KR100292984B1 - 안정화제인 3-(디히드로벤조푸란-5-일)벤조푸란-2-온 및 이를 함유하는 조성물 - Google Patents

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KR100292984B1 KR1019930019007A KR930019007A KR100292984B1 KR 100292984 B1 KR100292984 B1 KR 100292984B1 KR 1019930019007 A KR1019930019007 A KR 1019930019007A KR 930019007 A KR930019007 A KR 930019007A KR 100292984 B1 KR100292984 B1 KR 100292984B1
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Abstract

하기 일반식(Ⅰ)의 화합물은 유기물질을 산화적, 열적 또는 광유도 분해로 부터 보호하는 안정화제로 작용한다:
상기식에서, R1은 수소, C1-C4알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐이고, R2, R3, R4및 R5는 서로 독립해서 수소, 클로로, C1-C25알킬, C7-C9페닐알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알킬; C1-C18알콕시, C1-C18알킬티오, 히드록시, C1-C4알킬아미노, 디(C1-C4알킬)아미노, C1-C25알카노일옥시, C1-C25알카노일아미노, C3-C25알케노일옥시, 중간에 산소, 황 또는을 포함하는 C3-C25알카노일옥시; C6-C9시클로알킬카르보닐옥시, 벤조일옥시 또는 C1-C12알킬-치환된 벤조일옥시이거나, 또는 R2와 R3또는 R3과 R4또는 R4와 R5는 연결 탄소원자와 합쳐져서 페닐고리를 형성하며, R4는 추가적으로 -(CH2)n-COR11이거나, 또는 R3, R5, R6, R7및 R10이 수소이면, R4는 추가적으로 하기 일반식(2)의 라디칼이고,
R6은 수소 또는 하기 일반식(3)의 라디칼이며,
이때, R4는 일반식(2)의 라디칼이 아니고, R7및 R8은 서로 독립해서 수소 또는 C1-C4알킬이며, R9및 R'9는 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이며, 단 R9및 R'9중의 적어도 한개는 수소이고, R10은 수소 또는 C1-C4알킬이며, R11은 히드록시,, C1-C18알콕시 또는이고, R12및 R13은 서로 독립해서 수소, CF3, C1-C12알킬 또는 페닐이거나, 또는 R12및 R13은 연결 탄소원자와 합쳐져서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬기에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬리덴 고리를 형성하며; R14및 R15는 서로 독립하여 수소 또는 C1-C18알킬이고, R16은 수소 또는 C1-C18알킬이며, M은 r가의 금속 양이온이고, n은 0, 1 또는 2이며, 또 r은 1, 2 또는 3임.

Description

안정화제인 3-(디히드로벤조푸란-5-일)벤조푸란-2-온 및 이를 함유하는 조성물
본 발명은 신규한 3-(디히드로벤조푸란-5-일)벤조푸란-2-온, 상기 신규 안정화제 및 유기물질, 바람직하게는 중합체를 포함하는 조성물, 및 산화, 열 또는 광유도 분해로 부터 유기물질을 안정화시키기 위한 이들의 용도에 관한 것이다.
각 3-(알콕시페닐)벤조푸란-2-온은 엠.아우거 일행에 의해 Bull.Soc.Chim.Fr.1970, 4024; 엘. 주르드에 의해 Aust.J.Chem., 31, 347(1978) 및 시.에스,푸트 일행에 의해 J.Amer.Chem.Soc.95, 586(1973) 및 DE-A-3 006 268 에 기재되어 있다.
몇몇 벤조푸란-2-온을 유기물질에 대한 안정화제로 사용하는 예는 US-A-4 325 863호; US-A_4 338 244호 및 EP-A-415 887호에 기재되어 있다.
이러한 벤조푸란-2-온의 특정군이 산화, 열 또는 광유도 분해되기 쉬운 유기물질에 대한 안정화제로서 사용하기에 아주 적합하다는 사실을 최근 알게 되었다.
특히, 본 발명은 하기 일반식(Ⅰ)의 화합물에 관한 것이다.
상기식에서, R1은 수소, C1-C4알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐이고, R2, R3, R4및 R5는 서로 독립해서 수소, 클로로, C1-C25알킬, C7-C9페닐알킬, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 페닐, 비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알킬; C1-C18알콕시, C1-C18알킬티오, 히드록시, C1-C4알킬아미노, 디(C1-C4알킬)아미노, C1-C25알카노일옥시, C1-C25알카노일아미노, C3-C25알케노일옥시, 중간에 산소, 황 또는을 포함하는 C3-C25알카노일옥시; C6-C9시클로알킬카르보닐옥시, 벤조일옥시 또는 C1-C12알킬-치환된 벤조일옥시이거나, 또는 R2와 R3또는 R3과 R4또는 R4와 R5는 연결 탄소원자와 합쳐져서 페닐고리를 형성하며, R4는 추가적으로 -(CH2)n-COR11이거나, 또는 R3, R5, R6, R7및 R10이 수소이면, R4는 추가적으로 하기 일반식(2)의 라디칼이고,
R6은 수소 또는 하기 일반식(3)의 라디칼이며,
이때, R4는 일반식(2)의 라디칼이 아니고, R7및 R8은 서로 독립해서 수소 또는 C1-C4알킬이며, R9및 R'9는 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이며, 단 R9및 R'9중의 적어도 한개는 수소이고, R10은 수소 또는 C1-C4알킬이며, R11은 히드록시,, C1-C18알콕시 또는이고, R12및 R13은 서로 독립해서 수소, CF3, C1-C12알킬 또는 페닐이거나, 또는 R12및 R13은 연결 탄소원자와 합쳐져서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬기에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬리덴 고리를 형성하며; R14및 R15는 서로 독립하여 수소 또는 C1-C18알킬이고, R16은 수소 또는 C1-C8알킬이며, M은 r가의 금속 양이온이고, n은 0, 1 또는 2이며, 또 r은 1, 2 또는 3임.
25개 이하의 탄소원자를 갖는 알킬은 직쇄 또는 측쇄 라디칼이고 전형적으로 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, 이차부틸, 이소부틸, t-부틸, 2-에틸부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, n-헥실, 1-메틸헥실, n-헵틸, 이소헵틸, 1,1,3,3,-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, 1,1,3-트리메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸펜틸, 노닐, 데실, 운데실, 1-메틸운데실, 도데실, 1,1,3,3,5,5,-헥사메틸헥실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 에이코실 또는 도코실이다. R2및 R4의 바람직한 의미는 C1-C18알킬이다. R4의 특히 바람직한 의미는 C1-C4알킬이다.
C7-C9페닐알킬은 전형적으로 벤질, α-메틸벤질, α,α-디메틸벤질 또는 2-페닐에틸 일 수 있다. 벤질이 바람직하다.
