JP3375294B2 - 処理装置、処理システムおよび該装置における清浄エアの供給方法 - Google Patents

処理装置、処理システムおよび該装置における清浄エアの供給方法

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JP3375294B2 JP37558598A JP37558598A JP3375294B2 JP 3375294 B2 JP3375294 B2 JP 3375294B2 JP 37558598 A JP37558598 A JP 37558598A JP 37558598 A JP37558598 A JP 37558598A JP 3375294 B2 JP3375294 B2 JP 3375294B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶ディス
プレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）に使われる
ガラス基板上にレジスト液を塗布し現像する塗布・現像
処理システム等の処理装置および該装置における清浄エ
アの供給方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＬＣＤの製造工程においては、ＬＣＤ用
のガラス基板上にＩＴＯ（Indium TinOxide）の薄膜や
電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造
に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利
用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジス
トを基板に塗布し、これを露光し、さらに現像する。
【０００３】このような塗布・現像処理システムにおい
ては、パーティクルが被処理体である基板に付着しない
よう、上方に清浄エアの吹き出し部を設け、常時、清浄
エアを供給し、ダウンフローの気流を形成している。そ
して、塗布・現像処理システムの下方の床面の開口部グ
リーチングより床下へ吸引されたエアーはリターンゾー
ンを通って再利用される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、塗布・現像
処理システムは、被処理体であるガラス基板の搬送路を
挟んで、複数のレジスト塗布装置や複数の現像装置等が
設置されて構成されているが、ガラス基板等の処理枚数
等によっては、このうちいくつかの装置しか使用しない
場合もある。このような場合、不要な装置を取り外した
上で処理が行われる。しかしながら、塗布・現像処理シ
ステムの上方に設置される清浄エアの吹き出し部や下方
に設置されるエア回収部は、各処理装置ごとに対応して
設けられているわけではないため、装置が設置されてい
ない箇所においても清浄エアの供給と吸引（回収）が行
われる。この装置が設置されていない個所において供給
される清浄エアは、被処理体であるガラス基板へのパー
ティクルの付着防止という観点からは、何ら役立ってい
ない余分なエアであるところ、このエアも一緒に吸引
（回収）され、再度吹き出されるために、吸引機構を構
成するブロワや吹き出し部を構成するファン等には全く
余分な負荷がかかっていることになる。
【０００５】本発明は上記に鑑みなされたものであり、
必要な箇所のみに清浄エアを供給でき、上記のように不
要な処理装置を省いた場合に、ブロワやファン等にかか
る余分な負荷を除去し、ランニングコストを低減するこ
とができる処理装置および該装置における清浄エアの供
給方法を提供することを課題とする。別言すると、装置
を設置する部屋全体のエアを循環させるのに比べ、圧倒
的に「動かすエアの量」を減らすことができ、それによ
るブロア能力、冷凍能力、フィルタ数等を低減させるこ
とができる処理装置および該装置における清浄エアの供
給方法を提供することを課題とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項１記載の本発明の処理装置は、被処理体に所
定の処理を行う複数の処理部と、前記各処理部に対応し
て、該処理部の上方に設けられ、清浄エアを直下に向け
て吹き出すエア吹き出し部と、前記各処理部に対応し
て、該処理部の下方に、前記エア吹き出し部に対向して
設けられ、エア吸引機構の吸引力により、リターンダク
トを通じて前記エア吹き出し部にエアを再供給するた
め、処理部を通過したエアを回収するエア回収部と、を
具備することを特徴とする。
【０００７】請求項２記載の本発明の処理装置は、被処
理体に所定の処理を行う処理部と、前記処理部を囲繞す
ると共に、側面部にエアを外部に吹き出すためのエア通
過部が形成された処理部保護用のカバー部材と、前記処
理部に対応して、該処理部の上方に設けられ、清浄エア
を直下に向けて吹き出すエア吹き出し部と、前記処理部
に対応して、該処理部の下方に、前記エア吹き出し部に
対向して設けられ、エア吸引機構の吸引力により、リタ
ーンダクトを通じて前記エア吹き出し部にエアを再供給
するため、処理部を通過したエアを回収するエア回収部
と、を具備することを特徴とする。
【０００８】請求項３記載の本発明の処理装置は、被処
理体に所定の処理を行う処理部と、前記処理部に対応し
て、該処理部の上方に設けられ、清浄エアを直下に向け
て吹き出し可能であると共に、前記処理部の外方におい
ても清浄エアを直下に向けて吹き出すことができる突出
した吹き出し部を有するエア吹き出し部と、前記突出し
た吹き出し部の外側縁に沿って設けられるカーテン部材
と、前記処理部に対応して、該処理部の下方に、前記エ
