JPH0827045B2 - クリーンルームシステム - Google Patents
クリーンルームシステムInfo
- Publication number
- JPH0827045B2 JPH0827045B2 JP1115810A JP11581089A JPH0827045B2 JP H0827045 B2 JPH0827045 B2 JP H0827045B2 JP 1115810 A JP1115810 A JP 1115810A JP 11581089 A JP11581089 A JP 11581089A JP H0827045 B2 JPH0827045 B2 JP H0827045B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- clean
- area
- air
- room
- unit
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 41
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 9
- 238000004378 air conditioning Methods 0.000 description 6
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 4
- 230000001143 conditioned effect Effects 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 4
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 238000003915 air pollution Methods 0.000 description 2
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 230000001174 ascending effect Effects 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N h2o hydrate Chemical compound O.O JEGUKCSWCFPDGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Ventilation (AREA)
- Central Air Conditioning (AREA)
Description
ルームシステムに関する。
ソグラフィ処理,エッチング処理などのウエハ処理作業
が行われるが、これらの処理工程では塵埃などによる汚
染を極度に嫌うことから一般にクリーンルーム内で作業
を進めるようにしている。
を示す。図において、1は建屋内に構成されたクリーン
ルームであり、室内には床面側に敷設したフリーアクセ
スフロア2の上方に作業者が往来する通路エリア3,およ
び通路エリア3を挟んでその両側に各種のプロセス装置
4を据付ける作業エリア5に区分したクリーン領域がト
ンネルラインとして構成されたブース内に画成されてい
る。また、通路エリア3,作業エリア5に対して、天井側
には高性能フィルタ(HEPAフィルタ)6がチャンバ7に
組込んで敷設されている。一方、クリーンルーム室内に
おけるブースの天井裏側,および床下側には別置の空気
調和機8に接続したサプライエアダクト9,リターンエア
ダクト10が接続配管されており、かつ各エリア3,5ごと
にサプライエアダクト9と前記のチャンバ7との間が分
岐ダクト9aを介して接続されている。なお、11は給気エ
アを加圧してチャンバ7に送り込む送風機、12は前記し
たブースの吊り天井を建屋に吊り下げ支持する吊り金
具、13は熱拡散炉のような装置に対するドラフトチャン
バの系外排気ダクト、14はブースを仕切る隔壁であり、
該隔壁14の背後のスペースが各種装置4に対する保守,
点検用のメンテナンスエリアとして使用される。なお、
このメンテナンスエリアを通じてリターンエアを作業エ
リア5側の高性能フィルタ6に組合せた送風機11へロー
カルリターンさせる方式もある。
節された空調エアはサプライエアダクト9を通じて通路
エリア3,作業エリア5ごとにチャンバ7に給気され、さ
らに高性能フィルタ6を透過してクリーン領域内へ向け
て上方よりクリーンエアがダウンフローする。一方、ダ
ウンフローしたクリーンエアは床面側のフリーアクセス
フロア2を透過し、床下に配管したリターンエアダクト
10を経て空気調和機8に還流する。なお、この場合に作
業エリア5については送風機11の送風により通路エリア
3に対して陽圧に保持し、通路エリア内での作業員の往
来,作業に伴う発塵で作業エリア5が汚染されるのを防
止して高い空気清浄度に保持している。また、ドラフト