1 내지 3개, 바람직하게는 1 또는 2개의 알킬기를 함유하는 C1-C4알킬-치환된 페닐은 전형적으로 o-, m- 또는 p-메틸페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2-메틸-6-에틸페닐, 4-t-부틸페닐, 2-에틸페닐 또는 2,6-디에틸페닐일 수 있다.
비치환되거나 또는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알킬은 전형적으로 시클로펜틸, 메틸시클로펜틸, 디메틸시클로펜틸, 시클로헥실, 메틸시클로헥실, 디메틸시클로헥실, 트리메틸시클로헥실, t-부틸시클로헥실, 시클로헵틸 또는 시클로옥틸이다. 시클로헥실 및 t-부틸시클로헥실이 바람직하다.
18개 이하의 탄소원자를 갖는 알콕시는 직쇄 또는 측쇄 라디칼이며 전형적으로 메톡시, 에톡시, 프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시, 이소부톡시, 펜톡시, 이소펜톡시, 헥속시, 헵톡시, 옥톡시, 데실옥시, 테트라데실옥시, 헥사데실옥시 또는 옥타데실옥시이다.
18개 이하의 탄소원자를 갖는 알킬티오는 직쇄 또는 측쇄 라디칼이며 전형적으로 메틸티오, 에틸티오, 프로필티오, 이소프로필티오, n-부틸티오, 이소부틸티오, 펜틸티오, 이소펜틸티오, 헥실티오, 헵틸티오, 옥틸티오, 데실티오, 테트라데실티오, 헥사데실티오 또는 옥타데실티오이다.
4개 이하의 탄소원자를 갖는 알킬아미노는 직쇄 또는 측쇄 라디칼이고 전형적으로 메틸아미노, 에틸아미노, 프로필아미노, 이소프로필아미노, n-부틸아미노, 이소부틸아미노 또는 t-부틸아미노이다.
디(C1-C4)알킬아미노는 또한 서로 독립한 2개의 잔기가 측쇄 또는 직쇄인 것을 의미하여 전형적으로 디메틸아미노, 메틸에틸아미노, 디에틸아미노, 메틸-n-프로필아미노, 메틸이소프로필아미노, 메틸-n-부틸아미노, 메틸이소부틸아미노, 에틸이소프로필아미노, 에틸-n-부틸아미노, 에틸이소부틸아미노, 에틸-t-부틸아미노, 디에틸아미노, 디이소프로필아미노, 이소프로필-n-부틸아미노, 이소프로필이소부틸아미노, 디-n-부틸아미노 또는 디이소부틸아미노이다.
25개 이하의 탄소원자를 갖는 알카노일옥시는 직쇄 또는 측쇄 라디칼이며 전형적으로 포르밀옥시, 아세톡시, 프로피오닐옥시, 부타노일옥시, 펜타노일옥시, 헥사노일옥시, 헵타노일옥시, 옥타노일옥시, 노나노일옥시, 데카노일옥시, 운데카노일옥시, 도데카노일옥시, 트리데카노일옥시, 테트라데카노일옥시, 펜타데카노일옥시, 헥사데카노일옥시, 헵타데카노일옥시, 옥타데카노일옥시, 에이코사노일옥시 또는 도코사노일옥시이다.
25개 이하의 탄소원자를 갖는 알카노일아미노는 직쇄 또는 측쇄 라디칼이며 전형적으로 포르밀아미노, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노, 부타노일아미노, 펜타노일아미노, 헥사노일아미노, 헵타노일아미노, 옥타노일아미노, 노나노일아미노, 데카노일아미노, 운데카노일아미노, 도데카노일아미노, 트리데카노일아미노, 테트라데카노일아미노, 펜타데카노일아미노, 헥사데카노일아미노, 헵타데카노일아미노, 옥타데카노일아미노, 에이코사노일아미노 또는 도코사노일아미노이다.
3 내지 25개 탄소원자를 갖는 알케노일옥시는 직쇄 또는 측쇄 라디칼이며 전형적으로 프로페노일옥시, 2-부테노일옥시, 3-부테노일옥시, 이소부테노일옥시, n-2,4-펜다디에노일옥시, 3-메틸-2-부테노일옥시, n-2-옥테노일옥시, n-2-도데세노일옥시, 이소도데세노일옥시, 올레오일옥시, n-2-옥타데세노일옥시 또는 n-4-옥타데세노일옥시이다.
중간에 산소, 황 또는을 포함하는 C3-C25알카노일옥시는 전형적으로 CH3-O-CH2COO-, CH3-S-CH2COO-, CH3-NH-CH2COO-, CH3-N(CH3)-CH2COO-, CH3-O-CH2CH2-O-CH2COO-, CH3-(O-CH2CH2-)2O-CH2COO-, CH3-(O-CH2CH2-)3O-CH2COO-또는 CH3-(O-CH2CH2-)4O-CH2COO-이다.
C6-C9시클로알킬카르보닐옥시는 전형적으로 시클로펜틸카르보닐옥시, 시클로헥실카르보닐옥시, 시클로헵틸카르보닐옥시 또는 시클로옥틸카르보닐옥시이다. 시클로헥실카르보닐옥시가 바람직하다.
C1-C12알킬-치환된 벤조일옥시는 전형적으로 o-, m- 또는 p-메틸벤조일옥시, 2,3-디메틸벤조일옥시, 2,4-디메틸벤조일옥시, 2,5-디메틸벤조일옥시, 2,6-디메틸벤조일옥시, 3,4-디메틸벤조일옥시, 3,5-디메틸벤조일옥시, 2-메틸-6-에틸벤조일옥시, 4-t-부틸벤조일옥시, 2-에틸벤조일옥시, 2,4,6-트리메틸벤조일옥시, 2,6-디메틸-4-t-부틸벤조일옥시 또는 3,5-디-t-부틸벤조일옥시이다.
1 내지 3개, 바람직하게는 1 또는 2개의 직쇄 또는 측쇄 알킬기를 함유하는 C1-C4알킬-치환된 C5-C8시클로알킬리덴 고리는 전형적으로 시클로펜틸리덴, 메틸시클로펜틸리덴, 디메틸시클로펜틸리덴, 시클로헥실리덴, 메틸시클로헥실리덴, 디메틸시클로헥실리덴, 트리메틸시클로헥실리덴, t-부틸시클로헥실리덴, 시클로헵틸리덴 또는 시클로옥틸리덴이다. 시클로헥실리덴 및 t-부틸시클로헥실리덴이 바람직하다.
일가, 이가 또는 삼가 금속 양이온은 바람직하게는 알칼리 금속 양이온, 알칼리 토금속 양이온 또는 알루미늄 양이온, 전형적으로 Na+, K+, Mg++, Ca++또는 Al++이다.
