JP2001227788A - クリーンルーム装置 - Google Patents
クリーンルーム装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 メンテナンスが容易で、クリーン度やケミカ
ルフィルタは製造工程にリンクさせてミニマムに設定で
き、かつアップフローの気流を適切な熱処理とともに行
うことができるクリーンルーム装置を提供することにあ
る。 【解決手段】 クリーンルームの全域または一部を、主
製造エリアのクリーンルームと、その上部の他と区画さ
れクリーン空気が循環できるプレナムチャンバーと、主
製造エリアの床下の空間とに区画し、主製造エリアに設
置されたウォールスルー型製造機器とそのウォールスル
ー型製造機器の前面部に位置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ
部とその他部分（メンテゾーンと称する）を区画する空
気の区画壁を設け、プレナムチャンバーにフィルタ付き
ファンユニットを複数台設置し、ウォールスルー型製造
機器の前面部に位置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ部が設置
される空間にファンユニットのフィルタで清浄化された
空気を吹き、その過半の風量を床下に送り込んだ後メン
テゾーンでアップフローの流れとしてプレナムチャンバ
ーに返す流路を形成するように構成した。
ルフィルタは製造工程にリンクさせてミニマムに設定で
き、かつアップフローの気流を適切な熱処理とともに行
うことができるクリーンルーム装置を提供することにあ
る。 【解決手段】 クリーンルームの全域または一部を、主
製造エリアのクリーンルームと、その上部の他と区画さ
れクリーン空気が循環できるプレナムチャンバーと、主
製造エリアの床下の空間とに区画し、主製造エリアに設
置されたウォールスルー型製造機器とそのウォールスル
ー型製造機器の前面部に位置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ
部とその他部分（メンテゾーンと称する）を区画する空
気の区画壁を設け、プレナムチャンバーにフィルタ付き
ファンユニットを複数台設置し、ウォールスルー型製造
機器の前面部に位置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ部が設置
される空間にファンユニットのフィルタで清浄化された
空気を吹き、その過半の風量を床下に送り込んだ後メン
テゾーンでアップフローの流れとしてプレナムチャンバ
ーに返す流路を形成するように構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体の製造等を
行うための半導体製造工場に用いられるクリーンルーム
装置に関する。
行うための半導体製造工場に用いられるクリーンルーム
装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体等の製造エリアは、ますますクリ
ーン度の向上やケミカル物質等の処理が要求されてい
る。この要求に応えるために、クリーンルームの天井に
設置したＦＦＵ（ファン・フィルタ・ユニット）に、ケ
ミカルフィルタを乗せている例も普及し始めた。
ーン度の向上やケミカル物質等の処理が要求されてい
る。この要求に応えるために、クリーンルームの天井に
設置したＦＦＵ（ファン・フィルタ・ユニット）に、ケ
ミカルフィルタを乗せている例も普及し始めた。
【０００３】また、３００ｍｍ世代以降の半導体工場の
空調システムは、環境条件の要求高度化に伴い、クリー
ン空間の局所化が方向性として打ち出されている。具体
的には、ミニエンバイロメント（ＭＥ）と称される製造
装置へのウエハ受け渡し空間などを設け、そこのみをよ
りクリーン化しようという概念で、ＭＥ自体にファンと
フィルタ温度調節等すべてを装備する方法と、ＭＥ自体
はミニマムの最終フィルタのみを装備し、他の処理はセ
ントラルの空調機で行い、ダクティングでその処理空気
を供給する手法に分かれる。
空調システムは、環境条件の要求高度化に伴い、クリー
ン空間の局所化が方向性として打ち出されている。具体
的には、ミニエンバイロメント（ＭＥ）と称される製造
