JP5784618B2 - 多面体構造ポリシロキサン変性体、多面体構造ポリシロキサン系組成物、硬化物、及び、光半導体デバイス - Google Patents
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Description
しかしながら、依然、白色LEDのような高い耐熱性、耐光性が求められる用途での使用は困難であり、耐冷熱衝撃性も満足できる材料ではなかった。
しかしながら、該当技術で使用しているシリコーン樹脂自体のガスバリア性は低く、アクリル系樹脂でコーティング処理を行った後に、別途シリコーン樹脂で封止する等、手間がかかり、生産性に問題があった。
例えば、特許文献4において、多面体構造を有するポリシロキサン変性体を用いた組成物が開示されており、この材料は、成型加工性、透明性、耐熱・耐光性、接着性に優れている。しかしながら、組成物の粘度(ハンドリング性)やガスバリア性についてはさらなる改良の余地も残されていた。
上記多面体構造ポリシロキサン変性体は1分子中にアルケニル基を1個有する有機ケイ素化合物(a′)に由来する構造を有することを特徴とする多面体構造ポリシロキサン変性体。
[AR1 2SiO−SiO3/2]a[R2 3SiO−SiO3/2]b
(a+bは6〜24の整数、aは1以上の整数、bは0または1以上の整数;Aは、アルケニル基;R1は、アルキル基またはアリール基;R2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基)
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物であることを特徴とする(1)〜(7)のいずれかに記載の多面体構造ポリシロキサン変性体。
[XR3 2SiO−SiO3/2]a[R4 3SiO−SiO3/2]b
[a+bは6〜24の整数、aは1以上の整数、bは0または1以上の整数;R3は、アルキル基またはアリール基;R4は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基;Xは、下記一般式(1)あるいは一般式(2)のいずれかの構造を有し、Xが複数ある場合は一般式(1)あるいは一般式(2)の構造が異なっていても良くまた一般式(1)あるいは一般式(2)の構造が混在していても良い。
−[CH2]l−R5 (3)
(lは2以上の整数;R5は有機ケイ素化合物を含有する基);Rは、アルキル基またはアリール基}]
で表されるシロキサン単位から構成されることを特徴とする多面体構造ポリシロキサン変性体。
であることを特徴とする(13)に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
また、本発明によれば、上述した特性を有する多面体構造ポリシロキサン系組成物の配合物として好適な多面体構造ポリシロキサン変性体を提供することができる。
さらに、本発明によれば、高い耐熱性、耐光性を有し、ガスバリア性および耐冷熱衝撃性に優れた硬化物、並びに、このような特性を備えた封止剤を備えた光半導体デバイスを提供することができる。
まず、本発明の多面体構造ポリシロキサン変性体について説明する。
本発明の多面体構造ポリシロキサン変性体は、アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)と、ヒドロシリル基を有する化合物(b)をヒドロシリル化反応することにより得られる多面体構造ポリシロキサン変性体であって、
上記多面体構造ポリシロキサン変性体は1分子中にアルケニル基を1個有する有機ケイ素化合物(a′)に由来する構造を有することを特徴とする。
本発明におけるアルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)は、分子中にアルケニル基を有する、多面体骨格を有するポリシロキサンであれば、特に限定はない。具体的に、例えば、以下の式
[R6SiO3/2]x[R7SiO3/2]y
(x+yは6〜24の整数;xは1以上の整数、yは0または1以上の整数;R6はアルケニル基、または、アルケニル基を有する基;R7は、任意の有機基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基)
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物を好適に用いることができ、さらには、式
[AR1 2SiO−SiO3/2]a[R2 3SiO−SiO3/2]b
(a+bは6〜24の整数、aは1以上の整数、bは0または1以上の整数;Aは、アルケニル基;R1は、アルキル基またはアリール基;R2は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基)
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物が好ましいものとして例示される。
本発明におけるR1としては、耐熱性・耐光性の観点から、メチル基が好ましい。
aは1以上の整数であれば、特に制限はないが、化合物の取り扱い性や得られる硬化物の物性から、2以上が好ましく、3以上がさらに好ましい。また、bは、0または1以上の整数であれば、特に制限はない。
本発明における1分子中にアルケニル基を1個有する有機ケイ素化合物(a′)はヒドロシリル基を有する化合物(b)のヒドロシリル基と反応する。(a′)成分を用いることで、得られる硬化物の弾性率を低下させることができ、耐冷熱衝撃性を向上させることができる。
また、得られる組成物の粘度コントロールをすることが可能となり、例えば、LED封止剤として用いた場合に、蛍光体の沈降を抑制することが可能となる。
本発明で用いるヒドロシリル基を有する化合物(b)は、分子中に1個以上のヒドロシリル基を有していれば特に制限はないが、得られる多面体構造ポリシロキサン変性体の透明性、耐熱性、耐光性の観点から、ヒドロシリル基を有するシロキサン化合物であることが好ましく、さらには、ヒドロシリル基を有する環状シロキサンあるいは直鎖状ポリシロキサンであることが好ましい。特に耐熱性、耐光性、耐青色レーザー性、ガスバリア性の観点からは、環状シロキサンであることが好ましい。
本発明の多面体構造ポリシロキサン変性体は、後述のヒドロシリル化触媒の存在下、アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)と1分子中にアルケニル基を1個有する有機ケイ素化合物(a′)を、ヒドロシリル基を有する化合物(b)とヒドロシリル化反応させることにより得られる。
[XR3 2SiO−SiO3/2]a[R4 3SiO−SiO3/2]b
[a+bは6〜24の整数、aは1以上の整数、bは0または1以上の整数;R3は、アルキル基またはアリール基;R4は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基;Xは、下記一般式(1)あるいは一般式(2)のいずれかの構造を有し、Xが複数ある場合は一般式(1)あるいは一般式(2)の構造が異なっていても良くまた一般式(1)あるいは一般式(2)の構造が混在していても良い。
−[CH2]l−R5 (3)
(lは2以上の整数;R5は有機ケイ素化合物を含有する基);Rは、アルキル基またはアリール基}]
で表されるシロキサン単位から構成される多面体構造ポリシロキサン系化合物であってもよい。
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、上述した本発明の多面体構造ポリシロキサン変性体(以下、多面体構造ポリシロキサン変性体(A)ともいう)を含有することを特徴とし、更に、1分子中にアルケニル基を2個以上有する化合物(B)を含有しえる。
