1997-08-16 1999-02-18 Bosch Gmbh Robert Schaltungsanordnung zum Schalten von Lasten
US6268242B1 (en) 1997-12-31 2001-07-31 Richard K. Williams Method of forming vertical mosfet device having voltage clamped gate and self-aligned contact
US6172383B1 (en) * 1997-12-31 2001-01-09 Siliconix Incorporated Power MOSFET having voltage-clamped gate
DE19808987C1 (de) * 1998-03-03 1999-11-11 Siemens Ag Verlustsymmetrierte Treiberschaltung aus MOS-Highside-/Lowside-Schaltern
US5929520A (en) * 1998-03-10 1999-07-27 General Electric Company Circuit with small package for mosfets
JP3899499B2 (ja) * 1998-11-18 2007-03-28 ソニー株式会社 非水電解質電池
JP4501178B2 (ja) * 1999-07-26 2010-07-14 株式会社デンソー 半導体装置のための保護装置
GB9907021D0 (en) * 1999-03-27 1999-05-19 Koninkl Philips Electronics Nv Switch circuit and semiconductor switch for battery-powered equipment
US6198351B1 (en) * 1999-05-10 2001-03-06 Tyco Electronics Logistics Ag Power sensing apparatus for power amplifiers
DE19935100B4 (de) * 1999-07-27 2004-10-28 Infineon Technologies Ag Halbbrückenkonfiguration
EP1216167A1 (de) * 1999-09-30 2002-06-26 Siemens Aktiengesellschaft Steuervorrichtung für ein insassenschutzmittel
DE19955514A1 (de) * 1999-11-18 2001-05-23 Bosch Gmbh Robert Schaltungsanordnung zur Verpolsicherung von Halbleiterschaltungen
JP4146607B2 (ja) * 2000-07-28 2008-09-10 三菱電機株式会社 パワーモジュール
DE10066032B4 (de) 2000-07-28 2010-01-28 Infineon Technologies Ag Schaltungsanordnung zur Steuerung der Verstärkung einer Verstärkerschaltung
JP3650008B2 (ja) * 2000-09-04 2005-05-18 三洋電機株式会社 Mosfetを用いた保護回路装置およびその製造方法
US6930473B2 (en) 2001-08-23 2005-08-16 Fairchild Semiconductor Corporation Method and circuit for reducing losses in DC-DC converters
US7218085B2 (en) * 2002-05-24 2007-05-15 Arizona Board Of Regents Integrated ZVS synchronous buck DC-DC converter with adaptive control
JP4248953B2 (ja) 2003-06-30 2009-04-02 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置およびその製造方法
US6867640B2 (en) 2003-07-01 2005-03-15 Ami Semiconductor, Inc. Double-sided extended drain field effect transistor, and integrated overvoltage and reverse voltage protection circuit that uses the same
DE10344631B4 (de) * 2003-09-25 2013-12-24 Robert Bosch Gmbh Elektronische Schaltungsanordnung
DE102004039620B4 (de) * 2004-08-06 2006-10-12 Atmel Germany Gmbh Integrierte Schaltung, die eine vorgegebene Spannungsfestigkeit besitzt
JP4504222B2 (ja) * 2005-02-21 2010-07-14 矢崎総業株式会社 過電流検出装置
US7430100B2 (en) * 2005-06-28 2008-09-30 Agere Systems Inc. Buffer circuit with enhanced overvoltage protection
WO2007048196A1 (en) * 2005-10-26 2007-05-03 Sf2 Infrastructure Limited Mosfet circuits
DE102006006878A1 (de) * 2006-01-20 2007-07-26 Continental Teves Ag & Co. Ohg Schaltungsanordnung mit Rückspeiseschutz zum Schalten in Leistungsanwendungen
FR2896643B1 (fr) * 2006-01-23 2009-01-09 Valeo Equip Electr Moteur Dispositif de commande d'un transistor mos
JP5130906B2 (ja) * 2007-12-26 2013-01-30 サンケン電気株式会社 スイッチ装置
JP2008244487A (ja) * 2008-04-21 2008-10-09 Renesas Technology Corp 複合型mosfet
JP5493291B2 (ja) * 2008-05-12 2014-05-14 セイコーエプソン株式会社 半導体装置および電子機器
US7756173B2 (en) * 2008-06-20 2010-07-13 Alfrey Anthony J Laser diode driver with adaptive compliance voltage
US8183892B2 (en) 2009-06-05 2012-05-22 Fairchild Semiconductor Corporation Monolithic low impedance dual gate current sense MOSFET
JP2011066139A (ja) * 2009-09-16 2011-03-31 Sanken Electric Co Ltd 複合半導体装置
JP2011182591A (ja) * 2010-03-02 2011-09-15 Panasonic Corp 半導体装置
US8537517B1 (en) * 2011-04-26 2013-09-17 Manufacturing Networks Incorporated System and method for fast-acting power protection
JP2013042270A (ja) * 2011-08-12 2013-02-28 Advanced Power Device Research Association トランジスタ回路、双方向スイッチ回路、ダイオード回路及びトランジスタ回路の製造方法
JP5990437B2 (ja) 2012-09-10 2016-09-14 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置及びその製造方法
US9245888B2 (en) * 2012-09-29 2016-01-26 Infineon Technologies Ag Reverse polarity protection for n-substrate high-side switches
KR101440892B1 (ko) * 2013-02-01 2014-09-18 삼성에스디아이 주식회사 캡 커버 및 이를 포함하는 배터리 팩
JP6215652B2 (ja) * 2013-10-28 2017-10-18 エスアイアイ・セミコンダクタ株式会社 基準電圧発生装置
JP6332601B2 (ja) * 2014-01-31 2018-05-30 アルプス電気株式会社 半導体集積回路装置
CN107155387B (zh) * 2014-09-11 2019-08-23 三菱电机株式会社 半导体装置
US9484339B2 (en) 2014-11-26 2016-11-01 Infineon Technologies Ag Smart semiconductor switch
US10164447B2 (en) 2015-02-26 2018-12-25 Renesas Electronics Corporation Semiconductor chip, semiconductor device and battery pack
JP6480795B2 (ja) 2015-04-16 2019-03-13 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびそれを用いた回路装置
JP2017055255A (ja) 2015-09-09 2017-03-16 株式会社東芝 パワー半導体装置
JP6617002B2 (ja) * 2015-10-20 2019-12-04 株式会社 日立パワーデバイス 整流器、それを用いたオルタネータおよび電源
EP3179591A1 (en) * 2015-12-11 2017-06-14 HS Elektronik Systeme GmbH Solid state power controller
US10770882B2 (en) * 2016-04-06 2020-09-08 Shindengen Electric Manufacturing Co., Ltd. Power module
DE102016114002A1 (de) * 2016-07-29 2018-02-01 Eberspächer Controls Landau Gmbh & Co. Kg Trennschalteranordnung, insbesondere für ein Bordspannungssystem eines Fahrzeugs
US10978869B2 (en) * 2016-08-23 2021-04-13 Alpha And Omega Semiconductor Incorporated USB type-C load switch ESD protection
DE102016216508A1 (de) 2016-09-01 2018-03-01 Siemens Aktiengesellschaft Steuern eines Halbleiterschalters in einem Schaltbetrieb
US10079539B2 (en) 2017-02-01 2018-09-18 Dialog Semiconductor (Uk) Limited Power supply protection circuit
FR3068836B1 (fr) * 2017-07-07 2019-08-23 Stmicroelectronics (Rousset) Sas Circuit de protection d'un commutateur de puissance
US10962585B2 (en) * 2018-05-09 2021-03-30 Keithley Instruments, Llc Gate charge measurements using two source measure units
JP7094181B2 (ja) * 2018-08-29 2022-07-01 日清紡マイクロデバイス株式会社 負荷駆動回路
US11574902B2 (en) 2019-01-31 2023-02-07 Texas Instruments Incorporated Clamp for power transistor device
JP7232208B2 (ja) * 2020-03-19 2023-03-02 株式会社東芝 半導体装置
JP2023032984A (ja) * 2021-08-27 2023-03-09 富士電機株式会社 半導体モジュール

