JP2003302086A - 外気供給システム - Google Patents

外気供給システム

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JP2003302086A
JP2003302086A JP2002110912A JP2002110912A JP2003302086A JP 2003302086 A JP2003302086 A JP 2003302086A JP 2002110912 A JP2002110912 A JP 2002110912A JP 2002110912 A JP2002110912 A JP 2002110912A JP 2003302086 A JP2003302086 A JP 2003302086A
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Japan
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outside air
air
building
wall
outside
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JP2002110912A
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English (en)
Inventor
Keisuke Sawa
啓介 沢
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Shimizu Construction Co Ltd
Shimizu Corp
Original Assignee
Shimizu Construction Co Ltd
Shimizu Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 メンテナンス作業を容易に行え、また、外気
処理のための自動制御コストを低減でき、さらに、建物
内の個々の空間例えば実験室へ供給する外気量が増減す
る場合にも容易に対処し得る。 【解決手段】 建物全体に必要な外気を外調機1によっ
て一括して調和処理し、この調和処理された処理外気を
建物の壁体と一体的に設けたエアーウォール2へ導入す
る。そして、このエアーウォールから建物T内の個々の
居室R、例えば実験室へ必要な量の処理外気を処理外気
供給手段4により供給する。このように外調機によって
外気を一括処理する関係上、外調機は分散配置されてお
らず建物の所定箇所にまとめて配置できるので、外調機
のフィルタやコイル等のメンテナンス作業が容易にな
り、また、外気処理ための自動制御のコストも低減され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、建物の外気供給シ
ステムに関するものである。
【0002】
【従来の技術】合成系実験室や生物系実験室を有する研
究所の建物では、ドラフトチャンバや安全キャビネット
等を多数設置しており、それらからの排気量が多いこと
から、必然的に外気取り入れ量も多くなる。
【0003】従来一般に、合成系実験室等を有する研究
所の建物では、各実験室ごとに外気処理ユニットを設置
し、該外気処理ユニットで排気量に応じた外気量を処理
して実験室に供給する、いわゆる個別分散ユニット方式
が採用されていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上述の個別分散ユニッ
ト方式を採用した外気供給システムには、次に示す問題
点がある。 1)外気処理用の機器が各実験室ごとに分散しているた
め、それら機器に対しフィルタやコイル等のメンテナン
スを行うときに、その作業が煩雑になる。 2)外気処理ユニットによる外気供給量は、通常、排気
ファンとの連動あるいは実験室内の空気の圧力変化に応
じて増減する等の制御を行っているが、これらの制御は
各実験室にある外気処理ユニットに対してそれぞれ個別
に行っており、外気処理ユニットの数が多い分、自動制
御コストが高くなったり調整が煩雑になったりする。 3)実験室での研究内容が変更し、これまでの外気処理
ユニットでは処理しきれない外気量を扱わなければなら
ない場合には、外気処理ユニットごと取り替えなければ
ならなくなり、多大な費用がかかるばかりか、それら取
り替え後の大型の外気処理ユニットを設置するスペース
を予め建物に確保しなければならない。
【0005】前記事情に鑑みて、本発明においては、メ
ンテナンス作業を容易に行え、また、外気処理のための
自動制御コストを低減でき、さらに、建物内の個々の空
間例えば実験室へ供給する外気量が増減する場合にも容
易に対処し得ることを課題としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に本発明においては、以下の手段を採用した。すなわ
ち、請求項1記載の外気供給システムは、建物全体とし
ての必要な外気を一括して調和処理する外調機と、該外
調機で調和処理された処理外気が導入され該処理外気を
建物内の空間へ供給するときの空気通路となる、建物の
壁体と一体的に設けられたエアーウォールと、該エアー
ウォールから建物内の空間へそれぞれ必要量だけ処理外
気を供給する処理外気供給手段と、を備えることを特徴
としている。
【0007】このような構成では、建物全体に必要な外
気を外調機によって一括して調和処理し、この調和処理
された処理外気がエアーウォールへ導入される。そし
て、このエアーウォールから建物内の個々の空間、例え
ば実験室へ必要な量の処理外気が処理外気供給手段によ
り供給される。このように外調機によって外気を一括処
理する関係上、外調機は分散配置されておらず建物の所
定箇所にまとめて配置されるので、外調機のフィルタや
コイル等のメンテナンス作業が容易になり、また、外気
処理のための自動制御のコストも低減される。さらに、
建物の壁体に一体的に設けられたエアーウォールを処理
外気供給用の空気通路として利用しているので、処理外
気供給用のメインダクトやチャンバを設ける必要がな
く、かつ、建物内の各空間の必要外気量の変更にも容易
に対処できる。
【0008】請求項2記載の外気供給システムは、請求
項1記載のものにおいて、前記外調機が複数台設けら
れ、該複数台ある外調機が前記エアーウォールの空気圧
力の変化に応じて台数制御されるとともに複数台ある外
調機のうちの幾つかが風量調整制御されることを特徴と
している。このような構成では、エアーウォールへ導入
される処理外気量とエアーウォールから建物内の個々の
空間へ供給される処理外気量とのバランスによってエア
ーウォールの空気圧力が定まるが、この空気圧力が減少
するとエアーウォールへ導入する処理外気量を増やし、
逆に、空気圧力が増加するとエアーウォールへ導入する
処理外気量を減少させる。このとき、まず複数台ある外
調機を台数制御し、しかもそれら複数ある外調機のうち
幾つかを風量調整制御するので、効率の良い処理外気の
導入が行える。
【0009】請求項3記載の外気供給システムは、請求
項1または2記載のものにおいて、前記エアーウォール
が外壁に沿って設けられていることを特徴としている。
このような構成では、外壁に沿って設けられたエアーウ
ォールの内側の建物内空間の空調負荷が減少するので、
その分、各空間ごとの個別の処理外気供給手段の空調熱
負荷が低減でき、また、それら空間を外乱の影響を受け
にくく温度変化の少ない熱的に快適な場所とすることが
できる。
【0010】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を、図
面に基づいて説明する。図1は、本発明の実施の形態の
外気供給システムを説明する概略図、図2は外調機によ
る処理外気量の制御内容を示す説明図、図3は本発明の
実施の形態の外気供給システムが組み込まれた建物を示
す断面図である。
【0011】図1において符号1は建物全体としての必
要な外気を一括して調和処理する外調機である。外調機
1は、この実施の形態の場合複数台設けられかつ2種類
のものが用いられる。そのうちの一種類の外調機1Aは
風量調整が行えないタイプのものであり、他の種類の外
調機1Bは風量調整が行えるタイプものものである。風
量調整が行えるタイプの外調機としては、例えば、送風
用ファンを駆動するモータをインバータ制御し、モータ
の回転速度を可変できるようにしたもの、あるいは処理
空気の吹出口にダンパーを設け、そのダンパーの開度を
調整するもの等がある(図2では送風用ファンモータを
インバータ制御するものの例を示す)。
【0012】そして、前記複数台設けられた外調機1
が、後述するエアーウォール2内の空気圧力の変化に応
じて台数制御されるとともに、複数台ある外調機のうち
の風量可変タイプのもの1Bが風量調整制御されるよう
になっている。
【0013】外調機1(1A、1B)は、内部にフィル
タ1a、冷却用コイル1b、加温用コイル1c、加湿器
及びファン1d等が設けられ、ここに導入される外気か
ら塵埃等のゴミを取り除くとともに、該外気を所定範囲
の温度及び湿度となるように調和処理するものである。
【0014】外調機1で調和処理された処理外気は、直
ぐに建物T内の各実験室等の居室(空間)Rへ導入され
るわけではなく、まず最初に、建物Tの壁体と一体的に
設けられた密閉空間からなるエアーウォール2へ導入さ
れる。エアーウォール2は建物Tの外壁に沿って上下の
フロアを貫通するように設けられ、ここに導入される処
理外気を建物T内の各居室Rへ供給するときの空気通路
となるものである。
【0015】また、建物Tの各居室Rには、エアーウォ
ール2からそれら各居室Rへそれぞれ必要量だけ処理外
気を供給する個別の処理外気供給手段4が付設されてい
る。処理外気供給手段4は、図3に示すようにエアーウ
ォール2から各居室Rへ至るダクト6中に介在されてい
る。処理外気供給手段4は、ブースタファン5の他に、
処理外気をさらに各居室Rの条件にあうように冷却ある
いは加温処理する冷温水コイル7が必要に応じて設けら
れる。なお、8はダクト6中に介在されたダンパーであ
る。
【0016】また、10は建物の各居室Rに設けられた
個別空気処理用の空調機である。この空調機10は、前
記エアーウォール2から所定量の処理外気が導入され、
この処理外気と居室Rから戻されるレターン空気とを混
合し、所定の温湿度条件になるよう処理した後、該処理
空気をサプライエアとして居室Rに供給するものであ
る。また、11は建物内のアトリウムを冷暖房するため
の空調機を示す。
【0017】次に、上記構成の外気供給システムの作用
について説明する。建物T全体に必要な外気は外調機1
によって一括して調和処理され、この調和処理された処
理外気がエアーウォール2へ導入される。そして、この
エアーウォール2から、建物T内の個々の居室Rへ、処
理外気が必要な量だけ処理外気供給手段4や空調機10
により供給される。
【0018】ここで、エアーウォール2へ導入される処
理外気量とエアーウォール2から建物の各居室Rへ供給
される処理外気量とのバランスによってエアーウォール
2の空気圧力が定まる。エアーウォール2内の空気圧力
は図示せぬセンサによって検出されており、該センサか
ら発する出力信号を基に図示せぬ制御装置により、外調
機1からエアーウォール2へ導入される処理外気量が制
御される。すなわち、エアーウォール2内の空気圧力が
減少すると、エアーウォール2へ導入する処理外気量を
現状よりも増やし、逆に、エアーウォール2内の空気圧
力が増加すると、エアーウォール2へ導入する処理外気
量を現状よりも減少させる。
【0019】このとき、エアーウォール2へ導入する処
理外気量の制御は、図2に示すように、まず複数台ある
外調機1のうち作動する台数を決定してエアーウォール
2へ導入する大まかな処理外気量を定め、次いでそれら
作動する複数ある外調機のうち幾つかの風量可変タイプ
の外調機1Bを用いて細かな処理空気量を定める。この
ように台数制御と風量可変タイプの外調機1Bによる風
量制御を組み合わせて処理外気量を制御しているので、
高効率の外気処理が行え、もってランニングコストを低
減できる。
【0020】また、前述したように外調機1によって外
気を一括処理する関係上、外調機1は分散配置しておら
ず、建物Tの所定箇所(図3に示す建物Tでは1階と6
階の機械室)にまとめて配置しているので、外調機1の
フィルタ1aや冷却・加温コイル1b、1c等のメンテ
ナンス作業を容易に行え、また、外気処理のための自動
制御についても、従来に比べ制御機器の配置個数が少な
くなる分、低コスト化を図ることができる。
【0021】さらに、建物Tの壁体に一体的に設けたエ
アーウォール2を処理外気供給用の空気通路として利用
しているので、処理外気供給用のメインダクト(例え
ば、建物の各フロアを貫通する縦ダクトや、一フロア内
で機械室あるいは縦ダクトの立ち上がり部等から建物の
外壁近傍まで延びる横ダクト)やチャンバを設ける必要
がなく、しかも、例えば研究テーマが変わり、実験室等
の各居室Rへ供給する処理外気量の変更がある場合で
も、処理外気供給手段4のファン能力を上げたり、新た
にエアーウォール2から所要の居室Rへ延びるよう処理
外気供給用のダクト6を設けるとともに、そこに処理外
気供給手段4を設けるといった簡単な改修工事を行うだ
けで容易に対処できる。
【0022】また、エアーウォール2を建物Tの外壁に
沿って設けているので、該エアーウォール2の内側の居
室Rの外壁空調負荷を減少させることができ、その分、
各居室Rごとの個別の処理外気供給手段4の空調負荷を
低減できるとともに、それら居室Rを外乱の影響を受け
にくく温度変化の少ない熱的に快適な場所とすることが
できる。
【0023】以上において本発明の一実施の形態を説明
したが、本発明は前記実施の形態に限定されるものでな
く、その趣旨を逸脱しない範囲内で他の構成を採用する
ことができる。例えば、前記実施の形態においては、エ
アーウォール2から建物T内の実験室等の居室Rへ、処
理外気供給手段4と空調機10とを介してそれぞれ処理
外気を供給しているが、それらのうちいずれか一方例え
ば処理外気供給手段4のみあるいは空調機10のみ用い
て処理外気を所定居室Rへ供給するようにしてもよい。
また、前記建物Tの左右2箇所のエアーウォール2を処
理外気の空気通路として利用しているが、利用するエア
ーウォール2の箇所は1箇所でもあるいは3箇所以上で
あってもよい。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば以
下の効果を奏する。 ・ 建物全体に必要な外気を外調機によって一括して調
和処理する関係上、外調機を分散配置せず建物の所定箇
所にまとめて配置できるので、外調機のフィルタやコイ
ル等のメンテナンス作業が容易になり、また、外気処理
のための自動制御のコストも低減できる。また、従来の
個別分散ユニット方式を採用する場合に比べて建物への
制約を減らすことができ、プラン変更へのフレキシブル
性を確保できる。 ・ 外気供給量だけでなく外気の性状(温度、湿度、V
OC等)の変更が生じる場合でも、集中配置する外調機
への追加変更だけで足り、対応が容易になる。 ・ 建物内の数カ所の実験室等の空間の外気供給量が変
更になる場合でも、セントラル方式であるため、全体と
しての外気供給量の変更割合は少なく、外調機の機器の
変更なしても十分対応可能である。 ・ エアーウォールを建物内の空間へ処理外気を供給す
る空気通路として利用するので、処理外気供給用のメイ
ンダクトやチャンバを省くことができ、また、将来的に
建物内の所要空間への処理外気の供給量が変更した場合
にも改修工事が容易になる。 ・ 建物内の実験室等の各空間に必要な処理外気量だけ
エアーウォールから取り入れ、エアーウォールの空気圧
力の変化に応じて、外調機を台数制御並びに所定の外調
機による風量制御を行うことで、従来の個別分散ユニッ
ト方式を採用する場合を上回る外気供給量の制御性を確
保できる。 ・ また、エアーウォールを外壁に沿って設けており、
エアーウォールの内側の建物内空間の空調負荷が減少す
るので、その分、各空間ごとの個別空調負荷を低減で
き、また、それら空間を外乱の影響を受けにくく温度変
化の少ない熱的に快適な場所とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の一実施の形態を示す外気供給システ
ムの概略構成図である。
【図2】 同外気供給システムの外調機による処理外気
量の制御内容を示す説明図である。
【図3】 同外気供給システムが組み込まれた建物を示
す断面図である。
【符号の説明】
1 外調機 1a フィルタ 1b 冷却用コイル 1c 加温用コイル 1d ファン 2 エアーウォール 4 処理外気供給手段 6 ダクト 7 冷温水コイル 8 ダンパ 10、11 空調機
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) F24F 11/02 102 F24F 11/02 102J

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 建物全体としての必要な外気を一括して
    調和処理する外調機と、 該外調機で調和処理された処理外気が導入され該処理外
    気を建物内の空間へ供給するときの空気通路となる、建
    物の壁体と一体的に設けられたエアーウォールと、 該エアーウォールから建物内の空間へそれぞれ必要量だ
    け処理外気を供給する処理外気供給手段と、 を備えることを特徴とする外気供給システム。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の外気供給システムにおい
    て、 前記外調機は複数台設けられ、該複数台ある外調機は前
    記エアーウォールの空気圧力の変化に応じて台数制御さ
    れるとともに複数台ある外調機のうちの幾つかが風量調
    整制御されることを特徴とする外気供給システム。
  3. 【請求項3】 請求項1または2記載の外気供給システ
    ムにおいて、 前記エアーウォールは外壁に沿って設けられていること
    を特徴とする外気供給システム。
JP2002110912A 2002-04-12 2002-04-12 外気供給システム Withdrawn JP2003302086A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007085626A (ja) * 2005-09-21 2007-04-05 Sanki Eng Co Ltd 空調システム
JP2009002574A (ja) * 2007-06-21 2009-01-08 Takenaka Komuten Co Ltd ハイブリッド空調システム
JP2012088009A (ja) * 2010-10-21 2012-05-10 Toyota Home Kk 多層階建物の空調設備
WO2022259361A1 (ja) * 2021-06-08 2022-12-15 三菱電機株式会社 空気調和システム

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Effective date: 20050705