R1은 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이고, R2, R3, R4, R5는 서로 독립해서 수소, 클로로, C1-C18알킬, 벤질, 페닐, C5-C8시클로알킬, C1-C18알콕시, C1-C18알킬티오, C1-C18알카노일옥시, C1-C18알카노일아미노, C3-C18알케노일옥시 또는 벤조일옥시이거나, 또는 R2와 R3또는 R4와 R5는 연결 탄소원자와 합쳐져서 페닐고리를 형성하거나, 또는 R3, R5, R6, R7및 R10이 수소이면, R4는 추가적으로 일반식(2)의 라디칼이고, R9및 R'9는 수소 또는 C1-C4알킬이며, 단 R9및 R'9중의 적어도 한개는 수소이고, 또 R12및 R13은 각각 메틸기이거나 또는 서로 연결 탄소원자와 합쳐져서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬기에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬리덴 고리를 형성하는 일반식(Ⅰ)의 화합물이 바람직하다.
R2, R3, R4및 R5중의 적어도 2개가 수소인 일반식(Ⅰ)의 화합물이 또한 바람직하다.
R3및 R5가 수소인 일반식(Ⅰ)의 화합물도 바람직하다.
R1이 수소 또는 C1-C4알킬이고, R2및 R4가 서로 독립해서 수소, C1-C18알킬, 벤질, 페닐, C5-C8시클로알킬 또는 C1-C18알콕시이거나, 또는 R3, R5, R6, R7및 R10이 수소이면, R4는 추가로 일반식(2)의 라디칼이며, R3및 R5가 서로 독립해서 수소 또는 C1-C4알킬이며, R6이 수소 또는 일반식(3)의 라디칼이고, 이때 R4는 일반식(2)의 라디칼이 아니며, R7, R8, R9, R'9및 R10이 수소이고, 또 R12및 R13이 각각 메틸기이거나 또는 서로 연결 탄소원자와 합쳐져서 C5-C8시클로알킬리덴 고리를 형성하는 일반식(I)의 화합물이 특히 바람직하다.
R1이 수소 또는 메틸이고, R2가 수소 또는 C1-C18알킬이며, R3, R5, R7, R8, R'9및 R10은 수소이고 R4는 수소 또는 C1-C4알킬이며, 또는 R6이 수소이면, R4는 추가로 일반식(2)의 라디칼이고, R6이 수소 또는 일반식(3)의 라디칼이고, 이때 R4는 일반식(2)의 라디칼이 아니며, 또 R12및 R13은 각각 메틸기이거나 또는 서로 연결 탄소원자와 합쳐져서 시클로헥실리덴 고리를 형성하는 일반식(Ⅰ)의 화합물이 특히 바람직하다.
일반식(1)의 신규 화합물은 공지 방식으로 제조할 수 있다.
일반식(1)의 화합물을 제조하기 위한 통상적으로 바람직한 방법은 하기 일반식(4)의 화합물을 승온, 바람직하게는 130 내지 200℃의 온도, 상압 또는 약간의 감압하의 용융물 또는 용매중에서 페닐고리가 치환된 하기 일반식(5)의 알릴옥시만델산 유도체와 반응시켜 하기 일반식(6)의 화합물을 수득하는 것을 포함한다:
상기식에서, R1, R2, R3, R4, R5, R7, R8, R9, R'9및 R10은 상기 의미를 갖는다.
상기 반응은 50 내지 130℃의 온도, 용매중, 바람직하게는 아세트산 또는 포름산 중에서 실행되는 것이 바람직하다. 이 반응은 염산, 황산 또는 메탄술폰산과 같은 산을 부가함으로써 촉진될 수 있다. 이 반응은 상기 설명의 도입부에서 기재한 바와 같이 실행될 수 있다.
페닐고리가 치환된 일반식(5)의 만델산은 문헌으로 부터 공지된 것이거나 또는 더블유, 브래들리 일행에 의해 J.Chem.Soc. 1956. 1622 또는 EP-A-146 269호, EP-B-182 507호(4페이지, 실시예 1) 또는 DE-A-2 944 295호에 기재된 방법에 따라 일반적으로 제조할 수 있다.
일반식(4)의 페놀은 공지된 것이거나 또는 공지 방법에 의해 제조할 수 있다.
하기 일반식(7)의 비스페놀은 후벤-웨일에 의해 Methoden der organischen Chemie, Vol.6/1c, 1030에 기재된 바와 같이 제조할 수 있다:
일반식(6)의 화합물은 승온하, 바람직하게는 200 내지 240℃의 온도, 용융물 또는 용매중에서 클라이센 전환반응 조건하에서 하기 일반식(8)의 화합물로 전환된다:
이들 화합물은 단리되거나 또는 정제하지 않고 아세트산과 같은 용매중에서 촉매량의 강산, 유리하게는 메탄술폰산을 사용하고 승온, 바람직하게는 50 내지 130℃의 온도에서 직접적으로 고리화되어 하기 일반식(1)의 화합물을 생성할 수 있다:
일반식(9)의 화합물을 이합체화하여 일반식(1)의 화합물(이때, R6이 일반식(3)의 기인 화합물, 즉 일반식(10)의 화합물)을 제조하는 것은 실온의 유기 용매중, 염기성 조건하에서 요오드를 사용하여 산화시킴으로써 실행할 수 있다. 적합한 염기는 바람직하게는 나트륨 에틸레이트이고 바람직한 용매는 에탄올 및 디에틸 에테르이다.
일반식(1)의 화합물은 열적, 산화적 또는 광 유도 분해로 부터 유기물질을 안정화시키는데 적합하다.
이러한 물질의 바람직한 예는 다음과 같다:
1. 모노올레핀과 디올레핀의 중합체[예를 들어 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴레이소프렌 또는 폴리부타디엔]와 시클로올레핀(예를들어 시클로펜텐 또는 노르보르넨) 및 폴레에틸렌(경우에 따라 가교결합 될 수 있음)의 중합체[예를들어 고밀도 폴레에틸렌(HDPE), 저밀도 폴리에틸렌(LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE), 측쇄 저밀도 폴레에틸렌(BLDPE)].
