KR20090051097A - 폴리오르가노실록산 조성물 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (17)
- 하기 (a) ∼ (c) 성분을 함유하는 폴리오르가노실록산 조성물.(a) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 적어도 1 종의 실란올 화합물, 하기 일반식 (2) 로 나타내는 적어도 1 종의 알콕시실란 화합물, 그리고 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 금속 알콕사이드, 및 Ba(OH)2 로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 촉매를 혼합하고, 적극적으로 물을 첨가하지 않고 중합시키는 방법으로 얻어지는 폴리오르가노실록산 100 질량부.[화학식 1][화학식 2](R 은 적어도 방향족기를 1 개 함유하는 탄소수 6 ∼ 20 의 기이다. R' 는 에폭시기 및 탄소-탄소 이중 결합기로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 기를 함유하는 탄소수 2 ∼ 17 의 유기기이다. R'' 는 메틸기 또는 에틸기이다)[화학식 3](M 은 규소, 게르마늄, 티타늄, 지르코늄 중 어느 하나를 나타내고, R''' 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기이다)[화학식 4](M' 는 붕소 또는 알루미늄을 나타내고, R'''' 는 탄소수 1 ∼ 4 의 알킬기이다)(b) 광 중합 개시제 0.1 ∼ 20 질량부.(c) 광 중합성의 불포화 결합기를 2 개 이상 갖는, (a) 성분 이외의 화합물 1 ∼ 100 질량부.
- 제 1 항에 있어서,추가로 상기 (a) 성분 100 질량부에 대해, (e) 0.1 ∼ 20 질량부의 (CH3O)3-Si-(CH2)3-O-CO-C(CH3)=CH2, (CH3O)3-Si-(CH2)3-O-CO-CH=CH2, 및 (CH3O)3-Si-(CH2)3-O-CH2-C2H3O (좌측에 기재된 C2H3O 는 에폭시기) 로 이루어지는 군에서 선택되는 1 종 이상의 유기 규소 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 촉매가 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 금속 알콕사이드 및 상기 일반식 (4) 로 나타내는 금속 알콕사이드로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 금속 알콕사이드인 조성물.
- 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,(a) 폴리오르가노실록산이 상기 실란올 화합물, 상기 알콕시실란 화합물, 상기 촉매, 그리고 수산화칼륨 및 수산화나트륨을 혼합하고, 적극적으로 물을 첨가하지 않고 중합시키는 방법으로 얻어진 것임을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,(a) 성분 100 질량부에 대해, 50 ∼ 200 질량부의 (d) 실리콘 레진을 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 유리 기판에 코트하고, 50 ∼ 150℃ 에서 1 분 ∼ 30 분간 가열하여 조성물 부착 유리 기판을 얻는 단계와, 그 조성물 부착 유리 기판의 그 조성물면에, 별도로 준비한 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 채운 성형물용의 형의 개구부를 대고 누르는 단계와, 그 유리 기판측으로부터 노광하는 단계와, 그 성형물의 형을 그 유리 기판으로부터 박리하는 단계와, 150℃ ∼ 250℃ 의 온도에서 0.5 시간 ∼ 2 시간 가열하는 단계를 순차적으로 실시하는 것을 특징으로 하는 마이크로 플라스틱 렌즈 또는 액정 편광판용 광학 소자의 제조 방법.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 유리 기판 또는 실리콘 기판에 코트하고, 50 ∼ 150℃ 에서 1 분 ∼ 30 분간 가열하여 조성물 부착 유리 기판 또는 실리콘 기판을 얻는 단계와, 마이크로 플라스틱 렌즈의 원 패턴으로 이루어지는 복수 장의 마스크로, 각 마스크에는 얼라이먼트 마크가 있고, 각 렌즈 패턴에 대해 직경이 상이한 동심원 패턴으로 되어 있는 복수 장의 마스크를 사용하여, 현상 깎기 후의 잔막 포화 최저 노광량 ÷ 마스크 장 수의 일정 광량으로 원 직경이 작은 마스크로부터 순서대로 마스크 1 장씩 자외선을 복수회 노광하는 단계와, 노광 후에 현상하는 단계와, 현상 후 150℃ ∼ 250℃ 의 온도에서 0.5 시간 ∼ 2 시간 가열하는 단계를 순차적으로 실시하는 것을 특징으로 하는 마이크로 플라스틱 렌즈의 제조 방법.
- 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 기재된 조성물을 기재 상에 도포하는 것을 특징으로 하는 폴리오르가노실록산막의 형성 방법.
- 제 8 항에 기재된 방법에 의해 얻어지는 폴리오르가노실록산막을, 활성 광선의 조사 및 가열로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1 개의 방법에 의해 경화시킨 것을 특징으로 하는 폴리오르가노실록산 경화막.
- 금속 배선을 포함하는 기재 상 또는 금속 배선을 포함하지 않는 기재 상에 제 8 항에 기재된 방법에 의해 폴리오르가노실록산막을 형성하는 공정, 패터닝 마 스크를 개재하여 그 막에 활성 광선을 조사하고 노광부를 광 경화시키는 공정, 현상액을 사용하여 그 막의 미경화 부분을 제거하는 공정, 기재마다 가열하는 공정으로 이루어지는 폴리오르가노실록산 경화 릴리프 패턴의 형성 방법.
- 제 10 항에 기재된 방법에 의해 얻어지는 폴리오르가노실록산 경화 릴리프 패턴.
- 제 9 항에 기재된 경화막을 포함하는 반도체 장치.
- 제 11 항에 기재된 경화 릴리프 패턴을 포함하는 반도체 장치.
- 집적 회로가 형성된 결정 기판 상에 형성된 미크로 구조체와, 상기 미크로 구조체를 피복하기 위한 패키지재와, 상기 패키지재를 상기 미크로 구조체 상에 지지하기 위한 스페이서재를 갖는 반도체 장치에 있어서, 상기 스페이서재가 제 9 항에 기재된 경화막인 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
- 제 14 항에 있어서,집적 회로가 포토 다이오드를 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
- 제 14 항 또는 제 15 항에 있어서,미크로 구조체가 마이크로 렌즈인 것을 특징으로 하는 반도체 장치.
- 미크로 구조체 상에 직접 또는 박막층을 통하여 폴리오르가노실록산막을 형성하는 공정, 패터닝 마스크를 개재하여 그 막에 활성 광선을 조사하고 노광부를 광 경화시키는 공정, 현상액을 사용하여 그 막의 미경화 부분을 제거하는 공정, 기재마다 가열하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 제 14 항 내지 제 16 항 중 어느 한 항에 기재된 반도체 장치를 제조하는 방법.
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