JP6149314B2 - 透明材料の高速レーザ処理 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 24
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 title description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 272
- 230000006378 damage Effects 0.000 claims description 137
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 133
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 91
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 69
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 69
- 230000003993 interaction Effects 0.000 claims description 24
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 17
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 15
- 101100495436 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) CSE4 gene Proteins 0.000 claims description 14
- 101100166255 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) CEP3 gene Proteins 0.000 claims description 13
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 12
- 238000013519 translation Methods 0.000 claims description 11
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 6
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 claims description 3
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 claims 1
- 230000035882 stress Effects 0.000 description 73
- 239000005341 toughened glass Substances 0.000 description 50
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 18
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 18
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 13
- 230000001965 increasing effect Effects 0.000 description 11
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 10
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 9
- 238000002679 ablation Methods 0.000 description 8
- 230000002269 spontaneous effect Effects 0.000 description 8
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 6
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 6
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 5
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 5
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 description 4
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 description 4
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 4
- 208000010392 Bone Fractures Diseases 0.000 description 3
- 206010017076 Fracture Diseases 0.000 description 3
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 239000002090 nanochannel Substances 0.000 description 3
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 3
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 2
- 239000013590 bulk material Substances 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 230000001976 improved effect Effects 0.000 description 2
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 230000013011 mating Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 238000001878 scanning electron micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 2
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 2
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 2
- 230000005461 Bremsstrahlung Effects 0.000 description 1
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 1