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS559444A (en) 1978-07-06 1980-01-23 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Rectifier element
IT1226439B (it) * 1988-07-05 1991-01-15 Sgs Thomson Microelectronics Circuito elettronico protetto da inversioni di polarita' della batteria di alimentazione.
FR2635930B1 (fr) * 1988-08-31 1990-11-23 Sgs Thomson Microelectronics Commutateur bidirectionnel monolithique a transistors mos de puissance
IT1227104B (it) * 1988-09-27 1991-03-15 Sgs Thomson Microelectronics Circuito integrato autoprotetto da inversioni di polarita' della batteria di alimentazione
DE3835662A1 (de) * 1988-10-20 1990-04-26 Daimler Benz Ag Vorrichtung zur ansteuerung induktiver verbraucher in einem kraftfahrzeug
DE3930091A1 (de) * 1989-09-09 1991-03-14 Standard Elektrik Lorenz Ag Schaltungsanordnung zum schutz eines stromverbrauchers vor falschpolung seiner speisespannung
JPH0397269A (ja) * 1989-09-11 1991-04-23 Fuji Electric Co Ltd 電流制限回路を内蔵する伝導度変調型mosfet
JPH0734476B2 (ja) * 1989-10-23 1995-04-12 三菱電機株式会社 半導体集積回路
US5179488A (en) * 1990-07-26 1993-01-12 Rosemount Inc. Process control instrument with loop overcurrent circuit
DE4120394A1 (de) * 1991-06-20 1992-12-24 Bosch Gmbh Robert Monolithisch integrierte schaltungsanordnung
EP0523800B1 (en) * 1991-07-19 1998-04-08 Philips Electronics Uk Limited An overvoltage protected semiconductor switch
JPH05152526A (ja) * 1991-11-30 1993-06-18 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置
US5477077A (en) * 1992-04-17 1995-12-19 Fuji Electric Co., Ltd. Semiconductor device and a method for the manufacture thereof

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100817972B1 (ko) * 2001-04-12 2008-03-31 후지 덴키 홀딩스 가부시키가이샤 반도체 장치

Also Published As

Publication number Publication date
DE69525824D1 (de) 2002-04-18
US5629542A (en) 1997-05-13
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TW285768B (ko) 1996-09-11
EP0717497B1 (en) 2002-03-13
EP0717497A2 (en) 1996-06-19
JP3485655B2 (ja) 2004-01-13
EP0717497A3 (en) 1998-04-15
KR100390557B1 (ko) 2003-09-03
JPH08167838A (ja) 1996-06-25

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