この反応に用いることができるヒドロシリル化触媒としては、後述のものを用いることができる。
多面体構造ポリシロキサン変性体(A)と化合物(B)のヒドロシリル化反応の際には、多面体構造ポリシロキサン変性体(A)の合成の際に用いたヒドロシリル化触媒が多面体構造ポリシロキサン変性体とともに持ち込まれるので、ヒドロシリル化触媒を別途用いなくても構わない。
本発明における1分子中にアルケニル基を2個以上有するポリシロキサン(B1)のシロキサンのユニット数は、特に限定されないが、2つ以上が好ましく、さらに好ましくは、2〜10個である。1分子中のシロキサンのユニット数が少ないと、組成物から揮発しやすくなり、硬化後に所望の物性が得られないことがある。また、シロキサンのユニット数が多いと、得られた硬化物のガスバリア性が低下する場合がある。
本発明における(B2)成分は、具体的に例えば、(A)成分の架橋剤としての役割を果たし、耐熱性、耐光性、ガスバリア性を有する硬化物を与えることが可能となる。
本発明における有機化合物(B2)は、下記一般式(4)で表される有機化合物であって、かつ1分子中にアルケニル基を2個以上含有する有機化合物であれば特に限定はされない。
本発明における(B2)成分は、1分子中にアルケニル基を2個以上含有しているため、得られる硬化物の強度やガスバリア性、耐熱性、耐光性等が優れることとなる。また、ガスバリア性の観点から、数平均分子量900未満であることが好ましい。
本発明では、上記多面体構造ポリシロキサン変性体(A)の合成、および、該変性体(A)を含有する多面体構造ポリシロキサン系組成物を硬化させる際に、ヒドロシリル化触媒を用いる。
硬化遅延剤は、本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物の保存安定性を改良あるいは、硬化過程でのヒドロシリル化反応の反応性を調整するための成分である。本発明においては、硬化遅延剤としては、ヒドロシリル化触媒による付加型硬化性組成物で用いられている公知のものが使用でき、具体的には脂肪族不飽和結合を含有する化合物、有機リン化合物、有機イオウ化合物、窒素含有化合物、スズ系化合物、有機過酸化物等が挙げられる。これらを単独使用、または2種以上併用してもよい。
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、(A)成分、及び、(B)成分、さらには必要に応じて、上述したヒドロシリル化触媒や硬化遅延剤等を加えることにより得ることができる。本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、液状樹脂組成物として取り扱うことが可能である。液状樹脂組成物とすることにより、型、パッケージ、基板等に、注入あるいは塗布して硬化させることで、用途に応じた成型体を容易に得ることができる。
また、本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物は、温度23℃において、1Pa・s以上の粘度を有することが好ましい。光半導体素子等を封止する際のハンドリング性により優れることとなるからである。
本発明の多面体構造ポリシロキサン系組成物を硬化させてなる硬化物もまた本発明の1つである。
無機フィラーを添加することにより、得られる成形体の強度、硬度、弾性率、熱膨張率、熱伝導率、放熱性、電気的特性、光の反射率、難燃性、耐火性、およびガスバリア性等の諸物性を改善することができる。
成形方法としては、押出成形、圧縮成形、ブロー成形、カレンダー成形、真空成形、発泡成形、射出成形、液状射出成形、注型成形などの任意の方法を使用することができる。
東京計器製 E型粘度計を用いた。測定温度23.0℃、EHD型48φ1倍コーンで測定した。
下記のSiH価は、その化合物とジブロモエタンの混合物を作り、重クロロホルムに溶解させ、バリアン・テクノロジーズ・ジャパン・リミテッド製 300MHz NMRを用いてNMR測定を行うことで、下記計算式(1)
SiH価(mol/kg)=[化合物のSiH基に帰属されるピークの積分値]/[ジブロモエタンのメチル基に帰属されるピークの積分値]×4×[混合物中のジブロモエタン重量]/[ジブロモエタンの分子量]/[混合物中の化合物重量] (1)
を用いて計算した。
多面体構造ポリシロキサン系組成物を型に充填し、対流式オーブンで80℃×2時間、100℃×1時間、150℃×5時間熱硬化させて、厚さ2mmのサンプルを作成した。
上記の通り作成したサンプルを、150℃に温度設定した対流式オーブン内(空気中)で該サンプルを200時間養生し、目視にて観察した。
着色などによる色目の変化が見られなかったものを○、見られたものを×と評価した。
スガ試験機(株)製、メタリングウェザーメーター(形式M6T)を用いた。上記の通り作成したサンプルを、ブラックパネル温度120℃、放射照度0.53kW/m2で、積算放射照度50MJ/m2まで照射し、目視にて観察した。
着色などによる色目の変化が見られなかったものを○、見られたものを×と評価した。
株式会社エノモト製LEDパッケージ(品名:TOP LED 1−IN−1)に、0.4mm×0.4mm×0.2mmの単結晶シリコンチップ1個を、株式会社ヘンケルジャパン製エポキシ系接着剤(品名:LOCTITE348)で貼り付け、150℃に温度設定した対流式オーブンで30分加熱して固定した。ここに多面体構造ポリシロキサン系組成物を注入し、対流式オーブンで80℃×2時間、100℃×1時間、150℃×5時間熱硬化させてサンプルを作成した。
上記の通り作成したサンプルを、熱衝撃試験機(エスペック製 TSA−71H−W)を用いて、高温保持100℃、30分間、低温保持−40℃、30分間のサイクルを200サイクル行った後、サンプルを観察した。
試験後、目視で変化が無ければ○、樹脂にクラックが入ったり、樹脂とパッケージとの間に剥離、あるいは樹脂の着色が起きたりした場合は×とした。
本発明では、得られた硬化物のガスバリア性の指標として、硬化物の透湿度を用いた。すなわち、透湿度が低いことはガスバリア性が高いことと同義となる。
多面体構造ポリシロキサン系組成物を型に充填し、対流式オーブンで80℃×2時間、100℃×1時間、150℃×5時間熱硬化させて、5cm角、厚さ2mmのサンプルを作成した。このサンプルを室温25℃、湿度55%RHの環境で24時間養生した。
5cm角の板ガラス(0.5mm厚)の上部に5cm角のポリイソブチレンゴムシート(3mm厚、ロの字型になるように内部の3cm角を切り取ったもの)を固定した治具を作製し、和光純薬工業製塩化カルシウム(水分測定用)1gをロの字型内に充填する。さらに上部に、上記の5cm角、厚さ2mmのサンプルを固定し、これを試験体とする。試験体を恒温恒湿機(エスペック製 PR‐2KP)内で温度40℃、湿度90%RHで24時間養生し、下記計算式(2)
透湿度(g/m2/day)={(透湿性試験後の試験体総重量(g))−(透湿性試験前の試験体総重量(g))}×10000/9 (2)
に従って透湿度(水蒸気透過率)を算出した。
株式会社エノモト製LEDパッケージ(品名:TOP LED 1−IN−1)に多面体構造ポリシロキサン系組成物を注入し、対流式オーブンで80℃×2時間、100℃×1時間、150℃×5時間熱硬化させてサンプルを作成した。このサンプルを、フロー式ガス腐食試験機(ファクトケイ製KG130S)内に入れ、40℃、80%RH、硫化水素3ppmの条件下で、96時間、硫化水素暴露試験を行った。