폴리올레핀, 즉 상기 단락에서 예로든 모노올레핀의 중합체, 바람직하게는 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌은 상이한 방법, 특히 하기 방법에 의해 제조될 수 있다:
a) 통상 고압 및 승온하에서의 라디칼 중합반응.
b) 주기율표의 Ⅳb, Ⅴb, Ⅵb 또는 Ⅷ족의 금속 한개 이상을 함유하는 촉매를 사용한 촉매 중합반응. 이들 금속은 통상 한개 이상의 리간드, 전형적으로 π- 또는 σ-배위결합될 수 있는 산화물, 할라이드, 알코올레이트, 에스테르, 에테르, 아민, 알킬, 알케닐 및/또는 아릴을 갖는다. 이들 금속 착물은 유리형태 또는 치환기, 전형적으로 활성화 염화 마그네슘, 염화 티탄(Ⅲ), 알루미나 또는 산화 실리콘상에 고정된 형태일 수 있다. 이들 촉매는 중합반응 매질에 용해성이거나 불용성일 수 있다. 이 촉매는 중합반응에 그대로 사용되거나 또는 다른 활성화제, 전형적으로 금속 알킬, 금속 히드리드, 금속 알킬 할라이드, 금속 알킬 옥사이드 또는 금속 알킬옥산이 부가될 수 있다. 상기 금속은 주기율표의 Ⅰa, Ⅱa 및/또는 Ⅲa족의 원소이다. 활성화제는 보통 에스테르, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르기에 의해 변형될 수 있다. 이들 촉매계는 필립스, 스탠다드 오일 인디애나, 지글러(-나타), TNZ(듀퐁), 메탈로센 또는 단위 부위 촉매(SSC)로 명명된 것이다.
2. 상기 1)항에서 언급된 중합체들의 혼합물, 예를들어 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물 (예:PP/HDPE 또는 PP/LDPE)과 상이한 형태의 폴리에틸렌의 혼합물 (예:LDPE/HDPE).
3. 모노올레핀과 디올레핀 상호간 또는 다른 비닐 단량체와의 공중합체 [예:에틸렌/프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌(LLDPE) 및 그와 저밀도 폴리에틸렌(LDPE)과의 혼합물, 프로필렌/부트-1-엔 공중합체, 프로필렌/이소부틸렌 공중합체, 에틸렌/부트-1-엔 공중합체, 에틸렌/헥센 공중합체, 에틸렌/메틸펜텐 공중합체, 에틸렌/헵텐 공중합체, 에틸렌/옥텐 공중합체, 프로필렌/부타디엔 공중합체, 이소부틸렌/이소프렌 공중합체, 에틸렌/알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌/비닐아세테이트 공중합체 및 이들의 일산화탄소와의 공중합체 또는 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 이들의 염(이오노머)]; 뿐만아니라 에틸렌과 프로필렌 및 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보르넨과 같은 디엔과의 3중합체;와 이같은 공중합체 상호간 및 상기 1)항에서 언급한 중합체들과의 혼합물[예: 폴리프로필렌/에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE/에틸렌-비닐아세테이트 공중합체(EVA), LDPE/에틸렌-아크릴산 공중합체(EAA), LLDPE/EVA, LLDPE/EAA 및 랜덤 또는 교대 폴리알킬렌/일산화탄소-공중합체 뿐만아니라 이들과 그밖의 다른 중합체 예컨대 폴리아미드와의 혼합물].
4. 탄화수소 수지(예: C5-C9)와 그 수소화 개질물(예:점착제수지) 및 폴리알킬렌과 녹말의 혼합물.
5. 폴리스티렌, 폴리-(p-메틸스티렌) 및 폴리-(α-메틸스티렌)
6. 스티렌 또는 α-메틸스티렌과 디엔류 또는 아크릴 유도체의 공중합체 (예: 스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 아크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/무수 말레산, 스티렌/아크릴로니트릴/메틸 아크릴레이트]; 스티렌 공중합체와 기타 중합체 (예: 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 삼중합체)로부터 형성된 고충격 강도 혼합물;과 스티렌의 블럭 공중합체[예: 스티렌/부타디엔/스티렌, 스티렌/이소프렌/스티렌, 스티렌/에틸렌/부틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌].
7. 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그라프트 공중합체 [예: 폴리부타디엔 부착스티렌, 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체 부착 스티렌; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴(또는 메타크릴로니트릴); 폴리부타디엔 부착 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 무수 말레산; 폴리부타디엔 부착 스티렌, 아크릴로니트릴 및 무수말레산 또는 말레이미드; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 말레이미드; 폴리부타디엔 부착 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트; 에틸렌/프로필렌/디엔 삼중합체 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴; 폴리알킬아크릴레이트 또는 폴리알킬메타크릴레이트 부착 스티렌 및 아크릴로니트닐; 아크릴레이트/부타디엔 공중합체 부착 스티렌 및 아크릴로니트릴] 및 이들과 상기 6)항에 수록된 공중합체와의 혼합물(예: ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로 공지된 공중합체 혼합물).
8. 할로겐-함유 중합체 [예: 폴리클로로프렌, 염소화고무, 염소화 또는 술포염소화 폴리에틸렌, 에틸렌 및 염소화 에틸렌의 공중합체, 에피클로로히드린 동종- 및 공중합체, 특히 할로겐-함유 비닐 화합물로 부터 제조된 중합체 (예를들어, 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드 뿐만아니라 이들의 공중합체(예를들어 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트 또는 비닐리덴 클로라이드/비닐 아세테이트 공중합체)].
9. α,β-불포화산 및 그 유도체들로 부터 유도된 중합체 [예: 폴리아크릴레이트와 폴리메타크릴레이트; 부틸 아크릴레이트에 의해 내충격성으로 개질된 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드와 폴리아크릴로니트릴].
10. 9)항에서 언급된 단량체 상호간 또는 이 단량체와 기타 불포화 단량체의 공중합체 [예: 아클릴로니트릴/부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴/알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴/알콕시알킬 아크릴레이트 또는 아크릴로니트릴/비닐 할라이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬 메타크릴레이트/부타디엔 삼중합체].
11. 불포화 알코올 및 아민 또는 이들의 아실 유도체 또는 이들의 아세탈로부터 유도된 중합체 [예: 폴리비닐 알코올, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레에이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴멜라민];와 이들과 상기 1)항에서 언급한 올레핀의 공중합체.
12. 고리상 에테르의 동종 중합체 및 공중합체[예: 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥사이드, 폴리프로필렌 옥사이드 또는 이들의 비스-글리시딜 에테르와의 공중합체].
13. 폴리아세탈 (예: 폴리옥시메틸렌 및 공단량체로서 에틸렌옥사이드를 함유하는 폴리옥시메틸렌); 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 개질시킨 폴리아세탈.
14. 폴리페닐렌 옥사이드 및 술피드, 및 폴리페닐렌 옥사이드와 스티렌 중합체 또는 폴리아미드의 혼합물.
15. 말단 히드록시기를 갖는 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리부타디엔과 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트로부터 유도된 폴리우레탄 및 그 전구체.