装置へのウエハ受け渡し空間などを設け、そこのみをよ
りクリーン化しようという概念で、ＭＥ自体にファンと
フィルタ温度調節等すべてを装備する方法と、ＭＥ自体
はミニマムの最終フィルタのみを装備し、他の処理はセ
ントラルの空調機で行い、ダクティングでその処理空気
を供給する手法に分かれる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところが、ＦＦＵにケ
ミカルフィルタを乗せるタイプでは、メンテナンス上の
問題があった。すなわち、ケミカルフィルタは、６ヶ月
から１年程度のライフサイクルで交換しなければならな
い。その交換作業は、４ｍ前後のクリーンルーム天井近
辺で行わなければならず、交換作業が大変であった。
ミカルフィルタを乗せるタイプでは、メンテナンス上の
問題があった。すなわち、ケミカルフィルタは、６ヶ月
から１年程度のライフサイクルで交換しなければならな
い。その交換作業は、４ｍ前後のクリーンルーム天井近
辺で行わなければならず、交換作業が大変であった。
【０００５】また、システムとしてもすべて個々に設置
されるために高価になるという問題もあった。本発明は
かかる従来の問題点を解決するためになされたもので、
その目的は、メンテナンスが容易で、専用のプレナムチ
ャンバに空気を循環させるレタンシャフトがなく空間中
の製造機器用に供する部分が多く確保でき経済的であり
クリーン度やケミカルフィルタは製造工程にリンクさせ
てミニマムに設定でき、かつアップフローの気流を適切
な熱処理とともに行うことができるクリーンルーム装置
を提供することにある。
されるために高価になるという問題もあった。本発明は
かかる従来の問題点を解決するためになされたもので、
その目的は、メンテナンスが容易で、専用のプレナムチ
ャンバに空気を循環させるレタンシャフトがなく空間中
の製造機器用に供する部分が多く確保でき経済的であり
クリーン度やケミカルフィルタは製造工程にリンクさせ
てミニマムに設定でき、かつアップフローの気流を適切
な熱処理とともに行うことができるクリーンルーム装置
を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１に係る発明は、
クリーンルームの全域または一部を、主製造エリアのク
リーンルームと、その上部の他と区画されクリーン空気
が循環できるプレナムチャンバと、主製造エリアの床下
の空間とに区画し、主製造エリアに設置されたウォール
スルー型製造機器とそのウォールスルー型製造機器の前
面部に位置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ部とその他部分
（メンテゾーンと称する）を区画する空気の区画壁を設
け、プレナムチャンバにフィルタ付きファンユニットを
複数台設置し、ウォールスルー型製造機器の前面部に位
置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ部が設置される空間にファ
ンユニットのフィルタで清浄化された空気を吹き、その
過半の風量を床下に送り込んだ後メンテゾーンでアップ
フローの流れとしてプレナムチャンバに返す流路を形成
するように構成したことを特徴とする。
クリーンルームの全域または一部を、主製造エリアのク
リーンルームと、その上部の他と区画されクリーン空気
が循環できるプレナムチャンバと、主製造エリアの床下
の空間とに区画し、主製造エリアに設置されたウォール
スルー型製造機器とそのウォールスルー型製造機器の前
面部に位置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ部とその他部分
（メンテゾーンと称する）を区画する空気の区画壁を設
け、プレナムチャンバにフィルタ付きファンユニットを
複数台設置し、ウォールスルー型製造機器の前面部に位
置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ部が設置される空間にファ
ンユニットのフィルタで清浄化された空気を吹き、その
過半の風量を床下に送り込んだ後メンテゾーンでアップ
フローの流れとしてプレナムチャンバに返す流路を形成
するように構成したことを特徴とする。
【０００７】請求項２に係る発明は、請求項１記載のク