- 241001465754 Metazoa Species 0.000 description 1
- 206010034156 Pathological fracture Diseases 0.000 description 1
- 101100371160 Saccharomyces cerevisiae (strain ATCC 204508 / S288c) TSL1 gene Proteins 0.000 description 1
- 208000005250 Spontaneous Fractures Diseases 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000002079 cooperative effect Effects 0.000 description 1
- 210000004087 cornea Anatomy 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000001066 destructive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 238000000752 ionisation method Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 1
- 238000001208 nuclear magnetic resonance pulse sequence Methods 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007781 pre-processing Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000002407 reforming Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 description 1
- 239000007779 soft material Substances 0.000 description 1
- 210000004872 soft tissue Anatomy 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 230000008646 thermal stress Effects 0.000 description 1
- 210000001519 tissue Anatomy 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 238000002604 ultrasonography Methods 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
- C03B33/02—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
- C03B33/0222—Scoring using a focussed radiation beam, e.g. laser
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/352—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment
- B23K26/359—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring for surface treatment by providing a line or line pattern, e.g. a dotted break initiation line
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/36—Removing material
- B23K26/40—Removing material taking account of the properties of the material involved
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/50—Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece
- B23K26/53—Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece for modifying or reforming the material inside the workpiece, e.g. for producing break initiation cracks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
- C03B33/02—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor
- C03B33/023—Cutting or splitting sheet glass or ribbons; Apparatus or machines therefor the sheet or ribbon being in a horizontal position
- C03B33/033—Apparatus for opening score lines in glass sheets
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K2103/00—Materials to be soldered, welded or cut
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Description
Claims (15)
- ベッセル型パルスレーザビーム(14)を用いて層状材料(31)をレーザで予備切断する方法であって、
前記層状材料(31)は、
少なくとも1つの引張応力層(TSL)と、
少なくとも1つの圧縮応力層(CSL1、CSL2)と、
前記少なくとも1つの引張応力層(TSL)と前記少なくとも1つの圧縮応力層(CSL1、CSL2)との間の少なくとも1つのインタフェース領域(IR1、IR2)と、
を備え、かつ
前記層状材料(31)は前記レーザビーム(14)が前記層状材料(31)中を伝播するように透明であって、
前記方法は、
前記レーザビーム(14)と前記層状材料(31)との相互作用により、前記層状材料(31)内に伸長した単一レーザパルス損傷領域(57)が生成されるように、光学ビーム経路(8)と前記レーザビーム(14)のレーザ特性とを設定することと、
前記層状材料(31)の一連の予備切断位置(XN−1、XN、XN+1)のそれぞれに対して、前記伸長した単一レーザパルス損傷領域(57)のそれぞれが前記少なくとも1つのインタフェース領域(IR1、IR2)を横断して延伸するように、前記層状材料(31)と前記レーザビーム(14)とを相互に位置決めするとともに前記レーザビーム(14)を照射することによって、前記層状材料(31)の予備切断を行うことと、