16. 디아민과 디카르복시산으로 부터 및/또는 아미노카르복시산 또는 상응하는 락탐으로 부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드 [예: 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 폴리마이드 11, 폴리아미드 12, m-크실렌 디아민과 아디프산의 축합으로 제조한 방향족 폴리아미드]와 헥사메틸렌디 아민과 이소프탈산 또는/및 테레프탈산 및 경우에 따라 개질제로서 탄성 중합체를 사용해서 제조된 폴리아미드[예: 폴리-2,4,4,-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드]; 및 전술한 폴리아미드와 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합되거나 또는 그라프트 결합된 탄성 중합체와의 공중합체; 또는 폴리에테르 (예: 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜)와의 공중합체; 뿐만아니라 EPDM 또는 ABS로 개질시킨 폴리아미드 또는 코폴리아미드; 및 처리기간중 축합시킨 폴리아미드 (RIM-폴리아미드 계).
17. 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아미드-이미드 및 폴리벤즈이미다졸.
18. 디카르복시산과 디올로부터, 및/또는 히드록시카르복시산 또는 상응하는 락톤으로부터 유도된 폴리에스테르 [예: 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1, 4-디메틸올시클로헥산 테레프탈레이트 및 폴리히드록시벤조에이트]와 히드록시 말단기를 갖고 있는 폴리에테르로 부터 유도된 블록 코폴리에테르 에스테르; 및 폴리카르바메이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스테르.
19. 폴리카르보네이트와 폴리에스테르 카르보네이트.
20. 폴리술폰, 폴리에테르술폰과 폴리에테르케톤.
21. 알데히드 및 페놀, 우레아 및 멜라민으로 부터 유도되는 가교 중합체 [예: 페놀/포름알데히드 수지, 우레아/포름알데히드 수지 및 멜라민/포름알데히드 수지].
22. 건성 및 비건성 알키드 수지.
23 포화 및 불포화 디카르복시산과 가교결합제인 다가알코올과 비닐 화합물의 코폴리에스테르로 부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지; 와 인화성이 낮은 이들의 할로겐 함유 개질물.
24. 치환된 아크릴레이트로 부터 유도된 가교성 아크릴 수지 (예: 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트).
25. 멜라민 수지, 우레아 수지, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시 수지와 가교된 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 또는 아크릴레이트 수지.
26. 폴리에폭사이드(예: 비스-글리시딜 에테르 또는 지환족 디에폭사이드)로부터 유도된 가교된 에폭시 수지.
27. 천연 중합체(예: 셀룰로오스, 고무, 젤라틴)와 화학적으로 개질시킨 이들의 유도체(예: 셀룰로오스 아세테이트, 셀룰로오스 프로피오네이트와 셀룰로오스 부티레이트 또는 메틸 셀룰로오스등의 셀룰로오스 에테르); 뿐만 아니라 송진과 그 유도체.
28. 전술한 바와 같은 중합체 혼합물(폴리블랜드)[예: PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 폴리아미드/ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO].
29. 순수한 단량체성 화합물 또는 이러한 화합물의 혼합물인 천연산출 및 합성 유기물질, 예컨대 광물유, 동식물 지방, 오일 및 왁스, 또는 합성 에스테르(예컨대 프탈레이트, 아디페이트, 인산염 또는 트리멜리테이트)를 기본한 오일, 지방 및 왁스 및 또한 합성 에스테르와 광물유의 임의 중량비 혼합물, 전형적으로 방사 조성물에 사용된 것 뿐만 아니라 이러한 물질의 수성 유제.
30. 천연 또는 합성 고무의 수성 유제, 예컨대 카르복시화 스티렌/부타디엔 공중합체의 천연 라텍스 또는 라티스.
본 발명은 또한 산화적, 열적 또는 광 유도분해되기 쉬운 유기물질 및 한개 이상의 일반식(1)의 화합물을 포함하는 조성물에 관한 것이다.
바람직한 유기물질은 중합체, 예컨대 합성 중합체, 특히 열가소성 중합체이다. 특히 바람직한 유기물질은 폴리아세탈 또는 폴리프로필렌 또는 폴리에틸렌과 같은 폴리올레핀이다.
열가소성수지를 가공하는 동안, 특히 열 작용하에서 열적 및 산화적 분해에 대한 신규 화합물의 효능이 언급할만한 가치가 있다. 본 발명의 화합물은 가공 안정화제로서 사용하기에 적합하다.
바람직하게는 일반식(1)의 화합물은 안정화되는 유기물질의 중량에 대하여 0.0005 내지 5%, 특히 0.001 내지 2%, 전형적으로 0.01 내지 2%의 양으로 안정화될 물질에 부가된다.
본 발명에 따른 조성물은 일반식(1)의 화합물 이외에 하기에 수록한 공동안정화제를 더 함유할 수 있다.
1. 산화방지제
1.1. 알킬화 모노페놀, 예를들어 2,6-디-t-부틸-4-메틸페놀, 2-t-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-t-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디-시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리-시클로헥실페놀, 2,6-디-t-부틸-4-메톡시메틸페놀, 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸-운데크-1'-일)-페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸-헵타데크-1'-일)-페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸-트리데크-1'-일)- 페놀 및 이들의 혼합물.
1.2. 알킬티오메틸페놀, 예를들어 2,4-디-옥틸티오메틸-6-t-부틸페놀, 2,4-디-옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디-옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논, 예컨대 2,6-디-t-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-t-부틸-히드로퀴논, 2,5-디-삼차아밀-히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-t-부틸-히드로퀴논, 2,5-디-t-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)아디페이트.
1.4. 히드록시화 티오디페닐 에테르, 예를들어 2,2'-티오비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-2차아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-히드록시페닐)디술피드.
1.5. 알킬리덴 비스페놀, 예를들어 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-t-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)-페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-t-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-t-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-t-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-t-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-t-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-t-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-t-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-프로판, 2,2-비스(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄, 1,1,5,5-테트라(5-t-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.6. O-, N- 및 S-벤질 화합물, 예를들어 3,5,3',5'-테트라-t-부틸-4,4'-디히드록시-디벤질 에테르, 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질 메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)아민, 비스(4-t-부틸-3-히드록시-2, 6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 메르캅토아세테이트.
1.7. 히드록시벤질화 말로네이트, 예를 들어 디옥타데실-2, 2-비스(3,5-디-t-부틸-2-히드록시벤질)말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-t-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질)-말로네이트, 디-도데실메르캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 비스-[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트.
1.8. 방향족 히드록시벤질 화합물, 예를들어 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)페놀.
1.9. 트리아진 화합물, 예를들어 2,4-비스(옥틸메르캅토)-6-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-t-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트.
1.10. 벤질 포스포네이트, 예컨대 디메틸-2,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 포스포네이트, 디에틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-t-부틸-4-히드록시-3-메틸벤질 포스포네이트, 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질-포스폰산 모노에틸 에스테르의 칼슘 염.