リーンルーム装置において、主製造エリアの床下の空間
のクリーン空気循環路に機器発熱の大部分を冷却する装
置を設置したことを特徴とする。請求項３に係る発明
は、請求項１記載のクリーンルーム装置において、主製
造エリアの床下の空間で冷却した冷気を主製造エリアの
クリーンルーム床面に設置した開口を調整し機器発熱の
バランスに応じて風量を変更させる開口調節装置を設置
したことを特徴とする。
リーンルーム装置において、主製造エリアの床下の空間
のクリーン空気循環路に機器発熱の大部分を冷却する装
置を設置したことを特徴とする。請求項３に係る発明
は、請求項１記載のクリーンルーム装置において、主製
造エリアの床下の空間で冷却した冷気を主製造エリアの
クリーンルーム床面に設置した開口を調整し機器発熱の
バランスに応じて風量を変更させる開口調節装置を設置
したことを特徴とする。
【０００８】請求項４に係る発明は、請求項２記載のク
リーンルーム装置において、主製造エリアの床下の空間
のクリーン空気循環路に機器発熱の大部分を冷却する装
置の制御のための温度センサを、区画したウォールスル
ー型製造機器の前面部に位置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ
部に設置し、ＩＮ／ＯＵＴ部の風速をウエハの状態で制
御できるようにしたことを特徴とする。
リーンルーム装置において、主製造エリアの床下の空間
のクリーン空気循環路に機器発熱の大部分を冷却する装
置の制御のための温度センサを、区画したウォールスル
ー型製造機器の前面部に位置するウエハのＩＮ／ＯＵＴ
部に設置し、ＩＮ／ＯＵＴ部の風速をウエハの状態で制
御できるようにしたことを特徴とする。
【０００９】請求項５に係る発明は、請求項１記載のク
リーンルーム装置において、フィルタ付きファンタユニ
ットは、複数の種類のフィルタが設置できその内の一部
は主製造エリアのクリーンルーム内に設置されているこ
とを特徴とする。
リーンルーム装置において、フィルタ付きファンタユニ
ットは、複数の種類のフィルタが設置できその内の一部
は主製造エリアのクリーンルーム内に設置されているこ
とを特徴とする。
【００１０】
【発明の実施の形態】以下、本発明を図面に示す実施形
態に基づいて説明する。
態に基づいて説明する。
【００１１】図１は、本発明の実施形態に係るクリーン
ルーム装置１を示す（請求項１，２，５に対応）。本実
施形態に係るクリーンルーム装置１は、主製造エリア２
の主製造域クリーンルーム１０と、その主製造域クリー
ンルーム１０の上部に位置するとともに他と区画されク
リーン空気が循環できるプレナムチャンバ２０と、主製
造エリア１０の床下に位置する空間３とに区画されてい
る。
ルーム装置１を示す（請求項１，２，５に対応）。本実
施形態に係るクリーンルーム装置１は、主製造エリア２
の主製造域クリーンルーム１０と、その主製造域クリー
ンルーム１０の上部に位置するとともに他と区画されク
リーン空気が循環できるプレナムチャンバ２０と、主製
造エリア１０の床下に位置する空間３とに区画されてい
る。
【００１２】主製造エリア２は、従来と同様に、床側に
床梁４の上に配置した根太５の上にフロアパネル６を敷
設している。主製造エリア２には、ＭＥと称される製造
装置１１，１６、各製造装置１１，１６の前面に位置す
るロードポート（ウエハのＩＮ／ＯＵＴ部）１２，１７
と、ウォールスルー型製造機器１３，１８などが設置さ
れている。
床梁４の上に配置した根太５の上にフロアパネル６を敷
設している。主製造エリア２には、ＭＥと称される製造
装置１１，１６、各製造装置１１，１６の前面に位置す
るロードポート（ウエハのＩＮ／ＯＵＴ部）１２，１７
と、ウォールスルー型製造機器１３，１８などが設置さ
れている。
【００１３】主製造域クリーンルーム１０では、対向し
て配置された製造装置１１，１６のロードポート（ウエ
ハのＩＮ／ＯＵＴ部）１２，１７の間を、クリーン度ク
ラス１〜１，０００程度のクリーンルーム１０Ａとする
ために、２つの区画パーティション（区画壁）１４，１
５によって区画されている。区画パーティション（区画
壁）１４，１５は、ウォールスルー型製造機器１３と天
井と床との間を上下に区画し、ウォールスルー型製造機