試験後、パッケージのリフレクターが変色していなければ○、わずかに変色が見られた場合は△、変色している場合は×とした。
多面体構造ポリシロキサン系組成物5gに蛍光体(インテマティックス製Y3957)0.05gを添加し、よく掻き混ぜた後、静置し、1時間毎に観察した。
その結果、1時間未満に沈降が観られた場合は×、1〜6時間の間に沈降が観られた場合は△、6時間を超えても蛍光体が分散したままである場合は○とした。
48%コリン水溶液(トリメチル−2ヒドロキシエチルアンモニウムハイドロオキサイド水溶液)1262gにテトラエトキシシラン1083gを加え、室温で2時間激しく攪拌した。反応系内が発熱し、均一溶液になった段階で、攪拌を緩め、さらに12時間反応させた。次に、反応系内に生成した固形物に、メタノール1000mLを加え、均一溶液とした。
製造例1で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン5.00gをトルエン10.0gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.48μLを加えた。このようにして得られた溶液を、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン3.09g(使用したトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサンのアルケニル基1個に対し、ヒドロシリル基4.0個となる量)、トルエン3.09gの溶液にゆっくりと滴下し、105℃で2時間反応させた。反応終了後、トルエンと未反応成分を留去してから、再度、トルエン10gを加えて生成物を溶解させ、別途準備したビニルジフェニルメチルシラン3.37g(使用した1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基1個に対し、アルケニル基0.29個となる量)をトルエン3.37gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.56μLを加えた溶液をゆっくり滴下し、105℃で1時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール1.99μl、マレイン酸ジメチル0.46μlを加え、トルエンを留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体10.4g(SiH価1.43mol/kg)を得た。得られた変性体5.00gに1,5−ジビニル−3,3−ジフェニル−1,1,5,5−テトラメチルトリシロキサン0.95gを加えて攪拌し、多面体構造ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表1に記載した。
製造例1で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン5.00gをトルエン10.0gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.48μLを加えた。このようにして得られた溶液を、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン3.09g(使用したトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサンのアルケニル基1個に対し、ヒドロシリル基4.0個となる量)、トルエン3.09gの溶液にゆっくりと滴下し、105℃で2時間反応させた。サンプリングを行って、NMR測定を行い、アルケニル基由来のピークが消失しているのを確認した後、さらに、別途準備したビニルジフェニルメチルシラン3.37g(使用した1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基1個に対し、アルケニル基0.29個となる量)をトルエン3.37gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.56μLを加えた溶液をゆっくり滴下し、105℃で1時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール1.99μl、マレイン酸ジメチル0.46μlを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体11.2g(SiH価1.73mol/kg)を得た。得られた変性体5.00gに1,5−ジビニル−3,3−ジフェニル−1,1,5,5−テトラメチルトリシロキサン1.14gを加えて攪拌し、多面体構造ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表1に記載した。
ビニルジフェニルメチルシラン3.37g(使用した1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基1個に対し、アルケニル基0.29個となる量)をトルエン3.37gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.56μLを加えた溶液を、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン3.09g(使用したトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサンのアルケニル基1個に対し、ヒドロシリル基4.0個となる量)、トルエン3.09gの溶液にゆっくりと滴下し、105℃で1時間反応させた。サンプリングを行って、NMR測定を行い、アルケニル基由来のピークが消失しているのを確認した後、さらに、別途準備した、製造例1で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン5.00gをトルエン10.0gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.48μLを加えた溶液をゆっくり滴下し、105℃で2時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール1.99μl、マレイン酸ジメチル0.46μlを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体11.3g(SiH価1.75mol/kg)を得た。得られた変性体5.00gに1,5−ジビニル−3,3−ジフェニル−1,1,5,5−テトラメチルトリシロキサン1.15gを加えて攪拌し、多面体構造ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表1に記載した。
製造例1で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン5.00gをトルエン16.73gに溶解させ、ビニルジフェニルメチルシラン3.37g(使用した1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基1個に対し、アルケニル基0.29個となる量)、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)1.04μLを加えた。このようにして得られた溶液を、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン3.09g(使用したトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサンのアルケニル基1個に対し、ヒドロシリル基4.0個となる量)、トルエン3.09gの溶液にゆっくりと滴下し、105℃で2時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール1.99μl、マレイン酸ジメチル0.46μlを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体11.4g(SiH価1.69mol/kg)を得た。得られた変性体5.00gに1,5−ジビニル−3,3−ジフェニル−1,1,5,5−テトラメチルトリシロキサン1.12gを加えて攪拌し、多面体構造ポリシロキサン系組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表1に記載した。