1.11. 아실아미노페놀, 예컨대 4-히드록시라우르아닐리드, 4-히드록시스테아르아닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
1.12. 1가 또는 다가 알코올과 β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-프로피온산의 에스테르, 예컨대 메탄올, 에탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.13. 1가 또는 다가 알코올과 β-(5-t-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)-프로피온산의 에스테르, 예를들어 메탄올, 에탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로-[2.2.2] 옥탄과의 에스테르.
1.14. 1가 또는 다가 알코올과 β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)-프로피온산의 에스테르, 예를들어 메탄올, 에탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.15. 1가 또는 다가 알코올과 3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐아세트산의 에스테르, 예를들어 메탄올, 에탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄과의 에스테르.
1.16. β-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)-프로피온산의 아미드, 예를들어 N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히도록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아민, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진.
2. UV흡수제 및 광안정화제
2.1. 2-(2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸, 예를들어 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-t-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-t-부틱-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-이차부틸-5'-t-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디삼차아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스-(α,α-디메틸벤질)-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸의 혼합물, 2-(3'-t-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)-카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-t-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 및 2-(3'-t-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 폴리에틸렌 글리콜 300과 2-[3'-t-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시-페닐]-2H-벤조트리아졸의 에스테르 교환반응 생성물; R이 3'-t-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐인 [R-CH2CH2-COO(CH2)3]2.
2.2. 2-히드록시벤조페논, 예를들어 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시 또는 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3 비치환 또는 치환된 벤조산의 에스테르, 예를들어 4-t-부틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일 레조르시놀, 비스(4-t-부틸-벤조일)레조르시놀, 벤조일 레조르시놀, 2,4-디-t-부틸페닐 3,5-디-t-부틸-4-히드록시 벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-t-부틸페닐 3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예를들어 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카르보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 메틸 α-카르보메톡시-p-메톡시-신나메이트 및 N-(β-카르보메톡시-β시아노비닐)-2-메틸인돌린.
2.5. 니켈 화합물, 예를들어 적절한 경우 부가적인 리간드(예 : n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실디에탄올아민)가 있는 2,2'-티오-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착물(예컨대 1:1 또는 1:2 착물), 니켈 디부틸 디티오카르바메이트, 4-히드록시-3,5-디-t-부틸 벤질 포스폰산 모노알킬 에스테르(예: 메틸 에스테르 또는 에틸 에스테르)의 니켈 염, 케톡심(예: 2-히드록시-4-메틸페닐운데실 케톡심)의 니켈 착물, 적절한 경우 부가적인 리간드가 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시 피라졸의 니켈 착물.
2.6. 입체 장애 아민, 예를들어 비스(2,2,6,6,-테트라메틸-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-피페리딜)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜) n-부틸-3,5-디-t-부틸-4-히드록시벤질 말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합 생성물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-t-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄-테트라카르복시레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-t-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합 생성물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자시피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온.
2.7. 옥사미드, 예를들어 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-t-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-t-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에톡사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-t-부틸-2'-에톡사닐리드 및 그와 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-t-부톡사닐리드와의 혼합물, o- 및 p-메톡시-이중치환된 옥사닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시-이중 치환된 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 2-(2-히드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예를들어 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로폭시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부틸옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시-프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진.
3. 금속 탈활성화제, 예를들어 N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실알-N'-살리실로일히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디히드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예를들어 트리페닐 포스파이트, 디페닐 알킬 포스파이트, 페닐 디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴 펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-t-부틸-4-메틸페닐) 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스-t-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-t-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-t-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-t-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)메틸 포스파이트, 비스(2,4-디-t-부틸-6-메틸페닐)에틸 포스파이트.
5. 과산화물-분해 화합물, 예를들어 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예컨대 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 메르캅토벤조이미다졸, 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트.
6. 폴리아미드 안정화제, 예를들어 요오드화물 및/또는 인 화합물과의 구리 염 및 2가 망간 염.
7. 염기성 공안정화제, 예를들어 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리금속 및 알칼리토금속 염, 예컨대 스테아르산칼슘, 스테아르산아연, 베헨산마그네슘, 스테아르산마그네슘, 리시놀레산나트륨, 팔미트산칼륨, 피로카테콜산안티몬 또는 피로카테콜산주석.
8. 핵 생성제, 예를들어 4-t-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산.
9. 충전재 및 강화제, 예를들어 탄산칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 석면, 활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연.
10. 다른 첨가제, 예컨대 가소화제, 윤활제, 유화제, 안료, 형광증백제, 난연제, 대전방지제 및 발포제.
상기 공안정화제는 안정화될 물질의 전체 중량을 기준하여 0.01 내지 10% 농도로 사용된다.
일반식(1)의 신규 화합물은 특히 페놀성 산화방지제와 함께 사용될 수 있다. 따라서 본 발명의 신규 조성물은 일반식(1)의 화합물 이외에 페놀성 산화방지제, 바람직하게는 1.1 내지 1.16에 기재된 상기 공동안정화제를 포함한다.
다른 바람직한 조성물은 일반식(1)의 화합물 이외에 한개 이상의 유기 포스파이트 또는 포스포나이트를 포함한다.
일반식(1)의 화합물 및 다른 임의의 첨가제는 유리하게는 성형물품으로 성형하기 전 또는 성형하는 동안에 공지 방법에 의해, 또는 이와다르게는 유기중합체를 상기 화합물 용액 또는 분산액으로 코팅한 다음 용매를 증발시키는 것에 의해 유기 중합체에 혼입될 수 있다. 일반식(1)의 화합물은 전형적으로 2.5 내지 25중량%의 농도로 상기 화합물을 함유하는 마스터뱃치 형태의 안정화될 물질에 부가될 수 있다.
일반식(1)의 화합물은 중합반응전 또는 중합반응중 또는 가교반응전에 부가될 수 있다.
일반식(1)의 화합물은 순수한 형태 또는 왁스, 오일 또는 중합체 캡슐화제 형태로 유기 중합체에 혼입될 수 있다.
일반식(1)의 화합물은 안정화될 중합체에 분무될 수 있다. 이들은 다른 첨가제(전형적으로 상술한 통상의 첨가제) 또는 그의 용융물을 희석시킬 수 있기 때문에, 이들은 상기 첨가제와 함께 안정화될 중합체에 분무될 수 있다. 중합반응 촉매의 탈화성화시키는 동안 분무하는 것이 특히 바람직하며, 이때 분무는 탈활성화에 사용된 증기를 사용하여 유리하게 실행된다.
일반식(1)의 화합물을 다른 첨가제와 함께 또는 다른 첨가제 없이 구형의 중합된 폴리올레핀에 분무하는 것이 유리하다.
따라서 본 발명의 특히 바람직한 구체예는 산화적, 열적 또는 광유도 분해로부터 유기물질을 안정화시키기 위해 일반식(1)의 화합물을 사용하는 것이다.