ア吹き出し部のうち、突出した吹き出し部を除いたエア
吹き出し部に対向して設けられ、エア吸引機構の吸引力
により、リターンダクトを通じて前記エア吹き出し部に
エアを再供給するため、処理部を通過したエアを回収す
るエア回収部と、を具備することを特徴とする。
【０００９】請求項４記載の本発明の処理装置は、請求
項１〜３のいずれか１に記載の処理装置であって、前記
エア吹き出し部が、送風ファンと、該送風ファンの吹き
出し側に設けられるフィルタとを有して構成されること
を特徴とする。
【００１０】請求項５記載の本発明の処理装置は、請求
項１〜４のいずれか１に記載の処理装置であって、前記
エア吸引機構が、吸引されたエアを冷却する熱交換機
と、前記エア回収部を経由させてエアを吸引すると共
に、前記リターンダクトを経由させてエア吹き出し部に
回収されたエアを供給するブロワとを有して構成される
ことを特徴とする。
【００１１】請求項６記載の本発明の処理装置は、請求
項１〜５のいずれか１に記載の処理装置であって、前記
エア吸引機構に外部空気取り入れ口が付設されているこ
とを特徴とする。
【００１２】請求項７記載の本発明の処理装置は、請求
項１〜６のいずれか１に記載の処理装置であって、前記
エア吹き出し部とエア回収部との間に、ケミカルトラッ
プが配置されていることを特徴とする。
【００１３】請求項８記載の本発明の処理装置は、被処
理体に所定の処理を行う複数の処理部と、前記各処理部
に対応して、該処理部の上方に設けられ、清浄エアを直
下に向けて吹き出すエア吹き出し部と、前記各処理部に
対応して、該処理部の下方に、前記エア吹き出し部に対
向してそれぞれ設けられ、前記各エア吹き出し部から吹
き出されて前記各処理部を通過した清浄エアを一旦蓄積
する箱形のエア回収部と、前記各エア回収部に蓄積され
た清浄エアを引力し、前記エア吹き出し部に再供給する
ためのエア吸引機構及びリターンダクトとを具備するこ
とを特徴とする。
【００１４】請求項９記載の本発明の処理装置は、請求
項８記載の処理装置であって、前記各エアー回収部は、
相互にエアの流出入が可能に連結自在であることを特徴
とする。
【００１５】請求項１０記載の本発明の処理装置は、複
数の処理部と、各処理部に清浄エアーを供給する供給手
段とを有する処理装置であって、前記処理部毎に、供給
される清浄エアーのクリーン度、温度、湿度のうち少な
くとも１つのコントロールの有無を設定可能としたこと
を特徴する。
【００１６】請求項１１記載の本発明の処理装置は、複
数の処理部と、各処理部に清浄エアーを供給する供給手
段とを有する処理装置であって、当該処理装置に対する
メンテナンス時を検出する手段と、前記メンテナンス時
が検出されたとき、各処理部のうち所定の処理部に供給
される清浄エアーの風速をコントロールすることを特徴
とする。
【００１７】請求項１２記載の本発明の処理装置におけ
る清浄エアの供給方法は、被処理体に所定の処理を行う
処理部ごとに対応させて、該処理部の上方にエア吹き出
し部を設け、該エア吹き出し部から清浄エアを直下に向
けて吹き出した後、処理部を通過したエアを、エア吸引
機構の吸引力により、前記処理部ごとに対応させて、前
記処理部の下方に設けたエア回収部を通じて回収し、リ
ターンダクトを介してエア吹き出し部に再度供給するこ
とを特徴とする。
【００１８】請求項１３記載の本発明の処理装置におけ
る清浄エアの供給方法は、被処理体に所定の処理を行う
処理部の上方にエア吹き出し部を設け、該エア吹き出し
部から清浄エアを直下に向けて吹き出した後、処理部を
通過したエアを、エア吸引機構の吸引力により、前記処
理部ごとに対応させて、前記処理部の下方に設けたエア
回収部を通じて回収し、リターンダクトを介してエア吹
き出し部に再度供給する一方、前記処理部を囲繞する処
理部保護用のカバー部材の側面部にエア通過部を形成
し、該エア通過部を通じてエアを外部に吹き出すことに
より、外部パーティクルの侵入を防ぐ気流を形成するこ
とを特徴とする。
【００１９】請求項１４記載の本発明の処理装置におけ
る清浄エアの供給方法は、被処理体に所定の処理を行う
処理部の上方に処理部の外方に突出した吹き出し部を有
するエア吹き出し部を設け、該エア吹き出し部から清浄
エアを直下に向けて吹き出した後、処理部を通過したエ
アを、エア吸引機構の吸引力により、前記処理部ごとに
対応させて、前記処理部の下方に設けたエア回収部を通
じて回収し、リターンダクトを介してエア吹き出し部に
再度供給する一方、前記突出した吹き出し部から処理部
の外方においても清浄エアを直下に向けて吹き出すこと
により、外部パーティクルの侵入を防ぐ気流を形成する
ことを特徴とする。
【００２０】請求項１記載の本発明の処理装置は、被処
理体に所定の処理を行う処理部ごとに対応させて、該処
理部の上方にエア吹き出し部を設け、また、処理部ごと
に対応させて、該処理部の下方に設けたエア回収部を設
けている。したがって、エア吹き出し部から直下に向け
て吹き出された清浄エアは、当該装置内に設置された処
理部を通過した後、エア吸引機構による吸引力により、
該エア吹き出し部に対向するエア回収部を通じて回収さ
れ、リターンダクトを介してエア吹き出し部に再度供給
される。すなわち、処理装置ごとに対応してエア吹き出
し部およびエア回収部が設けられているため、例えば、
塗布・現像処理システム中、当該処理装置が不要で、当
該処理装置を省いた際には、当該処理装置に設けられた
エア吹き出し部、エア回収部等も一緒に除去される。こ
のため、塗布・現像処理システムにおいて、必要な箇所
（処理装置）においてのみ清浄エアを供給でき、不要な
処理装置を省いた場合には、ブロワやファン等に余分な
負荷がかからず、従来と比較してランニングコストを低
