KR20210137460A - 형상화 인공 중합체 물품 - Google Patents

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KR20210137460A
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tert
butyl
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KR1020217028817A
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제라드 피네건
토마스 톰슨
주안 카포테
루파 히레마쓰 다르지
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바스프 에스이
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Abstract

다공성 금속 산화물 마이크로구체가 중합체 나노입자 및 금속 산화물의 액체 분산액을 형성하는 단계; 분산액의 액체 액적을 형성하는 단계; 액적을 건조시켜 중합체 나노구체를 포함하는 중합체 주형 마이크로구체를 제공하는 단계; 및 주형 마이크로구체로부터 중합체 나노구체를 제거하여 다공성 금속 산화물 마이크로구체를 제공하는 단계를 포함하는 공정을 통해 제조되는 것인, 형상화 인공 중합체 물품을 위한 광 안정화제로서의 다공성 금속 산화물 마이크로구체의 용도.

Description

형상화 인공 중합체 물품
본 발명은 형상화 인공 중합체 물품에 대한 광 안정화제로서의 특정 다공성 금속 산화물 구체 (예를 들어, 마이크로구체)의 용도, 및 상응하는 형상화 인공 중합체 물품, 및 상응하는 압출, 캐스팅, 방사, 성형 또는 캘린더링된 중합체 조성물에 관한 것이다.
특정 다공성 금속 산화물 구체는 본 발명에 이르러 분해, 특히 UV 광에 의해 유도된 분해에 대해 중합체를 안정화시키는데 특히 효과적인 것으로 밝혀졌다. 또한, 이들은 다른 UV 흡수제와 조합하여 이러한 안정화와 관련된 상승작용적 효과를 나타내는 것으로 밝혀졌다.
본 발명은 특히 형상화 인공 중합체 물품에 대한 광 안정화제로서의 다공성 금속 산화물 구체의 용도에 관한 것이며, 여기서
중합체는 합성 중합체 및/또는 천연 또는 합성 엘라스토머이고,
다공성 금속 산화물 구체는 금속 산화물을 포함하고, 예를 들어
중합체 입자 (예를 들어, 나노입자) 및 금속 산화물의 액체 분산액을 형성하는 단계;
분산액의 액체 액적을 형성하는 단계;
액체 액적을 건조시켜 중합체 구체 (예를 들어, 나노구체) 및 금속 산화물을 포함하는 중합체 주형구체 (예를 들어, 마이크로구체)를 제공하는 단계; 및
중합체 구체를 주형 마이크로구체로부터 제거하여 다공성 금속 산화물 구체를 제공하는 단계
를 포함하는 방법에 의해 제조되고,
여기서, 구체는 예를 들어
0.5 μm 내지 100 μm의 평균 직경,
0.10 내지 0.80의 평균 다공도, 및
50 nm 내지 999 nm의 평균 세공 직경
을 갖는다.
본원에 기재된 개시내용은 첨부 도면에서 비제한적으로 예로서 예시된다. 예시의 단순함 및 명료함을 위해, 도면에 예시된 특징부들은 반드시 제 척도로 도시되는 것은 아니다. 예를 들어, 일부 특징부들의 치수는 명료함을 위해 다른 특징부들에 비해 과장될 수 있다. 또한, 적절한 것으로 생각되는 경우, 대응하는 또는 유사한 요소들을 나타내기 위해 참조 부호들이 도면들 간에 반복되어 있다.
도 1은 본 발명의 실시양태에 따른 다공성 마이크로구체의 제조를 위한 일반적인 개요를 나타낸다.
도 2는 본 발명의 실시양태에 따른 중합체 주형 마이크로구체의 주사 전자 현미경 (SEM) 영상이다.
도 3은 본 발명의 실시양태에 따른 다공성 실리카 마이크로구체의 SEM 영상이다.
도 4는 본 발명의 일부 실시양태에 따른 분무-건조 공정의 대표도이다.
도 5 내지 12는 명시된 적용 실시예에 대한 UV 측정의 결과로서의 투과 곡선을 나타낸다.
본 다공성 금속 산화물 구체 또는 광자 볼은 중합체 희생 주형을 사용하여 제조될 수 있다. 한 실시양태에서, 중합체 입자 및 금속 산화물을 함유하는 수성 콜로이드 분산액을 제조하고, 중합체 입자는 전형적으로 나노-규모이다. 수성 콜로이드 분산액은 예를 들어 마이크로유체 장치 내에서 연속 오일 상과 혼합되어 유중수 에멀젼을 생성할 수 있다. 에멀젼 수성 액적을 제조하고, 수집하고, 건조시켜 중합체 입자 및 금속 산화물을 함유하는 구체 (전형적으로 마이크로규모)를 형성한다. 이어서, 중합체 입자 (구체)를 예를 들어 소성을 통해 제거하여, 높은 정도의 다공도, 및 전형적으로 나노규모인 세공을 함유하는 구형 금속 산화물 입자 (구체)를 제공한다. 구형이며 단분산인 중합체 입자로 인해 구체는 균일한 세공 직경을 함유할 수 있다.
도 1은 본 발명의 다공성 마이크로구체의 제조를 위한 일반적인 개요를 나타낸다. 중합체 나노구체 및 금속 산화물을 함유하는 에멀젼 액적을 건조시켜 용매를 제거하여, 중합체 나노구체 사이의 틈새 공간에 금속 산화물을 갖는 중합체 나노구체를 함유하는 조립된 마이크로구체 (주형 마이크로구체 또는 "직접 구조")를 제공한다. 중합체 나노구체는 틈새 공간을 규정한다. 소성은 중합체를 제거하여, 높은 다공도 또는 공극 부피 (역구조)를 갖는 본 발명의 금속 산화물 마이크로구체를 제공한다.
다공성 금속 산화물 구체는 유리하게는 소결되어, 열적으로 및 기계적으로 안정한 연속 고체 구조를 생성한다.
일부 실시양태에서, 액적 형성 및 수집은 마이크로유체 장치 내에서 일어난다. 마이크로유체 장치는, 예를 들어 수집 저장소에 연결된, 균일한 크기의 액적을 생성하기 위해 적합화된 마이크로미터 규모의 액적 접합부를 갖는 좁은 채널 장치이다. 마이크로유체 장치는 예를 들어 약 10 μm 내지 약 100 μm의 채널 폭을 갖는 액적 접합부를 함유한다. 장치는 예를 들어 폴리디메틸실록산 (PDMS)으로 만들어지고, 예를 들어 소프트 리소그래피를 통해 제조될 수 있다. 에멀젼은, 수성 분산 상 및 오일 연속 상을 명시된 속도로 장치로 펌핑하고, 여기서 혼합이 발생하여 에멀젼 액적을 제공하는 것을 통해 장치 내에서 제조될 수 있다. 대안적으로, 수중유 에멀젼이 사용될 수 있다.
일부 실시양태에서, 진동 노즐 기술이 사용될 수 있다. 이들 기술에서, 액체 분산액을 제조하고, 액적을 형성하고, 이를 연속 상의 조(bath)로 적하한다. 이어서, 액적을 건조시킨 후, 중합체를 제거한다. 진동 노즐 장비는 뷔히(Buechi)로부터 입수가능하고, 예를 들어 시린지 펌프 및 맥동 유닛을 포함한다. 진동 노즐 장비는 또한 압력 조절 밸브를 포함할 수 있다.
중합체 입자는 예를 들어 약 50 nm 내지 약 999 nm의 평균 직경을 갖고, 단분산이다.
구체에 적합한 주형 중합체는 열가소성 중합체를 포함한다. 예를 들어, 주형 중합체는 폴리(메트)아크릴산, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리아크릴아미드, 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 아세테이트, 폴리에스테르, 폴리우레탄, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리락트산, 폴리아크릴로니트릴, 폴리비닐 에테르, 그의 유도체, 그의 염, 그의 공중합체 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다. 예를 들어, 중합체는 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리에틸 메타크릴레이트, 폴리(n-부틸 메타크릴레이트), 폴리스티렌, 폴리(클로로-스티렌), 폴리(알파-메틸스티렌), 폴리(N-메틸올아크릴아미드), 스티렌/메틸 메타크릴레이트 공중합체, 폴리알킬화 아크릴레이트, 폴리히드록실 아크릴레이트, 폴리아미노 아크릴레이트, 폴리시아노아크릴레이트, 폴리플루오린화 아크릴레이트, 폴리(N-메틸올아크릴아미드), 폴리아크릴산, 폴리메타크릴산, 메틸 메타크릴레이트/에틸 아크릴레이트/아크릴산 공중합체, 스티렌/메틸 메타크릴레이트/아크릴산 공중합체, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐피롤리돈, 폴리비닐카프로락톤, 폴리비닐카프로락탐, 그의 유도체, 그의 염 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된다.
특정 실시양태에서, 중합체 주형은 폴리스티렌 및 폴리스티렌 공중합체를 비롯한 폴리스티렌들을 포함한다. 폴리스티렌 공중합체는 수용성 단량체와의 공중합체, 예를 들어 폴리스티렌/아크릴산, 폴리스티렌/폴리(에틸렌 글리콜)메타크릴레이트 및 폴리스티렌/스티렌 술포네이트를 포함한다.
본 금속 산화물은 전이 금속, 준금속 및 희토류의 산화물, 예를 들어 실리카, 티타니아, 알루미나, 지르코니아, 세리아, 산화철, 산화아연, 산화인듐, 산화주석, 산화크로뮴, 혼합 금속 산화물, 그의 조합 등을 포함한다. 실리카, 티타니아, 알루미나 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 금속 산화물이 바람직하다.
중합체 입자 대 금속 산화물의 wt/wt (중량/중량) 비는 예를 들어 0.1/1 내지 10.0/1 또는 0.5/1 내지 10.0/1이다.
연속 오일 상은 예를 들어 유기 용매, 실리콘 오일 또는 플루오린화 오일을 포함한다. 본 발명에 따라, "오일"은 물과 불혼화성인 유기 상을 의미한다. 유기 용매는 탄화수소, 예를 들어 헵탄, 헥산, 톨루엔, 크실렌 등, 뿐만 아니라 알칸올, 예컨대 메탄올, 에탄올, 프로판올 등을 포함한다.
에멀젼 액적을 수집하고, 건조시키고, 중합체를 제거한다. 건조는 예를 들어 마이크로웨이브 조사를 통해, 열 오븐에서, 진공 하에, 건조제의 존재 하에 또는 그의 조합으로 수행된다.
중합체 제거는 예를 들어 소성, 열분해를 통해 또는 용매를 사용 (용매 제거)하여 수행될 수 있다. 소성은 일부 실시양태에서 적어도 약 200℃, 적어도 약 500℃, 적어도 약 1000℃, 약 200℃ 내지 약 1200℃, 또는 약 200℃ 내지 약 700℃의 온도에서 수행된다. 소성은 적합한 기간, 예를 들어 약 0.1시간 내지 약 12시간 또는 약 1시간 내지 약 8.0시간 동안 이루어질 수 있다. 다른 실시양태에서, 소성은 적어도 약 0.1시간, 적어도 약 1시간, 적어도 약 5시간 또는 적어도 약 10시간 이상 동안 이루어질 수 있다.
대안적으로, 중합체 나노입자 및 금속 산화물을 포함하는 액체 분산액이 오일 분산 상 및 연속 수 상을 사용하여 형성되어, 수중유 에멀젼을 형성한다. 오일 액적은 수성 액적과 같이 수집 및 건조될 수 있다.
대안적으로, 중합체 입자 (예를 들어, 나노입자) 및 금속 산화물의 액체 분산액을 제조하고, 액체-중-액체 에멀젼의 형성 없이 분무-건조시켜 중합체 주형 구체 (예를 들어, 마이크로구체)를 형성한다. 분무-건조 기술의 특정 실시양태에서, 액체 용액 또는 분산액은 압축 기체 유입구와 연결된 분무화 노즐로 공급 (예를 들어 펌핑)된다. 공급물은 분무화 노즐을 통해 펌핑되어 액체 액적을 형성한다. 액적은 증발 챔버에서 예열된 기체로 둘러싸이고, 이는 용매를 증발시켜 고체 입자를 생성한다. 건조된 입자는 사이클론을 통해 건조 기체에 의해 운반되고, 수집 챔버에 침착된다. 기체는 질소 및/또는 공기를 포함한다. 본 발명의 분무-건조 공정의 실시양태에서, 액체 공급물은 물 또는 오일 상, 중합체 입자 및 금속 산화물을 함유한다. 본 발명의 분무-건조 공정의 실시양태에서, 액체 공급물은 물 또는 오일 상, 중합체 입자 및 임의로 금속 산화물을 함유한다. 중합체 구체 사이의 틈새 공간에 금속 산화물을 갖는 중합체 구체를 함유하는 중합체 주형 구체가 제공된다. 중합체 구체는 틈새 공간을 규정한다. 분무-건조 기술은 잉크젯 분무-건조 방법 및 장비를 포함한다.
본 발명의 분무-건조 기술에서, 분산 액체 상을 갖는 연속 상 (기체-중-액체 에멀젼)으로 공기가 고려될 수 있다. 특정 실시양태에서, 분무-건조는 약 100℃, 약 105℃, 약 110℃, 약 115℃, 약 120℃, 약 130℃, 약 140℃, 약 150℃, 약 160℃ 또는 약 170℃ 중 임의의 내지 약 180℃, 약 190℃, 약 200℃, 약 210℃, 약 215℃ 또는 약 220℃ 중 임의의 유입구 온도를 포함한다. 일부 실시양태에서, 약 1 mL/분, 약 2 mL/분, 약 5 mL/분, 약 6 mL/분, 약 8 mL/분, 약 10 mL/분, 약 12 mL/분, 약 14 mL/분 또는 약 16 mL/분 중 임의의 값 내지 약 18 mL/분, 약 20 mL/분, 약 22 mL/분, 약 24 mL/분, 약 26 mL/분, 약 28 mL/분 또는 약 30 mL/분 중 임의의 것의 펌프 속도 (공급 유량)가 사용된다. 분무-건조 기술은 예를 들어 US2016/0170091에 개시되어 있다.
도 4는 본 발명의 일부 실시양태에 따른 분무-건조 공정의 대표도이다.
구체는 구형 또는 구형과 유사하고, 특정 실시양태에서, 예를 들어 약 0.5 마이크로미터 (μm) 내지 약 100 μm의 평균 직경을 갖는 마이크로미터-규모이다. 주형으로서 사용되는 중합체 입자 또한 구형이고, 특정 실시양태에서, 예를 들어 약 50 nm 내지 약 999 nm의 평균 직경을 갖는 나노-규모이며 단분산이다. 사용되는 금속 산화물 또한 입자 형태일 수 있고, 입자는 나노-규모일 수 있다.
분산액 중 금속 산화물은 금속 산화물로서 제공될 수 있거나, 또는 금속 산화물 전구체로부터, 예를 들어 졸-겔 기술을 통해 제공될 수 있다.
중합체/금속 산화물 액적의 건조 후 중합체의 제거는 균일한 공극 (세공)을 갖는 구체를 제공한다. 일반적으로, 본 공정에서, 각각의 액적은 단일 구체를 제공한다. 세공 직경은 중합체 입자의 크기에 좌우된다. 중합체 제거시 일부 "수축" 또는 압축이 발생하여, 원래 중합체 입자 크기보다 다소 작은, 예를 들어 중합체 입자 크기보다 약 10% 내지 약 40% 작은 세공 크기를 제공할 수 있다. 세공 직경은 중합체 입자 형상 및 크기와 같이 균일하다.
세공 직경은 일부 실시양태에서 약 50 nm 내지 약 999 nm의 범위일 수 있다.
본 금속 산화물 구체의 평균 다공도는 비교적 높을 수 있다. 구체의 평균 다공도는 전체 구체의 부피의 분율로서의 총 세공 부피를 의미한다. 평균 다공도는 "부피 분율"로 지칭될 수 있다.
일부 실시양태에서, 다공성 구체는 고체 코어 (중심)를 가질 수 있으며, 여기서 다공성은 일반적으로 구체의 외부 표면을 향한다. 다른 실시양태에서, 다공성 구체는 다공도의 대부분이 구체의 내부를 향하는 중공 코어를 가질 수 있다. 다른 실시양태에서, 다공성은 구체의 부피 전반에 걸쳐 분포될 수 있다. 다른 실시양태에서, 다공성은 구의 외부 표면을 향한 다공성이 더 높고 중심을 향한 다공성이 더 낮거나 없는 구배 (중실형); 또는 외부 표면을 향한 다공성이 더 낮고 중심을 향한 다공성이 더 높거나 완전한 구배 (중공형)로서 존재할 수 있다.
임의의 다공성 구체에 대해, 평균 구체 직경은 바람직하게는 평균 세공 직경보다 크고, 예를 들어 평균 구체 직경은 평균 세공 직경보다 적어도 약 25배, 적어도 약 30배, 적어도 약 35배 또는 적어도 약 40배 더 크다.
일부 실시양태에서, 평균 구 직경 대 평균 세공 직경의 비는 예를 들어 약 40/1, 약 50/1, 약 60/1, 약 70/1, 약 80/1, 약 90/1, 약 100/1, 약 110/1, 약 120/1, 약 130/1, 약 140/1, 약 150/1, 약 160/1, 약 170/1, 약 180/1 또는 약 190/1 중 임의의 것 내지 약 200/1, 약 210/1, 약 220/1, 약 230/1, 약 240/1, 약 250/1, 약 260/1, 약 270/1, 약 280/1, 약 290/1, 약 300/1, 약 310/1, 약 320/1, 약 330/1, 약 340/1 또는 약 350/1 중 임의의 것이다.
단분산 중합체 구체를 포함하는 중합체 주형 구체는, 중합체가 제거될 때, 일반적으로 유사한 세공 직경을 갖는 세공을 갖는 금속 산화물 구체를 제공할 수 있다.
구체 (예를 들어, 마이크로구체)의 평균 직경은 0.5 μm 내지 100 μm 또는 1 μm 내지 75 μm 또는 4.5 μm 내지 9.9 μm일 수 있다.
구체 (예를 들어, 마이크로구체)의 평균 다공도는 0.10 내지 0.90 또는 0.10 내지 0.80 또는 0.45 내지 0.65일 수 있다.
구체 (예를 들어, 마이크로구체)의 평균 세공 직경은 50 nm 내지 999 nm, 50 nm 내지 800 nm 및 220 nm 내지 300 nm일 수 있다.