器１８と天井と床との間を上下に区画している。
て配置された製造装置１１，１６のロードポート（ウエ
ハのＩＮ／ＯＵＴ部）１２，１７の間を、クリーン度ク
ラス１〜１，０００程度のクリーンルーム１０Ａとする
ために、２つの区画パーティション（区画壁）１４，１
５によって区画されている。区画パーティション（区画
壁）１４，１５は、ウォールスルー型製造機器１３と天
井と床との間を上下に区画し、ウォールスルー型製造機
器１８と天井と床との間を上下に区画している。
【００１４】この区画パーティション（区画壁）１４，
１５による区画により、ウォールスルー型製造機器１
３，１８側がクリーン度クラス１，０００〜１００，０
００程度のメンテゾーン１０Ｂを形成する。このメンテ
ゾーン１０Ｂは、後述するように、アップフローの流れ
を形成する流路ＡＰＦを形成する。一方、天井側に天井
パネル７が施設されている。
１５による区画により、ウォールスルー型製造機器１
３，１８側がクリーン度クラス１，０００〜１００，０
００程度のメンテゾーン１０Ｂを形成する。このメンテ
ゾーン１０Ｂは、後述するように、アップフローの流れ
を形成する流路ＡＰＦを形成する。一方、天井側に天井
パネル７が施設されている。
【００１５】この天井パネル７には、クリーンルーム１
０Ａに相当する領域に、ＨＥＰＡフィルタまたはＵＬＰ
Ａフィルタなどの高性能フィルタ２２とファン２３とか
らなるファン付き高性能フィルタ（ＦＦＵ）２１が敷設
されている。これらファン付き高性能フィルタ（ＦＦ
Ｕ）２１は、本例では、吹出口２４が天井パネル７に開
口し、その開口に拡散用の装置、パンチングフェース２
９を着脱自在に取り付けるようになっている。そして、
ファン付き高性能フィルタ（ＦＦＵ）２１のその他の装
置本体はプレナムチャンバ２０内に位置するようになっ
ている。勿論、ファン付き高性能フィルタ（ＦＦＵ）２
１は、従来公知の装置であっても良い。
０Ａに相当する領域に、ＨＥＰＡフィルタまたはＵＬＰ
Ａフィルタなどの高性能フィルタ２２とファン２３とか
らなるファン付き高性能フィルタ（ＦＦＵ）２１が敷設
されている。これらファン付き高性能フィルタ（ＦＦ
Ｕ）２１は、本例では、吹出口２４が天井パネル７に開
口し、その開口に拡散用の装置、パンチングフェース２
９を着脱自在に取り付けるようになっている。そして、
ファン付き高性能フィルタ（ＦＦＵ）２１のその他の装
置本体はプレナムチャンバ２０内に位置するようになっ
ている。勿論、ファン付き高性能フィルタ（ＦＦＵ）２
１は、従来公知の装置であっても良い。
【００１６】そして、これらファン付き高性能フィルタ
（ＦＦＵ）２１には、プレナムチャンバ２０側で、ケミ
カルフィルタが取り付けられるようになっている。プレ
ナムチャンバ２０の上方には、天井側空間２５には、Ｍ
Ｅ系ダクト空間を形成している。ここには、ＭＥ用ダク
ト２６が配設されている。このＭＥ用ダクト２６は、分
岐ダクト２７，２８を介してクリーンルーム１０Ａ内の
製造装置１１，１６に連絡している。
（ＦＦＵ）２１には、プレナムチャンバ２０側で、ケミ
カルフィルタが取り付けられるようになっている。プレ
ナムチャンバ２０の上方には、天井側空間２５には、Ｍ
Ｅ系ダクト空間を形成している。ここには、ＭＥ用ダク
ト２６が配設されている。このＭＥ用ダクト２６は、分
岐ダクト２７，２８を介してクリーンルーム１０Ａ内の
製造装置１１，１６に連絡している。
【００１７】ＭＥ用ダクト２６は、他のセントラルの空
調機で処理された空気を供給する管路である。また、分
岐ダクト２７，２８は、ＭＥ用ダクト２６から製造装置
（ＭＥ）１１，１６へ空気を供給する管路である。一
方、主製造エリア１０の床下の空間３は、レターンスペ
ース３０，ユーティリティースペース３１を形成してい
る。
調機で処理された空気を供給する管路である。また、分
岐ダクト２７，２８は、ＭＥ用ダクト２６から製造装置
（ＭＥ）１１，１６へ空気を供給する管路である。一
方、主製造エリア１０の床下の空間３は、レターンスペ
ース３０，ユーティリティースペース３１を形成してい
る。
【００１８】空間３には、空間３のクリーン空気循環路
に機器発熱の大部分を冷却する熱処理ユニット３２が設
置されている。クリーンルーム１０Ａの床下の空間３の
上部側には、ＭＥ系ダクト空間が形成されている。ここ