チャンバからの系外排気分を補償してクリーン領域を外
部に対し陽圧に維持するために、空気調和機8へ系外よ
り外気を取り込んで室内に押し込み導入するようにして
いる。
ン領域に給気するエアを空気調和機8で集中的に空調処
理し、かつサプライエアダクト9,リターンエアダクト10
を経由してクリーン領域との間で循環送風するようにし
た従来のダクト配管方式では次記のような難点がある。
すなわち、 (1)サプライエアダクト9を通じてクリーンルーム室
内の通路エリア3,作業エリア5に吹き出すエアは全て同
じ温度に調節されている。これに対して通路エリア3,作
業エリア5における熱負荷は一定せず、作業員の人数,
配員状況、および各種装置4の運転状態により局所的に
絶えず変動するために、このままではクリーン領域内の
温度分布について局所的に大きな温度勾配が生じる。し
かも、局所的な熱負荷が大きい地点では、発生熱で生じ
た上昇気流が干渉してクリーンエアのダウンフロー層流
を乱すようになる。そのため、通常は苛酷な稼働条件を
基準にクリーンルームの空調負荷を想定して空気調和機
を運転するようにしているが、室内の各エリアで所定の
空気清浄度,温度を維持するには常時多量な空調エアを
送風しなければならず、そのために必要以上に動力を消
費してランニングコストが嵩む。
送り込むには、大形な空気調和機8が必要である他、大
口径のサプライエアダクト9,リターンエアダクト10をク
リーンルーム室内の天井側,床下に配管しなければなら
ず、その分だけ機械室,配管スペースに多くの占有空間
を必要とするために、建屋および補機設備に要するイニ
シャルコストが高くなる。
備の継ぎ足し増設などを行う場合には、ダクトの配管変
更,接続替えなどの大掛りな施工を必要とする。
記した従来のダクト配管方式による問題点を解消し、イ
ニシャルコスト,ランニングコストを低減化を図りつ
つ、クリーン領域の空気清浄度,空気調和を正常に維持
できるようにしたクリーンルームシステムを提供するこ
とを目的とする。
システムは、クリーンルームの室内に通路エリア,プロ
セス作業エリアなどとして画成したトンネル状のクリー
ン領域に対し、各エリアごとにその天井側には高性能フ
ィルタと送風機とを組合せたクリーンユニットを配備
し、かつ前記クリーン領域の外周側を取り巻いてクリー
ンルーム室内に画成した自由空間のリターンスペースを
通じてクリーン領域の床下側と天井側のクリーンユニッ
トとの間を連通するとともに、リターンスペース内には
前記の各エリアと個々に対応させてクリーンユニットの
吸込側近傍にクーリングユニットを分散配備し、しかも
各クーリングユニットを各エリア内での局部的な熱負荷
変動に応じて個別に運転制御するよう構成したものであ
る。
アダクトを介することなく、クリーン領域の各エリアに
はクリーンユニットを通じて上方からクリーンエアがダ
ウンフローし、例えばフリーアクセスフロアとして構成
された床面側から自由空間のリターンスペースを通じて
再びクリーンユニットに還流するように循環送風され、
かつこの送風過程で塵埃を高性能フィルタで捕集してク
リーン領域を空気清浄化する。
ットを運転することにより、通路エリア,作業エリアが
個別にローカルクーリングされる。ここで、各クーリン
グユニットは、例えば外部から冷水を流す水冷式冷却コ
イル単体,ないし冷却コイルに送風機,フィルタを組合
せたものであり、ブースのトンネルラインに沿って随所
に分散配備されている。そして、これらのクーリングユ
ニットは、個々に各ユニットの据付け位置に対応してク
リーン領域の各エリアに分散配備した温度センサの検出
値を基に、冷却コイルに供給する冷水流量を調節して個
別に運転制御される。これにより、作業員の有無,装置
の運転状態に基づくクリーン領域内での局部的な熱負荷
変動に即応して各地点での適正なローカルクーリングが
行え、クリーン領域全体での温度分布の均一化,並びに
精密な温度調節が可能となる。
プライエアダクト,リターンエアダクトの配管,施工が
不要となり、かつ室内での装置レイアウトの変更,継ぎ
足し増設などにもダクトの接続替えが必要なく容易に対
応できる。
図、第3図はクーリングユニットの配管系統図、第4図
はクリーンユニットの構成図を示す。なお、第5図に対
応する同一部分には同じ符号が付してある。
の室内に通路エリア3,作業エリア5に区分したクリーン
領域をトンネルラインとして構成されたブース内に画成
し、さらに作業エリア5の背後には各種装置4に対する
保守,点検用のメンテナンスエリア15が画成されてい
る。また、トンネルラインとしてなるブースの外周を取
り巻く形でクリーンルーム1の室内には自由空間として
のリターンスペース16が確保されており、このリターン
スペース16を通じてフリーアクセスフロア2の床下側と
ブースの天井側との間が相互に連通している。
作業エリア5の天井面には個別にクリーンユニット17が
配備されている。このクリーンユニット17の構造は第4