특정 실시양태는 0.5 μm 내지 100 μm의 평균 직경, 0.10 내지 0.90 또는 0.10 내지 0.80의 평균 다공도 및 50 nm 내지 999 nm의 평균 세공 직경을 갖는 다공성 마이크로구체에 관한 것이다.
다른 실시양태는 1 μm 내지 75 μm의 평균 직경, 0.45 내지 0.65의 평균 다공도 및 50 nm 내지 800 nm의 평균 세공 직경을 갖는 다공성 금속 산화물 마이크로구체에 관한 것이다.
추가의 실시양태는 4.5 μm 내지 9.9 μm의 평균 직경; 0.45 내지 0.65의 평균 다공도; 및 220 nm 내지 300 nm의 평균 세공 직경을 갖는 다공성 금속 산화물 마이크로구체에 관한 것이다.
이론에 얽매이는 것을 원하지는 않지만, 구체의 벌크 샘플은 다공도 및/또는 구 직경 및/또는 세공 직경이 특정 범위 내에 있는 경우에 흡수를 나타내는 것으로 여겨진다.
다공성 구체는 주로 금속 산화물을 포함하며, 즉, 금속 산화물로 본질적으로 이루어지거나 또는 그로 이루어질 수 있다. 마이크로구체 중 금속 산화물의 양은 마이크로구체의 중량을 기준으로, 예를 들어 50 내지 99.9 중량%일 수 있다. 특정 실시양태는 60 중량% 또는 70 중량% 또는 90 중량% 또는 95 중량%의 하한을 갖는다.
유리하게는, 다공성 구체 (예를 들어, 마이크로구체)는 또한 단분산일 수 있다.
본 발명에 따라, 입자 크기는 입자 직경과 동의어이고, 예를 들어 주사 전자 현미경검사 (SEM) 또는 투과 전자 현미경검사 (TEM)에 의해 결정된다. 평균 입자 크기는 D50과 동의어이며, 집단의 절반이 이 값 위에 있고 절반이 아래에 있음을 의미한다. 입자 크기는 1차 입자를 지칭한다. 입자 크기는 분산액 또는 건조 분말을 사용하여 레이저 광 산란 기술에 의해 측정될 수 있다.
수은 세공측정법 분석을 이용하여 마이크로구체의 다공도를 특징화하였다. 수은 세공측정법은 수은 중에 침지된 샘플에 제어된 압력을 가한다. 수은이 물질의 공극/세공 내로 침투하도록 외부 압력을 가한다. 공극/세공으로 침입하는데 필요한 압력의 양은 공극/세공의 크기에 반비례한다. 수은 세공측정기는 워시번(Washburn) 방정식을 이용하는 기기에 의해 생성된 압력 대 관입 데이터로부터 부피 및 세공 크기 분포를 생성한다. 예를 들어, 165 nm의 평균 크기를 갖는 공극/세공을 함유하는 다공성 실리카 마이크로구체는 0.8의 평균 다공도를 갖는다.
용어 "벌크 샘플"은 구체의 집단을 의미한다. 예를 들어, 마이크로구체의 벌크 샘플은 단순히 마이크로구체의 벌크 집단, 예를 들어 ≥ 0.1 mg, ≥ 0.2 mg, ≥ 0.3 mg, ≥ 0.4 mg, ≥ 0.5 mg, ≥ 0.7 mg, ≥ 1.0 mg, ≥ 2.5 mg, ≥ 5.0 mg, ≥ 10.0 mg 또는 ≥ 25.0 mg이다. 구체의 벌크 샘플에는 다른 성분이 실질적으로 없을 수 있다. 용어 "다공성 구체" 또는 "다공성 마이크로구체"는 벌크 샘플을 의미할 수 있다.
용어 "의"는 "포함하는"을 의미할 수 있고, 예를 들어 "의 액체 분산액"은 "을/를 포함하는 액체 분산액"으로 해석될 수 있다.
본원에 언급된 용어 "마이크로구체", "나노구체", "액적" 등은 예를 들어 그의 복수개, 그의 집합물, 그의 집단, 그의 샘플 또는 그의 벌크 샘플을 의미할 수 있다.
용어 "마이크로" 또는 "마이크로-규모"는 약 0.5 μm 내지 약 999 μm를 의미한다. 용어 "나노" 또는 "나노-규모"은 약 1 nm 내지 약 999 nm를 의미한다.
용어 "구체" 및 "입자"는 상호교환가능할 수 있다.
구체의 집단 또는 구체와 관련하여 용어 "단분산"은 일반적으로 균일한 형상 및 일반적으로 균일한 직경을 갖는 입자를 의미한다. 본 발명의 마이크로구체 또는 나노구체의 단분산 집단은 예를 들어 집단의 평균 직경의 ±7%, ±6%, ±5%, ±4%, ±3%, ±2% 또는 ±1% 내의 직경을 갖는 입자를 개수 기준으로 90%, 91%, 92%, 93%, 94%, 95%, 96%, 97%, 98% 또는 99% 가질 수 있다.
중합체 구체의 단분산 집단의 제거는 평균 세공 직경을 갖는 상응하는 세공 집단을 갖는 다공성 금속 산화물 구체를 제공한다.
용어 "다른 성분이 실질적으로 없는"은 예를 들어 ≤ 5 중량%, ≤ 4 중량%, ≤ 3 중량%, ≤ 2 중량%, ≤ 1 중량% 또는 ≤ 0.5 중량%의 다른 성분을 함유하는 것을 의미한다.
본원에서 단수 형태 (관사 "a" 및 "an")는 하나 또는 하나 초과 (예를 들어 적어도 하나)의 문법적 대상을 지칭한다. 본원에 인용된 임의의 범위는 포함의 의미이다. 전반에 걸쳐 사용된 용어 "약"은 작은 변동을 기재하고 고려하기 위해 사용된다. 예를 들어, "약"은, 수치가 ±5%, ±4%, ±3%, ±2%, ±1%, ±0.5%, ±0.4%, ±0.3%, ±0.2%, ±0.1% 또는 ±0.05%만큼 조정될 수 있음을 의미할 수 있다. 용어 "약"에 의해 수식된 수치는 구체적으로 지시된 값을 포함한다. 예를 들어, "약 5.0"은 5.0을 포함한다.
달리 나타내지 않는 한, 모든 부 및 백분율은 중량 기준이다. 달리 나타내지 않는 한, 중량 퍼센트 (wt%)는 전체 조성물을 기준으로 한다.
다공성 금속 산화물 구체의 제조 방법에 관한 본 발명의 실시양태의 비제한적인 세트는 다음을 포함한다:
실시양태 1에서, 중합체 나노입자 및 금속 산화물의 액체 분산액을 형성하는 단계; 분산액의 액체 액적을 형성하는 단계; 액체 액적을 건조시켜 중합체 나노구체 및 금속 산화물을 포함하는 중합체 주형 마이크로구체를 제공하는 단계; 및 주형 마이크로구체로부터 중합체 나노구체를 제거하여 다공성 금속 산화물 마이크로구체를 제공하는 단계를 포함하는, 금속 산화물을 포함하는 다공성 금속 산화물 마이크로구체를 제조하는 방법이 개시된다.
실시양태 2에서, 실시양태 1에 있어서, 중합체 나노입자 및 금속 산화물의 액체 분산액을 형성하고, 액체 분산액을 분무-건조시켜 중합체 주형 마이크로구체를 제공하며, 주형 마이크로구체로부터 중합체 나노구체를 제거하는 것을 포함하는 방법.
실시양태 3에서, 실시양태 1에 있어서, 진동 노즐로 액체 액적을 형성하는 것을 포함하는 방법. 실시양태 4에서, 실시양태 1 내지 3에 있어서, 액체 액적이 수성 액적인 방법. 실시양태 5에서, 실시양태 1 내지 3에 있어서, 액체 액적이 오일 액적인 방법.
실시양태 6에서, 실시양태 1에 있어서, 연속 상을 제공하고, 액체 분산액을 연속 상과 혼합하여 분산된 액체 분산액 액적을 함유하는 에멀젼을 형성하는 것을 포함하는 방법. 실시양태 7에서, 실시양태 6에 있어서, 연속 오일 상을 제공하고, 수성 분산액을 연속 오일 상과 혼합하여 수성 액적을 함유하는 유중수 에멀젼을 형성하는 것을 포함하는 방법. 실시양태 8에서, 실시양태 6에 있어서, 연속 수성 상을 제공하고, 오일 분산액을 연속 상과 혼합하여 오일 액적을 함유하는 수중유 에멀젼을 형성하는 것을 포함하는 방법.
실시양태 9에서, 실시양태 6 내지 8에 있어서, 액적을 수집하는 것을 포함하는 방법. 실시양태 10에서, 실시양태 9에 있어서, 액적을 건조시켜 중합체 나노구체 및 금속 산화물을 포함하는 중합체 주형 마이크로구체를 제공하고, 주형 마이크로구체로부터 중합체 나노구체를 제거하는 것을 포함하는 방법.
실시양태 11에서, 실시양태 6 내지 10에 있어서, 액적을 건조시키는 것이 마이크로웨이브 조사, 오븐 건조, 진공 하 건조, 건조제의 존재 하 건조 또는 그의 조합을 포함하는 것인 방법.
실시양태 12에서, 실시양태 7 내지 11에 있어서, 오일 상 또는 분산액이 탄화수소, 실리콘 오일 또는 플루오린화 오일을 포함하는 것인 방법. 실시양태 13에서, 실시양태 6 내지 12에 있어서, 액적을 형성하는 것이 마이크로유체 장치에서 일어나는 것인 방법. 실시양태 14에서, 실시양태 6 내지 13에 있어서, 액적을 형성하는 것이 약 10 μm, 약 15 μm, 약 20 μm, 약 25 μm, 약 30 μm, 약 35 μm, 약 40 μm 또는 약 45 μm 중 임의의 것 내지 약 50 μm, 약 55 μm, 약 60 μm, 약 65 μm, 약 70 μm, 약 75 μm, 약 80 μm, 약 85 μm, 약 90 μm, 약 95 μm 또는 약 100 μm 중 임의의 것의 채널 폭을 갖는 액적 접합부를 함유하는 마이크로유체 장치에서 일어나는 것인 방법. 10 μm 내지 100 μm의 채널 폭이 바람직하다. 실시양태 15에서, 실시양태 13 또는 14에 있어서, 마이크로유체 장치로부터 액적을 수집하는 것을 포함하는 방법.
실시양태 16에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 중합체 나노입자 대 금속 산화물의 wt/wt 비가 약 0.1/1, 약 0.5/1, 약 1.0/1, 약 1.5/1, 약 2.0/1, 약 2.5/1 또는 약 3.0/1 중 임의의 것 내지 약 3.5/1, 약 4.0/1, 약 5.0/1, 약 5.5/1, 약 6.0/1, 약 6.5/1, 약 7.0/1, 약 8.0/1, 약 9.0/1 또는 약 10.0/1 중 임의의 것인 방법. 0.1/1 내지 10/1의 비가 바람직하다.
실시양태 17에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 중합체 나노입자가 약 50 nm, 약 75 nm, 약 100 nm, 약 130 nm, 약 160 nm, 약 190 nm, 약 210 nm, 약 240 nm, 약 270 nm, 약 300 nm, 약 330 nm, 약 360 nm, 약 390 nm, 약 410 nm, 약 440 nm, 약 470 nm, 약 500 nm, 약 530 nm, 약 560 nm, 약 590 nm 또는 약 620 nm 중 임의의 것 내지 약 650 nm, 약 680 nm, 약 710 nm, 약 740 nm, 약 770 nm, 약 800 nm, 약 830 nm, 약 860 nm, 약 890 nm, 약 910 nm, 약 940 nm, 약 970 nm 또는 약 990 nm 중 임의의 것의 평균 직경을 갖는 것인 방법.
실시양태 18에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 중합체가 폴리(메트)아크릴산, 폴리(메트)아크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리아크릴아미드, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리락트산, 폴리아크릴로니트릴, 그의 유도체, 그의 염, 그의 공중합체 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 방법.
실시양태 19에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 중합체가 폴리스티렌, 예를 들어 폴리스티렌 공중합체, 예컨대 폴리스티렌/아크릴산, 폴리스티렌/폴리(에틸렌 글리콜)메타크릴레이트 또는 폴리스티렌/스티렌 술포네이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 방법. 실시양태 20에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 금속 산화물이 실리카, 티타니아, 알루미나, 지르코니아, 세리아, 산화철, 산화아연, 산화인듐, 산화주석 또는 산화크로뮴 중 하나 이상인 방법.
실시양태 21에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 약 0.5 μm 내지 약 100 μm의 평균 직경, 약 0.10 내지 약 0.90 또는 약 0.10 내지 약 0.80의 평균 다공도, 및 약 50 nm 내지 약 999 nm의 평균 세공 직경을 갖는 것인 방법.
실시양태 22에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 약 1 μm 내지 약 75 μm, 약 2 μm 내지 약 70 μm, 약 3 μm 내지 약 65 μm, 약 4 μm 내지 약 60 μm, 약 5 μm 내지 약 55 μm 또는 약 5 μm 내지 약 50 μm; 예를 들어 약 5 μm, 약 6 μm, 약 7 μm, 약 8 μm, 약 9 μm, 약 10 μm, 약 11 μm, 약 12 μm, 약 13 μm, 약 14 μm 또는 약 15 μm 중 어느 하나 내지 약 16 μm, 약 17 μm, 약 18 μm, 약 19 μm, 약 20 μm, 약 21 μm, 약 22 μm, 약 23 μm, 약 24 μm 또는 약 25 μm 중 임의의 것의 평균 직경을 갖는 것인 방법.
실시양태 23에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 약 0.10, 약 0.12, 약 0.14, 약 0.16, 약 0.18, 약 0.20, 약 0.22, 약 0.24, 약 0.26, 약 0.28, 약 0.30, 약 0.32, 약 0.34, 약 0.36, 약 0.38, 약 0.40, 약 0.42, 약 0.44, 약 0.46, 약 0.48 약 0.50, 약 0.52, 약 0.54, 약 0.56, 약 0.58 또는 약 0.60 중 어느 하나 내지 약 0.62, 약 0.64, 약 0.66, 약 0.68, 약 0.70, 약 0.72, 약 0.74, 약 0.76, 약 0.78, 약 0.80 또는 약 0.90 중 임의의 것의 평균 다공도를 갖는 것인 방법.
실시양태 24에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 약 50 nm, 약 60 nm, 약 70 nm, 80 nm, 약 100 nm, 약 120 nm, 약 140 nm, 약 160 nm, 약 180 nm, 약 200 nm, 약 220 nm, 약 240 nm, 약 260 nm, 약 280 nm, 약 300 nm, 약 320 nm, 약 340 nm, 약 360 nm, 약 380 nm, 약 400 nm, 약 420 nm 또는 약 440 nm 내지 약 460 nm, 약 480 nm, 약 500 nm, 약 520 nm, 약 540 nm, 약 560 nm, 약 580 nm, 약 600 nm, 약 620 nm, 약 640 nm, 약 660 nm, 약 680 nm, 약 700 nm, 약 720 nm, 약 740 nm, 약 760 nm, 약 780 nm 또는 약 800 nm 중 임의의 것의 평균 세공 직경을 갖는 것인 방법.
실시양태 25에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 약 4.5 μm, 약 4.8 μm, 약 5.1 μm, 약 5.4 μm, 약 5.7 μm, 약 6.0 μm, 약 6.3 μm, 약 6.6 μm, 약 6.9 μm, 약 7.2 μm 또는 약 7.5 μm 중 임의의 값 내지 약 7.8 μm, 약 8.1 μm, 약 8.4 μm, 약 8.7 μm, 약 9.0 μm, 약 9.3 μm, 약 9.6 μm 또는 약 9.9 μm 중 임의의 것의 평균 직경을 갖는 것인 방법.
실시양태 26에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 약 0.45, 약 0.47, 약 0.49, 약 0.51, 약 0.53, 약 0.55 또는 약 0.57 중 어느 하나 내지 약 0.59, 약 0.61, 약 0.63 또는 약 0.65 중 임의의 것의 평균 다공도를 갖는 것인 방법.
실시양태 27에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 약 220 nm, 약 225 nm, 약 230 nm, 약 235 nm, 약 240 nm, 약 245 nm 또는 약 250 nm 중 임의의 것 내지 약 255 nm, 약 260 nm, 약 265 nm, 약 270 nm, 약 275 nm, 약 280 nm, 약 285 nm, 약 290 nm, 약 295 nm 또는 약 300 nm 중 임의의 것의 평균 세공 직경을 갖는 것인 방법.
실시양태 28에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 약 4.5 μm, 약 4.8 μm, 약 5.1 μm, 약 5.4 μm, 약 5.7 μm, 약 6.0 μm, 약 6.3 μm, 약 6.6 μm, 약 6.9 μm, 약 7.2 μm 또는 약 7.5 μm 중 임의의 것 내지 약 7.8 μm, 약 8.1 μm, 약 8.4 μm, 약 8.7 μm, 약 9.0 μm, 약 9.3 μm, 약 9.6 μm 또는 약 9.9 μm 중 임의의 것의 평균 직경; 약 0.45, 약 0.47, 약 0.49, 약 0.51, 약 0.53, 약 0.55 또는 약 0.57 중 임의의 것 내지 약 0.59, 약 0.61, 약 0.63 또는 약 0.65 중 임의의 것의 평균 다공도; 및 약 220 nm, 약 225 nm, 약 230 nm, 약 235 nm, 약 240 nm, 약 245 nm 또는 약 250 nm 중 임의의 것 내지 약 255 nm, 약 260 nm, 약 265 nm, 약 270 nm, 약 275 nm, 약 280 nm, 약 285 nm, 약 290 nm, 약 295 nm 또는 약 300 nm 중 임의의 것의 평균 세공 직경을 갖는 것인 방법.
실시양태 29에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 마이크로구체의 총 중량을 기준으로 약 60.0 wt% 내지 약 99.9 wt%의 금속 산화물을 포함하고, 예를 들어 약 60.0 wt%, 약 64.0 wt%, 약 67.0 wt%, 약 70.0 wt%, 약 73.0 wt%, 약 76.0 wt%, 약 79.0 wt%, 약 82.0 wt% 또는 약 85.0 wt% 중 어느 하나 내지 약 88.0 wt%, 약 91.0 wt%, 약 94.0 wt%, 약 97.0 wt%, 약 98.0 wt%, 약 99.0 wt% 또는 약 99.9 wt% 중 임의의 것의 금속 산화물을 포함하는 것인 방법.