には、ＭＥ用ダクト３３が配設されている。このＭＥ用
ダクト３３は、分岐ダクト３４，３５を介してクリーン
ルーム１０Ａ内の製造装置１１，１６に連絡している。
に機器発熱の大部分を冷却する熱処理ユニット３２が設
置されている。クリーンルーム１０Ａの床下の空間３の
上部側には、ＭＥ系ダクト空間が形成されている。ここ
には、ＭＥ用ダクト３３が配設されている。このＭＥ用
ダクト３３は、分岐ダクト３４，３５を介してクリーン
ルーム１０Ａ内の製造装置１１，１６に連絡している。
【００１９】このように構成された本実施形態において
は、通常のクリンルームの運転と同様に、クリーンの循
環空気をレタンシャフトなどを介してプレナムチャンバ
２０内に導入した後、ファン付き高性能フィルタ２１に
て清浄化して主製造域クリンルーム１０のクリーンルー
ム１０Ａに導入し、ウォールスルー型製造機器１３，１
８の前面部に位置するロードポート（ウエハのＩＮ／Ｏ
ＵＴ部）１２，１７が設置される空間にファン付き高性
能フィルタ２１のフィルタ２２で清浄化された空気を吹
き、その過半の風量を床下の空間３に送り込んだ後、メ
ンテゾーン１０Ｂでアップフローの流れとしてプレナム
チャンバ２０に返す流路ＡＰＦを形成する。
は、通常のクリンルームの運転と同様に、クリーンの循
環空気をレタンシャフトなどを介してプレナムチャンバ
２０内に導入した後、ファン付き高性能フィルタ２１に
て清浄化して主製造域クリンルーム１０のクリーンルー
ム１０Ａに導入し、ウォールスルー型製造機器１３，１
８の前面部に位置するロードポート（ウエハのＩＮ／Ｏ
ＵＴ部）１２，１７が設置される空間にファン付き高性
能フィルタ２１のフィルタ２２で清浄化された空気を吹
き、その過半の風量を床下の空間３に送り込んだ後、メ
ンテゾーン１０Ｂでアップフローの流れとしてプレナム
チャンバ２０に返す流路ＡＰＦを形成する。
【００２０】ここで、クリーンルーム１０Ａは、層流ま
たは乱流領域となる。以上のように本実施形態によれ
ば、ケミカルフィルタなどのメンテナンスやファン付き
高性能フィルタ２１の増設などはプレナムチャンバ２０
の床上でクリーンルーム１０Ａと無関係に処理できる。
また、クリーン度やケミカルフィルタは製造工程にリン
クさせてミニマムに設定できる。
たは乱流領域となる。以上のように本実施形態によれ
ば、ケミカルフィルタなどのメンテナンスやファン付き
高性能フィルタ２１の増設などはプレナムチャンバ２０
の床上でクリーンルーム１０Ａと無関係に処理できる。
また、クリーン度やケミカルフィルタは製造工程にリン
クさせてミニマムに設定できる。
【００２１】また、アップフローの気流を最短空気循環
ルートで発熱製造機器に合わせ適切な熱処理とともに行
うため、従来は熱で換気回数が決まるゾーンも発生した
が、これらが解消され、経済的なクリーン循環系が構成
され、イニシャルコストも、ランニングコストも経済的
なシステムが構成できる。なお、床下にファンを設置す
る場合、床下をさらに２層化してファンコイルユニット
本体を下層の床下階に設置しダクトで冷風を上層の階に
送風するようにしても良い。
ルートで発熱製造機器に合わせ適切な熱処理とともに行
うため、従来は熱で換気回数が決まるゾーンも発生した
が、これらが解消され、経済的なクリーン循環系が構成
され、イニシャルコストも、ランニングコストも経済的
なシステムが構成できる。なお、床下にファンを設置す
る場合、床下をさらに２層化してファンコイルユニット
本体を下層の床下階に設置しダクトで冷風を上層の階に
送風するようにしても良い。
【００２２】図２は、本発明の別の実施形態に係るクリ
ーンルーム装置１Ａを示す（請求項１，３，４に対
応）。本実施形態に係るクリーンルーム装置１Ａでは、
床下の空間３のレターンスペース３０とユーティリティ
ースペース３１とを区画部材３６によって区画するとと
もに、クリーンルーム１０Ａに相当する空間の前後を区
画し、その区画部材３６Ｂに冷却コイル３７，３８を設
け、かつ一方の冷却コイル３８に開度を調整するダンパ
３９を設けている。
ーンルーム装置１Ａを示す（請求項１，３，４に対
応）。本実施形態に係るクリーンルーム装置１Ａでは、
床下の空間３のレターンスペース３０とユーティリティ
ースペース３１とを区画部材３６によって区画するとと