製造例1で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン5.00gをトルエン10.0gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.47μLを加えた。このようにして得られた溶液を、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン3.09g、トルエン3.09g(使用したトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサンのアルケニル基1個に対し、ヒドロシリル基4.0個となる量)の溶液にゆっくりと滴下し、105℃で2時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール1.99μl、マレイン酸ジメチル0.46μlを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の変性体7.8g(SiH価3.78mol/kg)を得た。得られた変性体に、1,5−ジビニル−3,3−ジフェニル−1,1,5,5−テトラメチルトリシロキサン2.20g、ビニルジフェニルメチルシラン2.90g(使用した1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基1個に対し、アルケニル基0.25個となる量)を加えて撹拌し、組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表1に記載した。
製造例1で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン5.00gをトルエン10.0gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.47μLを加えた。このようにして得られた溶液を、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン3.09g(使用したトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサンのアルケニル基1個に対し、ヒドロシリル基4.0個となる量)、トルエン3.09gの溶液にゆっくりと滴下し、105℃で2時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール1.99μl、マレイン酸ジメチル0.46μlを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の変性体7.8g(SiH価3.78mol/kg)を得た。得られた変性体に、1,5−ジビニル−3,3−ジフェニル−1,1,5,5−テトラメチルトリシロキサン3.92gを加えて撹拌し、組成物を得た。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表1に記載した。
製造例1で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン10.00gをトルエン20.0gに溶解させ、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.94μLを加えた。このようにして得られた溶液を、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン6.19g(使用したトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサンのアルケニル基1個に対し、ヒドロシリル基4.0個となる量)、トルエン6.19gの溶液にゆっくりと滴下し、105℃で2時間反応させた。反応終了後、トルエンと未反応成分を留去してから、再度、トルエン10.00gを加えて生成物を溶解させ、別途準備したビニルジフェニルメチルシラン5.78g(使用した1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基1個に対し、アルケニル基0.25個となる量)をトルエン5.78gに溶解させた溶液をゆっくり滴下した。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール1.79μl、マレイン酸ジメチル0.41μlを加え、トルエンを留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体20.08g(SiH価1.51mol/kg)を得た。
製造例1で得られたアルケニル基含有多面体構造ポリシロキサン系化合物であるトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサン10.00gをトルエン33.48gに溶解させ、ビニルジフェニルメチルシラン6.74g(使用した1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンのヒドロシリル基1個に対し、アルケニル基0.28個となる量)、白金ビニルシロキサン錯体のキシレン溶液(白金として3wt%含有する白金ビニルシロキサン錯体、ユミコアプレシャスメタルズジャパン製、Pt−VTSC−3X)0.94μLを加えた。このようにして得られた溶液を、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサン5.57g(使用したトリス(ビニルジメチルシロキシ)ペンタキス(トリメチルシロキシ)オクタシルセスキオキサンのアルケニル基1個に対し、ヒドロシリル基3.6個となる量)、トルエン5.57gの溶液にゆっくりと滴下し、105℃で2時間反応させた。反応終了後、エチニルシクロヘキサノール1.79μl、マレイン酸ジメチル0.41μlを加え、トルエンと未反応成分を留去することにより、液状の多面体構造ポリシロキサン変性体21.46g(SiH価1.55mol/kg)を得た。
製造例2で得られた多面体構造ポリシロキサン変性体10.00gに、ジアリルメチルイソシアヌレート1.68gを加えて撹拌し、多面体構造ポリシロキサン系組成物を作成した。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表2に記載した。
製造例3で得られた多面体構造ポリシロキサン変性体10.00gに、ジアリルメチルイソシアヌレート1.73gを加えて撹拌し、多面体構造ポリシロキサン系組成物を作成した。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表2に記載した。