図に示すようにチャンバ内に高性能フィルタ6と送風機
18とを組み込んで一体化したものであり、図示のように
吊り金具12に支えられた支持フレーム19の間にマウント
して取付けられている。
には通路エリア3,作業エリア5,メンテナンスエリア15と
個々に対応するエア冷却用のクーリングユニット20がト
ンネルラインに沿って随所に分散配備されている。ここ
で、クーリングユニット20は、符号21で示す冷却コイル
単体,ないし冷却コイル21に送風機,高性能フィルタを
組合せたユニットとして構成されたものである。そし
て、通路エリア3に対しては、冷却コイル21に送風機,
フィルタを組合せたクーリングユニット20がクリーンユ
ニット17の吸込側に近づけた位置で宙吊り式に配備され
ている。これに対して、作業エリア5に対しては、クリ
ーンユニット17を収容したチャンバのエア吸込口に冷却
コイル21が単体で装備されている。さらい、メンテナン
スエリア15に対しては、その天井側には冷却コイル,送
風機,フィルタを組合せたクーリングユニット20が装備
してある。ここで、前記の各クーリングユニット20の冷
却コイル21は、例えば第3図に示すように冷却水の送水
配管路22(図示されてないポンプで循環送水される)に
三方弁23を介して接続されている。一方、前記の各クー
リングユニット20と個々に対応して各エリア3,5,15内の
各地点には温度センサ24が配置されており、この温度セ
ンサ24の検出値を基に調節器25からの指令で前記三方弁
換弁23の弁開度を比例制御し、冷却コイル21へ流す冷水
流量を各地点における熱負荷の変動に対応して個別に調
節するようにしている。
する外気導入配管27に接続した空気調和機であり、クリ
ーンルーム室内の圧力を外部に対して陽圧に保つように
外気の押し込み送風,および導入外気の空調を行うとと
もに、必要時にクリーンルーム室内側から抽出した一部
の空気を空調処理した上で室内に戻すようにしている。
の天井に設置したクリーンユニット17を通じてクリーン
エアがダウンフローしてクリーン領域を清浄化する。そ
して床面側のフリーアクセスフロア2を透過したエアは
リターンスペース16を経由して再びクリーンユニット17
に還流するように循環送風される。また、この場合に作
業エリア5に吹き出すクリーンエアの風量を通路エリア
3への吹出し風量よりも若干多めに設定して陽圧に維持
し、通路エリア3から作業エリア5へ浮遊塵埃が侵入す
るのを防止してハイレベルな空気清浄度に保持するよう
にしている。これにより、作業エリア5の空気清浄度が
例えばクラス10程度、また通路エリア3ではクラス100
〜1000程度に維持される。なお、クリーンユニット17は
第4図で説明したように高性能フィルタ6と送風機18と
がチャンバ内に一体に組み込まれたリークレスの構造で
あるので、クリーンユニット17を並置配備した場合に、
クリーンユニットの相互間で支持フレーム19との間に多
少の隙間が残っていても、送風機18で加圧されたエアが
高性能フィルタを通過せぬままクリーン領域に漏れ出る
おそれはない。したがってこの部分にコーキングを施す
必要がなく、クリーンユニット17の据付け施工が簡単に
実施できる。さらに、装置4のドラフトチャンバを通じ
て系外に排出される排気風量分を補償してクリーンルー
ム室内を陽圧に加圧保持するために、空気調和機26を経
て温度調節された外気がクリーンルームの室内に押し込
み導入される。
れたクーリングユニット20が運転され、冷却コイル21に
外部より冷却水を送流して通路エリア3,作業エリア5の
クリーンユニット17に供給するエアの温度調節を行うと
ともに、メンテナンスエリア15に対してはクーリングユ
ニット20に内蔵したフィルタを通じてクリーンエアをダ
ウンフローし、空気清浄度を例えばクラス10000〜10000
0程度に維持するようにしている。
置4でプロセス作業を行っている稼働状態では、先記し
た温度センサ24で各エリア内における各地点の温度を検
出し、その検出値を基に各クーリングユニット20の冷却
コイル21に流す冷水流量を個別に調整して室内における
局部的な熱負荷に対応した空調制御を行うようにする。
これにより極め細かな温度調節を行うことができ、クリ
ーン領域内での温度分布の均一化,並びに精密な温度調
節が可能となる。
の実施例はクリーン領域を全面層流方式としたもので、
第1図の実施例と比べて、クリーン領域の天井面には全
幅に亙りクリーンユニット17が平面的に並置配備されて
いる点を除き、その他の構成並びに動作は第1図の実施
例と同様である。
たように構成されているで、次記の効果を奏する。
ト,リターンエアダクトの配管,施工が不要であり、ク
リーンルームのイニシャルコストを大幅に低減できる
他、クリーンルーム内での装置のレイアウト変更,継ぎ
足し増設にも容易に対応できる。
ニットを随所に分散配備し、かつ各クーリングユニット