もに、クリーンルーム１０Ａに相当する空間の前後を区
画し、その区画部材３６Ｂに冷却コイル３７，３８を設
け、かつ一方の冷却コイル３８に開度を調整するダンパ
３９を設けている。
【００２３】また、クリーンルーム１０Ａの空間に、冷
却コイル３７，３８を制御する温度センサ５０が設置し
てある。温度センサ５０は、冷却コイル３７の流量調整
弁５１とダンパ３９の開度調整器５２に連絡している。
また、クリーンルーム１０Ａ内の製造装置１１は、ＭＥ
（製造装置１１）へのケミカル処理空気供給用のファン
付き高性能フィルタ４１のファン２３にダクト４０を介
して連絡している。そして、製造装置１１内に高性能フ
ィルタ（ＵＬＰＡ）４２が内蔵されている。
却コイル３７，３８を制御する温度センサ５０が設置し
てある。温度センサ５０は、冷却コイル３７の流量調整
弁５１とダンパ３９の開度調整器５２に連絡している。
また、クリーンルーム１０Ａ内の製造装置１１は、ＭＥ
（製造装置１１）へのケミカル処理空気供給用のファン
付き高性能フィルタ４１のファン２３にダクト４０を介
して連絡している。そして、製造装置１１内に高性能フ
ィルタ（ＵＬＰＡ）４２が内蔵されている。
【００２４】また、ファン付き高性能フィルタ４１に
は、ケミカルフィルタ４２が取り付けてある。本実施形
態に係るクリーンルーム装置１Ａによれば、上述のクリ
ーンルーム装置１と同様の作用効果を奏することができ
る。
は、ケミカルフィルタ４２が取り付けてある。本実施形
態に係るクリーンルーム装置１Ａによれば、上述のクリ
ーンルーム装置１と同様の作用効果を奏することができ
る。
【００２５】また、別処理装置に専用のファンがない
分、省エネルギである。また、本実施形態に係るクリー
ンルーム装置１Ａによれば、主製造エリア２の床下の空
間３で冷却した冷気を主製造エリア２の主製造域クリン
ルーム１０の床面に設置したダンパ３９の開口を調整し
機器発熱のバランスに応じて風量を変更することができ
る。
分、省エネルギである。また、本実施形態に係るクリー
ンルーム装置１Ａによれば、主製造エリア２の床下の空
間３で冷却した冷気を主製造エリア２の主製造域クリン
ルーム１０の床面に設置したダンパ３９の開口を調整し
機器発熱のバランスに応じて風量を変更することができ
る。
【００２６】また、クリーンルーム１０Ａ内に温度セン
サ５０を設置するとともに、ファン付き高性能フィルタ
４１にケミカルフィルタ４２を設置してあるので、ケミ
カル分の除去とともにＭＥ（製造装置１１）に要求され
る温度精度でのＭＥ（製造装置１１）への空気取り入れ
のニーズも満足させることが可能となる。また、ＭＥへ
の温度を一定にし風量可変装置によりウエハのロードＩ
Ｎ／ＯＵＴ時のみ風量をＭＡＸとし清浄度を高くし、常
時はミニマムとする制御を採用し、ＭＥのカバーなしま
たは簡易カバ−とすることも可能である。
サ５０を設置するとともに、ファン付き高性能フィルタ
４１にケミカルフィルタ４２を設置してあるので、ケミ
カル分の除去とともにＭＥ（製造装置１１）に要求され
る温度精度でのＭＥ（製造装置１１）への空気取り入れ
のニーズも満足させることが可能となる。また、ＭＥへ
の温度を一定にし風量可変装置によりウエハのロードＩ
Ｎ／ＯＵＴ時のみ風量をＭＡＸとし清浄度を高くし、常
時はミニマムとする制御を採用し、ＭＥのカバーなしま
たは簡易カバ−とすることも可能である。
【００２７】なお、床下の空間３に設けた冷却コイル３
７，３８の通過の風の流れのほかに循環系の静圧を下げ
るための冷却コイル３７，３８をバイパスする経路を設
置しても良い。図３は、本発明のさらに別の実施形態に
係るクリーンルーム装置１Ａを示す（請求項１，３，４
に対応）。
７，３８の通過の風の流れのほかに循環系の静圧を下げ
るための冷却コイル３７，３８をバイパスする経路を設
置しても良い。図３は、本発明のさらに別の実施形態に
係るクリーンルーム装置１Ａを示す（請求項１，３，４
に対応）。
【００２８】本実施形態に係るクリーンルーム装置１Ｂ
では、クリーンルーム１０Ａ内の製造装置１１にファン
４３を設けた点で図２に示す実施形態に係るクリーンル
ーム装置１Ｂと相違する。したがって、ファン付き高性
能フィルタ４５には、図１のクリーンルーム装置１のフ
ァン付き高性能フィルタ２１と同様に高性能フィルタ２