製造例2で得られた多面体構造ポリシロキサン変性体10.00gに、ジアリルメチルイソシアヌレート1.13g、1,5−ジビニル−3,3−ジフェニル−1,1,5,5−テトラメチルトリシロキサン1.12gを加えて撹拌し、多面体構造ポリシロキサン系組成物を作成した。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表2に記載した。
製造例2で得られた多面体構造ポリシロキサン変性体10.00gに、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレート2.00gを加えて撹拌し、多面体構造ポリシロキサン系組成物を作成した。このようにして得られた組成物を用いて、上述の各種評価を行い、その結果を表2に記載した。
Claims (19)
- アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)と、ヒドロシリル基を有する化合物(b)をヒドロシリル化反応することにより得られる多面体構造ポリシロキサン変性体であって、
前記多面体構造ポリシロキサン変性体は1分子中にアルケニル基を1個有する有機ケイ素化合物(a′)に由来する構造を有し、
アルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物(a)が、式
[AR 1 2 SiO−SiO 3/2 ] a [R 2 3 SiO−SiO 3/2 ] b
(a+bは6〜24の整数、aは1以上の整数、bは0または1以上の整数;Aは、アルケニル基;R 1 は、アルキル基またはアリール基;R 2 は、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基)
で表されるシロキサン単位から構成されるアルケニル基を有する多面体構造ポリシロキサン系化合物であり、
ヒドロシリル基を有する化合物(b)が、ヒドロシリル基を有する環状シロキサンおよび/または直鎖状シロキサンであり、
1分子中にアルケニル基を1個有する有機ケイ素化合物(a′)が、直接ケイ素原子に結合しているアリール基を1個以上有するシラン又はポリシロキサンであることを特徴とする多面体構造ポリシロキサン変性体。 - 多面体構造ポリシロキサン変性体が、温度20℃において、液状であることを特徴とする請求項1に記載の多面体構造ポリシロキサン変性体。
- ヒドロシリル基を含有する化合物(b)が、ヒドロシリル基を有する環状シロキサンであることを特徴とする請求項1又は2に記載の多面体構造ポリシロキサン変性体。
- ヒドロシリル基を含有する化合物(b)が、1,3,5,7−テトラハイドロジェン−1,3,5,7−テトラメチルシクロテトラシロキサンであることを特徴とする請求項3に記載の多面体構造ポリシロキサン変性体。
- 式
[XR3 2SiO−SiO3/2]a[R4 3SiO−SiO3/2]b
[a+bは6〜24の整数、aは1以上の整数、bは0または1以上の整数;R3は、アルキル基またはアリール基;R4は、アルケニル基、水素原子、アルキル基、アリール基、または、他の多面体骨格ポリシロキサンと連結している基;Xは、下記一般式(1)あるいは一般式(2)のいずれかの構造を有し、Xが複数ある場合は一般式(1)あるいは一般式(2)の構造が異なっていても良くまた一般式(1)あるいは一般式(2)の構造が混在していても良い。
−[CH2]l−R5 (3)
(lは2以上の整数;R5は直接ケイ素原子に結合しているアリール基を1個以上含有するシラン又はポリシロキサンを含有する基);Rは、アルキル基またはアリール基}]
で表されるシロキサン単位から構成されることを特徴とする多面体構造ポリシロキサン変性体。 - 分子中にヒドロシリル基を平均して3つ以上含有することを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の多面体構造ポリシロキサン変性体。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の多面体構造ポリシロキサン変性体(A)を含有することを特徴とする多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- 更に、1分子中にアルケニル基を2個以上有する化合物(B)を含有することを特徴とする請求項7に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- 化合物(B)が、1分子中にアルケニル基を2個以上有するポリシロキサン(B1)であることを特徴とする請求項8に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- 1分子中にアルケニル基を2個以上有するポリシロキサン(B1)が、アリール基を1個以上有することを特徴とする請求項9に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- 有機化合物(B2)が、数平均分子量900未満であることを特徴とする請求項11に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- 有機化合物(B2)が、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルイソシアヌレート、ジアリルモノメチルイソシアヌレート、ジアリルモノグリシジルイソシアヌレートからなる群において選ばれる少なくとも1種類の化合物であることを特徴とする請求項11又は12に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- 有機化合物(B2)が、ジアリルモノメチルイソシアヌレートであることを特徴とする請求項11又は12に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- 多面体構造ポリシロキサン系組成物が、温度23℃において、1Pa・s以上の粘度を有することを特徴とする請求項7〜14のいずれか1項に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- ヒドロシリル化触媒を含有することを特徴とする請求項7〜15のいずれか1項に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- 硬化遅延剤を含有することを特徴とする請求項7〜16のいずれか1項に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物。
- 請求項7〜17のいずれか1項に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物を硬化させてなる硬化物。
- 請求項7〜17のいずれか1項に記載の多面体構造ポリシロキサン系組成物を封止剤として用いてなる光半導体デバイス。
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JP6474801B2 (ja) * | 2014-06-06 | 2019-02-27 | 株式会社ダイセル | 硬化性樹脂組成物、硬化物、封止材、及び半導体装置 |
CN105623271A (zh) * | 2014-11-20 | 2016-06-01 | 爱克工业株式会社 | 加成反应固化型树脂组合物以及光半导体装置 |
MY193335A (en) * | 2017-03-22 | 2022-10-05 | Denka Company Ltd | Resin composition for circuit board, and metal-base circuit board in which same is used |
JP2017160453A (ja) * | 2017-05-26 | 2017-09-14 | 株式会社カネカ | 蛍光体含有シリコーン系組成物および該組成物で封止されてなる発光装置 |
JP7037765B2 (ja) * | 2018-06-07 | 2022-03-17 | 大日本印刷株式会社 | バリアフィルムおよび包装材料 |
CN114196026B (zh) * | 2022-01-12 | 2023-05-30 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种耐高温硅树脂中间体及其制备方法与应用 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005290352A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-10-20 | Asahi Kasei Corp | カゴ状シルセスキオキサン構造を有する化合物 |
WO2008133138A1 (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Kaneka Corporation | 多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物 |
JP2009173759A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Kaneka Corp | 多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物、硬化物 |
JP2009298930A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Kaneka Corp | ポリシロキサン系組成物 |
JP2010095618A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Kaneka Corp | ポリシロキサン系組成物およびそれから得られる硬化物 |
Family Cites Families (67)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3159662A (en) | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Addition reaction |
US3159601A (en) | 1962-07-02 | 1964-12-01 | Gen Electric | Platinum-olefin complex catalyzed addition of hydrogen- and alkenyl-substituted siloxanes |
US3220972A (en) | 1962-07-02 | 1965-11-30 | Gen Electric | Organosilicon process using a chloroplatinic acid reaction product as the catalyst |
US4618657A (en) | 1985-03-11 | 1986-10-21 | Desoto, Inc. | Heat curable polysiloxane release coatings which stratify when baked and paper coated therewith |
EP0348705A3 (de) | 1988-06-29 | 1991-02-27 | Akademie der Wissenschaften der DDR | Organophile Doppelringkieselsäurederivate mit käfigartigen Strukturen, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung |
DE3837397A1 (de) | 1988-11-03 | 1990-05-10 | Wacker Chemie Gmbh | Neue organooligosilsesquioxane |
US5160787A (en) | 1989-01-12 | 1992-11-03 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Electrical laminate having ability to absorb ultraviolet rays |
DE4316101A1 (de) | 1993-05-13 | 1994-11-17 | Wacker Chemie Gmbh | Organosiliciumverbindungen mit käfigartiger Struktur |
JPH11124502A (ja) | 1997-08-21 | 1999-05-11 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 封止材料用硬化性組成物 |
JPH1171462A (ja) | 1997-08-29 | 1999-03-16 | Toshiba Silicone Co Ltd | 新規な含ケイ素重合体 |
JP3511127B2 (ja) | 1997-11-05 | 2004-03-29 | 信越化学工業株式会社 | 接着性シリコーン組成物 |
US5939576A (en) * | 1998-01-05 | 1999-08-17 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Method of functionalizing polycyclic silicones and the compounds so formed |
JP2979145B1 (ja) | 1998-11-18 | 1999-11-15 | 工業技術院長 | 新型含シルセスキオキサンポリマー及びその製造方法 |
JP2000265066A (ja) | 1999-03-17 | 2000-09-26 | Dow Corning Asia Ltd | 有機溶剤可溶性の水素化オクタシルセスキオキサン−ビニル基含有化合物共重合体及び同共重合体からなる絶縁材料 |
US6252030B1 (en) | 1999-03-17 | 2001-06-26 | Dow Corning Asia, Ltd. | Hydrogenated octasilsesquioxane-vinyl group-containing copolymer and method for manufacture |
US7553904B2 (en) | 1999-08-04 | 2009-06-30 | Hybrid Plastics, Inc. | High use temperature nanocomposite resins |
EP1328529B1 (en) | 2000-10-27 | 2007-01-10 | The Regents Of The University Of Michigan | Well-defined nanosized building blocks for organic/inorganic nanocomposites |