をクリーン領域内における局部的な熱負荷変動に応じて
個別に運転制御することにより、別系統の空気調和機か
ら多量な空調エアを供給することなしに系内で極め細か
な空調制御が可能となり、これによりトンネルラインと
して構成されたクリーン領域の温度精度,温度分布が向
上するとともに、従来システムと比べて空気調和機の冷
房,送風動力を軽減してランニングコストの節減化が図
れる。
ンルーム内の加圧分に相当する風量を処理するだけで済
み、冷房,送風能力の小さな小形機で対応できる。
断面図、第3図はクーリングユニットの冷却コイルの配
管系統図、第4図はクリーンユニットの構造図、第5図
は従来例のクリーンルームの構成断面図である。図にお
いて、 1:クリーンルーム、2:フリーアクセスフロア、3:通路エ
リア、4:プロセス装置、5:作業エリア、6:高性能フィル
タ、15:メンテナンスエリア、16:リターンスペース、1
7:クリーンユニット、18:送風機、20:クーリングユニッ
ト、21:冷却コイル、24:温度センサ。
Claims (1)
- 【請求項1】クリーンルーム室内に通路エリア,プロセ
ス作業エリアなどとして画成したトンネル状のクリーン
領域に対し、各エリアごとにその天井側には高性能フィ
ルタと送風機とを組合せたクリーンユニットを配備し、
かつ前記クリーン領域の外周側を取り巻いてクリーンル
ーム室内に画成した自由空間のリターンスペースを通じ
てクリーン領域の床下側と天井側のクリーンユニットと
の間を連通するとともに、リターンスペース内には前記
の各エリアと個々に対応させてクリーンユニットの吸込
側近傍にクーリングユニットを分散配備し、しかも各ク
ーリングユニットを各エリア内での局部的な熱負荷変動
に応じて個別に運転制御するように構成したことを特徴
とするクリーンルームシステム。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1115810A JPH0827045B2 (ja) | 1989-05-09 | 1989-05-09 | クリーンルームシステム |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1115810A JPH0827045B2 (ja) | 1989-05-09 | 1989-05-09 | クリーンルームシステム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02293554A JPH02293554A (ja) | 1990-12-04 |
JPH0827045B2 true JPH0827045B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=14671657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1115810A Expired - Lifetime JPH0827045B2 (ja) | 1989-05-09 | 1989-05-09 | クリーンルームシステム |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0827045B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160061231A (ko) * | 2014-11-21 | 2016-05-31 | 한국건설기술연구원 | 석회석 원료에 기반한 다공성 수처리재의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 다공성 수처리재 |
US12085308B2 (en) * | 2019-12-04 | 2024-09-10 | Hitachi Global Life Solutions, Inc. | Air conditioning system |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3375294B2 (ja) * | 1998-12-17 | 2003-02-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 処理装置、処理システムおよび該装置における清浄エアの供給方法 |
JP4684683B2 (ja) * | 2005-03-01 | 2011-05-18 | 三機工業株式会社 | クリーンブースおよびそのクリーンブースを用いた作業システム |
JP5607998B2 (ja) * | 2010-07-05 | 2014-10-15 | パナソニック株式会社 | サーキュレーション装置及びサーキュレーション装置の通気構造 |
KR102253669B1 (ko) * | 2019-02-08 | 2021-05-18 | 주식회사 신성이엔지 | 드라이룸의 부스 장치 |