２とファン２３が設置されている。
では、クリーンルーム１０Ａ内の製造装置１１にファン
４３を設けた点で図２に示す実施形態に係るクリーンル
ーム装置１Ｂと相違する。したがって、ファン付き高性
能フィルタ４５には、図１のクリーンルーム装置１のフ
ァン付き高性能フィルタ２１と同様に高性能フィルタ２
２とファン２３が設置されている。
【００２９】本実施形態に係るクリーンルーム装置１Ｂ
によれば、上述のクリーンルーム装置１Ａと同様の作用
効果を奏することができる。
によれば、上述のクリーンルーム装置１Ａと同様の作用
効果を奏することができる。
【００３０】
【発明の効果】本発明によれば、ケミカルフィルタなど
のメンテナンスやファンユニットの増設などはプレナム
チャンバの床上でクリーンルームと無関係に処理でき、
またクリーン度やケミカルフィルタは製造工程にリンク
させてミニマムに設定できる。
のメンテナンスやファンユニットの増設などはプレナム
チャンバの床上でクリーンルームと無関係に処理でき、
またクリーン度やケミカルフィルタは製造工程にリンク
させてミニマムに設定できる。
【００３１】また、アップフローの気流を適切な熱処理
とともに行うため、従来は熱で換気回数が決まるゾーン
も発生したが、これらが解消され、経済的なクリーン循
環系が構成され、イニシャルコストも、ランニングコス
トも経済的なシステムを構成することが可能となる。
とともに行うため、従来は熱で換気回数が決まるゾーン
も発生したが、これらが解消され、経済的なクリーン循
環系が構成され、イニシャルコストも、ランニングコス
トも経済的なシステムを構成することが可能となる。
【図１】本発明の実施形態に係るクリーンルーム装置を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図２】本発明の別の実施形態に係るクリーンルーム装
置を示す説明図である。
置を示す説明図である。
【図３】本発明のさらに別の実施形態に係るクリーンル
ーム装置を示す説明図である。
ーム装置を示す説明図である。
１，１Ａ，１Ｂ クリーンルーム装置 ２ 主製造エリア ３ 空間 １０Ａ クリーンルーム １０Ｂ メンテゾーン １１，１６ 製造装置 １２，１７ ロードポート（ウエハのＩＮ／ＯＵＴ部） １３，１８ ウォールスルー型製造機器 １４，１５ 区画パーティション（区画壁） ２０ プレナムチャンバ ２１ ファン付き高性能フィルタ（ＦＦＵ） ２２ 高性能フィルタ ２３ ファン ２５ 天井側空間 ２６，３３ ＭＥ用ダクト ２７，２８，３４，３５ 分岐ダクト ３０ レターンスペース ３１ ユーティリティースペース ３２ 熱処理ユニット ３７，３８ 冷却コイル ３９ ダンパ ４２ ケミカルフィルタ ＡＰＦ アップフローの流れを形成する流路
Claims (5)
- 【請求項１】 クリーンルームの全域または一部を、 主製造エリアのクリーンルームと、 その上部の他と区画されクリーン空気が循環できるプレ
ナムチャンバと、 主製造エリアの床下の空間とに区画し、 主製造エリアに設置されたウォールスルー型製造機器と
そのウォールスルー型製造機器の前面部に位置するウエ
ハのＩＮ／ＯＵＴ部とその他部分（メンテゾーンと称す
る）を区画する空気の区画壁を設け、 プレナムチャンバにフィルタ付きファンユニットを複数
台設置し、 ウォールスルー型製造機器の前面部に位置するウエハの
ＩＮ／ＯＵＴ部が設置される空間にファンユニットのフ
ィルタで清浄化された空気を吹き、その過半の風量を床
下に送り込んだ後メンテゾーンでアップフローの流れと
してプレナムチャンバに返す流路を形成するように構成
したことを特徴とするクリーンルーム装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のクリーンルーム装置にお
いて、 主製造エリアの床下の空間のクリーン空気循環路に機器
発熱の大部分を冷却する装置を設置したことを特徴とす
るクリーンルーム装置。 - 【請求項３】 請求項１記載のクリーンルーム装置にお
いて、 主製造エリアの床下の空間で冷却した冷気を主製造エリ
アのクリーンルーム床面に設置した開口を調整し機器発
熱のバランスに応じて風量を変更させる開口調節装置を
設置したことを特徴とするクリーンルーム装置。 - 【請求項４】 請求項２記載のクリーンルーム装置にお
いて、 主製造エリアの床下の空間のクリーン空気循環路に機器
発熱の大部分を冷却する装置の制御のための温度センサ
を、区画したウォールスルー型製造機器の前面部に位置
するウエハのＩＮ／ＯＵＴ部に設置し、ＩＮ／ＯＵＴ部
の風速をウエハの状態で制御できるようにしたことを特
徴とするクリーンルーム装置。 - 【請求項５】 請求項１記載のクリーンルーム装置にお
いて、 フィルタ付きファンタユニットは、複数の種類のフィル
タが設置できその内の一部は主製造エリアのクリーンル
ーム内に設置されていることを特徴とするクリーンルー
ム装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000040708A JP2001227788A (ja) | 2000-02-18 | 2000-02-18 | クリーンルーム装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000040708A JP2001227788A (ja) | 2000-02-18 | 2000-02-18 | クリーンルーム装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001227788A true JP2001227788A (ja) | 2001-08-24 |
Family
ID=18564048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000040708A Pending JP2001227788A (ja) | 2000-02-18 | 2000-02-18 | クリーンルーム装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001227788A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013127979A1 (de) | 2012-03-02 | 2013-09-06 | Abn N.V. | Anlage zur belüftung von reinräumen |
| CN105019696A (zh) * | 2015-07-31 | 2015-11-04 | 江苏邦德机械科技发展有限公司 | 一种数控加工车间专用的通风系统 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPH0351647A (ja) * | 1989-07-20 | 1991-03-06 | Takasago Thermal Eng Co Ltd | クリーンルーム構築システム |
| JPH06263246A (ja) * | 1992-01-10 | 1994-09-20 | Tokyo Electron Ltd | 処理装置 |
| JPH08152170A (ja) * | 1994-11-25 | 1996-06-11 | Shin Nippon Kucho Kk | クリーンルーム構造 |
| JPH0926176A (ja) * | 1995-07-07 | 1997-01-28 | Canon Inc | 処理システムとこれを用いたデバイス生産方法 |
| JPH09101051A (ja) * | 1995-07-31 | 1997-04-15 | Taisei Corp | クリーンルーム内への空気導入方法、クリーンルーム、局所設備内への空気導入方法、および局所設備 |
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| JP2000018663A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-18 | Fuji Denki Sosetsu Co Ltd | クリーンルームの局所空調システム |
-
2000
- 2000-02-18 JP JP2000040708A patent/JP2001227788A/ja active Pending
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