안정화된 물질은 어떤 형태라도 좋고, 전형적으로 쉬트, 필라멘트, 리본, 성형품, 프로필 또는 코팅 조성물용 결합제, 접착제 또는 퍼티 형태일 수 있다.
본 발명은 또한 한개 이상의 일반식(1)의 화합물을 혼입하거나 또는 부가하는 것에 의해 유기물질을 산화적, 열적 또는 광유도 분해로 부터 안정화시키는 방법에 관한 것이다.
이미 강조한 바와 같이, 신규 화합물은 폴리올레핀에서 안정화제, 바람직하게는 열 안정화제로서 특히 유리하게 사용된다. 상기 화합물을 유기 포스파이트 또는 포스포나이트와 조합하면 최고의 안정화 작용을 달성할 수 있다. 신규 화합물은 아주 저농도, 전형적으로 폴리올레핀의 중량을 기준하여 0.0001 내지 0.015중량%, 바람직하게는 0.0001 내지 0.008중량%로도 유리한 효과를 갖는다. 유기 포스파이트 또는 포스포나이트는 폴리올레핀을 기준하여 0.01 내지 2중량%, 바람직하게는 0.01 내지 1중량%의 농도로 사용되는 것이 유리하다. DE-A-4 202 276호에 기재된 바와 같은 유기 포스파이트 및 포스포나이트를 사용하는 것이 바람직하다. 특허청구범위, 실시예 및 5페이지의 마지막 단락에서 8페이지 까지가 특히 중요하다. 특히 적합한 포스파이트 및 포스포나이트는 상술한 공동안정화제의 4란에서 찾을 수 있다.
하기 실시예로써 본 발명을 상세하게 설명한다. 각 부 및 %는 중량기준이다.
[실시예 1] 5,7-디-t-부틸-3-(2-메틸-디히드로벤조푸란-5-일)벤조푸란-2-온(화합물 번호 (101), 표1)의 제조
220℃, 질소하에서 3.80 g(10.0 밀리몰)의 3-(4-알릴옥시페닐)-5,7-디-t-부틸-벤조푸란-2-온을 약 4시간 동안 보관한다. 냉각시킨 후, 10 ml의 아세트산 및 0.3 ml의 메탄술폰산을 부가하고 그 반응 혼합물을 7시간 동안 환류시킨다. 100 ml의 물을 사용하여 희석시킨 다음, 그 생성물을 디클로로메탄을 사용하여 추출한다. 유기상들을 물을 사용하여 세척한 다음 모으고 황산나트륨 상에서 건조시키고 진공 회전 증발기상에서 농축시킨다. 디클로로메탄/헥산=1:2를 용리계로 하여 실리카 겔상에서 잔류물을 크로마토그래피시키고 또 리그로인으로 부터 순수한 분획을 결정화시켜 융점이 136 내지 152℃인 1.07g (28%)의 5,7-디-t-부틸-3-(2-메틸-디히드로벤조푸란-5-일)벤조푸란-2-온을 부분입체 이성질체 혼합물(화합물번호(101), 표1)로 수득한다.
출발화합물 3-(4-알릴옥시페닐)-5,7-디-t--부틸-벤조푸란-2-온은 다음과 같이 제조할 수 있다:
309g (1.50 몰)의 2,4-디-t-부틸-페놀 및 192 g(1.00 몰)의 4-알릴옥시만델산(EP-B-182 507호의 실시예 1,4페이지에 따라서 제조됨)의 혼합물을 140 내지 150℃ 질소하에서 2시간 동안 교반한다. 이 혼합물을 150℃의 저진공(50 밀리바아)하에서 1.5 시간 동안 교반한다. 고진공하에서 과량의 2,4-디-t-부틸페놀을 증류제거한다. 잔류물을 크실렌 및 에탄올로 부터 결정화시켜 융점 112 내지 114℃인 3-(4-알릴옥시페닐)-5,7-디-t-부틸벤조푸란-2-온 230.1 g(61%)을 수득한다.
4-알릴옥시만델산의 제조:
20.8 g(0.10몰)의 4-히드록시만델산 나트륨염 일수염 및 6.6 g(0.10몰)의 수산화 칼륨을 1.0 g(6.7밀리몰)의 요오드화 나트륨과 함께 75 ml의 메탄올에 용해시킨다. 이어 0.12 몰의 알릴 브로마이드(메탈릴의 경우 염화 메탈릴)를 부가하고 그 반응 혼합물을 진공 회전 증발기상에서 농축시키며 잔류물을 진한 염산을 사용하여 산성화시킨다. 생성물을 아세트산 부틸을 사용하여 3회 추출한다. 유기상들을 물을 사용하여 세척하고, 모으며, 황산 나트륨상에서 건조시키고 또 진공 회전 증발기상에서 농축시킨다. 잔류물을 톨루엔/석유 에테르로 부터 결정화시켜 무정형 분말인 4-알릴옥시만델산(70%) 및 융점 121 내지 126°인 4-메탈릴옥시만델산(65%)과 같은 4-알릴옥시만델산을 수득한다.
치환된 4-히드록시만델산의 제조:
0.30 몰의 출발 페놀(예컨대, o-크레솔, 2-t-부틸페놀 또는 2-이소프로필-3-메틸페놀)을 질소하의 2N 수산화 나트륨 용액 150 ml에 용해시킨다. +5℃로 냉각시킨 후, 4.8 g(0.12몰)의 수산화 나트륨 및 13.3 ml(0.12 몰)의 50% 수성 글리옥실산을 부가하고 그 반응 혼합물을 실온에서 4시간 동안 교반한다. 4시간 간격으로 0.12몰의 수산화 나트륨 및 글리옥실산을 2회(전체 0.36몰) 더 부가한다. 이 반응 혼합물을 12시간 동안 교반한 다음 진한 염산을 사용하여 중화시키고 또 2 x 75ml의 석유 에테르를 사용하여 세척한다. 수성상을 진한 염산을 사용하여 산성화시킨 다음 에테르를 사용하여 반복해서 추출한다. 유기상을 모으고, 황산 마그네슘상에서 건조시키며 또 진공 회전 증발기상에서 농축시켜 하기 화합물을 수득한다: 4-히드록시-3-메틸만델산, 융점 115 내지 120℃, 수율 55%; 4-히드록시-3-t-부틸만델산, 융점 156 내지 158℃, 수율 26%; 및 3-이소프로필-4-히드록시-2-메틸만델산, 융점 114 내지 119℃ 수율 20%.
[실시예 2] 3-(2,2-디메틸디히드로벤조푸란-5-일)-5,7-디-t-부틸벤조푸란-2-온(화합물(102), 표1)의 제조
20.6 g(0.10 몰)의 2,4-디-t-부틸페놀 및 22.6 g(0.10몰)의 4-메틸알릴옥시만델산(실시예 1에서 제조)의 혼합물을 감압하(50 밀리바아), 155℃에서 8시간 동안 유지시킨다. 이 반응 혼합물을 질소하의 220℃에서 가열시키고 또 상기 온도에서 약 100분간 유지시킨다. 약 120℃로 냉각시킨 후, 100 ml의 아세트산 및 2 ml의 메탄술폰산을 부가하고 그 용액을 3시간 동안 환류시킨다. 이 반응 혼합물을 냉각시키고, 또 생성물을 10 ml의 에탄올을 사용하여 석출시키고 또 여과에 의해 단리한다. 에탄올(100ml)/아세트산(8 ml)으로부터 재결정시켜 8.0 g(20%)의 3-(2,2-디메틸디히드로벤조푸란-5-일)-5,7-디-t-부틸벤조푸란-2-온, 융점 164 내지 166℃(화합물(105), 표1)을 수득한다.
실시예 2의 일반적 과정을 따라서, 화합물(103) 및 화합물(104)를 상응하는 페놀 및 4-메탈릴옥시만델산으로 부터 제조한다. 화합물(104)의 제조에서, 사용한 비스페놀에 대하여 2당량의 4-메탈릴옥시만델산을 사용한다.
[실시예 3] 3,3'-비스[3-(2,2-디메틸디히드로벤조푸란-5-일)-5,7-디-t-부틸벤조푸란-2-온](화합물(105), 표1)의 제조
질소하에서, 11.77 g (30 밀리몰)의 3-(2,2-디메틸디히드로벤조푸란-5-일)-5,7-디-t-부틸벤조푸란-2-온(화합물(102), 실시예 2)을 나트륨 메틸레이트 용액(120 ml의 무수 메탄올에 0.69 g(30.0 밀리몰)의 나트륨을 부가하여 제조됨)에 부가한다. 이어 60 ml의 디에틸 에테르에 3.8 g(15.0 밀리몰)의 요오드가 용해된 용액을 실온에서 약 10분에 걸쳐 적가한다. 이 반응 혼합물을 30분간 교반한 다음 500 ml의 물을 사용하여 희석시키고 또 3 x 100ml의 디에틸 에테르를 사용하여 추출한다. 유기상을 분리하고, 물을 사용하여 세척하고 모아서 황산 마그네슘 상에서 건조시키고 또 진공 회전 증발기상에서 농축시킨다. 잔류물을 메탄올로 부터 2회 결정화시켜 3.1 g(26%)의 3,3'-비스[3-(2,2-디메틸디히드로벤조푸란-5-일)-5,7-디-t-부틸벤조푸란-2-온], 융점 202 내지 210℃(화합물(105), 표1)을 수득한다.
[실시예 4] 다중 압출된 폴리프로필렌의 안정화작용
0.025 %의 Irganox1076(n-옥타데실 3-[3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐]프로피오네이트(용융지수 3.2, 230℃/2.16 kg에서 측정)로써 예비안정화된 1.3 kg의 폴리프로필렌 분말(Profax 6501)을 0.05%의 Irganox1010(펜타에리트리톨 테트라키스 [3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트), 0.05%의 스테아르산칼슘, 0.03%의 DHT 4A(교와 케미컬 인더스트리 컴패니 리미티드제, [Mg4. 5Al2(OH)13CO3.3,5H2O]) 및 0.015%의 표 1의 화합물과 배합한다. 이 배합물을 실린더 직경이 20 mm이고 길이가 400 mm인 압출기를 사용하여 100 rpm에서 260, 270 및 280℃로 조정된 3개 가열대역에서 압출한다. 압출물을 물중탕기를 통과시킴으로써 냉각시킨 다음 과립화시킨다. 이 과립을 반복해서 압출한다. 3회 압출시킨 후, 용융지수를 측정한다(230℃/2.16 kg). 용융지수의 약간의 증가는 현저한 사슬 분해, 즉 불량한 안정화작용을 나타낸다. 그 결과를 하기 표 2에 나타낸다.
[실시예 5] 가공하는 동안 폴리에틸렌의 안정화작용
100부의 폴리에틸렌 분말(Lupolen5260 Z)을 0.05부의 펜타에리트리톨 테트라키스[3-(3,5-디-t-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트], 0.05부의 트리스(2,4-디-t-부틸페닐)포스파이트 및 0.05부의 표 1의 화합물과 배합하고 그 배합물을 220℃ 및 50rpm에서 브라벤더 플라스토그래프에서 혼합시킨다. 그동안 혼합 저항성은 연속적으로 토크로서 기록된다. 혼합하는 동안 중합체는 오랫동안 변하지 않다가 가교되기 시작한다. 이것은 토크에서 급격한 증가로 알 수 있다. 토크에서 현저한 증가가 있을 때까지 걸린 시간은 안정화작용의 측도로서 하기 표 3에 나타낸다. 이 시간이 길수록 안정화작용이 더 우수한 것이다.

Claims (4)

  1. 하기 일반식(1)의 화합물:
    상기식에서, R1은 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이고, R2, R3, R4및 R5는 서로 독립해서 수소, 클로로, C1-C18알킬, 벤질, 페닐, C5-C8시클로알킬; C1-C18알콕시, C1-C18알킬티오, C1-C18알카노일옥시, C1-C18알카노일아미노, C3-C18알케노일옥시 또는 벤조일옥시이거나, 또는 R2와 R3또는 R4와 R5는 연결 탄소원자와 합쳐져서 페닐고리를 형성하며, R3, R5, R6, R7및 R10이 수소이면, R4는 추가적으로 하기 일반식(2)의 라디칼이고,
    R6은 수소 또는 하기 일반식(3)의 라디칼이며,
    이때, R4는 일반식(2)의 라디칼이 아니고, R7및 R8은 서로 독립해서 수소 또는 C1-C4알킬이며, R9및 R'9는 수소 또는 C1-C4알킬이며, 단 R9및 R'9중의 적어도 한개는 수소이고, R10은 수소 또는 C1-C4알킬이며, R12및 R13은 서로 독립해서 메틸이거나, 또는 연결 탄소원자와 합쳐져서 비치환되거나 또는 1 내지 3개의 C1-C4알킬기에 의해 치환된 C5-C8시클로알킬리덴 고리를 형성함.
  2. a) 산화적, 열적 또는 광유도 분해되기 쉬운 합성 중합체, 및
    b) 한개 이상의 제 1항에 따른 일반식(1)의 화합물을 포함하는 조성물.
  3. 제2항에 있어서, 유기 포스파이트 또는 포스포나이트를 추가로 함유하는 조성물.
  4. 제1항에 기재된 바와 같은 한개 이상의 일반식(1)의 화합물을 합성 중합체에 혼입시킴으로써 산화적, 열적 또는 광유도 분해로부터 합성 중합체를 안정화시키는 방법.
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