減することができる。
【００２１】請求項２記載の本発明の処理装置は、被処
理体に所定の処理を行う処理部ごとに対応させて、該処
理部の上方にエア吹き出し部を設け、また、処理部ごと
に対応させて、該処理部の下方に設けたエア回収部を設
けていると共に、処理部を囲繞する処理部保護用のカバ
ー部材の側面部にエア通過部を形成している。したがっ
て、エア吹き出し部から直下に向けて吹き出された清浄
エアは、当該装置内に設置された処理部を通過した後、
エア吸引機構による吸引力により、該エア吹き出し部に
対向するエア回収部を通じて回収され、リターンダクト
を介してエア吹き出し部に再度供給される一方、エア通
過部を通じてエアを外部に吹き出すことにより、外部パ
ーティクルの侵入を防ぐ気流を形成することができる。
このため、例えば、塗布・現像処理システムにおいて、
必要な箇所（処理装置）においてのみ清浄エアを供給で
き、不要な処理装置を省いた場合には、ブロワやファン
等に余分な負荷がかからず、従来と比較してランニング
コストを低減することができると共に、被処理体に対す
るパーティクルの付着をより効果的に防止できる。
【００２２】請求項３記載の本発明の処理装置は、被処
理体に所定の処理を行う処理部ごとに対応させて、該処
理部の上方にエア吹き出し部を設け、また、処理部ごと
に対応させて、該処理部の下方に設けたエア回収部を設
けている。また、前記処理部の外方においても清浄エア
を直下に向けて吹き出すことができる突出した吹き出し
部を設け、さらに、前記突出した吹き出し部の外側縁に
沿ってカーテン部材を設けている。したがって、エア吹
き出し部から直下に向けて吹き出された清浄エアは、当
該装置内に設置された処理部を通過した後、エア吸引機
構による吸引力により、該エア吹き出し部に対向するエ
ア回収部を通じて回収され、リターンダクトを介してエ
ア吹き出し部に再度供給される。その一方、突出した吹
き出し部を通じてカーテン部材と処理部との間にダウン
ブローの気流を形成することができる。このため、処理
部に対してメンテナンス処理を行う際に、作業者がカー
テン部材内に入ったときの、外部パーティクルの処理部
内への侵入を防止できる。
【００２３】請求項４記載の本発明の処理装置は、前記
エア吹き出し部を、送風ファンと、該送風ファンの吹き
出し側に設けられるフィルタとを有する構成としてい
る。したがって、吹き出し直前にフィルタにより清浄さ
れた清浄エアが各処理装置ごと供給される。
【００２４】請求項５記載の本発明の処理装置は、前記
エア吸引機構が熱交換機とブロワを有しているため、前
記エア回収部を経由させてエアを吸引して回収する際、
エアを冷却し、その上でリターンダクトを経由させてエ
ア吹き出し部に供給することができる。
【００２５】請求項６記載の本発明の処理装置は、前記
エア吸引吸引機構に外部空気取り入れ口が付設されてい
る。このため、装置外へ漏れたエア分を新鮮な外部空気
で補うことができる。
【００２６】請求項７記載の本発明の処理装置では、前
記エア吹き出し部とエア回収部との間に、ケミカルトラ
ップが配置されているので、より清浄なエアの供給が可
能である。
【００２７】請求項８記載の本発明の処理装置では、各
エア吹き出し部から吹き出されて各処理部を通過した清
浄エアを一旦蓄積する箱形のエア回収部がリターンダク
ト等とは別個に設けられているので、均一な吸引或いは
必要に応じて分布を変えた吸引を行うことができる。
【００２８】請求項９記載の本発明の処理装置では、各
エアー回収部が相互にエアの流出入が可能に連結自在で
あるので、増設が容易である。
【００２９】請求項１０記載の本発明の処理装置では、
処理部毎に、供給される清浄エアーのクリーン度、温
度、湿度のうち少なくとも１つのコントロールの有無を
設定可能としたので、最適でかつ安価な装置構成をとる
ことが可能である。
【００３０】請求項１１記載の本発明の処理装置では、
当該処理装置に対するメンテナンス時を検出する手段を
有し、メンテナンス時が検出されたとき、各処理部のう
ち所定の処理部に供給される清浄エアーの風速をコント
ロールしているので、メンテナンス時に所定の処理部に
パーティクル等が進入するのを防止することができる。
【００３１】請求項１２記載の本発明の処理装置におけ
る清浄エアの供給方法によれば、処理装置ごとに対応し
てエア吹き出し部およびエア回収部を設けて供給するた
め、必要な箇所（処理装置）においてのみ清浄エアを供
給でき、不要な処理装置を省いた場合には、ブロワやフ
ァン等に余分な負荷がかからず、従来と比較してランニ
ングコストを低減することができる。
【００３２】請求項１３記載の本発明の処理装置におけ
る清浄エアの供給方法によれば、エア通過部を通じてエ
アを外部に吹き出すことにより、外部パーティクルの侵
入を防ぐ気流を形成することができる。このため、被処
理体に対するパーティクルの付着をより効果的に防止で
きる。
【００３３】請求項１４記載の本発明の処理装置におけ
る清浄エアの供給方法によれば、突出した吹き出し部を
通じて処理部の外部にダウンブローの気流を形成するこ
とができる。このため、処理部に対してメンテナンス処
理を行う際に、作業者が接近したときの、外部パーティ
クルの処理部内への侵入を防止できる。
【００３４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明するが、まず、本発明の処理装置の組み合
わせからなる、ＬＣＤ用のガラス基板上にＩＴＯの薄膜
や電極パターンを形成するフォトレジストの塗布・現像
処理システムの全体構成について説明する。
【００３５】図１に示すように、この塗布・現像処理シ
ステム１の前方には、ガラス基板Ｇを、塗布・現像処理
システム１に対して搬出入するローダ・アンローダ部２
が設けられている。このローダ・アンローダ部２には、
ガラス基板Ｇを例えば２５枚ずつ収納したカセットＣを
所定位置に整列させて載置させるカセット載置台３と、
各カセットＣから処理すべきガラス基板Ｇを取り出し、
また塗布・現像処理システム１において処理の終了した
ガラス基板Ｇを各カセットＣへ戻すローダ・アンローダ
４が設けられている。図示のローダアンローダ４は、本
体５の走行によってカセットＣの配列方向に移動し、本
体５に搭載された板片状のピンセット６によって各カセ
ットＣからガラス基板Ｇを取り出し、また各カセットＣ
へガラス基板Ｇを戻すようになっている。また、ピンセ
ット６の両側には、ガラス基板Ｇの四隅を保持して位置
合わせを行う基板位置合わせ部材７が設けられている。
【００３６】塗布・現像処理システム１の中央部には、
長手方向に配置された廊下状の搬送路１０、１１が第１
の受け渡し部１２を介して一直線上に設けられており、
この搬送路１０、１１の両側には、ガラス基板Ｇに対す
る各処理を行うための各種処理装置が配置されている。
【００３７】図示の塗布・現像処理システム１にあって
は、搬送路１０の一側方に、ガラス基板Ｇをブラシ洗浄
すると共に高圧ジェット水により洗浄を施すための洗浄
装置１６が例えば２台並設されている。また、搬送路１
０を挟んで反対側に、二基の現像装置１７が並設され、
その隣りに二基の加熱装置１８が積み重ねて設けられて
いる。
【００３８】また、搬送路１１の一側方に、ガラス基板
Ｇにレジスト液を塗布する前にガラス基板Ｇを疎水処理
するアドヒージョン装置２０が設けられ、このアドヒー
ジョン装置２０の下方には冷却用の清浄グ装置２１が配
置されている。また、これらアドヒージョン装置２０と
清浄グ装置２１の隣には加熱装置２２が二列に二個ずつ
積み重ねて配置されている。また、搬送路１１を挟んで
反対側に、ガラス基板Ｇの表面にレジスト液を塗布する
ことによってガラス基板Ｇの表面にレジスト膜を形成す
るレジスト塗布装置２３が配置されている。図示はしな
いが、これら塗布装置２３の側部には、第２の受け渡し
部２８を介し、ガラス基板Ｇ上に形成されたレジスト膜
に所定の微細パターンを露光するための露光装置等が設
けられる。第２の受け渡し部２８は、ガラス基板Ｇを搬
入および搬出するための搬出入ピンセット２９および受
け渡し台３０を備えている。
【００３９】以上の各処理装置１６〜１８および２０〜
２３は、何れも搬送路１０、１１の両側において、ガラ
ス基板Ｇの出入口を内側に向けて配設されている。第１
の搬送装置２５がローダ・アンローダ部２、各処理装置
１６〜１８および第１の受け渡し部１２との間でガラス
基板Ｇを搬送するために搬送路１０上を移動し、第２の
搬送装置２６が第１の受け渡し部１２、第２の受け渡し
部２８および各処理装置２０〜２３との間でガラス基板
Ｇを搬送するために搬送路１１上を移動するようになっ
ている。
【００４０】各搬送装置２５、２６は、それぞれ上下一
対のアーム２７、２７を有しており、各処理装置１６〜
１８および２０〜２３にアクセスするときは、一方のア
ーム２７で各処理装置のチャンバから処理済みのガラス
基板Ｇを搬出し、他方のアーム２７で処理前のガラス基
板Ｇをチャンバ内に搬入するように構成されている。
【００４１】図２は図１に示した塗布・現像処理システ
ムを構成する処理装置のうち、レジスト塗布装置２３と
加熱装置２２の概略構成を示す斜視図であり、図３はそ
の断面図である。
【００４２】図に示したように、レジスト塗布装置２３
と加熱装置２２とは、通常、搬送路１１を挟んで一つの
処理ユニットを構成するように設けられている。このよ
うに一対の処理装置からなる処理ユニットが複数連接さ
れることで、レジスト塗布装置２３と加熱装置２２とが
被処理体であるガラス基板Ｇの処理枚数に応じて、必要
数配設される。すなわち、各処理装置には、下部にキャ
スター３５がそれぞれ設けられており、処理装置ごとに
移動してライン上に配置したり、ラインから外したりす
ることにより、レジスト塗布装置２３と加熱装置２２と
の配設数を調整することができる。
【００４３】なお、本実施の形態では、このように、レ
ジスト塗布装置２３と加熱装置２２とにより一つの処理
ユニットを構成し、後述のエア吸引機構４５とリターン
ダクト４４とは、処理装置ごとではなく処理ユニットご
とに設けている。エア吸引機構４５およびリターンダク
ト４４とも、エア吹き出し部４０およびエア回収部４３
のように各処理装置ごとに対応させて設けることもでき
るが、本実施の形態のように処理ユニットごとに設ける
と構成を簡易にすることができる。そして、各エア回収
部４３は、各ユニット毎に分離、独立しており、システ
ムに組み合わせるときにジョイントパイプ４３ｂで連結
されるようになっている。
【００４４】本実施の形態にかかる処理装置であるレジ
スト塗布装置２３と加熱装置２２とは、搬送路１１を挟
んで一組の処理ユニットを構成しており、レジスト塗布
装置２３においては、ガラス基板Ｇが載置され、回転し
ながらガラス基板Ｇ上に吐出されるレジストを均一に広
げるスピンチャック３１が処理部に相当し、加熱装置２
２においては、載置されるガラス基板Ｇを加熱して熱処
理を行うホットプレート３２が処理部に相当する。ま
た、搬送路１１においては、レジスト塗布装置２３や加
熱装置２２にガラス基板Ｇを出し入れするために走行す
る搬送装置２６が処理部に相当する。
【００４５】エア吹き出し部４０は、レジスト塗布装置
２３においてはスピンチャック３１の上方、加熱装置２
２においてはホットプレート３２の上方、搬送路１１に
おいては搬送装置２６の上方に設けられている。このエ
ア吹き出し部４０は、送風ファン４１と該送風ファン４
１よりも吹き出し側に配設されるフィルタ４２とを有し
て構成される。フィルタ４２は、後述のエア回収部４３
やリターンダクト４４中に配設することも可能である
が、回収されたエアがエア回収部４３やリターンダクト
４４を通過する間に、微小の浮遊パーティクルと再接触
する可能性があるため、本実施の形態のように、送風フ
ァン４１の後段、すなわち、エアの吹き出し直前に配設
することが好ましい。もちろん、このフィルタ４２のほ
かに、さらにリターンダクト４４中等にケミカルトラッ
プ６１，６２を配設することも可能である。これによ
り、より清浄なエアを供給可能になる。
【００４６】エア回収部４３は、上記したエア吹き出し
部４０と対向する位置、すなわち、スピンチャック３１
の下方、ホットプレート３２の下方、搬送装置２６の下
方にそれぞれ設けられる。エア回収部４３は、上面に複
数のエア通過孔が形成された多孔板４３ａを有してお
り、後述のエア吸引機構４５の作動により該エア通過孔
を介してエアが回収される構造である。また、本実施の
形態では、エア回収部４３が、必ずエア吹き出し部４０
に対向して、処理装置と一体に設けられている構成であ
るため、移動用のキャスタ３５は、該エア回収部４３を
形成しているフレームの下部に設けられる。また、本実
施の形態では、エア吸引機構４５およびリターンダクト
４４を一組の処理ユニットごとに設けているため、各処
理装置に設けられるエア回収部４３は相互にジョイント
パイプ４３ｂを介して接続している。
【００４７】処理装置の一つであるレジスト塗布装置２
３のスピンチャック３１の周囲には、該スピンチャック
３１を保護するための、処理部保護用のカバー部材３１
ａが設けられている。この処理部保護用のカバー部材３
１には、その側面部に、メンテナンス用の窓部３１ｂが
設けられている。本実施の形態においては、このメンテ
ナンス用の窓部３１ｂをエア通過部として用い、該窓部
３１ｂを通じて積極的に清浄エアを外部に放出し得るよ
うに設けている。これにより、処理装置内が陽圧とな
り、外部が陰圧雰囲気になるため、窓部３１ｂからの外
部パーティクルの侵入を積極的に防止している。同様
に、加熱装置２２のホットプレート３２の周囲にも処理
部保護用のカバー部材３２ａが設けられており、この処
理部保護用のカバー部材３２ａの側面部にもエア通過部
３２ｂを形成している。
【００４８】エア吸引機構４５は、ブロワ４５ａと、該
ブロワ４５ａの保持用ケース４５ｂとを有し、保持用ケ
ース４５ｂは、処理ユニットを構成するいずれかの処理
装置のエア回収部４３に排気ダクト４５ｃを介して接続
されている。また、保持用ケース４５ｂには新鮮な外部
空気を取り込む外部空気取り入れ口４５ｄが設けられて
いると共に、排気ダクト４５ｃには、回収されたエアを
冷却するための熱交換機４５ｅが配設されている。な
お、エア吸引機構４５は、処理装置が設置される床面上
に配置してもよいが、予め、接続されるリターンダクト
４４を引き出した上で、床面下に所定数埋設しておくこ
とも可能である。
【００４９】保持用ケース４５ｂは、さらに、リターン
ダクト４４を介してエア吹き出し部４０に連結されてい
る。より具体的には、エア吹き出し部４０を構成する送
風ファン４１の手前側には、３つのエア吹き出し部４０
を相互に連通する連通ダクト４６が設けられており、リ
ターンダクト４４はこの連通ダクト４６に連結されてい
る。なお、リターンダクト４４の適宜箇所には、エア吹
き出し部４０に再供給されるエアを冷却するための冷凍
機（図示せず）を配設することもできる。
【００５０】上記したように、エア吹き出し部４０とエ
ア回収部４３とは処理部の上方又は下方に対向するよう
に設けられているが、本実施の形態では、該エア吹き出
し部４０に、装置外に突出する吹き出し部４０ａを設け
ている。この突出した吹き出し部４０ａは、メンテナン
ス用の窓部３１ｂが設けられたレジスト塗布装置２３の
上方に配設されたエア吹き出し部４０に、該窓部３１ｂ
の形成面と同じ側の外方に突出するように設けられてい
る。また、この突出した吹き出し部４０ａの外側面に沿
って下方に垂下するようにプラスチックフィルム等から
なるカーテン部材４８が設けられている。メンテナンス
作業をする場合には、作業者がこのカーテン部材４８の
内側に入り、窓部３１ｂを通じて所定の作業を行うこと
になるが、このように、突出した吹き出し部４０ａを設
け、ダウンブローで清浄エアを供給することで、作業者
がカーテン部材４８の内側に入ったときの気流の乱れに
よる外部パーティクルの窓部３１ｂを通じての侵入を防
ぐことができる。
【００５１】本実施の形態によれば、レジスト塗布装置
２３、加熱装置２２、および搬送路１１の各処理装置に
おいて、スピンチャック３１、ホットプレート３２又は
搬送装置２６の各上方に配置されたエア吹き出し部４０
から清浄エアが直下に向けて供給される。そして、これ
らの処理部において被処理体であるガラス基板Ｇに向か
ってパーティクルが付着しないように供給された清浄エ
アは、その後、エア吸引機構４５を構成するブロワ４５
ａの作動により吸引され、対応して配設されたエア回収
部４３を経由して回収される。また、レジスト塗布装置
２３の窓部３１ｂや加熱装置２２のエア通過部３２ｂを
通じて、エアが装置外部に排出される。このため、この
窓部３１ｂ等を通じての外部パーティクルの侵入が防止
できる。清浄エアは、このようにその一部が外部に漏れ
ることから、回収されたエア量だけでは、次に供給する
清浄エアのエア量が不足することになるが、その不足分
は、ブロワ保持用ケース４５ｂに形成された外部空気取
り入れ口４５ｄから吸引され、リターンダクト４４を通
じて、回収されたエアと共にエア吹き出し部４０に供給
され、フィルタ４２を通過することにより、清浄エアと
して処理部に向けて再度供給される。
【００５２】以上のように、本実施の形態によれば、各
処理装置ごとにエア吹き出し部４０やエア回収部４３が
設けられている構成であるため、不要な処理装置を除去
した場合には、エア吹き出し部４０およびエア回収部４
３が一緒に除去されることから、従来のように、エア吸
引機構４５に余計な負荷がかかることを防止できる。
【００５３】なお、図４に示すように、カーテン部材４
８が形成された側に、メンテナンス時に使うステップ台
５１を設け、このステップ台５１内にエア吸引機構とし
ての機能を持たせ、エア回収部４３のエアを吸引するよ
うにしてもよい。
【００５４】また、リターンダクトを介して供給される
エアの性質を各処理ユニット毎に変えても良い。例え
ば、図４の符号５２、５３、５４で示す各処理ユニット
に対応する各リターンダクトから異なる性質のエア、例
えばリターンダクト５２から温度及び湿度がコントロー
ルされたエア、リターンダクト５３から清浄のみがなさ
れたエア、リターンダクト５４から清浄がなされ流速の
遅いエアを供給するようにしてもよい。即ち、処理部毎
に、供給される清浄エアーのクリーン度、温度、湿度等
のコントロールの有無を設定可能することで、最適でか
つ安価な装置構成をとることが可能である。
【００５５】更に、図５の符号７１、７２に示すリター
ンダクトの構成のように、スピン系、搬送系等に大きく
分けて、それぞれ例えば上記の如く制御されたエアを供
給しても構わない。
【００５６】また、装置の前面や側面等のオペレーショ
ン面に人が出入りしたり、処理ユニットの前面カバー等
を開けたときに、その状態を、例えば圧力センサ、風速
センサ、ドアスイッチ等により検出し、必要な部部の風
速をコントロールするように構成しても構わない。
【００５７】上記した説明では、処理装置として、塗布
・現像処理システムを構成するレジスト塗布装置２３や
加熱装置２２にエア吹き出し部４０等を設けた場合を例
にとり説明しているが、洗浄装置１６等の他の処理装置
をこのようなエア吹き出し部４０等を設けた構成とする
ことももちろん可能である。
【００５８】
【発明の効果】請求項１記載の本発明の処理装置によれ
ば、処理装置ごとに対応してエア吹き出し部およびエア
回収部が設けられているため、例えば、塗布・現像処理
システム中、当該処理装置が不要で、当該処理装置を省
いた際には、当該処理装置に設けられたエア吹き出し
部、エア回収部等も一緒に除去される。このため、塗布
・現像処理システムにおいて、必要な箇所（処理装置）
においてのみ清浄エアを供給でき、不要な処理装置を省
いた場合には、ブロワやファン等に余分な負荷がかから
ず、従来と比較してランニングコストを低減することが
できる。
【００５９】請求項２記載の本発明の処理装置によれ
ば、例えば、塗布・現像処理システムにおいて、必要な
箇所（処理装置）においてのみ清浄エアを供給でき、不
要な処理装置を省いた場合には、ブロワやファン等に余
分な負荷がかからず、従来と比較してランニングコスト
を低減することができると共に、被処理体に対するパー
ティクルの付着をより効果的に防止できる。
【００６０】請求項３記載の本発明の処理装置によれ
ば、エア吹き出し部から直下に向けて吹き出された清浄
エアは、当該装置内に設置された処理部を通過した後、
エア吸引機構による吸引力により、該エア吹き出し部に
対向するエア回収部を通じて回収され、リターンダクト
を介してエア吹き出し部に再度供給される。その一方、
突出した吹き出し部を通じてカーテン部材と処理部との
間にダウンブローの気流を形成することができる。この
ため、処理部に対してメンテナンス処理を行う際に、作
業者がカーテン部材内に入ったときの、外部パーティク
ルの処理部内への侵入を防止できる。
【００６１】請求項４記載の本発明の処理装置によれ
ば、前記エア吹き出し部を、送風ファンと、該送風ファ
ンの吹き出し側に設けられるフィルタとを有する構成と
している。したがって、吹き出し直前にフィルタにより
清浄された清浄エアが各処理装置ごと供給される。
【００６２】請求項５記載の本発明の処理装置によれ
ば、前記エア吸引機構が熱交換機とブロワを有している
ため、前記エア回収部を経由させてエアを吸引して回収
する際、エアを冷却し、その上でリターンダクトを経由
させてエア吹き出し部に供給することができる。
【００６３】請求項６記載の本発明の処理装置によれ
ば、前記エア吸引吸引機構に外部空気取り入れ口が付設
されている。このため、装置外へ漏れたエア分を新鮮な
外部空気で補うことができる。
【００６４】請求項７記載の本発明の処理装置によれ
ば、前記エア吹き出し部とエア回収部との間に、ケミカ
ルトラップが配置されているので、より清浄なエアの供
給が可能である。
【００６５】請求項８記載の本発明の処理装置によれ
ば、各エア吹き出し部から吹き出されて各処理部を通過
した清浄エアを一旦蓄積する箱形のエア回収部がリター
ンダクト等とは別個に設けられているので、均一な吸引
或いは必要に応じて分布を変えた吸引を行うことができ
る。
【００６６】請求項９記載の本発明の処理装置によれ
ば、各エアー回収部が相互にエアの流出入が可能に連結
自在であるので、増設が容易である。
【００６７】請求項１０記載の本発明の処理装置によれ
ば、処理部毎に、供給される清浄エアーのクリーン度、
温度、湿度のうち少なくとも１つのコントロールの有無
を設定可能としたので、最適でかつ安価な装置構成をと
ることが可能である。
【００６８】請求項１１記載の本発明の処理装置によれ
ば、当該処理装置に対するメンテナンス時を検出する手
段を有し、メンテナンス時が検出されたとき、各処理部
のうち所定の処理部に供給される清浄エアーの風速をコ
ントロールしているので、メンテナンス時に所定の処理
部にパーティクル等が進入するのを防止することができ
る。
【００６９】請求項１２記載の本発明の処理装置におけ
る清浄エアの供給方法によれば、処理装置ごとに対応し
てエア吹き出し部およびエア回収部を設けて供給するた
め、必要な箇所（処理装置）においてのみ清浄エアを供
給でき、不要な処理装置を省いた場合には、ブロワやフ
ァン等に余分な負荷がかからず、従来と比較してランニ
ングコストを低減することができる。
【００７０】請求項１３記載の本発明の処理装置におけ
る清浄エアの供給方法によれば、エア通過部を通じてエ
アを外部に吹き出すことにより、外部パーティクルの侵
入を防ぐ気流を形成することができる。このため、被処
理体に対するパーティクルの付着をより効果的に防止で
きる。
【００７１】請求項１４記載の本発明の処理装置におけ
る清浄エアの供給方法によれば、突出した吹き出し部を
通じて処理部の外部にダウンブローの気流を形成するこ
とができる。このため、処理部に対してメンテナンス処
理を行う際に、作業者が接近したときの、外部パーティ
クルの処理部内への侵入を防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の一の実施の形態に係る塗布・現像処
理システムの斜視図である。
【図２】 図２は図１に示した塗布・現像処理システム
を構成する処理装置のうち、レジスト塗布装置と加熱装
置の概略構成を示す斜視図である。
【図３】 図３は図２の断面図である。
【図４】 本発明の他の実施形態に係るレジスト塗布装
置と加熱装置の断面図である。
【図５】 本発明の他の実施形態に係る塗布・現像処理
システムの断面図である。
【符号の説明】
２６ 搬送装置 ３１ スピンチャック ３１ａ カバー部材 ３２ ホットプレート ３２ａ カバー部材 ４０ エア吹き出し部 ４０ａ 突出したエア引き出し部 ４１ 送風ファン ４２ フィルタ ４３ エア回収部 ４４ リターンダクト ４５ エア吸引機構 ４５ａ ブロワ ４５ｄ 外部空気取り入れ口 ４５ｅ 熱交換機 ４８ カーテン部材 Ｇ ガラス基板
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平５−106888（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−96332（ＪＰ，Ａ) 特開 平２−293554（ＪＰ，Ａ) 特開 平10−144600（ＪＰ，Ａ) 特開 平７−180867（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−318538（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−291436（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−271645（ＪＰ，Ａ) 特開 平３−199839（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) H01L 21/027 G02F 1/13 101 H01L 21/02

Claims (14)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 被処理体に所定の処理を行う処理部と、 前記処理部を囲繞すると共に、側面部にエアを外部に吹
    き出すためのエア通過部が形成された処理部保護用のカ
    バー部材と、 前記処理部に対応して、該処理部の上方に設けられ、清
    浄エアを直下に向けて吹き出すエア吹き出し部と、 前記処理部に対応して、該処理部の下方に、前記エア吹
    き出し部に対向して設けられ、エア吸引機構の吸引力に
    より、リターンダクトを通じて前記エア吹き出し部にエ
    アを再供給するため、処理部を通過したエアを回収する
    エア回収部と、 を具備することを特徴とする処理装置。
  2. 【請求項２】 被処理体に所定の処理を行う処理部と、 前記処理部に対応して、該処理部の上方に設けられ、清
    浄エアを直下に向けて吹き出し可能であると共に、前記
    処理部の外方においても清浄エアを直下に向けて吹き出
    すことができる突出した吹き出し部を有するエア吹き出
    し部と、 前記突出した吹き出し部の外側縁に沿って設けられるカ
    ーテン部材と、 前記処理部に対応して、該処理部の下方に、前記エア吹
    き出し部のうち、処理部外へ突出した吹き出し部を除い
    たエア吹き出し部に対向して設けられ、エア吸引機構の
    吸引力により、リターンダクトを通じて前記エア吹き出
    し部にエアを再供給するため、処理部を通過したエアを
    回収するエア回収部と、 を具備することを特徴とする処理装置。
  3. 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載の処理装
    置であって、 前記エア吹き出し部が、送風ファンと、該送風ファンの
    吹き出し側に設けられるフィルタとを有して構成される
    ことを特徴とする処理装置。
  4. 【請求項４】 請求項１〜３のいずれか１に記載の処理
    装置であって、 前記エア吸引機構が、吸引されたエアを冷却する熱交換
    機と、前記エア回収部を経由させてエアを吸引すると共
    に、前記リターンダクトを経由させてエア吹き出し部に
    回収されたエアを供給するブロワとを有して構成される
    ことを特徴とする処理装置。
  5. 【請求項５】 請求項１〜４のいずれか１に記載の処理
    装置であって、 前記エア吸引機構に外部空気取り入れ口が付設されてい
    ることを特徴とする処理装置。
  6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか１に記載の処理
    装置であって、 前記エア吹き出し部とエア回収部との間に、ケミカルト
    ラップが配置されていることを特徴とする処理装置。
  7. 【請求項７】 被処理体に所定の処理を行う複数の処理
    部と、 前記各処理部に対応して、該処理部の上方に設けられ、
    清浄エアを直下に向けて吹き出すエア吹き出し部と、 前記各処理部に対応して、該処理部の下方に、前記エア
    吹き出し部に対向してそれぞれ設けられ、前記各エア吹
    き出し部から吹き出されて前記各処理部を通過した清浄
    エアを一旦蓄積する箱形のエア回収部と、 前記各エア回収部に蓄積された清浄エアを引力し、前記
    エア吹き出し部に再供給するためのエア吸引機構及びリ
    ターンダクトとを具備し、前記各エア回収部は、相互にエアの流出入が可能に連結
    自在である ことを特徴とする処理装置。
  8. 【請求項８】 請求項７に記載の処理装置であって、 前記処理部毎に、供給される清浄エアのクリーン度、温
    度、湿度のうち少なくとも１つのコントロールの有無を
    設定可能としたことを特徴する処理装置。
  9. 【請求項９】 請求項１〜８のいずれか１に記載の処理
    装置であって、 当該処理装置に対するメンテナンス時を検出する手段
    と、 前記メンテナンス時が検出されたとき、各処理部のうち
    所定の処理部に供給される清浄エアの風速をコントロー
    ルする手段とを具備することを特徴とする処理装置。
  10. 【請求項１０】 被処理体に所定の処理を行う処理部
    と、前記処理部を囲繞すると共に、側面部にエアを外部
    に吹き出すためのエア通過部が形成された処理部保護用
    のカバー部材と、前記処理部に対応して、該処理部の上
    方に設けられ、清浄エアを直下に向けて吹き出すエア吹
    き出し部と、前記処理部に対応して、該処理部の下方
    に、前記エア吹き出し部に対向して設けられ、エア吸引
    機構の吸引力 により、リターンダクトを通じて前記エア
    吹き出し部にエアを再供給するため、処理部を通過した
    エアを回収するエア回収部とを有する処理装置を複数備
    え、 前記吸引機構および前記リターンダクトのうち少なくと
    も一方は、前記複数の処理装置のうち所定数の処理装置
    ごとに設けられていることを特徴する処理システム。
  11. 【請求項１１】 被処理体に所定の処理を行う処理部
    と、前記処理部に対応して、該処理部の上方に設けら
    れ、清浄エアを直下に向けて吹き出し可能であると共
    に、前記処理部の外方においても清浄エアを直下に向け
    て吹き出すことができる突出した吹き出し部を有するエ
    ア吹き出し部と、前記突出した吹き出し部の外側縁に沿
    って設けられるカーテン部材と、前記処理部に対応し
    て、該処理部の下方に、前記エア吹き出し部のうち、処
    理部外へ突出した吹き出し部を除いたエア吹き出し部に
    対向して設けられ、エア吸引機構の吸引力により、リタ
    ーンダクトを通じて前記エア吹き出し部にエアを再供給
    するため、処理部を通過したエアを回収するエア回収部
    とを有する処理装置を複数備え、 前記吸引機構および前記リターンダクトのうち少なくと
    も一方は、前記複数の処理装置のうち所定数の処理装置
    ごとに設けられていることを特徴する処理システム。
  12. 【請求項１２】 請求項１０または請求項１１に記載の
    処理装置であって、 前記複数の処理装置における前記処理部毎に、前記供給
    される清浄エアのクリーン度、温度、湿度のうち少なく
    とも１つのコントロールの有無を設定可能としたことを
    特徴する処理システム。
  13. 【請求項１３】 被処理体に所定の処理を行う処理部の
    上方にエア吹き出し部を設け、該エア吹き出し部から清
    浄エアを直下に向けて吹き出した後、処理部を通過した
    エアを、エア吸引機構の吸引力により、前記処理部ごと
    に対応させて、前記処理部の下方に設けたエア回収部を
    通じて回収し、リターンダクトを介してエア吹き出し部
    に再度供給する一方、前記処理部を囲繞する処理部保護
    用のカバー部材の側面部にエア通過部を形成し、該エア
    通過部を通じてエアを外部に吹き出すことにより、外部
    パーティクルの侵入を防ぐ気流を形成することを特徴と
    する処理装置における清浄エアの供給方法。
  14. 【請求項１４】 被処理体に所定の処理を行う処理部の
    上方に処理部の外方に突出した吹き出し部を有するエア
    吹き出し部を設け、該エア吹き出し部から清浄エアを直
    下に向けて吹き出した後、処理部を通過したエアを、エ
    ア吸引機構の吸引力により、前記処理部ごとに対応させ
    て、前記処理部の下方に設けたエア回収部を通じて回収
    し、リターンダクトを介してエア吹き出し部に再度供給
    する一方、前記処理部外へ突出した吹き出し部から処理
    部の外方においても清浄エアを直下に向けて吹き出すこ
    とにより、外部パーティクルの侵入を防ぐ気流を形成す
    ることを特徴とする処理装置における清浄エアの供給方
    法。
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