JP7214550B2 (ja) * | 2019-04-19 | 2023-01-30 | 株式会社Screen Spe テック | 乾燥装置 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62261839A (ja) * | 1986-05-09 | 1987-11-14 | Matsushita Seiko Co Ltd | クリ−ンル−ム制御装置 |
JPS63156962A (ja) * | 1986-12-22 | 1988-06-30 | Fuji Electric Co Ltd | 清浄空気供給用のクリ−ンユニツト |
-
1989
- 1989-05-09 JP JP1115810A patent/JPH0827045B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160061231A (ko) * | 2014-11-21 | 2016-05-31 | 한국건설기술연구원 | 석회석 원료에 기반한 다공성 수처리재의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 다공성 수처리재 |
US12085308B2 (en) * | 2019-12-04 | 2024-09-10 | Hitachi Global Life Solutions, Inc. | Air conditioning system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH02293554A (ja) | 1990-12-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2002156136A (ja) | 通信機器室等の空調システム | |
JP5490485B2 (ja) | 大型空間室の置換換気設備 | |
JPS6231258B2 (ja) | ||
JP2012202558A (ja) | クリーンルーム空調システム | |
CN115978670A (zh) | 用于高大洁净厂房的分散式空调净化系统 | |
JPH0827045B2 (ja) | クリーンルームシステム | |
JP3561191B2 (ja) | クリーンルーム | |
JP3092705B2 (ja) | 空調装置 | |
JP2951949B1 (ja) | クリーンルームの局所空調システム | |
US5069113A (en) | Stacked and cross-connected recirculating fans in a semiconductor manufacturing cleanroom | |
JP3516507B2 (ja) | クリーンルームシステム | |
JPH10220838A (ja) | 換気システム装置 | |
CN217849935U (zh) | 一种多回路气流重构热管制冷一体机 | |
JP5785633B2 (ja) | 給気装置 | |
JP3773327B2 (ja) | 空調装置 | |
JPH07260201A (ja) | アンダーフロア空調システム | |
JPH11337115A (ja) | クリーンルームの局所空調システム | |
JPH0330060B2 (ja) | ||
JP2849673B2 (ja) | 組合せ型エアコンユニット | |
JP2540090B2 (ja) | ペリメ―タ―ゾ―ンの空調方法 | |
JP2839979B2 (ja) | 室内の空調装置 | |
JP3129068B2 (ja) | 製品製造システム | |
JP2612199B2 (ja) | 空気調和装置および空気清浄化装置 | |
JP2001227788A (ja) | クリーンルーム装置 | |
JPS62739A (ja) | 半導体製造用空気調和方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080321 Year of fee payment: 12 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090321 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090321 Year of fee payment: 13 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100321 Year of fee payment: 14 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100321 Year of fee payment: 14 |