を含み、
レーザパルスが互いに直後に続く複数のレーザパルスの、複数の単一レーザパルス損傷領域は、第1の走査順序に対しては前記材料内において第1のレベルで、かつ第2の走査順序に対しては前記材料内において第2のレベルで、互いにずれている、
方法。 - 前記伸長した損傷領域は、アスペクト比が、10〜1000の範囲であることと、
隣接する伸長した損傷領域間の距離(dx)は、0.5μmから4μmの範囲であることと、
レーザパルスの持続時間は、1ps〜100psの範囲であることと、
前記ベッセル型パルスレーザビームは、円錐半角(θ)が4°から30°の範囲であることと、のうちの少なくとも1つを特徴とするように、前記光学ビーム経路(8)と、前記レーザビーム(14)の前記レーザ特性とが設定される、請求項1に記載の方法。 - 前記層状材料(31)は、前面(33)を備え、前記少なくとも1つの引張応力層(TSL)又は前記少なくとも1つの圧縮応力層(CSL1、CSL2)が、前記前面(33)と前記少なくとも1つのインタフェース領域(IR1、IR2)の間に配置され、かつ前記予備切断は、前記伸長した損傷領域(57)のそれぞれが前記前面(33)から前記少なくとも1つの引張応力層(TSL)又は前記少なくとも1つの圧縮応力層(CSL1、CSL2)を貫通し、かつ前記少なくとも1つのインタフェース領域(IR1、IR2)を横断してそれぞれの隣接する層へ延伸するように実行される、又は、
前記層状材料(31)は、背面(35)を備え、前記少なくとも1つの引張応力層(TSL)又は前記少なくとも1つの圧縮応力層(CSL1、CSL2)が、前記背面(35)と前記少なくとも1つのインタフェース領域(IR1、IR2)の間に配置され、かつ前記予備切断は、前記伸長した損傷領域(57)のそれぞれが前記背面(35)から前記少なくとも1つの引張応力層(TSL)又は前記少なくとも1つの圧縮応力層(CSL1、CSL2)を貫通し、かつ前記少なくとも1つのインタフェース領域(IR1、IR2)を横断して前記それぞれの隣接する層へ延伸するように実行される、
請求項1又は請求項2に記載の方法。 - 前記層状材料(31)は一対のインタフェース領域(IR1、IR2)の間に位置する、中央引張応力層(TSL)又は中央圧縮応力層を備え、
前記予備切断は、前記伸長した損傷領域(57)のそれぞれが前記中央引張応力層(TSL)又は前記中央圧縮応力層の少なくとも30%まで延伸するように遂行される、請求項1〜請求項3のいずれか一項に記載の方法。 - 前記予備切断は、前記伸長した損傷領域(57)のそれぞれが前記層状材料(31)の少なくとも50%まで延伸するように遂行される、請求項1〜請求項4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記予備切断は、隣接する伸長した損傷領域(57)が少なくとも1μmの距離だけ相互にずれている、又は前記隣接する伸長した損傷領域間の距離(dx)が1μm〜4μmの範囲であるように、前記隣接する伸長した損傷領域(57)に対して遂行される、請求項1〜請求項5のいずれか一項に記載の方法。
- 前記レーザビーム(14)はベッセル型パルスレーザビーム又はフィラメント形成ガウシアンビームであり、かつ
前記予備切断は、前記伸長した損傷領域(57)が単一レーザパルス損傷領域となるようにそれぞれの予備切断位置(XN−1、XN、XN+1)に対して単一レーザパルスで遂行され、前記層状材料(31)は、前記ベッセル型パルスレーザビーム又は前記フィラメント形成ガウシアンビームが前記材料中を伝播するときに、単一光子吸収に対して透明である、請求項1〜請求項6に記載の方法。 - 少なくとも1つの引張応力層(TSL)と、少なくとも1つの圧縮応力層(CSL1、CSL2)と、前記少なくとも1つの引張応力層(TSL)と前記少なくとも1つの圧縮応力層(CSL1、CSL2)との間の少なくとも1つのインタフェース領域(IR1、IR2)とを備える材料(31)から材料部分(67、69)を分離する方法であって、
層状の前記材料(31)を請求項1〜請求項6のいずれか一項に記載の方法によって予備切断し、それにより少なくとも1つのインタフェース領域(IR1、IR2)を横断して延伸する伸長した損傷領域(57)を分離線に沿って形成すること、及び、
前記一連の予備切断位置(XN−1、XN、XN+1)を横断して作用する分離力(66)を前記層状材料(31)に加えて、前記一連の予備切断位置(XN−1、XN、XN+1)に沿って前記層状材料(31)を劈開することと、
前記層状材料に横断的に温度差を与えることと、
前記伸長した損傷領域(57)の程度が、1秒〜60分の時間間隔の後に、前記応力層の内部ストレスによって前記材料部分の自己分離が始動されるのに十分な程度であることと、のうちの少なくとも1つを含む、方法。 - ベッセル型パルスレーザビーム(14)で材料(3、31)をレーザ予備切断するための方法であって、
前記材料(3、31)は前記ベッセル型パルスレーザビームが前記材料(3、31)中を伝播する際に、単一光子吸収に関して透明であり、
単一レーザパルスはパルス持続時間が1ps〜100psの範囲であり、円錐半角が7°〜12°の範囲であることを特徴とし、かつ、単一レーザパルスが前記材料(3、31)と相互作用して前記材料(3、31)内に前記材料(3、31)の厚さの少なくとも50%まで延伸する、伸長した単一のレーザパルス損傷領域(57)を生成するように、光学ビーム経路(8)と前記ベッセル型パルスレーザビーム(14)のレーザ特性とを設定することと、
レーザパルスが互いに直後に続く複数のレーザパルスの、複数の単一レーザパルス損傷領域が、第1の走査順序に対しては前記材料内において第1のレベルで、かつ第2の走査順序に対しては前記材料内において第2のレベルで、互いにずれるように、前記パルスレーザビームを前記材料(3、31)に沿って走査することによって前記材料(3、31)を予備切断することと、
を含む方法。 - 前記材料(3、31)は板状の形状を有し、レーザビームの走査は前記板の伸長方向に実行されて、隣接する伸長した単一レーザパルス損傷領域は互いに、前記単一レーザパルス損傷領域(57)内に存在する前記ベッセル型パルスレーザビーム(14)のコア(21)の半値全幅におけるビームウェストの少なくとも80%の最小距離だけ、又は少なくとも1μmだけ相互にずれている、又は、隣接する伸長した単一レーザパルス損傷領域(57)の前記ずれ(dx)は、第1のパルスの第1の単一レーザパルス損傷領域が、前記第1の単一レーザパルス損傷領域の隣の第2の単一レーザパルス損傷領域を生成する第2のパルスの伝播には影響を及ぼさないように選択される、請求項1〜請求項9のいずれか一項に記載の方法。
- 光学的絶縁破壊による光イオン化方式における多光子過程が前記単一レーザパルス損傷の基礎を成すプロセスとなるように光学ビーム経路(8)とレーザ特性とが選択され、それによって前記光学ビーム経路(8)と前記ベッセル型パルスレーザビーム(14)のレーザ特性とのパラメータに対する損傷閾値が画定される、又は、前記多光子過程に電子なだれ光イオン化を伴うようにパルス持続時間(τ)が選択される、請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法。