US6623711B2 (en) * | 2001-03-27 | 2003-09-23 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Siloxane-based resin and method for forming insulating film between interconnect layers in semiconductor devices by using the same |
JP2002363414A (ja) | 2001-06-12 | 2002-12-18 | Asahi Kasei Corp | 籠状シルセスキオキサン含有組成物 |
JP4381636B2 (ja) | 2001-11-05 | 2009-12-09 | 新日鐵化学株式会社 | シリコーン樹脂組成物及びシリコーン樹脂成形体 |
WO2003042292A2 (de) | 2001-11-17 | 2003-05-22 | Creavis Gesellschaft Für Technologie Und Innovation Mbh | Polyolefinzusammensetzungen, verfahren zu deren herstellung und verwendung dieser zusammensetzungen |
WO2004011525A1 (en) | 2002-07-30 | 2004-02-05 | University Of Connecticut | Nonionic telechelic polymers incorporating polyhedral oligosilsesquioxane (poss) and uses thereof |
WO2004022231A1 (en) | 2002-09-04 | 2004-03-18 | Johnson Matthey Plc | Catalysts |
US7319129B2 (en) | 2002-09-13 | 2008-01-15 | Chisso Corporation | Silsesquioxane derivative and process for producing the same |
JP4256756B2 (ja) | 2002-09-30 | 2009-04-22 | 新日鐵化学株式会社 | 官能基を有するかご型シルセスキオキサン樹脂の製造方法 |
JP4142385B2 (ja) | 2002-10-03 | 2008-09-03 | 新日鐵化学株式会社 | シリコーン樹脂組成物及びシリコーン樹脂成形体 |
JP2004175887A (ja) * | 2002-11-26 | 2004-06-24 | Kanegafuchi Chem Ind Co Ltd | 硬化性組成物 |
DE10258126B3 (de) | 2002-12-12 | 2004-01-29 | Wacker-Chemie Gmbh | Alkinolgruppen aufweisende Organosiliciumverbindungen sowie diese enthaltend vernetzbare Massen und daraus herstellbare Formkörper |
JP4734832B2 (ja) | 2003-05-14 | 2011-07-27 | ナガセケムテックス株式会社 | 光素子用封止材 |
JP2005023256A (ja) | 2003-07-04 | 2005-01-27 | Toagosei Co Ltd | カチオン硬化性組成物 |
JP2007525803A (ja) | 2004-01-20 | 2007-09-06 | ワールド・プロパティーズ・インコーポレイテッド | 回路材料、回路、多層回路、およびそれらの製造方法 |
JP4742216B2 (ja) | 2004-07-08 | 2011-08-10 | Jnc株式会社 | ケイ素化合物 |
JP4645803B2 (ja) | 2004-10-05 | 2011-03-09 | 信越化学工業株式会社 | かご状オリゴシロキサン構造を有する一官能性モノマー及びその製造方法 |
JP2006131850A (ja) | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Toagosei Co Ltd | 熱硬化性組成物 |
US7915369B2 (en) | 2004-12-07 | 2011-03-29 | Panasonic Electric Works Co., Ltd. | Ultraviolet transmissive polyhedral silsesquioxane polymers |
JP2006265514A (ja) | 2005-02-25 | 2006-10-05 | Asahi Kasei Corp | 共重合体およびその製造方法 |
JP2006269402A (ja) | 2005-02-28 | 2006-10-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | 絶縁材料形成用組成物および絶縁膜 |
JP2006233155A (ja) | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Chisso Corp | 平坦化膜用塗布液および平坦化膜 |
JP2006299150A (ja) | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Asahi Kasei Corp | 封止材用組成物及び光学デバイス |
JP2006299149A (ja) | 2005-04-22 | 2006-11-02 | Asahi Kasei Corp | 封止材用組成物及び光学デバイス |
JP4826160B2 (ja) | 2005-07-28 | 2011-11-30 | ナガセケムテックス株式会社 | 光素子封止用樹脂組成物 |
CN101568546A (zh) * | 2005-08-16 | 2009-10-28 | 杂混复合塑料公司 | 以烯烃基团官能化的多面体低聚倍半硅氧烷硅烷醇和硅氧化物的制备 |
KR101156426B1 (ko) | 2005-08-25 | 2012-06-18 | 삼성모바일디스플레이주식회사 | 실세스퀴옥산계 화합물 및 이를 구비한 유기 발광 소자 |
JP2007091935A (ja) | 2005-09-29 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | ポリマー、膜形成用組成物、絶縁膜およびその製造方法 |
US7576140B2 (en) * | 2005-10-18 | 2009-08-18 | Sabic Innovative Plastics Ip B.V. | Method of improving abrasion resistance of plastic article and article produced thereby |
JP4935972B2 (ja) | 2005-12-21 | 2012-05-23 | Jsr株式会社 | 光半導体封止用組成物、その製造法および光半導体封止材 |
JP5666775B2 (ja) | 2006-07-21 | 2015-02-12 | 株式会社カネカ | ポリシロキサン系組成物およびそれから得られる成形体、オプトデバイス部材 |
TWI361205B (en) * | 2006-10-16 | 2012-04-01 | Rohm & Haas | Heat stable aryl polysiloxane compositions |
EP2087532A1 (en) * | 2006-11-20 | 2009-08-12 | 3M Innovative Properties Company | Optical bonding composition for led light source |
JP5670616B2 (ja) | 2006-12-01 | 2015-02-18 | 株式会社カネカ | ポリシロキサン系組成物 |
JP2008163260A (ja) | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Showa Denko Kk | 発光素子封止用樹脂組成物およびランプ |
JP2008291137A (ja) | 2007-05-25 | 2008-12-04 | Kaneka Corp | 硬化性組成物 |
WO2009060958A1 (ja) * | 2007-11-09 | 2009-05-14 | Kaneka Corporation | 環状ポリオルガノシロキサンの製造方法、硬化剤、硬化性組成物およびその硬化物 |
WO2009075233A1 (ja) * | 2007-12-10 | 2009-06-18 | Kaneka Corporation | アルカリ現像性を有する硬化性組成物およびそれを用いた絶縁性薄膜および薄膜トランジスタ |
JP5149022B2 (ja) | 2008-01-25 | 2013-02-20 | モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 | 光半導体封止用シリコーン組成物及びそれを用いた光半導体装置 |
JP2009206124A (ja) | 2008-02-26 | 2009-09-10 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Led装置の封止方法及びled装置 |
JP5328263B2 (ja) | 2008-03-18 | 2013-10-30 | 昭和電工株式会社 | 磁気記録媒体の製造方法、磁気記録媒体、及び磁気記録再生装置 |
JP2010031254A (ja) * | 2008-06-27 | 2010-02-12 | Showa Denko Kk | ヒドロシリル化反応物およびその製造方法、該ヒドロシリル化反応物を含有する転写材料用硬化性組成物、ならびに該ヒドロシリル化反応物または該転写材料用硬化性組成物を用いた転写層の製造方法 |
JP5329904B2 (ja) | 2008-10-16 | 2013-10-30 | 株式会社カネカ | ポリシロキサン系組成物およびそれから得られる硬化物 |
JP2010254927A (ja) | 2009-04-28 | 2010-11-11 | Kaneka Corp | 光硬化可能な組成物 |
JP2010265410A (ja) | 2009-05-15 | 2010-11-25 | Kaneka Corp | Led封止剤 |
JP5571329B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2014-08-13 | 株式会社カネカ | 多面体構造ポリシロキサン変性体、及び該変性体を含有する組成物。 |
JP2011016968A (ja) * | 2009-07-10 | 2011-01-27 | Kaneka Corp | 多面体構造ポリシロキサン変性体、その製造方法および該変性体を含む組成物 |
JP2011042732A (ja) | 2009-08-20 | 2011-03-03 | Kaneka Corp | Led封止剤 |
JP5616042B2 (ja) * | 2009-09-25 | 2014-10-29 | 株式会社カネカ | 多面体構造ポリシロキサン系変性体及び組成物 |
US9822248B2 (en) | 2010-05-28 | 2017-11-21 | Kaneka Corporation | Polysiloxane composition, hardened material and optical device |
JP5877081B2 (ja) | 2011-02-08 | 2016-03-02 | 株式会社カネカ | 多面体構造ポリシロキサン変性体、該変性体を含有する組成物、該組成物を用いてなる封止剤、および光学デバイス |
-
2011
- 2011-09-13 JP JP2012535004A patent/JP5784618B2/ja active Active
- 2011-09-13 EP EP11826768.1A patent/EP2620441B1/en active Active
- 2011-09-13 KR KR1020137007798A patent/KR101886173B1/ko active IP Right Grant
- 2011-09-13 US US13/823,497 patent/US9698320B2/en active Active
- 2011-09-13 CN CN201180045637.7A patent/CN103119048B/zh active Active
- 2011-09-13 WO PCT/JP2011/070854 patent/WO2012039322A1/ja active Application Filing
- 2011-09-21 TW TW100134011A patent/TWI526477B/zh active
- 2011-09-21 TW TW104144344A patent/TWI567114B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005290352A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-10-20 | Asahi Kasei Corp | カゴ状シルセスキオキサン構造を有する化合物 |
WO2008133138A1 (ja) * | 2007-04-17 | 2008-11-06 | Kaneka Corporation | 多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物 |
JP2009173759A (ja) * | 2008-01-23 | 2009-08-06 | Kaneka Corp | 多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物、硬化物 |
JP2009298930A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Kaneka Corp | ポリシロキサン系組成物 |
JP2010095618A (ja) * | 2008-10-16 | 2010-04-30 | Kaneka Corp | ポリシロキサン系組成物およびそれから得られる硬化物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103119048B (zh) | 2016-06-01 |
US9698320B2 (en) | 2017-07-04 |
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EP2620441A1 (en) | 2013-07-31 |
WO2012039322A1 (ja) | 2012-03-29 |
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