실시양태 30에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 마이크로구체의 총 중량을 기준으로 약 0.1 wt% 내지 약 40.0 wt%의 1종 이상의 광 흡수제, 예를 들어 약 0.1 wt%, 약 0.3 wt%, 약 0.5 wt%, 약 0.7 wt%, 약 0.9 wt%, 약 1.0 wt%, 약 1.5 wt%, 약 2.0 wt%, 약 2.5 wt%, 약 5.0 wt%, 약 7.5 wt%, 약 10.0 wt%, 약 13.0 wt%, 약 17.0 wt%, 약 20.0 wt% 또는 약 22.0 wt% 중 임의의 것 내지 약 24.0 wt%, 약 27.0 wt%, 약 29.0 wt%, 약 31.0 wt%, 약 33.0 wt%, 약 35.0 wt%, 약 37.0 wt%, 약 39.0 wt% 또는 약 40.0 wt% 중 임의의 것의 1종 이상의 광 흡수제를 포함하는 것인 방법.
실시양태 31에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 마이크로구체가 단분산인 방법. 실시양태 32에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 다공성 금속 산화물 마이크로구체가 마이크로구체의 벌크 샘플인 방법.
실시양태 33에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 주형 마이크로구체로부터 중합체 나노구체를 제거하는 것이 소성, 열분해 또는 용매 제거를 포함하는 것인 방법.
실시양태 34에서, 상기 실시양태 중 임의의 것에 있어서, 중합체 나노구체를 제거하는 것이 주형 마이크로구체를 약 200℃, 약 350℃, 약 400℃, 450℃, 약 500℃ 또는 약 550℃ 내지 약 600℃, 약 650℃, 약 700℃ 또는 약 1200℃ 중 임의의 것의 온도에서 약 0.1 h (시간), 1 h, 약 1.5 h, 약 2.0 h, 약 2.5 h, 약 3.0 h, 약 3.5 h 또는 약 4.0 h 중 임의의 것 내지 약 4.5 h, 약 5.0 h, 약 5.5 h, 약 6.0 h, 약 6.5 h, 약 7.0 h, 약 7.5 h, 약 8.0 h 또는 약 12 h 중 임의의 것의 기간 동안 소성시키는 것을 포함하는 것인 방법. 대안적으로, 소성은 적어도 약 200℃, 적어도 약 500℃ 또는 적어도 약 1000℃의 온도에서 적합한 기간 동안, 예를 들어 적어도 약 0.1시간, 적어도 약 1시간, 적어도 약 5시간 또는 적어도 약 10시간 동안 수행될 수 있다.
다공성 금속 산화물 구체는 바람직하게는 형상화 인공 중합체 물품의 중량을 기준으로 0.01 wt% 내지 40.0 wt% 또는 0.01 wt% 내지 20.0 wt%의 농도로 사용된다. 다른 범위는 0.1 wt% 내지 20.0 wt% 또는 0.1 wt% 내지 10.0 wt%의 농도, 또는 0.25 wt% 내지 10.0 wt% 또는 0.5 wt% 내지 10.0 wt%의 농도를 포함한다.
다공성 금속 산화물 마이크로구체는 2-히드록시페닐트리아진, 벤조트리아졸, 2-히드록시벤조페논, 옥살아닐리드, 신나메이트 및 벤조에이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 UV 흡수제와 조합하여 사용될 수 있다.
1종 이상의 UV 흡수제는 바람직하게는 형상화 인공 중합체 물품의 중량을 기준으로 0.01 wt% 내지 40.0 wt%, 특히 0.01 wt% 내지 20.0 wt%의 농도로 사용된다. 0.1 wt% 내지 20.0 wt%, 특히 0.1 wt% 내지 10.0 wt%의 농도가 보다 바람직하다.
다공성 금속 산화물 마이크로구체와의 조합을 위한 벤조트리아졸은 바람직하게는 하기 화학식 Ia의 것이다.
Figure pct00001
식 중, T1은 수소, C1-C18알킬, 또는 페닐에 의해 치환된 C1-C18알킬이거나,
또는 T1은 화학식
Figure pct00002
의 기이고;
L1은 2가 기, 예를 들어 -(CH2)n- (여기서, n은 1 내지 8의 범위임)이고;
T2는 수소, C1-C18알킬이거나, 또는 COOT5, C1-C18알콕시, 히드록실, 페닐 또는 C2-C18아실옥시에 의해 치환된 C1-C18알킬이고;
T3은 수소, 할로겐, C1-C18알킬, C1-C18알콕시, C2-C18아실옥시, 1 내지 12개의 탄소 원자의 퍼플루오로알킬, 예컨대 -CF3이거나, 또는 T3은 페닐이고;
T5는 C1-C18알킬, 또는 1개 이상의 O가 개재되고/거나 OH 또는
Figure pct00003
기에 의해 치환된 C4-C50알킬이다.
이러한 벤조트리아졸의 예는 티누빈(Tinuvin)® PA 328 및 티누빈® 326, 및 하기 목록에 주어진 상응하는 UV 흡수제이다.
다공성 금속 산화물 마이크로구체와의 조합을 위한 2-히드록시벤조페논은 바람직하게는 하기 화학식 Ib의 것이다.
Figure pct00004
식 중,
G1, G2 및 G3은 독립적으로 수소, 히드록시 또는 C1-C18알콕시이다.
이러한 2-히드록시벤조페논의 예는 키마소르브(Chimassorb)® 81 및 하기 목록에 주어진 상응하는 UV 흡수제이다.
다공성 금속 산화물 마이크로구체와의 조합을 위한 옥살아닐리드는 바람직하게는 하기 화학식 Ic의 것이다.
Figure pct00005
식 중,
G4, G5, G6 및 G7은 독립적으로 수소, C1-C12알킬 또는 C1-C12알콕시이다.
그의 예는 하기 목록에 주어진 상응하는 UV 흡수제이다.
다공성 금속 산화물 마이크로구체와의 조합을 위한 신나메이트는 바람직하게는 하기 화학식 Id의 것이다.
Figure pct00006
식 중,
m은 1 내지 4의 정수이고;
G15는 수소 또는 페닐이고;
m이 1인 경우, G16은 COO-G19이고;
m이 2인 경우, G16은 C2-C12알칸-디옥시카르보닐이고;
m이 3인 경우, G16은 C3-C12알칸-트리옥시카르보닐이고;
m이 4인 경우, G16은 C4-C12알칸-테트라옥시카르보닐이고;
G17은 수소, CN 또는 COO-G19이고;
G18은 수소 또는 메톡시이고;
G19는 C1-C18알킬이다.
이러한 신나메이트의 예는 유비눌(Uvinul)® 3035 및 하기 목록에 주어진 상응하는 UV 흡수제이다.
다공성 금속 산화물 마이크로구체와의 조합을 위한 벤조에이트는 바람직하게는 하기 화학식 Ie의 것이다.
Figure pct00007
식 중,
k는 1 또는 2이고;
k가 1인 경우, G20은 C1-C18알킬, 페닐, 또는 C1-C12알킬에 의해 치환된 페닐이고, G21은 수소이고;
k가 2인 경우, G20 및 G21은 함께 4가 기
Figure pct00008
이고;
G22 및 G24는 독립적으로 수소 또는 C1-C8알킬이고;
G23은 수소 또는 히드록시이다.
이러한 벤조에이트의 예는 하기 목록에 주어진 상응하는 UV 흡수제이다.
다공성 금속 산화물 마이크로구체와의 조합을 위한 2-히드록시페닐트리아진은 바람직하게는 하기 화학식 If의 것이거나
Figure pct00009
식 중,
G8은 C1-C18알킬이거나, 또는 COO 또는 OCO 또는 O가 개재되거나, O가 개재되고 OH에 의해 치환된 C4-C18알킬이고;
G9, G10, G11 및 G12는 독립적으로 수소, 메틸, 히드록시 또는 OG8이다;
또는 하기 화학식 Ig의 것이다.
Figure pct00010
식 중, R은 C1-C12알킬, (CH2-CH2-O-)n-R2; -CH2-CH(OH)-CH2-O-R2; 또는 -CH(R3)-CO-O-R4이고; n은 0 또는 1이고; R2는 C1-C13알킬 또는 C2-C20알케닐 또는 C6-C12아릴 또는 CO-C1-C18알킬이고; R3은 H 또는 C1-C8알킬이고; R4는 C1-C12알킬 또는 C2-C12알케닐 또는 C5-C6시클로알킬이다.
이러한 2-히드록시페닐트리아진의 예는 티누빈® 1577 및 티누빈® 1600, 및 하기 목록에 주어진 상응하는 UV 흡수제이다.
R2, R3 또는 R4를 비롯한 주어진 정의의 맥락에서, 알킬은 예를 들어 분지형 또는 비분지형 알킬, 예컨대 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, n-부틸, sec-부틸, 이소부틸, t-부틸, 2-에틸부틸, n-펜틸, 이소펜틸, 1-메틸펜틸, 1,3-디메틸부틸, n-헥실, 1-메틸헥실, n-헵틸, 이소헵틸, 1,1,3,3-테트라메틸부틸, 1-메틸헵틸, 3-메틸헵틸, n-옥틸, 2-에틸헥실, 1,1,3-트리메틸헥실, 1,1,3,3-테트라메틸펜틸, 노닐, 데실, 운데실, 1-메틸운데실, 도데실, 1,1,3,3,5,5-헥사메틸헥실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실이다.
1개 초과의 O가 개재된 알킬은 예를 들어 폴리옥시알킬렌, 예컨대 폴리에틸렌 글리콜 잔기이다.
아릴은 일반적으로 방향족 탄화수소 라디칼, 예를 들어 페닐, 비페닐릴 또는 나프틸이다.
명시된 정의의 맥락에서, 알케닐은 특히 비닐, 알릴, 이소프로페닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 이소부테닐, n-펜타-2,4-디에닐, 3-메틸-부트-2-에닐, n-옥트-2-에닐, n-도데스-2-에닐, 이소-도데세닐, n-도데스-2-에닐, n-옥타데스-4-에닐을 포함한다.
할로겐은 주로 플루오로, 클로로, 브로모 또는 아이오도, 특히 클로로이다.
C5-C6시클로알킬은 주로 시클로펜틸, 시클로헥실이다.
C2-C18아실옥시는 예를 들어 알카노일옥시, 벤조일옥시 또는 알케노일옥시, 예컨대 아크릴로일옥시 또는 메타크릴로일옥시이다.
2가 C2-C12알칸-디옥시카르보닐에 대한 예는 -COO-CH2CH2-OCO-이고;
3가 C3-C12알칸-트리옥시카르보닐에 대한 예는 -COO-CH2-CH(OCO-)CH2-OCO-이고;
4가 C4-C12알칸-테트라옥시카르보닐의 예는 (-COO-CH2)4C이다.
바람직하게는, 다공성 금속 산화물 마이크로구체와의 조합을 위한 1종 이상의 UV 흡수제는 하기 (i) 내지 (lv)로부터 선택되는 하나 이상의 화합물을 포함한다:
i. 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸,
ii. 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸,
iii. 2-(3',5'-비스(α,α-디메틸벤질)-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸,
iv. 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸,
v. 2,2'-메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀],
vi. 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300의 에스테르교환 생성물,
vii. 2-[2'-히드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸,
viii. 5-트리플루오로메틸-2-(2-히드록시-3-α-쿠밀-5-tert-옥틸페닐)-2H-벤조트리아졸,
ix. 2-(2'-히드록시-5'-(2-히드록시에틸)페닐)벤조트리아졸,
x. 2-(2'-히드록시-5'-(2-메타크릴로일옥시에틸)페닐)벤조트리아졸,
xi. 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-알킬옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 여기서 알킬은 C8-알킬 기의 혼합물임 (CAS 번호 137759-38-7; 85099-51-0; 85099-50-9);
xii. 2,4-비스(2,4-디메틸페닐)-6-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진 (CAS 번호 2725-22-6),
xiii. 2,4-디페닐-6-(2-히드록시-4-[α-에틸헥사노일옥시에틸]페닐)-1,3,5-트리아진,
xiv. 2,4-비스(2-히드록시-4-부틸옥시페닐)-6-(2,4-비스-부틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진,
xv. 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-[1-에톡시카르보닐에톡시]페닐)-1,3,5-트리아진,
xvi. 트리스(2,4-디히드록시페닐)-1,3,5-트리아진과 α-클로로프로피온산 에스테르의 혼합물 (C7-C9 알콜의 이성질체 혼합물로부터 제조됨)의 반응 생성물,
xvii. 2-[4-(도데실옥시/트리데실옥시-2-히드록시프로폭시)-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진,
xviii. 2-{2-히드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-히드록시프로필옥시]페닐}-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진,
xix. 2-(2-히드록시-4-헥실옥시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진,
xx. 2-(3'-tert.부틸-5'-메틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸,
xxi. 2-(3'-sec.부틸-5'-tert.부틸-2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸,
xxii. 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸,
xxiii. 2-(5'-tert.옥틸-2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸,
xxiv. 2-(3'-도데실-5'-메틸-2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸,
xxv. 2-(3'-tert.부틸-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸,
xxvi. 2-(5'-메틸-2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸,
xxvii. 2-(5'-tert.부틸-2'-히드록시페닐)-벤조트리아졸, 화학식
Figure pct00011
의 화합물,
xxxi. 화학식
Figure pct00012
의 화합물,
xxxii. 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트 (CAS 번호 5466-77-3),
xxxiii. 2,4-디히드록시벤조페논,
xxxiv. 2-히드록시-4-메톡시벤조페논,
xxxv. 2-히드록시-4-도데실옥시벤조페논,
xxxvi. 2-히드록시-4-옥틸옥시벤조페논,
xxxvii. 2,2'-디히드록시-4-메톡시벤조페논,
xxxviii. 화학식
Figure pct00013
의 화합물,
xxxix. 화학식
Figure pct00014
의 화합물,
xl. 화학식
Figure pct00015
의 화합물,
xli. 화학식
Figure pct00016
의 화합물,
xlii. 화학식
Figure pct00017
의 화합물,
xliii. 화학식
Figure pct00018
의 화합물,
xliv. 화학식
Figure pct00019
의 화합물,
xlv. 화학식
Figure pct00020
의 화합물,
xlvi. 화학식
Figure pct00021
의 화합물,
xlvii. 화학식
Figure pct00022
의 화합물,
xlviii. 화학식
Figure pct00023
의 화합물,
xlix. 화학식
Figure pct00024
의 화합물,
l. 화학식
Figure pct00025
의 화합물,
li. 화학식
Figure pct00026
의 화합물,
lii. 화학식
Figure pct00027
의 화합물,
liii. 화학식
Figure pct00028
의 화합물,
liv. 화학식
Figure pct00029
의 화합물,
lv. 화학식
Figure pct00030
의 화합물,
lvi. 도데칸디오산, 1,12-비스[2-[4-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3-히드록시페녹시]에틸]에스테르 (CAS 번호 1482217-03-7),
lvii. 화학식
Figure pct00031
의 화합물,
lviii. 화학식
Figure pct00032
의 화합물.
한 실시양태에서, UV 흡수제 i-xx 및 xlvi가 바람직하다.
구체적 실시양태에서, UV 흡수제 i-iv, vi-xi, xiii-xviii, xx, xxiii-xxxix, xlvi; 특히 ii, iii, iv, vi, vii, viii, xx, xxv, xxxvii, xlvi가 바람직하다.
추가의 실시양태에서, i-x, xii, xiii, xix-xxiii, xxv-xxvii, xxx-xxxvi, xl-xlv 및 xlvi; 특히 i, ii, iii, v, vi, viii, xii, xiii, xix, xx, xxii, xxiii, xxvi, xxx, xxxi, xxxiv, xxxvi, xl, xli, xlii, xliii, xliv, xlv, xlvi가 바람직하다.
2-히드록시페닐트리아진으로서 xii, xlviii 및 xlvi가 매우 바람직하다.
2-히드록시페닐트리아진, 벤조트리아졸, 2-히드록시벤조페논 및 벤조에이트, 특히 2-히드록시페닐트리아진, 벤조트리아졸 및 2-히드록시벤조페논이 바람직하다. 벤조트리아졸 및 2-히드록시벤조페논, 특히 벤조트리아졸이 보다 바람직하다.
형상화 인공 중합체 물품에 대한 합성 중합체 또는 천연 또는 합성 엘라스토머의 구체적 예는 다음과 같다:
1. 모노올레핀 및 디올레핀의 중합체, 예를 들어 폴리프로필렌, 폴리이소부틸렌, 폴리부트-1-엔, 폴리-4-메틸펜트-1-엔, 폴리비닐시클로헥산, 폴리이소프렌 또는 폴리부타디엔, 폴리헥센, 폴리옥텐, 뿐만 아니라 시클로올레핀의 중합체, 예를 들어 시클로펜텐, 시클로헥센, 시클로옥텐 또는 노르보르넨의 중합체, 폴리에틸렌 (이는 임의로 가교될 수 있음), 예를 들어 고밀도 폴리에틸렌 (HDPE), 고밀도 및 고분자량 폴리에틸렌 (HDPE-HMW), 고밀도 및 초고분자량 폴리에틸렌 (HDPE-UHMW), 중밀도 폴리에틸렌 (MDPE), 저밀도 폴리에틸렌 (LDPE), 선형 저밀도 폴리에틸렌 (LLDPE), (VLDPE) 및 (ULDPE).
폴리올레핀, 즉 상기 단락에 예시된 모노올레핀의 중합체, 바람직하게는 폴리에틸렌 및 폴리프로필렌은 다양한 방법, 특히 하기 방법에 의해 제조될 수 있다:
a) 라디칼 중합 (통상 고압 및 승온 하).
b) 일반적으로 주기율표의 IVb족, Vb족, VIb족 또는 VIII족에 속하는 1종 또는 1종 초과의 금속을 함유하는 촉매를 사용한 촉매적 중합. 이들 금속은 통상적으로, π- 또는 σ-배위될 수 있는 1종 또는 1종 초과의 리간드, 전형적으로 옥시드, 할라이드, 알콜레이트, 에스테르, 에테르, 아민, 알킬, 알케닐 및/또는 아릴을 갖는다. 이들 금속 착물은 유리 형태이거나 또는 기재 상에, 전형적으로 활성화 염화마그네슘, 염화티타늄(III), 알루미나 또는 산화규소 상에 고정될 수 있다. 이들 촉매는 중합 매질에 가용성 또는 불용성일 수 있다. 촉매는 그 자체로 중합에 사용될 수 있거나 또는 추가의 활성화제, 전형적으로 금속 알킬, 금속 수소화물, 금속 알킬 할라이드, 금속 알킬 옥시드 또는 금속 알킬옥산이 사용될 수 있으며, 여기서 상기 금속은 주기율표의 Ia족, IIa족 및/또는 IIIa족의 원소이다. 활성화제는 추가의 에스테르, 에테르, 아민 또는 실릴 에테르 기로 편리하게 개질될 수 있다. 이들 촉매 시스템은 통상적으로 필립스(Phillips), 스탠다드 오일 인디애나(Standard Oil Indiana), 지글러(Ziegler) (-나타(-Natta)), TNZ (듀폰(DuPont)), 메탈로센 또는 단일 부위 촉매 (SSC)로서 명명된다.
2. 1) 하에 언급된 중합체의 혼합물, 예를 들어 폴리프로필렌과 폴리이소부틸렌의 혼합물, 폴리프로필렌과 폴리에틸렌의 혼합물 (예를 들어, PP/HDPE, PP/LDPE) 및 상이한 유형의 폴리에틸렌의 혼합물 (예를 들어, LDPE/HDPE).
3. 모노올레핀 및 디올레핀의 서로간의 또는 그와 다른 비닐 단량체와의 공중합체, 예를 들어 에틸렌/프로필렌 공중합체, 선형 저밀도 폴리에틸렌 (LLDPE) 및 그와 저밀도 폴리에틸렌 (LDPE)의 혼합물, 초저밀도 폴리에틸렌, 프로필렌/부트-1-엔 공중합체, 프로필렌/이소부틸렌 공중합체, 에틸렌/부트-1-엔 공중합체, 에틸렌/헥센 공중합체, 에틸렌/메틸펜텐 공중합체, 에틸렌/헵텐 공중합체, 에틸렌/옥텐 공중합체, 에틸렌/비닐시클로헥산 공중합체, 에틸렌/시클로올레핀 공중합체 (예를 들어, 에틸렌/노르보르넨 예컨대 COC), 에틸렌/1-올레핀 공중합체 (여기서, 1-올레핀은 계내 생성됨); 프로필렌/부타디엔 공중합체, 이소부틸렌/이소프렌 공중합체, 에틸렌/비닐시클로헥센 공중합체, 에틸렌/알킬 아크릴레이트 공중합체, 에틸렌/알킬 메타크릴레이트 공중합체, 에틸렌/비닐 아세테이트 공중합체 또는 에틸렌/아크릴산 공중합체 및 그의 염 (이오노머) 뿐만 아니라 에틸렌과 프로필렌 및 디엔 예컨대 헥사디엔, 디시클로펜타디엔 또는 에틸리덴-노르보르넨의 삼원공중합체; 및 이러한 공중합체의 서로간의 혼합물 및 그와 상기 1)에 언급된 중합체와의 혼합물, 예를 들어 폴리프로필렌/에틸렌-프로필렌 공중합체, LDPE/에틸렌-비닐 아세테이트 공중합체 (EVA), LDPE/에틸렌-아크릴산 공중합체 (EAA), LLDPE/EVA, LLDPE/EAA 및 교호 또는 랜덤 폴리알킬렌/카본 모노옥시드 공중합체 및 그와 다른 중합체, 예를 들어 폴리아미드의 혼합물.
4. 탄화수소 수지 (예를 들어, C5-C9) (그의 수소화 개질물 (예를 들어, 점착제) 포함), 및 폴리알킬렌과 전분의 혼합물.
상기 1.) - 4.)로부터의 단독중합체 및 공중합체는 신디오택틱, 이소택틱, 헤미-이소택틱 또는 어택틱을 포함하는 임의의 입체구조를 가질 수 있으며; 여기서 어택틱 중합체가 바람직하다. 입체블록 중합체가 또한 포함된다. 상기 1.) - 4.)로부터의 공중합체는 랜덤 또는 블록 공중합체, 단독상 또는 이종상, 또는 높은 결정질 단독중합체일 수 있다.
5. 폴리스티렌, 폴리(p-메틸스티렌), 폴리(α-메틸스티렌).
6. 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐 톨루엔의 모든 이성질체, 특히 p-비닐톨루엔, 에틸 스티렌, 프로필 스티렌, 비닐 비페닐, 비닐 나프탈렌 및 비닐 안트라센의 모든 이성질체를 포함하는 비닐 방향족 단량체 및 그의 혼합물로부터 유도된 방향족 단독중합체 및 공중합체. 단독중합체 및 공중합체는 신디오택틱, 이소택틱, 헤미-이소택틱 또는 어택틱을 포함하는 임의의 입체구조를 가질 수 있으며; 여기서 어택틱 중합체가 바람직하다. 입체블록 중합체가 또한 포함된다.
6a. 상기 언급된 비닐 방향족 단량체, 및 에틸렌, 프로필렌, 디엔, 니트릴, 산, 말레산 무수물, 말레이미드, 비닐 아세테이트 및 비닐 클로라이드 또는 아크릴산 유도체 및 그의 혼합물로부터 선택된 공단량체를 포함하는 공중합체, 예를 들어 스티렌/부타디엔, 스티렌/아크릴로니트릴, 스티렌/에틸렌 (혼성중합체), 스티렌/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 아크릴레이트, 스티렌/부타디엔/알킬 메타크릴레이트, 스티렌/말레산 무수물, 스티렌/아크릴로니트릴/메틸 아크릴레이트; 높은 충격 강도를 갖는 스티렌 공중합체 및 또 다른 중합체, 예를 들어 폴리아크릴레이트, 디엔 중합체 또는 에틸렌/프로필렌/디엔 삼원공중합체의 혼합물; 및 스티렌의 블록 공중합체 예컨대 스티렌/부타디엔/스티렌, 스티렌/이소프렌/스티렌, 스티렌/이소프렌/부타디엔/스티렌, 스티렌/에틸렌/부틸렌/스티렌 또는 스티렌/에틸렌/프로필렌/스티렌, HIPS, ABS, ASA, AES.
6b. 6.) 하에 언급된 중합체의 수소화로부터 유도된 수소화 방향족 중합체, 특히 예컨대 어택틱 폴리스티렌의 수소화에 의해 제조된, 흔히 폴리비닐시클로헥산 (PVCH)으로서 지칭되는 폴리시클로헥실에틸렌 (PCHE).
6c. 6a.) 하에 언급된 중합체의 수소화로부터 유도된 수소화 방향족 중합체.
단독중합체 및 공중합체는 신디오택틱, 이소택틱, 헤미-이소택틱 또는 어택틱을 포함하는 임의의 입체구조를 가질 수 있으며; 여기서 어택틱 중합체가 바람직하다. 입체블록 중합체가 또한 포함된다.
7. 비닐 방향족 단량체 예컨대 스티렌 또는 α-메틸스티렌의 그라프트 공중합체, 예를 들어 폴리부타디엔 상의 스티렌, 폴리부타디엔-스티렌 또는 폴리부타디엔-아크릴로니트릴 공중합체 상의 스티렌; 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴 (또는 메타크릴로니트릴); 폴리부타디엔 상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 메틸 메타크릴레이트; 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 말레산 무수물; 폴리부타디엔 상의 스티렌, 아크릴로니트릴 및 말레산 무수물 또는 말레이미드; 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 말레이미드; 폴리부타디엔 상의 스티렌 및 알킬 아크릴레이트 또는 메타크릴레이트; 에틸렌/프로필렌/디엔 삼원공중합체 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴; 폴리알킬 아크릴레이트 또는 폴리알킬 메타크릴레이트 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 아크릴레이트/부타디엔 공중합체 상의 스티렌 및 아크릴로니트릴, 뿐만 아니라 그와 6) 하에 열거된 공중합체의 혼합물, 예를 들어 ABS, MBS, ASA 또는 AES 중합체로서 공지된 공중합체 혼합물.
8. 할로겐-함유 중합체, 예컨대 폴리클로로프렌, 염소화 고무, 이소부틸렌-이소프렌의 염소화 및 브로민화 공중합체 (할로부틸 고무), 염소화 및 술포염소화 폴리에틸렌, 에틸렌 및 염소화 에틸렌의 공중합체, 에피클로로히드린 단독중합체 및 공중합체, 특히 할로겐-함유 비닐 화합물의 중합체, 예를 들어 폴리비닐 클로라이드, 폴리비닐리덴 클로라이드, 폴리비닐 플루오라이드, 폴리비닐리덴 플루오라이드, 뿐만 아니라 그의 공중합체, 예컨대 비닐 클로라이드/비닐리덴 클로라이드, 비닐 클로라이드/비닐 아세테이트 또는 비닐리덴 클로라이드/비닐 아세테이트 공중합체. 폴리비닐 클로라이드는 경질 또는 가요성일 수 있다 (가소화).
9. α,β-불포화 산 및 그의 유도체로부터 유도된 중합체 예컨대 폴리아크릴레이트 및 폴리메타크릴레이트; 부틸 아크릴레이트로 충격-개질된 폴리메틸 메타크릴레이트, 폴리아크릴아미드 및 폴리아크릴로니트릴.
10. 9) 하에 언급된 단량체의 서로간의 공중합체 또는 그와 다른 불포화 단량체의 공중합체, 예를 들어 아크릴로니트릴/부타디엔 공중합체, 아크릴로니트릴/알킬 아크릴레이트 공중합체, 아크릴로니트릴/알콕시알킬 아크릴레이트 또는 아크릴로니트릴/비닐 할라이드 공중합체 또는 아크릴로니트릴/알킬 메타크릴레이트/부타디엔 삼원공중합체.
11. 불포화 알콜 및 아민 또는 그의 아실 유도체 또는 아세탈로부터 유도된 중합체, 예를 들어 폴리비닐 알콜, 폴리비닐 아세테이트, 폴리비닐 스테아레이트, 폴리비닐 벤조에이트, 폴리비닐 말레에이트, 폴리비닐 부티랄, 폴리알릴 프탈레이트 또는 폴리알릴 멜라민; 뿐만 아니라 그와 상기 1)에 언급된 올레핀의 공중합체.
12. 시클릭 에테르의 단독중합체 및 공중합체 예컨대 폴리알킬렌 글리콜, 폴리에틸렌 옥시드, 폴리프로필렌 옥시드 또는 그와 비스글리시딜 에테르의 공중합체.
13. 폴리아세탈 예컨대 폴리옥시메틸렌, 및 에틸렌 옥시드를 공단량체로서 함유하는 폴리옥시메틸렌; 열가소성 폴리우레탄, 아크릴레이트 또는 MBS로 개질된 폴리아세탈.
14. 폴리페닐렌 옥시드 및 술피드, 및 폴리페닐렌 옥시드와 스티렌 중합체 또는 폴리아미드의 혼합물.
15. 한편으로는 히드록실-종결 폴리에테르, 폴리에스테르 또는 폴리부타디엔, 다른 한편으로는 지방족 또는 방향족 폴리이소시아네이트로부터 유도된 폴리우레탄, 뿐만 아니라 그의 전구체. (1) 디이소시아네이트와 단쇄 디올 (사슬 연장제) 및 (2) 디이소시아네이트와 장쇄 디올 (열가소성 폴리우레탄, TPU)의 반응에 의해 형성된 폴리우레탄.
16. 디아민 및 디카르복실산으로부터 및/또는 아미노카르복실산 또는 상응하는 락탐으로부터 유도된 폴리아미드 및 코폴리아미드, 예를 들어 폴리아미드 4, 폴리아미드 6, 폴리아미드 6/6, 6/10, 6/9, 6/12, 4/6, 12/12, 폴리아미드 11, 폴리아미드 12, m-크실렌 디아민 및 아디프산으로부터 출발한 방향족 폴리아미드; 개질제로서의 엘라스토머의 존재 또는 부재 하에 헥사메틸렌디아민 및 이소프탈산 또는/및 테레프탈산으로부터 제조된 폴리아미드, 예를 들어 폴리-2,4,4-트리메틸헥사메틸렌 테레프탈아미드 또는 폴리-m-페닐렌 이소프탈아미드; 및 또한 상기 언급된 폴리아미드와, 폴리올레핀, 올레핀 공중합체, 이오노머 또는 화학적으로 결합되거나 또는 그라프트된 엘라스토머의 블록 공중합체; 또는 폴리에테르, 예를 들어 폴리에틸렌 글리콜, 폴리프로필렌 글리콜 또는 폴리테트라메틸렌 글리콜의 블록 공중합체; 뿐만 아니라 EPDM 또는 ABS로 개질된 폴리아미드 또는 코폴리아미드; 및 가공 동안 축합된 폴리아미드 (RIM 폴리아미드 시스템). 폴리아미드는 무정형일 수 있다.
17. 폴리우레아, 폴리이미드, 폴리아미드-이미드, 폴리에테르이미드, 폴리에스테르이미드, 폴리히단토인 및 폴리벤즈이미다졸.
18. 디카르복실산 및 디올로부터 및/또는 히드록시카르복실산 또는 상응하는 락톤 또는 락티드로부터 유도된 폴리에스테르, 예를 들어 폴리에틸렌 테레프탈레이트, 폴리부틸렌 테레프탈레이트, 폴리-1,4-디메틸올시클로헥산 테레프탈레이트, 폴리프로필렌 테레프탈레이트, 폴리알킬렌 나프탈레이트 및 폴리히드록시벤조에이트, 뿐만 아니라 히드록실-종결 폴리에테르로부터 유도된 코폴리에테르 에스테르, 및 또한 폴리카르보네이트 또는 MBS로 개질된 폴리에스테르. 코폴리에스테르는 예를 들면 폴리부틸렌 숙시네이트/테레프탈레이트, 폴리부틸렌아디페이트/테레프탈레이트, 폴리테트라메틸렌아디페이트/테레프탈레이트, 폴리부틸렌숙시네이트/아디페이트, 폴리부틸렌숙시네이트/카르보네이트, 폴리-3-히드록시부티레이트/옥타노에이트 공중합체, 폴리-3-히드록시부티레이트/헥사노에이트/데카노에이트 삼원공중합체를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지 않는다. 게다가, 지방족 폴리에스테르는, 예를 들어 폴리(히드록시알카노에이트) 부류, 특히 폴리(프로피오락톤), 폴리(부티로락톤), 폴리(피발로락톤), 폴리(발레로락톤) 및 폴리(카프로락톤), 폴리에틸렌숙시네이트, 폴리프로필렌숙시네이트, 폴리부틸렌숙시네이트, 폴리헥사메틸렌숙시네이트, 폴리에틸렌아디페이트, 폴리프로필렌아디페이트, 폴리부틸렌아디페이트, 폴리헥사메틸렌아디페이트, 폴리에틸렌옥살레이트, 폴리프로필렌옥살레이트, 폴리부틸렌옥살레이트, 폴리헥사메틸렌옥살레이트, 폴리에틸렌세바케이트, 폴리프로필렌세바케이트, 폴리부틸렌세바케이트, 폴리에틸렌 푸라노에이트 및 폴리락트산 (PLA), 뿐만 아니라 폴리카르보네이트 또는 MBS로 개질된 상응하는 폴리에스테르를 포함할 수 있으나, 이에 제한되지는 않는다. 용어 "폴리락트산 (PLA)"은 바람직하게는 폴리-L-락티드의 단독중합체 및 그와 다른 중합체의 블렌드 또는 합금 중 임의의 것; 락트산 또는 락티드와, 다른 단량체, 예컨대 히드록시-카르복실산 예컨대 예를 들어 글리콜산, 3-히드록시-부티르산, 4-히드록시-부티르산, 4-히드록시-발레르산, 5-히드록시-발레르산, 6-히드록시-카프로산 및 그의 시클릭 형태의 공중합체를 나타내며; 용어 "락트산" 또는 "락티드"는 L-락트산, D-락트산, 그의 혼합물 및 이량체, 즉 L-락티드, D-락티드, 메소-락티드 및 그의 임의의 혼합물을 포함한다. 바람직한 폴리에스테르는 PET, PET-G, PBT이다.
19. 폴리카르보네이트 및 폴리에스테르 카르보네이트. 폴리카르보네이트는, 바람직하게는 비스페놀 화합물과 탄산 화합물, 특히 포스겐의 반응, 또는 용융 에스테르화 공정에서의 디페닐 카르보네이트 또는 디메틸 카르보네이트의 반응에 의해 제조된다. 비스페놀 A를 기재로 하는 호모폴리카르보네이트 및 단량체 비스페놀 A 및 1,1-비스-(4-히드록시페닐)-3,3,5-트리메틸시클로헥산 (비스페놀 TMC)을 기재로 하는 코폴리카르보네이트가 특히 바람직하다. 폴리카르보네이트 합성에 사용될 수 있는 이들 및 추가의 비스페놀 및 디올 화합물은 특히 WO08037364 (p. 7, 라인 21 내지 p.10, 라인 5), EP1582549 ([0018] 내지 [0034]), WO02026862 (p.2, 라인 23 내지 p. 5, 라인 15), WO05113639 (p. 2, 라인 1 내지 p.7, 라인 20)에 개시되어 있다. 폴리카르보네이트는 선형 또는 분지형일 수 있다. 분지형 및 비분지형 폴리카르보네이트의 혼합물이 또한 사용될 수 있다. 폴리카르보네이트를 위한 적합한 분지화제는 예를 들어, 명세서 US4185009 및 DE2500092 (본 발명에 따른 3,3-비스-(4-히드록시아릴-옥스인돌, 각 경우에 전체 문헌 참조), DE4240313 (p.3, 라인 33 내지 55 참조), DE19943642 (p.5, 라인 25 내지 34 참조) 및 US5367044 뿐만 아니라 그 안에 인용된 문헌으로부터 공지되어 있거나 또는 그에 기재되어 있다. 사용된 폴리카르보네이트는, 또한 내재적으로 분지화될 수 있으나, 본원의 폴리카르보네이트 제조의 맥락 내에서는 분지화제가 첨가되지 않는다. 내재적인 분지화의 예는 EP1506249에서 용융 폴리카르보네이트에 대해 개시된 바와 같이 소위 프라이즈(Fries) 구조로 지칭된다. 쇄 종결제가 추가적으로 폴리카르보네이트 제조에 사용될 수 있다. 바람직하게는, 페놀류, 예를 들어 페놀, 알킬페놀 예컨대 크레졸 및 4-tert-부틸페놀, 클로로페놀, 브로모페놀, 쿠밀페놀 또는 그의 혼합물이 사슬 종결제로서 사용된다. 폴리에스테르 카르보네이트는 이미 언급된 비스페놀, 적어도 1종의 방향족 디카르복실산 및, 임의로 탄산 균등물의 반응에 의해 수득된다. 적합한 방향족 디카르복실산에는, 예를 들어 프탈산, 테레프탈산, 이소프탈산, 3,3'- 또는 4,4'-디페닐디카르복실산 및 벤조페논디카르복실산이 있다. 폴리카르보네이트 중의 카르보네이트 기의 80 mol% 이하, 바람직하게는 20 내지 50 mol%의 부분이 방향족 디카르복실산 에스테르 기로 대체될 수 있다.