- 前記材料(3、31)の厚さ(DS)に関する情報を受信し、
前記材料(3、31)を事前設定の破断品質で破断するのに必要な前記伸長した単一レーザパルス損傷領域(57)の最小長さを決定し、
前記予備切断のために、前記最小長さに対応する最小レーザパルスエネルギより大きいパルスエネルギ(E)を決定し、
前記最小レーザパルスエネルギと設定された円錐半角に対して、単一レーザパルス損傷のためのレーザパルス持続時間の閾値より長いパルス持続時間を選択するか、又は最終フォーカスレンズの前で前記ベッセル型パルスレーザビームのビーム直径を選択し、
少なくとも前記最小レーザパルスエネルギと設定されたパルス持続時間に対して、円錐半角の閾値より大きい円錐半角を選択し、
前記レーザパルスエネルギと、前記円錐半角と、前記パルス持続時間の少なくとも1つを選択する、
ことを更に含み、
前記単一レーザパルス損傷領域(57)が少なくとも前記最小長さよりも長く延伸し、又は、前記ベッセル型パルスレーザビーム(14)のピークフルエンスが少なくとも決定された前記最小長さに対する光学的破断の閾値よりも大きいまま維持される、請求項1〜請求項11のいずれか一項に記載の方法。 - 材料(3、31)から材料部分(67、69)を分離する方法であって、
前記材料(3、31)はベッセル型パルスレーザビーム(14)が前記材料(3、31)中を伝播する際に、単一光子吸収に関して透明であり、
請求項1、6、9及び10のいずれか一項に記載の方法に従って前記材料(3、31)を予備切断し、それによって切断経路(25)に沿って、一連の予備切断位置(XN−1、XN、XN+1)に伸長した単一レーザパルス損傷領域(57)を形成することと、
前記一連の予備切断位置(XN−1、XN、XN+1)を横断して作用する分離力(66)を前記材料(3、31)に加えて前記一連の予備切断位置(XN−1、XN、XN+1)に沿って前記材料(3、31)を劈開するか、前記層状材料に横断的に温度差を与えるか、前記伸長した損傷領域(57)の程度が、時間間隔の後に、前記応力層の内部ストレスによって前記材料部分の自己分離が始動されるのに十分な程度であるか、の少なくとも1つと、
を含む方法。 - 前記伸長した損傷領域は、アスペクト比が、10から1000の範囲であることと、
隣接する伸長した損傷領域間の距離(dx)は、0.5μmから4μmの範囲であることと、
レーザパルスの持続時間は、1ps〜100psの範囲であることと、
前記ベッセル型パルスレーザビームは、円錐半角(θ)が4°から30°の範囲であることと、のうちの少なくとも1つを特徴とし、
前記予備切断位置(XN−1、XN、XN+1)は、直線部分及び曲線部分の少なくとも一方を含む分離線上に配置される、
ように前記光学ビーム経路(8)と、前記レーザビーム(14)の前記レーザ特性とが設定される、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。 - ベッセル型パルスレーザビーム(14)で材料(3、31)を予備切断するためのレーザ処理システム(1)であって、
前記材料(3、31)は前記ベッセル型パルスレーザビーム(14)が前記材料(3、31)中を伝播する際に、単一光子吸収に関して透明であり、
レーザパルスの持続時間(τ)が1ps〜100psの範囲であるように、パルスレーザビームを提供するレーザ光源(5)と、
前記パルスレーザビームを前記レーザ光源(5)から前記材料(3、31)へ案内し、前記パルスレーザビームをベッセル型パルスレーザビーム(14)へ変換するための光学系(7)と、
前記材料(3、31)を前記ベッセル型パルスレーザビームに対して位置決めするための並進機構(9)と、
前記ベッセル型パルスレーザビーム(14)の単一レーザパルスが前記材料(3、31)と相互作用して前記材料(3、31)内に前記材料(3、31)の厚さ(DS)の少なくとも50%まで延伸する、伸長した単一パルス損傷領域(57)を生成するように光学ビーム経路(8)と前記ベッセル型パルスレーザビーム(14)のレーザ特性とを設定し、前記材料(3、31)の一連の予備切断位置(XN−1、XN、XN+1)のそれぞれに対して、連続する複数のレーザパルスの複数の単一レーザパルス損傷領域(57)が相互に2μmから50μmの範囲の距離(dx)だけずれるように前記材料(3、31)と前記ベッセル型パルスレーザビーム(14)とを相互に位置決めするとともに前記ベッセル型パルスレーザビーム(14)を照射することによって、前記材料(3、31)を予備切断するように構成された制御ユニットと、
を備え、
レーザパルスが互いに直後に続く複数のレーザパルスの、複数の単一レーザパルス損傷領域(57)が、第1の走査順序に対しては前記材料内において第1のレベルで、かつ第2の走査順序に対しては前記材料内において第2のレベルで、互いにずらされる、
レーザ処理システム。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2012/073099 WO2014079478A1 (en) | 2012-11-20 | 2012-11-20 | High speed laser processing of transparent materials |
EPPCT/EP2012/073099 | 2012-11-20 | ||
PCT/EP2013/003508 WO2014079570A1 (en) | 2012-11-20 | 2013-11-20 | High speed laser processing of transparent materials |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017000471A Division JP6275886B2 (ja) | 2012-11-20 | 2017-01-05 | 透明材料の高速レーザ処理 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016503383A JP2016503383A (ja) | 2016-02-04 |
JP6149314B2 true JP6149314B2 (ja) | 2017-06-21 |
Family
ID=47221400
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015543336A Expired - Fee Related JP6149314B2 (ja) | 2012-11-20 | 2013-11-20 | 透明材料の高速レーザ処理 |
JP2017000471A Expired - Fee Related JP6275886B2 (ja) | 2012-11-20 | 2017-01-05 | 透明材料の高速レーザ処理 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017000471A Expired - Fee Related JP6275886B2 (ja) | 2012-11-20 | 2017-01-05 | 透明材料の高速レーザ処理 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9850159B2 (ja) |