20. 폴리케톤.
21. 폴리술폰, 폴리에테르 술폰 및 폴리에테르 케톤.
22. 한편으로는 알데히드, 및 다른 한편으로는 페놀, 우레아 및 멜라민으로부터 유도된 가교 중합체, 예컨대 페놀/포름알데히드 수지, 우레아/포름알데히드 수지 및 멜라민/포름알데히드 수지.
23. 건조 및 비-건조 알키드 수지.
24. 포화 및 불포화 디카르복실산과, 가교제로서의 다가 알콜 및 비닐 화합물의 코폴리에스테르로부터 유도된 불포화 폴리에스테르 수지, 및 또한 낮은 인화성을 갖는 그의 할로겐-함유 개질물.
25. 치환된 아크릴레이트, 예를 들어 에폭시 아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트 또는 폴리에스테르 아크릴레이트로부터 유도된 가교성 아크릴 수지.
26. 멜라민 수지, 우레아 수지, 이소시아네이트, 이소시아누레이트, 폴리이소시아네이트 또는 에폭시 수지로 가교된 알키드 수지, 폴리에스테르 수지 및 아크릴레이트 수지.
27. 지방족, 시클로지방족, 헤테로시클릭 또는 방향족 글리시딜 화합물로부터 유도된 가교 에폭시 수지, 예를 들어 촉진제의 존재 또는 부재 하에 통상의 경화제 예컨대 무수물 또는 아민으로 가교된 비스페놀 A, 비스페놀 E 및 비스페놀 F의 디글리시딜 에테르의 생성물.
28. 천연 중합체 예컨대 셀룰로스, 고무, 젤라틴 및 그의 화학적으로 개질된 동족 유도체, 예를 들어 셀룰로스 아세테이트, 셀룰로스 프로피오네이트 및 셀룰로스 부티레이트, 또는 셀룰로스 에테르 예컨대 메틸 셀룰로스; 뿐만 아니라 로진 및 그의 유도체.
29. 상기 언급된 중합체의 블렌드 (폴리블렌드), 예를 들어 PP/EPDM, 폴리아미드/EPDM 또는 ABS, PVC/EVA, PVC/ABS, PVC/MBS, PC/ABS, PBTP/ABS, PC/ASA, PC/PBT, PVC/CPE, PVC/아크릴레이트, POM/열가소성 PUR, PC/열가소성 PUR, POM/아크릴레이트, POM/MBS, PPO/HIPS, PPO/PA 6.6 및 공중합체, PA/HDPE, PA/PP, PA/PPO, PBT/PC/ABS 또는 PBT/PET/PC.
30. 순수 단량체 화합물 또는 이러한 화합물의 혼합물인 자연 발생 및 합성 유기 물질, 예를 들어 미네랄 오일, 동물성 및 식물성 지방, 오일 및 왁스, 또는 합성 에스테르 (예를 들어, 프탈레이트, 아디페이트, 포스페이트 또는 트리멜리테이트)를 기재로 하는 오일, 지방 및 왁스, 및 또한 합성 에스테르와 미네랄 오일의 임의의 중량비로의 혼합물, 전형적으로 방사 조성물로서 사용되는 것, 뿐만 아니라 이러한 물질의 수성 에멀젼.
31. 천연 또는 합성 고무의 수성 에멀젼, 예를 들어 천연 라텍스 또는 카르복실화 스티렌/부타디엔 공중합체의 라텍스.
32. 접착제, 예를 들어 블록 공중합체 예컨대 SIS, SBS, SEBS, SEPS (S는 스티렌, I는 이소프렌, B는 폴리부타디엔, EB는 에틸렌/부틸렌 블록, EP는 폴리에틸렌/폴리프로필렌 블록을 나타낸다).
33. 고무, 예를 들어 공액 디엔의 중합체, 예를 들어 폴리부타디엔 또는 폴리이소프렌, 모노올레핀 및 디올레핀의 서로간의 공중합체 또는 그와 다른 비닐 단량체의 공중합체, 스티렌 또는 a-메틸스티렌과 디엔 또는 아크릴산 유도체와의 공중합체, 염소화 고무, 천연 고무.
34. 엘라스토머, 예를 들어 천연 폴리이소프렌 (시스-1,4-폴리이소프렌 천연 고무 (NR) 및 트랜스-1,4-폴리이소프렌 구타-페르카), 합성 폴리이소프렌 (IR은 이소프렌 고무), 폴리부타디엔 (BR은 부타디엔 고무), 클로로프렌 고무 (CR), 폴리클로로프렌, 네오프렌, 베이프렌 등, 부틸 고무 (이소부틸렌 및 이소프렌의 공중합체, IIR), 할로겐화 부틸 고무 (클로로 부틸 고무: CIIR; 브로모 부틸 고무: BIIR), 스티렌-부타디엔 고무 (스티렌 및 부타디엔의 공중합체, SBR), 니트릴 고무 (부타디엔 및 아크릴로니트릴의 공중합체, NBR), 부나 N 고무 수소화 니트릴 고무 (HNBR) 테르반 및 제트폴로도 불림, EPM (에틸렌 프로필렌 고무, 에틸렌 및 프로필렌의 공중합체) 및 EPDM 고무 (에틸렌 프로필렌 디엔 고무, 에틸렌, 프로필렌 및 디엔-성분의 삼원공중합체), 에피클로로히드린 고무 (ECO), 폴리아크릴산 고무 (ACM, ABR), 실리콘 고무 (SI, Q, VMQ), 플루오로실리콘 고무 (FVMQ), 플루오로엘라스토머 (FKM 및 FEPM) 비톤, 테크노플론, 플루오렐, 아플라스 및 디-El, 퍼플루오로엘라스토머 (FFKM) 테크노플론 PFR, 칼레즈, 켐라즈, 펄라스트, 폴리에테르 블록 아미드 (PEBA), 클로로술폰화 폴리에틸렌 (CSM), (히팔론), 에틸렌-비닐 아세테이트 (EVA), 열가소성 엘라스토머 (TPE), 직물 제조에 사용되는 단백질 레실린 및 엘라스틴, 폴리술피드 고무, 엘라스트올레핀, 탄성 섬유.
35. 열가소성 엘라스토머, 예를 들어 스티렌계 블록 공중합체 (TPE-s), 열가소성 올레핀 (TPE-o), 엘라스토머성 합금 (TPE-v 또는 TPV), 열가소성 폴리우레탄 (TPU), 열가소성 코폴리에스테르, 열가소성 폴리아미드, 반응기 TPO(Reactor TPO's) (R-TPO's), 폴리올레핀 플라스토머 (POP's), 폴리올레핀 엘라스토머 (POE's).
열가소성 중합체, 예컨대 폴리올레핀 및 그의 공중합체가 가장 바람직하다.
본 발명의 형상화 인공 중합체 물품은 예를 들어 하기 가공 단계 중 하나에 의해 제조된다:
사출 블로우 성형, 압출, 블로우 성형, 회전성형, 인 몰드 데코레이션 (후방 사출), 슬러시 성형, 사출 성형, 공-사출 성형, 블로우 성형, 성형, 압축 성형, 수지 이송 성형, 프레싱, 필름 압출 (캐스트 필름; 블로운 필름), 섬유 방사 (직물, 부직물), 연신 (단축, 이축), 어닐링, 딥 드로잉, 캘린더링, 기계적 변환, 소결, 공압출, 코팅, 적층, 가교 (방사선, 퍼옥시드, 실란), 증착, 함께 용접, 아교, 가황, 열성형, 파이프 압출, 프로파일 압출, 시트 압출; 시트 캐스핑, 스트랩핑, 발포, 재순환 / 재가공, 비스브레이킹 (퍼옥시드, 열적), 섬유 멜트 블로운, 스펀 본디드, 표면 처리 (코로나 방전, 화염, 플라즈마), 멸균 (감마선, 전자 빔에 의해), 테이프 압출, 인발, SMC-공정 또는 플라스티솔.
본 발명의 추가의 실시양태는, 중합체가 합성 중합체 및/또는 천연 또는 합성 엘라스토머이고, 중합체가 본원에 정의된 다공성 금속 산화물 마이크로구체를 함유하는, 형상화 인공 중합체 물품이다. 이러한 물품에 대해, 본원에 주어진 정의 및 바람직한 사항이 적용될 것이다.
형상화 인공 중합체 물품은 압출, 캐스팅, 방사, 성형 또는 캘린더링된 형상화 인공 중합체 물품인 것이 바람직하다.
본 발명에 따른 물품의 예는 다음과 같다:
I-1) 부유 디바이스, 해양 응용분야, 폰툰, 부표, 데크용 플라스틱 판재, 부두, 보트, 카약, 노 및 해변 강화재.
I-2) 자동차 응용분야, 내장 응용분야, 외장 응용분야, 특히 트림, 범퍼, 대시보드, 배터리, 후방 및 전방 라이닝, 후드 하의 성형 부품, 모자 선반, 트렁크 라이닝, 내부 라이닝, 에어 백 커버, 부속품 (라이트)용 전자 성형물, 대시보드용 판유리, 헤드램프 유리, 기기 패널, 외부 라이닝, 실내장식재, 자동차 라이트, 헤드 라이트, 파킹 라이트, 후방 라이트, 스톱 라이트, 내부 및 외부 트림; 도어 패널; 가스 탱크; 글레이징 전방면; 후방 창문; 시트 백킹, 외부 패널, 와이어 절연재, 밀봉용 프로파일 압출물, 클래딩, 필라 커버, 섀시 부품, 배기 시스템, 연료 필터/충전제, 연료 펌프, 연료 탱크, 신체측 성형물, 컨버터블 탑, 외부 거울, 외부 트림, 패스너/고정구, 전방 단부 모듈, 유리, 힌지, 잠금 시스템, 러기지/루프 랙, 프레싱/스탬핌 부품, 밀봉재, 측면 충격 보호, 제진재/절연체 및 선루프, 도어 메달리언, 콘솔, 기기 패널, 시트, 프레임, 스킨, 보강된 자동차 응용분야, 섬유 보강된 자동차 응용분야, 충전 중합체를 사용한 자동차 응용분야, 비충전 중합체를 사용한 자동차 응용분야.
I-3) 도로 교통 디바이스, 특히 신호 표지판, 도로 표시용 표시물, 차량 부대용품, 경고 삼각대, 의료용 케이스, 헬멧, 타이어.
I-4) 수송 또는 대중 교통을 위한 디바이스. 비품을 포함하는 비행기, 철도, 모터 카 (자동차, 모터바이크), 트럭, 소형 트럭, 버스, 트램, 바이크용 디바이스.
I-5) 우주 응용분야를 위한 디바이스, 특히 로켓 및 위성, 예를 들어 리엔트리 쉴드.
I-6) 건축 및 설계를 위한 디바이스, 광업 응용분야, 음향 소거 시스템, 도로 안전지대 및 쉘터.
II-1) 일반적인 가전제품, 케이스 및 커버링, 및 전기/전자 장치 (퍼스널 컴퓨터, 전화기, 휴대용 전화, 프린터, 텔레비전-세트, 오디오 및 비디오 장치), 화분, 위성 TV 보울, 및 패널 장치.
II-2) 강철 또는 텍스타일과 같은 다른 물질용 자켓팅.
II-3) 전자 산업을 위한 디바이스, 특히 플러그용 절연재, 특히 컴퓨터 플러그용 절연재, 전기 및 전자 부품용 케이스, 인쇄 보드, 및 전자 데이터 저장용 재료 예컨대 칩, 체크 카드 또는 신용 카드.
II-4) 전기 가전제품, 특히 세탁기, 텀블러, 오븐 (마이크로웨이브 오븐), 식기 세척기, 믹서 및 다리미.
II-5) 라이트용 커버 (예를 들어, 가로등, 램프-쉐이드).
II-6) 와이어 및 케이블에서의 응용분야 (반도체, 절연재 및 케이블-자켓팅).
II-7) 응축기, 냉장고, 가열 디바이스, 공조기, 전자제품의 캡슐화, 반도체, 커피 머신 및 진공 청소기용 호일.
III-1) 기술적 물품 예컨대 톱니바퀴 (기어), 슬라이드 부속품, 스페이서, 스크류, 볼트, 핸들 및 노브.
III-2) 로터 블레이드, 통풍기 및 풍차 날개, 태양 디바이스, 벽장, 옷장, 분리 벽, 슬랫 벽, 폴딩 벽, 루프, 셔터 (예를 들어, 롤러 셔터), 부속품, 파이프 사이의 커넥터, 슬리브 및 컨베이어 벨트.
III-3) 새니터리 용품, 특히 이동 화장실, 샤워 큐비클, 변기 시트, 커버 및 싱크.
III-4) 위생 물품, 특히 기저귀 (영아, 성인 실금), 여성 위생 물품, 샤워 커튼, 브러쉬, 매트, 욕조, 이동 화장실, 칫솔, 및 요강.
III-5) 물, 폐수 및 화학물질용 파이프 (가교 또는 비가교), 와이어 및 케이블 보호용 파이프, 가스, 오일 및 하수용 파이프, 수직홈통, 다운 파이프 및 배수 시스템.
III-6) 임의의 기하구조 (창문 판유리), 클래딩 및 사이딩의 프로파일.
III-7) 유리 대용물, 특히 압출 플레이트, 빌딩용 글레이징 (단일체형, 이중 또는 다중벽), 항공기용 글레이징, 학교용 글레이징, 압출 시트, 건축 글레이징, 열차, 운송수단 및 새니터리 용품용 창문 필름.
III-8) 플레이트 (벽, 커팅 보드), 사일로, 목재 대용물, 플라스틱 판재, 목재 복합재, 벽, 표면, 가구, 장식용 호일, 바닥 커버링 (내장 및 외장 응용분야), 바닥재, 덕 보드 및 타일.
III-9) 흡기 및 배기 매니폴드.
III-10) 시멘트-, 콘크리트-, 복합체-응용분야 및 커버, 사이딩 및 클래딩, 핸드 레일, 난간, 주방 작업 상판, 루핑, 루프 시트, 타일 및 타폴린.
IV-1) 플레이트 (벽 및 커팅 보드), 트레이, 인조 잔디, 아스트로터프, 경기장 링용 (운동경기용) 인조 커버링, 경기장 링용 (운동경기용) 인조 바닥, 및 테이프.
IV-2) 연속 및 스테이플 직조 직물, 섬유 (카펫/위생 물품/지오텍스타일/모노필라멘트; 필터; 와이프/커튼 (쉐이드)/의료 응용분야), 벌크 섬유 (가운/보호 클로스와 같은 응용분야), 네트, 로프, 케이블, 스트링, 코드, 스레드, 안전 시트-벨트, 클로스, 언더웨어, 글로브; 부츠; 고무 부츠, 실내복, 가먼트, 수영복, 스포츠웨어, 우산 (파라솔, 선쉐이드), 낙하산, 패러글라이드, 돛, "벌룬-실크", 캠핑 물품, 텐트, 에어베드, 선 베드, 벌크 백 및 백.
IV-3) 막, 절연재, 루프용 커버 및 실, 지오멤브레인, 터널, 덤프, 연못, 벽 루핑 막, 지오멤브레인, 수영장, 수영장 라이너, 연못 라이너, 커튼 (쉐이드)/선-쉴드, 차양, 캐노피, 벽지, 식품 패킹 및 랩핑 (가요성 및 고형), 의료 패킹 (가요성 및 고형), 에어백/안전 벨트, 팔- 및 머리 받침, 카펫, 센터 콘솔, 대시보드, 조종석, 도어, 오버헤드 콘솔 모듈, 도어 트림, 헤드라이너, 내부 조명, 내부 거울, 파슬 셸프, 후방 러기지 커버, 시트, 스티어링 칼럼, 스티어링 휠, 텍스타일 및 트렁크 트림.
V-1) 필름 (포장, 경질 포장, 덤프, 라미네이팅, 베일 랩, 수영장, 폐기물 봉투, 벽지, 스트레치 필름, 라피아, 탈염 필름, 배터리, 및 커넥터.
V-2) 특히 농약의 집중 적용의 존재 하에서의 농업용 필름 (온실 커버, 터널, 멀티 터널, 마이크로 터널, "라스파 와이 아마가도(raspa y amagado)", 멀티-스팬, 낮은 워크인 터널, 높은 터널, 멀치, 사일리지, 사일로-백, 사일로-스트레치, 훈증, 기포, 케더, 솔라랩, 써말, 베일 랩, 스트레치드 베일 랩, 육묘, 필름 튜브); 다른 농업 응용분야 (예를 들어 부직 토양 커버, 네트 (테이프, 멀티-필라멘트 및 그의 조합으로 제조됨), 타폴린. 이러한 농업용 필름은 단층 구조 또는 전형적으로 3, 5 또는 7개의 층으로 이루어진 다층 구조일 수 있다. 이는 A-B-A, A-B-C, A-B-C-B-A, A-B-C-B-D, A-B-C-D-C-B-A, A-A-B-C-B-A-A와 같은 필름 구조를 생성할 수 있다. A, B, C, D는 상이한 중합체 및 점착제를 나타낸다. 그러나, 인접한 층은 최종 필름 물품이 짝수개의 층 즉, 2, 4 또는 6개의 층, 예컨대 A-A-B-A, A-A-B-B, A-A-B-A-A, A-B-B-A-A, A-A-B-C-B, A-A-B-C-A-A 등으로 제조될 수 있도록 쌍을 이룰 수 있다.
V-3) 테이프
V-4) 발포체 (실링, 절연재, 배리어), 스포츠 및 여가 매트.
V-5) 실란트
VI-1) 식품 패킹 및 랩핑 (가요성 및 고체), BOPP, BOPET, 병.
VI-2) 저장 시스템, 예컨대 박스 (크레이트), 러기지, 궤, 가정용 박스, 팰릿, 용기, 선반, 트랙, 스크류 박스, 팩, 및 캔.
VI-3) 카트리지, 시린지, 의료 응용분야, 임의의 운송수단을 위한 용기, 웨이스트 바스켓 및 웨이스트 빈, 웨이스트 백, 빈, 더스트 빈, 빈 라이너, 휠 빈, 일반 용기, 물/사용된 물/화학물질/가스/오일/가솔린/디젤용탱크; 탱크 라이너, 박스, 크레이트, 배터리 케이스, 트로프, 의료 장치 예컨대 피스톤, 안과 응용분야, 진단 장치 및 제약 블리스터용 패킹.
VII-1) 임의의 유형의 가정용 물품 (예를 들어, 가전제품, 보온병/옷걸이), 패스닝 시스템, 예컨대 플러그, 와이어 및 케이블 클램프, 지퍼, 클로저, 로크 및 스냅-클로저.
VII-2) 지지 디바이스, 레저 시간용 물품 예컨대 스포츠 및 피트니스 디바이스; 체조 매트, 스키-부츠, 인라인-스케이트, 스키, 빅 풋, 운동경기장 표면 (예를 들어, 테니스 그라운드); 스크류 탑, 병을 위한 탑 및 스토퍼, 및 캔.
VII-3) 일반 가구, 발포 물품 (쿠션, 충격 흡수제), 발포체, 스폰지, 행주, 매트, 정원 의자, 경기장 시트, 테이블, 카우치, 장난감, 빌딩 키트 (보드/피규어/볼), 장난감집, 미끄럼틀 및 장남감 차량.
VII-4) 광학 및 자기 데이터 저장용 물질.
VII-5) 주방 용품 (음식, 음료, 조리, 저장).
VII-6) CD, 카세트 및 비디오 테이프용 박스; DVD 전자 물품, 임의의 종류의 사무용품 (볼펜, 스탬프 및 잉크 패드, 마우스, 선반, 트랙), 임의의 부피 및 함량 (음료, 세제, 퍼퓸을 포함한 화장품)의 병, 및 접착 테이프.
VII-7) 신발류 (신발/신발-밑창), 깔창, 스팻, 접착제, 구조적 접착제, 식품 박스 (과일, 채소, 육류, 어류), 합성 페이퍼, 병을 위한 라벨, 소파, 인공 관절 (인간), 인쇄 플레이트 (플렉소그래픽), 인쇄 회로 기판, 및 디스플레이 기술.
VII-8) 충전 중합체의 디바이스 (활석, 백악, 고령토 (카올린), 월라스토나이트, 안료, 카본 블랙, TiO2, 운모, 나노복합체, 돌로마이트, 실리케이트, 유리, 석면).
필름, 파이프, 케이블, 테이프, 시트, 용기, 프레임, 섬유 또는 모노필라멘트인 형상화 인공 중합체 물품이 바람직하다.
본 발명의 또 다른 바람직한 실시양태는 전형적으로 블로우 압출 기술에 의해 수득되는 박막이다. 단층 필름 또는 3, 5 또는 7개 층의 다층 필름이 특히 관심대상이다. 농업에서의 얇은 플라스틱 필름의 가장 중요한 응용분야는 보호된 환경에서 작물을 성장시키는 온실 및 터널을 위한 커버로서의 응용분야이다.
본 발명의 추가의 실시양태는 합성 중합체 및/또는 천연 또는 합성 엘라스토머, 및 본원에 정의된 다공성 금속 산화물 마이크로구체를 포함하는, 압출, 캐스팅, 방사, 성형 또는 캘린더링된 중합체 조성물이다. 이러한 조성물에 대해 본원에 주어진 정의 및 바람직한 사항이 적용될 것이다.
다공성 금속 산화물 구체는 바람직하게는 조성물의 중량을 기준으로 0.01 wt% 내지 40.0 wt%, 특히 0.01 wt% 내지 20.0 wt%의 양으로 압출, 캐스팅, 방사, 성형 또는 캘린더링된 중합체 조성물에 존재한다. 0.1 wt% 내지 20.0 wt%, 특히 0.1 wt% 내지 10.0 wt%의 농도가 보다 바람직하다. 0.25 wt% 내지 10.0 wt%, 특히 0.5 wt% 내지 10.0 wt%의 농도가 매우 바람직하다.
압출, 캐스팅, 방사, 성형 또는 캘린더링된 중합체 조성물 및 형상화 인공 중합체 물품은 적어도 하나의 추가의 첨가제를 압출, 캐스팅, 방사, 성형 또는 캘린더링된 중합체 조성물 또는 물품의 중량에 대해 0.001 중량% 내지 30 중량%, 바람직하게는 0.005 중량% 내지 20 중량%, 특히 0.005 중량% 내지 10 중량%의 양으로 포함할 수 있다. 예는 하기에 열거된다:
1. 항산화제
1.1. 알킬화 모노페놀, 예를 들어 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 2-tert-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥실페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시메틸페놀, 측쇄가 선형 또는 분지형인 노닐페놀, 예를 들어 2,6-디-노닐-4-메틸페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데스-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타데스-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데스-1'-일)페놀 및 그의 혼합물.
1.2. 알킬티오메틸페놀, 예를 들어 2,4-디옥틸티오메틸-6-tert-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀.
1.3. 히드로퀴논 및 알킬화 히드로퀴논, 예를 들어 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐 스테아레이트, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐) 아디페이트.
1.4. 토코페롤, 예를 들어 α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 그의 혼합물 (비타민 E).
1.5. 히드록실화 티오디페닐 에테르, 예를 들어 2,2'-티오비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-sec-아밀페놀), 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-히드록시페닐)디술피드.
1.6. 알킬리덴비스페놀, 예를 들어 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-tert-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-tert-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀, 1,1,3-트리스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄, 에틸렌 글리콜 비스[3,3-비스(3'-tert-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸-페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-tert-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스-(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스-(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄, 1,1,5,5-테트라(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄.
1.7. O-벤질, N-벤질 및 S-벤질 화합물, 예를 들어 3,5,3',5'-테트라-tert-부틸-4,4'-디히드록시디벤질 에테르, 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질메르캅토아세테이트, 트리데실-4-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)아민, 비스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질메르캅토아세테이트.
1.8. 히드록시벤질화 말로네이트, 예를 들면 디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-2-히드록시벤질)말로네이트, 디옥타데실-2-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질)말로네이트, 디-도데실메르캅토에틸-2,2-비스 (3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트.
1.9. 방향족 히드록시벤질 화합물, 예를 들어 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)페놀.
1.10. 트리아진 화합물, 예를 들어 2,4-비스(옥틸메르캅토)-6-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트.
1.11. 벤질포스포네이트, 예를 들어 디메틸-2,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-tert-부틸-4-히드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스폰산의 모노에틸 에스테르의 칼슘 염.
1.12. 아실아미노페놀, 예를 들어 4-히드록실라우라닐리드, 4-히드록시스테아라닐리드, 옥틸 N-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)카르바메이트.
1.13. 예를 들어, 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄 등의 1가 또는 다가 알콜과 β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.14. 예를 들어, 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄; 3,9-비스[2-{3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸 등의 1가 또는 다가 알콜과 β-(5-tert-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산의 에스테르.
1.15. 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄 등의 1가 또는 다가 알콜과 β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산의 에스테르.
1.16. 예를 들어, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌 글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸 글리콜, 티오디에틸렌 글리콜, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜, 펜타에리트리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데카놀, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄 등의 1가 또는 다가 알콜과 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐 아세트산의 에스테르.
1.17. β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드, 예를 들어 N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라지드, N,N'-비스[2-(3-[3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐]프로피오닐옥시)에틸]옥사미드 (유니로얄(Uniroyal)에 의해 공급되는 나우가드(Naugard)®XL-1).
1.18. 아스코르브산 (비타민 C)
1.19. 아민계 항산화제, 예를 들어 N,N'-디-이소프로필로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-디시클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-시클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔술파모일)디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시디페닐아민, N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-tert-옥틸페닐)-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화 디페닐아민, 예를 들어 p,p'-디-tert-옥틸디페닐아민, 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노일아미노페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)아민, 2,6-디-tert-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-비스(페닐아미노)프로판, (o-톨릴)비구아니드, 비스[4-(1',3'-디메틸부틸)페닐]아민, tert-옥틸화 N-페닐-1-나프틸아민, 모노알킬화 및 디알킬화 tert-부틸/tert-옥틸디페닐아민의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 노닐디페닐아민의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 도데실디페닐아민의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 이소프로필로필/이소헥실디페닐아민의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 tert-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디히드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노알킬화 및 디알킬화 tert-부틸/tert-옥틸페노티아진의 혼합물, 모노알킬화 및 디알킬화 tert-옥틸-페노티아진의 혼합물, N-알릴페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-디아미노부트-2-엔.
2. UV 흡수제 및 광 안정화제
2.1. 2-(2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 예를 들어 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐)-벤조-트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)-벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-부틸-2'-히드록시페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-메틸페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-sec-부틸-5'-tert-부틸-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-디-tert-아밀-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3',5'-비스-(α,α-디메틸벤질)-2'-히드록시-페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실-옥시)-카르보닐에틸]-2'-히드록시-페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-페닐)-5-클로로-벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메트-옥시카르보닐에틸)-페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐-에틸)페닐)-벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시-페닐)-벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀]; 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌 글리콜 300의 에스테르교환 생성물;
Figure pct00033
(여기서 R = 3'-tert-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리-아졸-2-일페닐임), 2-[2'-히드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-페닐]-벤조트리아졸; 2-[2'-히드록시-3'-(1,1,3,3-테트라-메틸부틸)-5'-(α,α-디메틸벤질)-페닐]벤조트리아졸.
2.2. 2-히드록시벤조페논, 예를 들어 4-히드록시, 4-메톡시, 4-옥틸옥시, 4-데실옥시, 4-도데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체.
2.3. 치환 및 비치환된 벤조산의 에스테르, 예를 들어 4-tert-부틸-페닐 살리실레이트, 페닐 살리실레이트, 옥틸페닐 살리실레이트, 디벤조일 레조르시놀, 비스(4-tert-부틸벤조일)레조르시놀, 벤조일 레조르시놀, 2,4-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 헥사데실 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥타데실 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트.
2.4. 아크릴레이트, 예를 들어 에틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸 α-카르보메톡시신나메이트, 메틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 부틸 α-시아노-β-메틸-p-메톡시-신나메이트, 메틸 α-카보메톡시-p-메톡시계피산, N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린, 네오펜틸 테트라(α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트.
2.5. 니켈 화합물, 예를 들면 2,2'-티오-비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸-부틸)페놀]의 니켈 착물, 예컨대 추가의 리간드 (예컨대 n-부틸아민, 트리에탄올아민 또는 N-시클로헥실디에탄올아민)가 있거나 없는 1:1 또는 1:2 착물, 니켈 디부틸디티오카르바메이트, 4-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질포스폰산의 모노알킬 에스테르, 예를 들면 메틸 또는 에틸 에스테르의 니켈 염, 케톡심, 예를 들면 2-히드록시-4-메틸페틸운데실케톡심의 니켈 착물, 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시피라졸의 니켈 착물 (추가의 리간드가 있거나 없음).
2.6. 입체 장애 아민, 예를 들어 탄산 비스(1-운데실옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)에스테르, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜) n-부틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 숙신산의 축합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 시클릭 축합물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질)-말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 선형 또는 시클릭 축합물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물, 8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 4-헥사데실옥시- 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-시클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물, 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 뿐만 아니라 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물 (CAS 등록 번호 [136504-96-6]); 1,6-헥산디아민과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진 뿐만 아니라 N,N-디부틸아민과 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물 (CAS 등록 번호 [192268-64-7]); N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, 2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소-스피로[4,5]데칸, 7,7,9,9-테트라메틸-2-시클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로-[4,5]데칸과 에피클로로히드린의 반응 생성물, 1,1-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐)-2-(4-메톡시페닐)에텐, N,N'-비스-포르밀-N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 4-메톡시메틸말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-히드록시피페리딘의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실록산, 말레산 무수물-α-올레핀 공중합체와 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘의 반응 생성물, 2,4-비스[N-(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-일)-N-부틸아미노]-6-(2-히드록시에틸)아미노-1,3,5-트리아진, 1-(2-히드록시-2-메틸프로폭시)-4-옥타데카노일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 5-(2-에틸헥사노일)옥시메틸-3,3,5-트리메틸-2-모르폴리논, 산두보르(Sanduvor) (클라리언트(Clariant); CAS 등록 번호 106917-31-1), 5-(2-에틸헥사노일)옥시메틸-3,3,5-트리메틸-2-모르폴리논, 2,4-비스[(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-피페리딘-4-일)부틸아미노]-6-클로로-s-트리아진과 N,N'-비스(3-아미노프로필)에틸렌디아민)의 반응 생성물, 1,3,5-트리스(N-시클로헥실-N-(2,2,6,6-테트라메틸피페라진-3-온-4-일)아미노)-s-트리아진, 1,3,5-트리스(N-시클로헥실-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페라진-3-온-4-일)아미노)-s-트리아진,
Figure pct00034
1,3,5-트리아진-2,4,6-트리아민, N,N'''-1,6-헥산디일비스[N',N''-디부틸-N,N',N''-트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-, 3-브로모-1-프로펜과의 반응 생성물, 산화, 수소화, 1,3,5-트리아진-2,4,6-트리아민, N,N'''-1,6-헥산디일비스[N',N''-디부틸-N,N',N''-트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-, 4-피페리디놀, 2,2,6,6-테트라메틸-1-(운데실옥시)-, 4,4'-카르보네이트, 1,3,5-트리아진-2,4,6-트리아민, N2,N2'-1,6-헥산디일비스[N4,N6-디부틸-N2,N4,N6-트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디닐)-, N-알릴 유도체, 산화, 수소화 및 그의 조합.
2.7. 옥사미드, 예를 들어 4,4'-디옥틸옥시옥사닐리드, 2,2'-디에톡시옥사닐리드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐리드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐리드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-tert-부틸-2'-에톡사닐리드 및 그와 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-tert-부톡사닐리드의 혼합물, o- 및 p-메톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물 및 o- 및 p-에톡시-이치환된 옥사닐리드의 혼합물.
2.8. 2-(2-히드록시페닐)-1,3,5-트리아진, 예를 들어 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시-페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로필-옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시-페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부틸옥시-프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[4-(도데실옥시/트리-데실옥시-2-히드록시프로폭시)-2-히드록시페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-도데실옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸-페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-헥실옥시)페닐-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-부톡시-2-히드록시-프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진, 2-{2-히드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-히드록시프로필옥시]페닐}-4,6-비스(2,4-디-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(4-[2-에틸헥실옥시]-2-히드록시페닐)-6-(4-메톡시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(4,6-비스-비페닐-4-일-1,3,5-트리아진-2-일)-5-(2-에틸-(n)-헥실옥시)페놀; 도데칸디오산, 1,12-비스[2-[4-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3-히드록시페녹시]에틸]에스테르 (CAS 번호 1482217-03-7).
3. 금속 탈활성화제, 예를 들어 N,N'-디페닐옥사미드, N-살리실랄-N'-살리실로일 히드라진, N,N'-비스(살리실로일)히드라진, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라진, 3-살리실로일아미노-1,2,4-트리아졸, 비스(벤질리덴)옥살릴 디히드라지드, 옥사닐리드, 이소프탈로일 디히드라지드, 세바코일 비스페닐히드라지드, N,N'-디아세틸아디포일 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)옥살릴 디히드라지드, N,N'-비스(살리실로일)티오프로피오닐 디히드라지드.
4. 포스파이트 및 포스포나이트, 예를 들어 트리페닐 포스파이트, 디페닐알킬 포스파이트, 페닐디알킬 포스파이트, 트리스(노닐페닐) 포스파이트, 트리라우릴 포스파이트, 트리옥타데실 포스파이트, 디스테아릴펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트, 디이소데실 펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-쿠밀페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 디이소데실옥시펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 비스(2,4,6-트리스(tert-부틸페닐)펜타에리트리톨 디포스파이트, 트리스테아릴 소르비톨 트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐) 4,4'-비페닐렌 디포스포나이트, 6-이소옥틸옥시-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-12H-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)메틸 포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸-6-메틸페닐)에틸 포스파이트, 6-플루오로-2,4,8,10-테트라-tert-부틸-12-메틸-디벤즈[d,g]-1,3,2-디옥사포스포신, 2,2',2"-니트릴로[트리에틸트리스(3,3',5,5'-테트라-tert-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트], 2-에틸헥실(3,3',5,5'-테트라-tert-부틸-1,1'-비페닐-2,2'-디일)포스파이트, 5-부틸-5-에틸-2-(2,4,6-트리-tert-부틸페녹시)-1,3,2-디옥사포스피란, 아인산, 혼합 2,4-비스(1,1-디메틸프로필)페닐 및 4-(1,1-디메틸프로필)페닐 트리에스테르 (CAS 번호 939402-02-5), 아인산, 트리페닐 에스테르, 알파-히드로-오메가-히드록시폴리[옥시(메틸-1,2-에탄디일)]과의 중합체, C10-16 알킬 에스테르 (CAS 번호 1227937-46-3).
하기 포스파이트가 특히 바람직하다:
트리스(2,4-디-tert-부틸페닐) 포스파이트 (이르가포스(Irgafos)®168, 시바 스페셜티 케미칼스 인크.(Ciba Specialty Chemicals Inc.)), 트리스(노닐페닐) 포스파이트,
Figure pct00035
Figure pct00036
5. 히드록실아민, 예를 들어 N,N-디벤질히드록실아민, N,N-디에틸히드록실아민, N,N-디옥틸히드록실아민, N,N-디라우릴히드록실아민, N,N-디테트라데실히드록실아민, N,N-디헥사데실히드록실아민, N,N-디옥타데실히드록실아민, N-헥사데실-N-옥타데실히드록실아민, N-헵타데실-N-옥타데실히드록실아민, 수소화 탈로우 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬히드록실아민.
6. 니트론, 예를 들어, N-벤질-알파-페닐니트론, N-에틸-알파-메틸니트론, N-옥틸-알파-헵틸니트론, N-라우릴-알파-운데실니트론, N-테트라데실-알파-트리데실니트론, N-헥사데실-알파-펜타데실니트론, N-옥타데실-알파-헵타데실니트론, N-헥사데실-알파-헵타데실니트론, N-옥타데실-알파-펜타데실니트론, N-헵타데실-알파-헵타데실니트론, N-옥타데실-알파-헥사데실니트론, 수소화 탈로우 아민으로부터 유도된 N,N-디알킬히드록실아민으로부터 유도된 니트론.
7. 티오상승작용제, 예를 들어 디라우릴 티오디프로피오네이트, 디미리스틸 티오디프로피오네이트, 디스테아릴 티오디프로피오네이트, 펜타에리트리톨 테트라키스[3-(도데실티오)프로피오네이트] 또는 디스테아릴 디술피드.
8. 퍼옥시드 스캐빈저, 예를 들어 β-티오디프로피온산의 에스테르, 예를 들어 라우릴, 스테아릴, 미리스틸 또는 트리데실 에스테르, 메르캅토벤즈이미다졸 또는 2-메르캅토벤즈이미다졸의 아연 염, 아연 디부틸디티오카르바메이트, 디옥타데실 디술피드, 펜타에리트리톨 테트라키스(β-도데실메르캅토)프로피오네이트.
9. 폴리아미드 안정화제, 예를 들어 아이오다이드 및/또는 인 화합물과 조합된 구리 염 및 2가 망가니즈의 염.
10. 염기성 공안정화제, 예를 들어 멜라민, 폴리비닐피롤리돈, 디시안디아미드, 트리알릴 시아누레이트, 우레아 유도체, 히드라진 유도체, 아민, 폴리아미드, 폴리우레탄, 고급 지방산의 알칼리 금속 염 및 알칼리 토금속 염, 예를 들어 칼슘 스테아레이트, 아연 스테아레이트, 마그네슘 베헤네이트, 마그네슘 스테아레이트, 소듐 리시놀레에이트 및 포타슘 팔미테이트, 안티모니 피로카테콜레이트 또는 아연 피로카테콜레이트.
11. PVC 열 안정화제, 예를 들어, 혼합 금속 안정화제 (예컨대 바륨/아연, 칼슘/아연 유형), 유기주석 안정화제 (예컨대 유기 주석 메르캅트에스테르 -카르복실레이트, -술피드), 납 안정화제 (예컨대 삼염기성 황산납, 이염기성 스테아르산납, 이염기성 프탈산납, 이염기성 인산납, 스테아르산납), 유기계 안정화제 및 그의 조합.
12. 핵형성제, 예를 들어 무기 물질, 예컨대 활석, 금속 산화물, 예컨대 이산화티타늄 또는 산화마그네슘, 바람직하게는, 알칼리 토금속의 인산염, 탄산염 또는 황산염; 유기 화합물, 예컨대 모노카르복실산 또는 폴리카르복실산 및 그의 염, 예를 들어 4-tert-부틸벤조산, 아디프산, 디페닐아세트산, 소듐 숙시네이트 또는 소듐 벤조에이트; 중합체 화합물, 예컨대 이온 공중합체 (이오노머). 1,3:2,4-비스(3',4'-디메틸벤질리덴)소르비톨, 1,3:2,4-디(파라메틸디벤질리덴)소르비톨, 및 1,3:2,4-디(벤질리덴)소르비톨이 특히 바람직하다.
13. 충전제 및 강화제, 예를 들어 탄산칼슘, 실리케이트, 유리 섬유, 유리 비드, 석면, 활석, 카올린, 운모, 황산바륨, 금속 산화물 및 수산화물, 카본 블랙, 흑연, 목분 및 목분들 또는 다른 천연 생성물의 섬유, 합성 섬유.
14. 가소제, 여기서 상기 가소제는 디(2-에틸헥실) 프탈레이트, 디소노닐 프탈레이트, 디이소데실 프탈레이트, 디프로필헵틸 프탈레이트, 트리옥틸 트리멜리테이트, 트리(이소노닐) 트리멜리테이트, 에폭시화 대두 오일, 디(이소노닐) 시클로헥산-1,2-디카르복실레이트, 2,4,4-트리메틸-1,3-펜타디올 디이소부티레이트로 이루어진 군으로부터 선택된다.
본 발명에 따라 사용되는 가소제는 또한 프탈레이트, 트리멜리테이트, 지방족 이염기성 에스테르, 폴리에스테르, 중합체, 에폭시드, 포스페이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나를 포함할 수 있다. 바람직한 실시양태에서, 상기 가소제는 다음으로 이루어진 군으로부터 선택된다: 부틸 벤질 프탈레이트, 부틸 2-에틸헥실 프탈레이트, 디이소헥실 프탈레이트, 디이소헵틸 프탈레이트, 디(2-에틸헥실) 프탈레이트, 디이소옥틸 프탈레이트, 디-n-옥틸 프탈레이트, 디이소노닐 프탈레이트, 디이소데실 프탈레이트, 디이소 운데실 프탈레이트, 디이소트레데실 프탈레이트, 디이소 (C11, C12, C13) 프탈레이트, 디(n-부틸) 프탈레이트, 디(n-C7, C9) 프탈레이트, 디(n-C6, C8, C10) 프탈레이트, 디이소(n-노닐) 프탈레이트, 디(n-C7, C9, C11) 프탈레이트, 디(n-C9, C11) 프탈레이트, 디(n-운데실) 프탈레이트, 트리(n-C8, C10) 트리멜리테이트, 트리(2-에틸헥실) 트리멜리테이트, 트리(이소옥틸) 트리멜리테이트, 트리(이소노닐) 트리멜리테이트, 디(n-C7, C9) 아디페이트, 디(2-에틸헥실) 아디페이트, 디(이소옥틸) 아디페이트, 디(이소노닐) 아디페이트, 아디핀산 또는 글루타르산과 프로필렌 글리콜 또는 부틸렌 글리콜 또는 2,2-디메틸-1,3-프로판디올의 폴리에스테르, 에폭시화 오일 예컨대 에폭시화 대두 오일, 에폭시화 아마인 오일, 에폭시화 톨 오일, 옥틸 에폭시 탈레이트, 2-에틸헥실 에폭시 탈레이트, 이소데실 디페닐 포스페이트, 트리(2-에틸헥실) 포스페이트, 트리크레실 포스페이트, 디(2-에틸헥실) 테레프탈레이트, 디(이소노닐) 시클로헥산-1,2-디카르복실레이트 및 그의 조합. 특히 바람직한 실시양태에서, 상기 가소제는 다음으로 이루어진 군으로부터 선택된다: 디이소헥실 프탈레이트, 디이소헵틸 프탈레이트, 디(2-에틸헥실) 프탈레이트, 디이소옥틸 프탈레이트, 디-n-옥틸 프탈레이트, 디이소노닐 프탈레이트, 디이소데실 프탈레이트, 디이소 운데실 프탈레이트, 디이소트레데실 프탈레이트, 디이소 (C11, C12, C13) 프탈레이트, 디(n-부틸) 프탈레이트, 디(n-C7, C9) 프탈레이트, 디(n-C6, C8, C10) 프탈레이트, 디이소(n-노닐) 프탈레이트, 디(n-C7, C9, C11) 프탈레이트, 디(n-C9, C11) 프탈레이트, 디(n-운데실) 프탈레이트, 트리(n-C8, C10) 트리멜리테이트, 트리(2-에틸헥실) 트리멜리테이트, 트리(이소옥틸) 트리멜리테이트, 트리(이소노닐) 트리멜리테이트, 디(n-C7, C9) 아디페이트, 디(2-에틸헥실) 아디페이트, 디(이소옥틸) 아디페이트, 디(이소노닐) 아디페이트, 아디핀산 또는 글루타르산과 프로필렌 글리콜 또는 부틸렌 글리콜 또는 2,2-디메틸-1,3-프로판디올의 폴리에스테르, 에폭시화 오일 예컨대 에폭시화 대두 오일, 디(이소노닐) 시클로헥산-1,2-디카르복실레이트 및 그의 조합.
15. 다른 첨가제, 예를 들어 가소제, 윤활제, 유화제, 안료, 레올로지 첨가제, 촉매, 유동 제어제, 광학 증백제, 방염제, 대전방지제 및 발포제.
16. 벤조푸라논 및 인돌리논, 예를 들어 미국 4,325,863; 미국　4,338,244; 미국 5,175,312; 미국 5,216,052; 미국 5,252,643; DE-A-4316611; DE-A-4316622; DE-A-4316876; EP-A-0589839, EP-A-0591102; EP-A-1291384에 개시된 것 또는 3-[4-(2-아세톡시에톡시)페닐]-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 5,7-디-tert-부틸-3-[4-(2-스테아로일옥시-에톡시)페닐]-벤조푸란-2-온, 3,3'-비스[5,7-디-tert-부틸-3-(4-[2-히드록시에톡시]페닐)벤조푸란-2-온], 5,7-디-tert-부틸-3-(4-에톡시페닐)벤조푸란-2-온, 3-(4-아세톡시-3,5-디-메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(3,5-디메틸-4-피발로일옥시페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(3,4-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(2,3-디메틸페닐)-5,7-디-tert-부틸벤조푸란-2-온, 3-(2-아세틸-5-이소옥틸페닐)-5-이소옥틸-벤조푸란-2-온.
특정 실시양태에서, UV 흡수 기능을 갖는 본원에 개시된 광자 물질은 기재, 예를 들어 플라스틱, 목재, 섬유 또는 직물, 세라믹, 유리, 금속, 및 그의 복합 제품 상에 코팅되거나 또는 그에 혼입될 수 있다.
본 발명의 범주 및 관심은 본 발명의 특정 실시양태를 예시하도록 의도된 비제한적 하기 실시예에 기초하여 더욱 잘 이해될 것이다.
<실시예>
적용 실시예 1 내지 19에 대한 UV 측정은 다음과 같이 수행된다:
자외선 투과 스펙트럼을 배리안(Varian) 5000 UV-Vis-NIR 이중 빔 분광광도계를 사용하여 측정하였다. 측정될 플라크를 샘플 홀더에 위치시키고, 투과된 광을 200 내지 800 nm에서 1 nm 증분으로 광검출기에 의해 측정하였다. 기준 빔은 사용하지 않았다. 광검출기에 대한 측정 빔을 차단함으로써 0% 투과 기준을 결정하였다. 100% 투과 기준은 차단되지 않은 광검출기에 빔을 도달시켜 결정하였다.
합성 실시예 1: 다공성 실리카 마이크로구체
스티렌/아크릴산 공중합체를 다음과 같이 제조하였다: 탈이온 (DI) 수 230 mL를 온도계, 응축기, 자기 교반기 및 질소 분위기가 장착된 3구 반응 플라스크에 첨가하였다. 물을 80℃로 가열하고, 10 g의 스티렌을 교반하면서 첨가한 후, DI 수 10 mL에 용해된 100 mg 아크릴산을 시린지를 통해 첨가하였다. 과황산암모늄 100 mg을 DI수 10 mL 중에 용해시키고, 시린지를 통해 교반 혼합물에 첨가하였다. 반응 혼합물을 80℃에서 24시간 동안 교반하였다. 중합체 콜로이드 분산액을 실온으로 냉각시키고, 원심분리를 통해 정제하여 250 nm의 평균 입자 크기를 갖는 폴리스티렌 나노구체를 제조하였다.
수성 폴리스티렌 콜로이드 분산액을 탈이온수를 사용하여 1 wt%로 희석하고, 1 중량% 실리카 나노입자를 첨가하고, 혼합물을 초음파처리하여 입자 응집을 방지하였다. 연속 오일 상은 플루오린화 오일 중 0.1 wt%의 폴리에틸렌 글리콜/퍼플루오로폴리에테르 계면활성제를 함유하였다. 수성 콜로이드 분산액 및 오일을 각각, 펌프와 연결된 시린지를 통해 50 μm 액적 접합부를 갖는 마이크로유체 장치에 주입하였다. 시스템을 단분산 액적이 생성될 때까지 평형화시켰다. 단분산 액적은 저장소에 수집되었다.
수집된 액적을 45℃의 오븐에서 4시간 동안 건조시켜 단분산 중합체 주형 마이크로구체를 제공하였다. 중합체 주형 마이크로구체를, 실리콘 웨이퍼 상에 놓고, 3시간에 걸쳐 실온에서 500℃로 가열하고, 500℃에서 2시간 동안 유지하고, 다시 3시간에 걸쳐 실온으로 냉각시킴으로써 소성시켰다. 15 마이크로미터의 평균 직경을 갖는 단분산 실리카 마이크로구체가 제공되었다.
도 2 및 도 3은 유사한 방식으로 제조된 중합체 주형 마이크로구체 및 다공성 실리카 마이크로구체의 주사 전자 현미경 (SEM) 영상이다.
합성 실시예 2: 건조 방법
실시예 1을 반복하고, 여기서 건조 단계는 마이크로웨이브 조사, 진공 하 건조 및/또는 건조제의 존재 하 건조를 이용하였다.
합성 실시예 3: 분무-건조를 통한 다공성 실리카 마이크로구체의 제조
스티렌/아크릴산 공중합체를 다음과 같이 제조하였다: 탈이온 (DI) 수 230 mL를 온도계, 응축기, 자기 교반기 및 질소 분위기가 장착된 3구 반응 플라스크에 첨가하였다. 물을 80℃로 가열하고, 10 g의 스티렌을 교반하면서 첨가한 후, DI 수 10 mL에 용해된 100 mg 아크릴산을 시린지를 통해 첨가하였다. 과황산암모늄 100 mg을 DI수 10 mL 중에 용해시키고, 시린지를 통해 교반 혼합물에 첨가하였다. 반응 혼합물을 80℃에서 24시간 동안 교반하였다. 중합체 콜로이드 분산액을 실온으로 냉각시키고, 원심분리를 통해 정제하여 250 nm의 평균 입자 크기를 갖는 폴리스티렌 나노구체를 제조하였다.
수성 폴리스티렌 콜로이드 분산액을 탈이온수를 사용하여 1 wt%로 희석하고, 1 wt% 실리카 나노입자를 첨가하고, 혼합물을 초음파처리하여 입자 응집을 방지하였다. 수성 분산액을 분무-건조시켜 중합체 나노구체 및 실리카를 포함하는 중합체 주형 마이크로구체를 제공하였다. 마이크로구체를, 3시간에 걸쳐 실온에서 500℃로 가열하고, 500℃에서 2시간 동안 유지하고, 다시 3시간에 걸쳐 실온으로 냉각시킴으로써 소성시켰다. 다공성 실리카 마이크로구체가 제공되었다.
합성 실시예 4: 산화아연 다공성 마이크로구체
다공성 산화아연 마이크로구체의 샘플을, 실리카를 산화아연으로 대체하여 실시예 3의 절차에 따라 제조하였고, 폴리스티렌 나노구체는 230 nm의 평균 입자 크기 및 1:2의 중합체 대 산화아연의 wt/wt 비를 갖는다. 다공성 마이크로구체의 샘플 0.5 mg을 6 cm2 저부 표면을 갖는 10 mL 투명 유리 바이알에 고르게 넣었다. 샘플은 인간 눈에 뚜렷한 청색을 나타내었다.
합성 실시예 5: 실리카/티타니아 다공성 마이크로구체
실리카 및 티타니아를 함유하는 다공성 마이크로구체의 샘플을 실시예 1의 방법에 따라 제조하였고, 중합체 대 총 금속 산화물의 중량/중량 비는 3:1이다. 실리카 대 티타니아의 wt/wt 비는 9:1이다.
적용 실시예 1 내지 3
폴리프로필렌 분말 (프로팍스(Profax) 6301, 12 g/10분 용융 유량)을 240 ml 컵으로 칭량하였다. 항산화제 (이르가녹스(Irganox) B 215) 및 합성 실시예 3의 다공성 실리카 마이크로구체를 칭량하고, 상기 분말과 혼합하였다. 각각의 샘플에 대한 성분의 중량을 하기 표 1에 열거한다.
<표 1> 성분의 중량 및 농도
Figure pct00037
중합체 혼합물을 210℃로 예열된 C. W. 브라벤더 플라스티-코더(C. W. Brabender Plasti-Corder)에 넣고, 50 rpm에서 3분 동안 혼합하여 균질한 용융 혼합물을 달성하였다. 이어서, 용융된 중합체를 218℃에서 3분 동안 저압 하에, 이어서 3분 동안 고압 하에 250 μm의 두께로 압축 성형하였다. 이어서, 금형을 압축 성형기에서 3분 동안 냉각시켰다. UV-Vis 측정을 위해 시트로부터 5cm x 5cm 정사각형을 절단하였다.
적용 실시예 1 내지 3의 UV 측정 결과를 도 5에 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 다공성 마이크로구체의 첨가는 투과를 명백히 감소시킨다.
이르가녹스 B215는 하기 화학식의 화합물의 혼합물이다.
Figure pct00038
및
Figure pct00039
적용 실시예 4 내지 7
폴리프로필렌 분말 (프로팍스 6301, 12 g/10분 용융 유량)을 240 ml 컵으로 칭량하였다. 항산화제 (이르가녹스 B 215), 자외선 광 흡수제 (티누빈® PA 328) 및 합성 실시예 3의 다공성 실리카 마이크로구체를 칭량하고, 상기 분말과 혼합하였다. 각각의 샘플에 대한 성분의 중량을 하기 표 2에 열거한다.
<표 2> 성분의 중량 및 농도
Figure pct00040
중합체 혼합물을 210℃로 예열된 C. W. 브라벤더 플라스티-코더에 넣고, 50 rpm에서 3분 동안 혼합하여 균질한 용융 혼합물을 달성하였다. 이어서, 용융된 중합체를 218℃에서 3분 동안 저압 하에, 이어서 3분 동안 고압 하에 250 μm의 두께로 압축 성형하였다. 이어서, 금형을 압축 성형기에서 3분 동안 냉각시켰다. UV-Vis 측정을 위해 시트로부터 5cm x 5cm 정사각형을 절단하였다.
적용 실시예 4 내지 7의 UV 측정 결과를 도 6에 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 다공성 마이크로구체 및 자외선 광 흡수제의 혼합물의 사용은 투과를 상당히 감소시키고, 이는 특정 파장 범위에서 심지어 0에 근접하게 감소될 수 있다.
티누빈® PA 328은 하기 화학식의 화합물이다.
Figure pct00041
적용 실시예 8 및 9
폴리프로필렌 분말 (프로팍스 6301, 12 g/10분 용융 유량)을 240 ml 컵으로 칭량하였다. 항산화제 (이르가녹스 B 215), 자외선 광 흡수제 (티누빈® 326) 및 합성 실시예 3의 다공성 실리카 마이크로구체를 칭량하고, 상기 분말과 혼합하였다. 각각의 샘플에 대한 성분의 중량을 하기 표 3에 열거한다.
<표 3> 성분의 중량 및 농도
Figure pct00042
중합체 혼합물을 210℃로 예열된 C. W. 브라벤더 플라스티-코더에 넣고, 50 rpm에서 3분 동안 혼합하여 균질한 용융 혼합물을 달성하였다. 이어서, 용융된 중합체를 218℃에서 3분 동안 저압 하에, 이어서 3분 동안 고압 하에 250 μm의 두께로 압축 성형하였다. 이어서, 금형을 압축 성형기에서 3분 동안 냉각시켰다. UV-Vis 측정을 위해 시트로부터 5cm x 5cm 정사각형을 절단하였다.
적용 실시예 8 내지 9의 UV 측정 결과를 도 7에 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 다공성 마이크로구체 및 자외선 광 흡수제의 혼합물의 사용은 투과를 상당히 감소시키고, 이는 특정 파장 범위에서 심지어 0에 근접하게 감소될 수 있다.
티누빈 326®는 하기 화학식의 화합물이다.
Figure pct00043
적용 실시예 10 및 11
폴리프로필렌 분말 (프로팍스 6301, 12 g/10분 용융 유량)을 240 ml 컵으로 칭량하였다. 항산화제 (이르가녹스 B 215), 자외선 광 흡수제 (키마소르브® 81) 및 합성 실시예 3의 다공성 실리카 마이크로구체를 칭량하고, 상기 분말과 혼합하였다. 각각의 샘플에 대한 성분의 중량을 하기 표 4에 열거한다.
<표 4> 성분의 중량 및 농도
Figure pct00044
중합체 혼합물을 210℃로 예열된 C. W. 브라벤더 플라스티-코더에 넣고, 50 rpm에서 3분 동안 혼합하여 균질한 용융 혼합물을 달성하였다. 이어서, 용융된 중합체를 218℃에서 3분 동안 저압 하에, 이어서 3분 동안 고압 하에 250 μm의 두께로 압축 성형하였다. 이어서, 금형을 압축 성형기에서 3분 동안 냉각시켰다. UV-Vis 측정을 위해 시트로부터 5cm x 5cm 정사각형을 절단하였다.
적용 실시예 10 및 11의 UV 측정 결과를 도 8에 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 다공성 마이크로구체 및 자외선 광 흡수제의 혼합물의 사용은 투과를 상당히 감소시키고, 이는 특정 파장 범위에서 심지어 0에 근접하게 감소될 수 있다.
키마소르브® 81은 하기 화학식의 화합물이다.
Figure pct00045
적용 실시예 12 및 13
폴리프로필렌 분말 (프로팍스 6301, 12 g/10분 용융 유량)을 240 ml 컵으로 칭량하였다. 항산화제 (이르가녹스 B 215), 자외선 광 흡수제 (티누빈® 1577) 및 합성 실시예 3의 다공성 실리카 마이크로구체를 칭량하고, 상기 분말과 혼합하였다. 각각의 샘플에 대한 성분의 중량을 하기 표 5에 열거한다.
<표 5> 성분의 중량 및 농도
Figure pct00046
중합체 혼합물을 210℃로 예열된 C. W. 브라벤더 플라스티-코더에 넣고, 50 rpm에서 3분 동안 혼합하여 균질한 용융 혼합물을 달성하였다. 이어서, 용융된 중합체를 218℃에서 3분 동안 저압 하에, 이어서 3분 동안 고압 하에 250 μm의 두께로 압축 성형하였다. 이어서, 금형을 압축 성형기에서 3분 동안 냉각시켰다. UV-Vis 측정을 위해 시트로부터 5cm x 5cm 정사각형을 절단하였다.
적용 실시예 12 및 13의 UV 측정 결과를 도 9에 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 다공성 마이크로구체 및 자외선 광 흡수제의 혼합물의 사용은 투과를 상당히 감소시키고, 이는 특정 파장 범위에서 심지어 0에 근접하게 감소될 수 있다.
티누빈 1577®는 하기 화학식의 화합물이다.
Figure pct00047
적용 실시예 14 및 15
폴리프로필렌 분말 (프로팍스 6301, 12 g/10분 용융 유량)을 240 ml 컵으로 칭량하였다. 항산화제 (이르가녹스 B 215), 자외선 광 흡수제 (유비눌® 3035), 및 합성 실시예 3의 다공성 실리카 마이크로구체를 칭량하고, 상기 분말과 혼합하였다. 각각의 샘플에 대한 성분의 중량을 하기 표 6에 열거한다.
<표 6> 성분의 중량 및 농도
Figure pct00048
중합체 혼합물을 210℃로 예열된 C. W. 브라벤더 플라스티-코더에 넣고, 50 rpm에서 3분 동안 혼합하여 균질한 용융 혼합물을 달성하였다. 이어서, 용융된 중합체를 218℃에서 3분 동안 저압 하에, 이어서 3분 동안 고압 하에 250 μm의 두께로 압축 성형하였다. 이어서, 금형을 압축 성형기에서 3분 동안 냉각시켰다. UV-Vis 측정을 위해 시트로부터 5cm x 5cm 정사각형을 절단하였다.
적용 실시예 14 및 15의 UV 측정 결과를 도 10에 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 다공성 마이크로구체 및 자외선 광 흡수제의 혼합물의 사용은 투과를 상당히 감소시키고, 이는 특정 파장 범위에서 심지어 0에 근접하게 감소될 수 있다.
유비눌 3035®는 하기 화학식의 화합물이다.
Figure pct00049
적용 실시예 16 및 17
폴리에틸렌 분말 (마이크로텐(Microthene) MN 700 LDPE, 20 g/10분 용융 유량)을 240 ml 컵으로 칭량하였다. 항산화제 (이르가녹스 B 215), 자외선 광 흡수제 (티누빈® 326) 및 합성 실시예 3의 다공성 실리카 마이크로구체를 칭량하고, 상기 분말과 혼합하였다. 각각의 샘플에 대한 성분의 중량을 하기 표 7에 열거한다.
<표 7> 성분의 중량 및 농도
Figure pct00050
중합체 혼합물을 210℃로 예열된 C. W. 브라벤더 플라스티-코더에 넣고, 50 rpm에서 3분 동안 혼합하여 균질한 용융 혼합물을 달성하였다. 이어서, 용융된 중합체를 218℃에서 3분 동안 저압 하에, 이어서 3분 동안 고압 하에 250 μm의 두께로 압축 성형하였다. 이어서, 금형을 압축 성형기에서 3분 동안 냉각시켰다. UV-Vis 측정을 위해 시트로부터 5cm x 5cm 정사각형을 절단하였다.
적용 실시예 16 및 17의 UV 측정 결과를 도 11에 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 다공성 마이크로구체 및 자외선 광 흡수제의 혼합물의 사용은 투과를 상당히 감소시키고, 이는 특정 파장 범위에서 심지어 0에 근접하게 감소될 수 있다.
적용 실시예 18 및 19
폴리에틸렌 분말 (마이크로텐 MN 700 LDPE, 20 g/10분 용융 유량)을 240 ml 컵으로 칭량하였다. 항산화제 (이르가녹스 B 215), 자외선 광 흡수제 (키마소르브® 81) 및 합성 실시예 3의 다공성 실리카 마이크로구체를 칭량하고, 상기 분말과 혼합하였다. 각각의 샘플에 대한 성분의 중량을 하기 표 8에 열거한다.
<표 8> 성분의 중량 및 농도
Figure pct00051
중합체 혼합물을 210℃로 예열된 C. W. 브라벤더 플라스티-코더에 넣고, 50 rpm에서 3분 동안 혼합하여 균질한 용융 혼합물을 달성하였다. 이어서, 용융된 중합체를 218℃에서 3분 동안 저압 하에, 이어서 3분 동안 고압 하에 250 μm의 두께로 압축 성형하였다. 이어서, 금형을 압축 성형기에서 3분 동안 냉각시켰다. UV-Vis 측정을 위해 시트로부터 5cm x 5cm 정사각형을 절단하였다.
적용 실시예 18 및 19의 UV 측정 결과를 도 12에 도시한다. 알 수 있는 바와 같이, 다공성 마이크로구체 및 자외선 광 흡수제의 혼합물의 사용은 투과를 상당히 감소시키고, 이는 특정 파장 범위에서 심지어 0에 근접하게 감소될 수 있다.
파단 신율
적용 실시예의 샘플을 가속 광 풍화를 위해 아틀라스 웨더-O-미터(Atlas Weather-O-Meter) (WOM, ASTM G155에 따름, 340 nm에서 0.35 W/m2, 건조 사이클)에서 노출시킬 수 있다. 필름 샘플의 시편을 노출 후 규정된 시간 간격으로 취하고, 인장 시험을 수행하였다. 잔류 인장 강도를 츠빅(Zwick)® Z1.0 일정 속도 장력계 (변형된 ISO 527에 따름)에 의해 측정하여 그의 산화 후 중합체 분해의 결과로서의 샘플의 기계적 특성의 감쇠를 평가하였다. 적용 실시예 2, 3, 6, 7, 9, 11, 13, 15, 17 및 19의 샘플에 대해, 1000시간 WOM 처리 후 잔류 파단 신율 (초기값에 대한 %로서)은 50% 초과이다.

Claims (16)

  1. 형상화 인공 중합체 물품에 대한 광 안정화제로서의 다공성 금속 산화물 마이크로구체의 용도이며, 여기서
    중합체는 합성 중합체 및/또는 천연 또는 합성 엘라스토머이고,
    다공성 금속 산화물 마이크로구체는 금속 산화물을 포함하고,
    중합체 나노입자 및 금속 산화물의 액체 분산액을 형성하는 단계;
    분산액의 액체 액적을 형성하는 단계;
    액체 액적을 건조시켜 중합체 나노구체 및 금속 산화물을 포함하는 중합체 주형 마이크로구체를 제공하는 단계; 및
    중합체 나노구체를 주형 마이크로구체로부터 제거하여 다공성 금속 산화물 마이크로구체를 제공하는 단계
    를 포함하는 방법에 의해 제조되고,
    여기서 마이크로구체는
    0.5 μm 내지 100 μm의 평균 직경,
    0.10 내지 0.80의 평균 다공도, 및
    50 nm 내지 999 nm의 평균 세공 직경
    을 갖는 것인 용도.
  2. 제1항에 있어서, 금속 산화물이 실리카, 티타니아, 알루미나, 지르코니아, 세리아, 산화철, 산화아연, 산화인듐, 산화주석, 산화크로뮴 및 그의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택되는 것인 용도.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 다공성 금속 산화물 마이크로구체가 마이크로구체의 총 중량을 기준으로 50.0 wt% 내지 99.9 wt%의 금속 산화물을 포함하는 것인 용도.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 다공성 금속 산화물 마이크로구체가 1 μm 내지 75 μm의 평균 직경을 갖는 것인 용도.
  5. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 다공성 금속 산화물 마이크로구체가 0.45 내지 0.65의 평균 다공도를 갖는 것인 용도.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 다공성 금속 산화물 마이크로구체가 50 nm 내지 800 nm의 평균 세공 직경을 갖는 것인 용도.
  7. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 다공성 금속 산화물 마이크로구체가
    1 μm 내지 75 μm의 평균 직경,
    0.45 내지 0.65의 평균 다공도, 및
    50 nm 내지 800 nm의 평균 세공 직경
    을 갖는 것인 용도.
  8. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 다공성 금속 산화물 마이크로구체가
    4.5 μm 내지 9.9 μm의 평균 직경;
    0.45 내지 0.65의 평균 다공도; 및
    220 nm 내지 300 nm의 평균 세공 직경
    을 갖는 것인 용도.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 다공성 금속 산화물 마이크로구체가 형상화 인공 중합체 물품의 중량을 기준으로 0.01 wt% 내지 20.0 wt%의 농도로 사용되는 것인 용도.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서, 다공성 금속 산화물 마이크로구체가 2-히드록시페닐트리아진, 벤조트리아졸, 2-히드록시벤조페논, 옥살아닐리드, 신나메이트 및 벤조에이트로 이루어진 군으로부터 선택되는 1종 이상의 UV 흡수제와 조합하여 사용되는 것인 용도.
  11. 제10항에 있어서, 1종 이상의 UV 흡수제가 형상화 인공 중합체 물품의 중량을 기준으로 0.01 중량% 내지 20.0 중량%의 농도로 사용되는 것인 용도.
  12. 제1항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서, 형상화 인공 중합체 물품이 장애 아민 광 안정화제 (HALS)를 포함하는 것인 용도.
  13. 제1항 내지 제12항 중 어느 한 항에 있어서, 형상화 인공 중합체 물품이 압출, 캐스팅, 방사, 성형 또는 캘린더링된 형상화 인공 중합체 물품인 용도.
  14. 제1항 내지 제13항 중 어느 한 항에 있어서, 형상화 인공 중합체 물품이 필름, 파이프, 케이블, 테이프, 시트, 용기, 프레임, 섬유 또는 모노필라멘트인 용도.
  15. 중합체가 합성 중합체 및/또는 천연 또는 합성 엘라스토머이고, 중합체가 제1항에 정의된 바와 같은 다공성 금속 산화물 마이크로구체를 함유하는 것인 형상화 인공 중합체 물품.
  16. 중합체가 합성 중합체 및/또는 천연 또는 합성 엘라스토머이고, 중합체가 제1항에 정의된 바와 같은 다공성 금속 산화물 마이크로구체를 함유하는 것인, 압출, 캐스팅, 방사, 성형 또는 캘린더링된 중합체 조성물.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN116670215A (zh) * 2021-01-05 2023-08-29 巴斯夫欧洲公司 稳定成型聚合物制品以抗人造uv-c光诱发的降解
EP4403597A1 (en) * 2021-09-13 2024-07-24 Mitsubishi Chemical Corporation Recycled plastic film, use of plastic film as recycled raw material, plastic film for recycled raw material, and method for producing recycled plastic film
TW202344579A (zh) * 2022-01-18 2023-11-16 德商巴地斯顏料化工廠 具有閉孔金屬氧化物粒子之成型人造聚合物製品
CN115028447B (zh) * 2022-05-27 2023-03-24 北京科技大学 一种基于相分离的亚微米级氧化锆陶瓷微球及其制备方法和应用

Family Cites Families (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2500092C3 (de) 1975-01-03 1978-10-12 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Verzweigte, hochmolekulare, thermoplastische und lösliche Polycarbonate
US4185009A (en) 1975-01-03 1980-01-22 Bayer Aktiengesellschaft Branched, high-molecular weight thermoplastic polycarbonates
GB2044272B (en) 1979-02-05 1983-03-16 Sandoz Ltd Stabilising polymers
US5175312A (en) 1989-08-31 1992-12-29 Ciba-Geigy Corporation 3-phenylbenzofuran-2-ones
US5367044A (en) 1990-10-12 1994-11-22 General Electric Company Blow molded article molded from a composition comprising a randomly branched aromatic polymer
US5252643A (en) 1991-07-01 1993-10-12 Ciba-Geigy Corporation Thiomethylated benzofuran-2-ones
TW206220B (ko) 1991-07-01 1993-05-21 Ciba Geigy Ag
TW260686B (ko) 1992-05-22 1995-10-21 Ciba Geigy
NL9300801A (nl) 1992-05-22 1993-12-16 Ciba Geigy 3-(acyloxyfenyl)benzofuran-2-on als stabilisatoren.
GB2267490B (en) 1992-05-22 1995-08-09 Ciba Geigy Ag 3-(Carboxymethoxyphenyl)benzofuran-2-one stabilisers
TW255902B (ko) 1992-09-23 1995-09-01 Ciba Geigy
MX9305489A (es) 1992-09-23 1994-03-31 Ciba Geigy Ag 3-(dihidrobenzofuran-5-il)benzofuran-2-onas, estabilizadores.
DE4240313A1 (de) 1992-12-01 1994-06-09 Bayer Ag Polycarbonate für optische Datenträger
DE19943642A1 (de) 1999-09-13 2001-03-15 Bayer Ag Behälter
DE10047483A1 (de) 2000-09-26 2002-04-11 Bayer Ag Verwendung von Copolycarbonaten
TW593303B (en) 2001-09-11 2004-06-21 Ciba Sc Holding Ag Stabilization of synthetic polymers
US20030214070A1 (en) 2002-05-08 2003-11-20 General Electric Company Multiwall polycarbonate sheet and method for its production
US7365124B2 (en) 2004-03-31 2008-04-29 General Electric Company Flame retardant resin blends based on polymers derived from 2-hydrocarbyl-3,3-bis(4-hydroxyaryl)phthalimidine monomers
DE102004022673A1 (de) 2004-05-07 2005-11-24 Bayer Materialscience Ag Copolycarbonate mit verbesserter Fließfähigkeit
CN1730542B (zh) * 2005-07-29 2010-05-05 上海普利特复合材料有限公司 低气味丙烯腈-丁二烯-苯乙烯三元共聚树脂材料及其制备方法
DE102006046330A1 (de) 2006-09-28 2008-04-03 Bayer Materialscience Ag Polycarbonate und Copolycarbonate mit verbesserter Metallhaftung
CN101990555A (zh) * 2007-12-21 2011-03-23 巴斯夫欧洲公司 纳米结构的uv吸收剂
CN101670280B (zh) * 2009-09-27 2011-04-27 山东大学 一种高活性面二氧化钛微球光催化剂及其制备方法
CN101937989A (zh) * 2010-08-13 2011-01-05 上海中科深江电动车辆有限公司 锂离子电池三维纳米多孔金属氧化物电极材料及其制备方法
GB2497105B (en) * 2011-12-01 2014-07-23 Thermo Electron Mfg Ltd Process for the preparation of porous silica particles
US9358533B2 (en) * 2012-12-20 2016-06-07 Basf Corporation Hollow microsphere catalyst support and methods of making same
ES2652153T3 (es) * 2013-07-08 2018-01-31 Dsm Ip Assets B.V. Composición protectora de UV que comprende un filtro UV, un organopolisiloxano funcionalizado con un absorbente de UV y partículas porosas de sílice y/o de poli(metacrilato de metilo)
CN104418972B (zh) * 2013-08-26 2017-04-05 中国科学院化学研究所 光子晶体胶囊颜料及其制备方法和应用
CN108384061B (zh) * 2018-01-31 2020-03-17 潍坊学院 一种塑料用耐热复合光稳定剂及其制备方法

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