EP (3) | EP3246296B1 (ja) |
JP (2) | JP6149314B2 (ja) |
KR (2) | KR101793351B1 (ja) |
CN (1) | CN104968620B (ja) |
LT (3) | LT3241809T (ja) |
WO (2) | WO2014079478A1 (ja) |
Families Citing this family (100)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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MY184075A (en) | 2010-07-12 | 2021-03-17 | Rofin Sinar Tech Inc | Method of material processing by laser filamentation |
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-
2012
- 2012-11-20 WO PCT/EP2012/073099 patent/WO2014079478A1/en active Application Filing
-
2013
- 2013-11-20 US US14/443,751 patent/US9850159B2/en active Active
- 2013-11-20 KR KR1020157016330A patent/KR101793351B1/ko active IP Right Grant
- 2013-11-20 LT LTEP17175585.3T patent/LT3241809T/lt unknown
- 2013-11-20 CN CN201380060470.0A patent/CN104968620B/zh active Active
- 2013-11-20 EP EP17175584.6A patent/EP3246296B1/en active Active
- 2013-11-20 EP EP13802876.6A patent/EP2922793B1/en active Active
- 2013-11-20 EP EP17175585.3A patent/EP3241809B1/en active Active
- 2013-11-20 JP JP2015543336A patent/JP6149314B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2013-11-20 LT LTEP13802876.6T patent/LT2922793T/lt unknown
- 2013-11-20 KR KR1020177008496A patent/KR101818409B1/ko active IP Right Grant
- 2013-11-20 LT LTEP17175584.6T patent/LT3246296T/lt unknown
- 2013-11-20 WO PCT/EP2013/003508 patent/WO2014079570A1/en active Application Filing
-
2017
- 2017-01-05 JP JP2017000471A patent/JP6275886B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
LT3246296T (lt) | 2020-06-10 |
EP3241809A1 (en) | 2017-11-08 |
CN104968620A (zh) | 2015-10-07 |
JP2017064795A (ja) | 2017-04-06 |
WO2014079478A1 (en) | 2014-05-30 |
KR101793351B1 (ko) | 2017-11-02 |
EP2922793A1 (en) | 2015-09-30 |
WO2014079570A1 (en) | 2014-05-30 |
EP2922793B1 (en) | 2017-08-02 |
EP3241809B1 (en) | 2020-06-17 |
LT2922793T (lt) | 2018-07-25 |
KR20170042793A (ko) | 2017-04-19 |
EP3246296B1 (en) | 2020-05-13 |
EP3246296A1 (en) | 2017-11-22 |
CN104968620B (zh) | 2018-06-05 |
KR20150087369A (ko) | 2015-07-29 |
KR101818409B1 (ko) | 2018-01-12 |
JP2016503383A (ja) | 2016-02-04 |
US20150299018A1 (en) | 2015-10-22 |
US9850159B2 (en) | 2017-12-26 |
LT3241809T (lt) | 2020-10-26 |
JP6275886B2 (ja) | 2018-02-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160627 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20160928 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20160928 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20160928 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20160929 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170105 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170116 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170131 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170302 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170428 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6149314 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |