JP2002083854A - 基板搬送装置 - Google Patents

基板搬送装置

Info

Publication number
JP2002083854A
JP2002083854A JP2000205330A JP2000205330A JP2002083854A JP 2002083854 A JP2002083854 A JP 2002083854A JP 2000205330 A JP2000205330 A JP 2000205330A JP 2000205330 A JP2000205330 A JP 2000205330A JP 2002083854 A JP2002083854 A JP 2002083854A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate transfer
storage box
substrate
transfer device
opening
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2000205330A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyohisa Tateyama
清久 立山
Yoshiharu Ota
義治 太田
Shinichiro Araki
真一郎 荒木
Tatsuya Iwasaki
達也 岩崎
Noriyuki Anai
徳行 穴井
Haruo Iwazu
春生 岩津
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2000205330A priority Critical patent/JP2002083854A/ja
Publication of JP2002083854A publication Critical patent/JP2002083854A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】クリーン化の必要のある空間をできるだけ小さ
くする。 【解決手段】搬送方向移動体に対して水平回転可能な回
転軸43に支持された収容ボックス50内に基板受け渡
し部材60を配設する。従って、ガラス基板Gが収容ボ
ックス50外に浮遊するパーティクルと接触することが
ほとんどなく、基板の搬送エリアをクリーン環境にする
必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを大幅に削
減できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば液晶ディス
プレイ(Liquid Crystal Display:LCD)に使われる
ガラス基板等の被処理基板上に塗布・現像処理を施す塗
布・現像装置等の処理装置に対して、被処理基板を搬入
出するために用いられる基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】LCDの製造工程においては、LCD用
のガラス基板上にITO(Indium TinOxide)の薄膜や
電極パターンを形成するために、半導体デバイスの製造
に用いられるものと同様のフォトリソグラフィ技術が利
用される。フォトリソグラフィ技術では、フォトレジス
トを洗浄した基板に塗布し、これを露光し、さらに現像
する。
【0003】被処理基板であるガラス基板は、基板搬送
装置に保持されて搬送路上を移動し、種々の処理装置に
搬入され、各処理装置で処理された後搬出されて再び基
板搬送装置により次工程に搬送される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記したような製造工
程においては、基板に塵芥(パーティクル)が付着した
りしないような環境下で行う必要があり、通常は、上記
した各種の処理装置をクリーンルーム内に設置したり、
装置内外の基板搬送エリアにHEPAフィルタを設け、
低パーティクル環境を形成している。
【0005】しかしながら、上記した手段では、クリー
ンルーム全体若しくは基板搬送エリア全体といった広範
囲をクリーン環境にする必要があるため、そのコストが
高くつくという問題があった。特に、生産効率を上げる
ため、塗布・現像装置だけでなく、他の処理装置、例え
ば、CVD装置、エッチャー、アッシャー等も含めて1
ライン化するシステムが考えられているが、クリーン環
境を形成する範囲が更に広範囲となり、そのためのコス
トが更に高くなるおそれがある。
【0006】本発明は上記した事情に鑑みなされたもの
であり、クリーン化の必要のある空間をできるだけ小さ
くすることができる基板搬送装置を提供することを課題
とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1記載の本発明の基板搬送装置は、搬送路に
沿って移動可能な搬送方向移動体と、前記搬送方向移動
体に対して水平回転可能な回転軸を介して支持された収
容ボックスと、前記収容ボックス内に設けられると共
に、処理装置の搬入出口に対峙した姿勢において該搬入
出口に離接する方向に移動可能であり、該収容ボックス
に形成された開口部を通じて処理装置に対し、保持した
基板を受け渡すことが可能な基板受け渡し部材とを具備
することを特徴とする。
【0008】請求項2記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1記載の基板搬送装置であって、前記収容ボック
ス内に、複数段の基板載置部を備えた基板受け渡し部材
が設けられていることを特徴とする。
【0009】請求項3記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1又は2記載の基板搬送装置であって、前記収容
ボックスが複数段に積層されて設けられ、そのそれぞれ
に前記基板受け渡し部材が設けられていることを特徴と
する。
【0010】請求項4記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1又は2記載の基板搬送装置であって、前記収容
ボックスが略水平に配置された仕切板を介して複数室に
区分され、前記基板受け渡し部材が、区分された各室ご
とに設けられていることを特徴とする。
【0011】請求項5記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1〜4のいずれか1に記載の基板搬送装置であっ
て、前記収容ボックスに形成された開口部に開閉可能な
蓋部材が設けられていることを特徴とする。
【0012】請求項6記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1〜4のいずれか1に記載の基板搬送装置であっ
て、前記収容ボックスに形成された開口部が常時開口し
ている構造であると共に、該収容ボックス内部を陽圧に
保つための圧力制御機構を備えていることを特徴とす
る。
【0013】請求項7記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1〜4のいずれか1に記載の基板搬送装置であっ
て、前記収容ボックスに形成された開口部が常時開口し
ている構造であると共に、該収容ボックスの開口部に対
向する面側から該開口部を通じて外部に流れる気流を形
成する送風機構を備えていることを特徴とする。
【0014】請求項8記載の本発明の基板搬送装置は、
請求項1〜7のいずれか1に記載の基板搬送装置であっ
て、前記収容ボックス内の状態を監視する監視装置が設
けられていることを特徴とする。
【0015】請求項9記載の本発明の基板搬送装置は、
搬送路に沿って移動可能な搬送方向移動体と、前記搬送
方向移動体に対して水平回転可能な回転軸を介して支持
されていると共に、処理装置の搬入出口に対峙した姿勢
において該搬入出口に離接する方向に移動可能であり、
処理装置に対して、保持した基板を受け渡すことが可能
な基板受け渡し部材と、前記基板受け渡し部材の近傍に
配置される吸塵用のフィルタを備えたパーティクル除去
手段とを具備することを特徴とする。
【0016】請求項10記載の本発明の基板搬送装置
は、請求項9記載の基板搬送装置であって、前記パーテ
ィクル除去手段を構成するフィルタが、前記基板受け渡
し部材の上方に設けられていることを特徴とする。
【0017】請求項11記載の本発明の基板搬送装置
は、請求項9又は10記載の基板搬送装置であって、前
記パーティクル除去手段が、前記基板受け渡し部材の周
囲を覆うことのできる壁部を有することを特徴とする。
【0018】請求項12記載の本発明の基板搬送装置
は、請求項9〜11のいずれか1に記載の基板搬送装置
であって、前記基板受け渡し部材が、複数段の基板載置
部を備えていることを特徴とする。
【0019】請求項1記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックス内に設けられると共に、処理装置の搬入出
口に対峙した姿勢において該搬入出口に離接する方向に
移動可能な基板受け渡し部材により基板を保持している
構成である。このため、基板の搬送エリアをクリーン環
境にする必要がなくなり、クリーン環境の形成コストを
大幅に削減できる。
【0020】請求項2記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックス内に、複数段の基板載置部を備えた基板受
け渡し部材が設けられている。従って、複数の基板を同
時に搬送することができ、基板の連続処理に適する。
【0021】請求項3記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスが複数段に積層されて設けられ、そのそれ
ぞれに前記基板受け渡し部材が設けられている。従っ
て、複数の基板を同時に搬送することができ、基板の連
続処理に適する。
【0022】請求項4記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスが略水平に配置された仕切板を介して複数
室に区分され、前記基板受け渡し部材が、区分された各
室ごとに設けられている。従って、複数の基板を同時に
搬送することができ、基板の連続処理に適する。
【0023】請求項5記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスに形成された開口部に開閉可能な蓋部材が
設けられている。従って、処理装置との間で基板の受け
渡しを行うときだけこの蓋部材を開閉させるようにすれ
ば、移動中に外部パーティクルが収容ボックス内に侵入
することがない。
【0024】請求項6記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスに形成された開口部が常時開口している構
造である一方、該収容ボックス内部を陽圧に保つための
圧力制御機構を備えている。このため、基板の受け渡し
を行う開口部が常時開口していても、収容ボックス外に
浮遊するパーティクルが収容ボックス内に侵入すること
がない。また、基板の受け渡しを行う開口部が常時開口
していて、この開口部を開閉する開閉機構が設けられて
いないため、基板の受け渡しを迅速に行うことができ
る。
【0025】請求項7記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスに形成された開口部が常時開口している構
造である一方、該収容ボックスの開口部に対向する面側
から該開口部を通じて外部に流れる気流を形成する送風
機構を備えている。このため、基板の受け渡しを行う開
口部が常時開口していても、収容ボックス外に浮遊する
パーティクルが収容ボックス内に侵入することがない。
また、基板の受け渡しを行う開口部が常時開口してい
て、この開口部を開閉する開閉機構が設けられていない
ため、基板の受け渡しを迅速に行うことができる。
【0026】請求項8記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックス内の状態を監視する監視装置が設けられて
いる。このため、収容ボックス内の状態を基板にとって
良好な環境に保つことが容易となる。特に、収容ボック
スによって基板が密閉的な空間に保持されているため、
良好な環境に制御するのが容易である。
【0027】請求項9記載の本発明の基板搬送装置は、
基板受け渡し部材の近傍に配置される吸塵用のフィルタ
を備えたパーティクル除去手段を具備している。このた
め、基板受け渡し部材に保持された基板周囲の空気は、
このフィルタにより常に浄化されるため、基板周囲を常
に低パーティクル環境で維持できる。従って、基板の搬
送エリア全体をクリーン環境にする必要がなくなり、ク
リーン環境の形成コストを大幅に削減できる。
【0028】請求項10記載の本発明の基板搬送装置
は、前記パーティクル除去手段を構成するフィルタが、
前記基板受け渡し部材の上方に設けられているため、浮
遊するパーティクルを効果的に除去することができる。
【0029】請求項11記載の本発明の基板搬送装置
は、前記パーティクル除去手段が、前記基板受け渡し部
材の周囲を覆うことのできる壁部を有しているため、外
部から侵入するパーティクルが少なくなり、基板周囲に
より高いクリーン環境を形成することができる。
【0030】請求項12記載の本発明の基板搬送装置
は、複数段の基板載置部を備えた基板受け渡し部材が設
けられている。従って、複数の基板を同時に搬送するこ
とができ、基板の連続処理に適する。
【0031】請求項13記載の基板搬送装置は、収容ボ
ックスに設けた監視装置を、風速センサと、送風機構の
ファンを作動制御する送風制御部とで構成しているた
め、フィルタの目詰まりが進行して送風圧力が低下した
ことを風速センサが検知し、これに基づき送風制御部に
よってファンの回転を大きくなるように制御して、風量
を最適量になるように維持し、収容ボックス内には安定
した気流を基板受け渡し部材に送風する。
【0032】請求項14記載の基板搬送装置は、フィル
タが目詰まりを生じたときに、警報を発する警報手段を
送風制御部に設けたため、フィルタの目詰まりを感覚的
に知らせる。
【0033】請求項15記載の基板搬送装置は、収容ボ
ックスの開口部が前記処理装置の搬入出口に対峙した姿
勢にあるとき、送風制御部により送風機構のファンによ
る送風量を少なくする対面状態検知手段を設けたため、
収容ボックスから不用意に処理装置の搬入出口を通じて
余分なエアーが流入しない。
【0034】請求項16記載の基板搬送装置は、収容ボ
ックスの開口部周縁に、前記処理装置の搬入出口を覆う
伸縮部材を設けたので、ガラス基板が受け渡しされると
き、収容ボックスと処理装置との間にどのような間隙が
あっても、伸縮部材によってガラス基板が周囲から遮断
される。
【0035】請求項17記載の基板搬送装置は、収容ボ
ックスの天井に送風機構を設け、該天井から下方に向か
ってエアーを吹き出す構成としたことで、開口部に向か
ってエアーは流れない。このため、処理装置に対面した
場合でも、収容ボックスからエアーが処理装置内へ流入
する量を低減できる。
【0036】請求項18記載の基板搬送装置は、収容ボ
ックスが搬送路に沿って移動するとき、収容ボックスの
開口部と対向する面を移動する方向に向けて移動させる
構成としたので、収容ボックスの開口部を進行方向に向
けないで、対向する面、すなわち背面を移動する方向に
向けて移動する。
【0037】請求項19記載の基板搬送装置は、基板受
け渡し部材を水平多関節機構により移動できるように構
成したため、巻き掛け伝動機構や褶動機構等を使用する
のとは異なり、パーティクルの発生する機械的構成部位
が少なくなり、それだけ収容ボックス空間でのパーティ
クル発生を抑制できる。
【0038】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に基づき説明する。まず、図1に基づき本発明の基板搬
送装置が用いられる処理システムである塗布・現像処理
システムの全体構造について説明する。
【0039】図1に示すように、この塗布・現像処理シ
ステム1の前方には、処理対象であるガラス基板Gを塗
布・現像処理システム1に対して搬入出するローダ・ア
ンローダ部が設けられている。このローダ・アンローダ
部には、ガラス基板Gを複数収納したカセットCを所定
位置に整列させて載置させるカセット載置台3と、各カ
セットCから処理すべきガラス基板Gを取り出し、また
塗布・現像処理システム1において処理の終了したガラ
ス基板Gを各カセットCへ戻すローダ・アンローダ4が
設けられている。ローダ・アンローダ4は、本体5の走
行によってカセットCの配列方向に移動し、本体5に搭
載された板状体6上にガラス基板Gを載置して第1の搬
送装置25に受け渡すものである。
【0040】塗布・現像処理システム1の中央部には、
長手方向に配置された廊下状の搬送路10,11が受け
渡し部12を介して一直線上に設けられており、この搬
送路10,11の両側には、ガラス基板Gに対して各処
理を行うための各種処理装置が配置されている。
【0041】図示の塗布・現像処理システム1にあって
は、搬送路10の一側方に、ガラス基板Gをブラシ洗浄
すると共に高圧ジェット水により洗浄を施すための洗浄
装置16が例えば2台並設されている。また、搬送路1
0を挟んで反対側に、二基の現像装置17が並設され、
その隣りに二基の加熱装置18が積み重ねて設けられて
いる。
【0042】また、搬送路11の一側方に、ガラス基板
Gにレジスト液を塗布する前にガラス基板Gを疎水処理
するアドヒージョン装置20が設けられ、このアドヒー
ジョン装置20の下方には冷却用のクーリング装置21
が配置されている。また、これらアドヒージョン装置2
0とクーリング装置21の隣には加熱装置22が二列に
二個ずつ積み重ねて配置されている。また、搬送路11
を挟んで反対側に、ガラス基板Gの表面にレジスト液を
塗布することによってガラス基板Gの表面にレジスト膜
を形成するレジスト塗布装置23が配置されている。図
示はしないが、これら塗布装置23の側部には、ガラス
基板G上に形成されたレジスト膜に所定の微細パターン
を露光するための露光装置等が設けられる。
【0043】以上の各処理装置16〜18および20〜
23は、何れも搬送路10,11の両側において、ガラ
ス基板Gの搬入出口を内側に向けて配設されている。第
1の搬送装置25がローダ・アンローダ部、各処理装置
16〜18および受け渡し部12との間でガラス基板G
を搬送するために搬送路10上を移動し、第2の搬送装
置26が受け渡し部12および各処理装置20〜23と
の間でガラス基板Gを搬送するために搬送路11上を移
動するようになっている。
【0044】次に、上記した第1の搬送装置25および
第2の搬送装置26として採用される本発明の第1の形
態にかかる基板搬送装置40の具体的な構造を説明す
る。図2はこの基板搬送装置40の構成を示した斜視図
であり、図3は内部構造を示す平面図である。
【0045】基板搬送装置40は、搬送路10,11に
沿って設けられたレール35上をY方向(搬送方向)に
沿って移動可能な搬送方向移動体41を有している。こ
の搬送方向移動体41は、本実施の形態ではレール35
を跨ぐように設けられ、内部に配設された図示しない駆
動モータの駆動により移動する。この搬送方向移動体4
1の上部には、図示しないモータによりθ方向(水平方
向)に回転可能になっている回転軸43が設けられてい
る。この回転軸43は、さらに搬送方向移動体41内に
配設された昇降部(図示せず)により上下方向(Z方
向)に動作するよう設けられている。
【0046】回転軸43の上部には、略コ字型の支持部
材44が、開放側を上方に向けて取り付けられており、
この支持部材44の側板部44a間にて収容ボックス5
0を保持している。具体的には、図3に示したように、
側板部44aに付設したモータ44bの軸部材44cに
収容ボックス50を連結して支持している。このモータ
44bの駆動により、該軸部材44cを中心として収容
ボックス50の前方部および後方部を上下にチルト調整
することができ、回転軸43を水平方向に回転させた場
合の旋回に要するエリアを小さくすることができる。
【0047】この収容ボックス50の内部は、略水平に
配設された仕切板51により上下2つの室51a,51
bに区分されている。また、各室51a,51bのぞれ
ぞれに基板受け渡し部材60が設けられている。
【0048】基板受け渡し部材60は、X方向(図2に
示したように、処理装置に対峙した際に当該処理装置に
離接する方向)に移動可能であり、いずれも、図3の平
面図に示したように、基部61に対して突出し、平面か
ら見て中央付近に所定間隔をおいて設けられる一対の長
片62と、各長片62に対してそれぞれ間隔をおいて両
端に設けられる短片63を備えている。長辺62および
短片63の各先端部にはそれぞれアジャスタ用のピン部
材62a,63aが設けられており、長辺62のピン部
材62aによりガラス基板Gの前端縁が揃えられ、短辺
63のピン部材63aによりガラス基板Gの各側端縁が
揃えられる。
【0049】基板受け渡し部材60をX方向に駆動させ
る手段は限定されるものではないが、本実施の形態で
は、図3および図4に示したように、収容ボックス50
の各側壁52に平行に、かつ該各側壁52よりも内部に
設けた隔壁53にスリット53aを形成し、このスリッ
ト53aに基板受け渡し部材60の基部61の各側端を
挿入して突出させ、この突出部をスリット53aに沿っ
て配置した該スリット53aからのパーティクルの侵入
を防ぐシールドバー64に接続し、このシールドバー6
4をX方向に動作可能とすることで駆動させている。シ
ールドバー64は、図4に示したように、隔壁53の外
方において、該隔壁53に沿って所定間隔をおいて配置
された2つのプーリ65,66に掛け渡される駆動ベル
ト67に対し、連結部材68を介して連結されており、
該駆動ベルト67を2つのプーリ65,66間で回転駆
動させるモータ69を動作させることで、X方向に動作
するように構成されている。なお、符号67aは、該駆
動ベルト67の下方に配設された連結部材68のガイド
レールである。また、図4に示した駆動機構は、図3に
示したように、収容ボックス50の左右両方に設けられ
ており、そのうちの一方により上側の室51aに配設さ
れた基板受け渡し部材60が駆動され、他方により下側
の室51bに配設された基板受け渡し部材60が駆動さ
れる。
【0050】収容ボックス50の後部には、HEPAフ
ィルタ等のフィルタ部材70とこのフィルタ部材70の
さらに後部に取り付けられるファン71とを備えた送風
機構72が設けられている。この送風機構72を駆動す
ることにより、収容ボックス50の前面に形成された開
口部が常時開口している構造であっても、後方からこの
開口部に向けた気流が形成されることにより、該開口部
を通じて収容ボックス50内に外部パーティクルが侵入
することを防ぐことができる。
【0051】なお、本実施の形態のように、隔壁53を
設けた場合には、例えば、隔壁53の前方(開口部寄
り)の適宜位置に、気流を循環させる循環用の孔53b
を形成すると共に、各隔壁53と側壁52との間の後部
に吸引用のファン73を設けることにより、該循環用の
孔53bと、各隔壁53と側壁52との間隙54を通じ
ても収容ボックス50内部の空気を積極的に外部に排出
することができる。この場合、吸引用のファン73を設
ければ好ましいことはもちろんであるが、このようなフ
ァン73を設けずに、側壁52等に排出口を設け、隔壁
53の循環用の孔53bを経由した気流を外部に排出す
る構成とすることもできる。
【0052】また、収容ボックス50には、その内部を
監視する監視装置を設けることが好ましい。例えば、図
3に示したように、該収容ボックス50の内部に静電気
監視モニタ55と静電気除去装置56を配設すれば、静
電気監視モニタ55によって静電気が生じていることを
確認したならば、直ちに静電気除去装置56を動作させ
て静電気を除去することができ、このようにすること
で、収容ボックス50内をガラス基板Gにとって良好な
状態を保つことができる。この際、本実施の形態におい
ては、ガラス基板Gが収容ボックス50という密閉的な
空間で保持されているため、静電気除去等を効率的に行
うことができる。なお、監視装置としては、静電気監視
モニタのほか、パーティクル監視装置等を設けることも
できる。
【0053】次に、本実施の形態にかかる基板搬送装置
40の作用を説明する。まず、搬送方向移動体41の駆
動により基板搬送装置40が搬送路10に沿って移動
し、ローダ・アンローダ4に接近し、基板受け渡し部材
60を前進動作させて収容ボックス50から突出させ、
該基板受け渡し部材60の長片62、短片63上に、ロ
ーダ・アンローダ4に保持されているガラス基板Gを受
け取る。その後、基板受け渡し部材60は後退動作して
収容ボックス50内に収容される。なお、この際、上下
2つの基板受け渡し部材60の両方にガラス基板Gを受
け取ることができる。
【0054】この際、収容ボックス50の後部に配置さ
れた送風機構72のファン71が駆動していることによ
り、収容ボックス50内には、該収容ボックス50の開
口部に対向する面側(後部)から該開口部を通じて外部
に流れる気流が形成される。このため、基板の受け渡し
を行う収容ボックス50の開口部が常時開口していて
も、移動中に収容ボックス50外に浮遊するパーティク
ルが収容ボックス50内に侵入することがほとんどな
い。
【0055】基板搬送装置40は、ガラス基板Gを受け
取ったならば、目的とする処理装置の配置されている付
近まで搬送方向移動体41の駆動によりY方向に移動す
る。次に、回転軸43を所定角度θ方向に回転させ、収
容ボックス50の開口部を当該処理装置と向き合わせ、
さらに、回転軸43を上下方向(Z方向)に動作させ、
該収容装置の搬入出口と対向させる。
【0056】かかる状態で、該収容装置の搬入出口を開
閉するシャッタを開放動作させ、一方の、例えば、収容
ボックス50の下側の室51bに配置された基板受け渡
し部材60のモータ69を動作させて駆動ベルト67を
駆動し、該基板受け渡し部材60をX方向に前進動作さ
せる。そして、処理装置内の処理部、例えば、スピンチ
ャックや支持ピン上にガラス基板Gを受け渡す。
【0057】処理部において所定の処理が終了したなら
ば、再び処理装置の搬入出口を開閉するシャッタを開放
動作させ、収容ボックス50の下側の室51bに配置さ
れた基板受け渡し部材60を前進させて、処理部から該
基板受け渡し部材60の長片62および短片63上にガ
ラス基板Gを受け取る。次に、この基板受け渡し部材6
0を後退させて収容ボックス50の下側の室51b内に
収容する。続いて、収容ボックス50の上側の室51a
に配置された基板受け渡し部材60を前進させて、該基
板受け渡し部材60に載置されたガラス基板Gを上記と
同様に処理する。
【0058】なお、上記の説明では、収容ボックス50
内の2つの基板受け渡し部材60にいずれも未処理のガ
ラス基板Gを保持させているが、下側の室51bに配置
された基板受け渡し部材60には未処理のガラス基板G
を保持し、上側の室51aに配置された基板受け渡し部
材60には処理済みのガラス基板Gを保持するようにす
ることもできる。
【0059】また、上記の構成では、フィルタ70とフ
ァン71とからなる送風機構72により、常時開口して
いる収容ボックス50の開口部からのパーティクルの侵
入を防ぐ構造であるが、この送風機構72に代えて収容
ボックス50の内部を常時陽圧にする圧力制御機構(図
示せず)を設け、これにより外部パーティクルの侵入を
防ぐ構造とすることもできる。なお、上記した送風機構
72は、常時、収容ボックス50内から外部に送風して
いる構成であるため、これによっても収容ボックス50
内部は陽圧になっている。すなわち、この送風機構72
も実質的に圧力制御機構として機能している。
【0060】また、上記の説明では、収容ボックス50
の前面に形成した開口部が常時開口している構成である
が、この開口部に開閉可能な蓋部材58を設けるように
してもよい。蓋部材58の構成は限定されるものではな
いが、例えば、図5に示したように、中央付近に形成し
た把手部58cを有すると共に、この把手部58cの周
面に押しボタン58dを設け、さらに、この押しボタン
58dの押圧操作に連動して側部から突出したり埋没し
たりして、収容ボックス50の側壁52に係合する係合
突起58a,58bを有するものを用いることができ
る。また、この場合、押しボタン58dを押圧する手段
としては、例えば、処理装置の搬入出口に配設されるシ
ャッタに把手部58cを収容し得る凹部と、この凹部内
に突設した突片とを設けておき、把手部58cが該凹部
に嵌合すると、該突片によって押しボタン58dが押圧
され、係合突起58a,58bの係合が解除される構成
を採用することができる。係合突起58a,58bの係
合が解除されたならば、シャッタと共に蓋部材58を処
理装置の任意部位に収容し、ガラス基板Gの受け渡しを
行う。もちろん、この蓋部材58を開閉する機構を収容
ボックス50自体に設けることもできる。
【0061】なお、蓋部材58を設けた場合には、ガラ
ス基板Gの搬送中、開口部からのパーティクルの侵入が
なくなる。このため、上記した送風機構72や圧力制御
機構を設けない構成とすることも可能であるが、この場
合でも、送風機構72等を収容ボックス50の後部に設
けるなどして、この蓋部材58を開放して処理装置との
間でガラス基板Gの受け渡しを行っている際にパーティ
クルが侵入しないよう、ガラス基板Gの受け渡し時だ
け、送風等できる構成とすることが好ましい。
【0062】また、上記した構成では収容ボックス50
に仕切板51を設けて複数の室51a,51bに仕切
り、そのそれぞれに基板受け渡し部材60を設けている
構成であるが、仕切板51を設けずに、基板受け渡し部
材60を一つだけ配設する構成にできることももちろん
である。さらには、一つの基板受け渡し部材60を配設
した収容ボックス50を、複数段積層するようにするこ
ともできる。
【0063】次に、図6および図7に基づき、本発明の
他の実施の形態について説明する。本実施の形態に係る
基板搬送装置80は、上記の実施の形態の基板搬送装置
40と異なり、収容ボックス50を有しておらず、搬送
方向移動体81に対して水平回転可能な回転軸82が直
接支持された基板受け渡し部材83を有している。な
お、回転軸82は上下動可能に設けられており、基板受
け渡し部材83が処理装置の搬入出口に対して対峙可能
であることは上記の実施の形態と同様である。
【0064】基板受け渡し部材83は、基板載置部が一
つのタイプでもよいが、本実施の形態では基板載置部8
3aが2段で設けられている。また、基板受け渡し部材
83の形状は限定されるものではないが、例えば、上記
の実施の形態と同様に、平面から見て略中央付近に長片
を有し、両端付近に短片を備えたような形状を採用する
ことができる。
【0065】本実施の形態では、図6および図7に示し
たように、回転軸82に連結されたベース板84aと、
このベース板84aの四隅に立設された支柱部材84b
と、該支柱部材84bの上部に支持されたHEPAフィ
ルタ等のフィルタ84cと、このフィルタ84cの上部
に配設されたファン84dを備えたパーティクル除去手
段84を有して構成されている。すなわち、ガラス基板
Gを保持している基板受け渡し部材83の周囲環境のみ
をクリーン化しようとする構成である。
【0066】本実施の形態によれば、パーティクル除去
手段84のファン84dを駆動することにより、外部の
空気がフィルタ84cを通過することでパーティクルが
吸塵され、クリーン化された後、基板受け渡し部材83
に保持されたガラス基板Gに接触する。従って、基板搬
送エリア全体をクリーン化しなくても、ガラス基板Gへ
のパーティクルの付着を防ぐことができる。
【0067】本実施の形態では、基板受け渡し部材83
の上方にパーティクル除去手段84が設けられ、該基板
受け渡し部材83の周囲は開放された状態であるが、パ
ーティクル除去手段84として、該基板受け渡し部材8
3の周囲を覆うことができる壁部を有する構造のものを
用いることもできる。但し、この場合には、該壁部また
は上記のベース板84aのいずれかに空気流の排出口を
設けておく。
【0068】また、本実施の形態においても、上記実施
の形態のように、パーティクル除去手段84の下部等
に、静電気監視モニタ等の監視装置や静電気除去装置等
を付設することも可能である。
【0069】また、これに限らず、図8に示したよう
に、例えば、各処理装置A〜Dの搬入出付近aにガラス
基板Gの搬入出周期の監視モニタや静電気監視モニタを
設けると共に、搬送路10,11中の適宜箇所bにパー
ティクル監視モニタを設けることもできる。そして、各
処理装置A〜Dの搬入出付近a、搬送路10,11中の
適宜箇所b、および基板搬送装置40,80の適宜箇所
cに設けられる各監視装置をネットワークで結び、その
状態を常にコンピュータ90によってモニタリングし、
必要に応じて各処理装置A〜Dにフィードバックするこ
とにより、搬送ライン全体をガラス基板Gにとって適切
な環境で保つことができると共に、処理効率の向上にも
資する。
【0070】次に図9に示す送風機構72についての第
1変形例を説明する。図3の収容ボックス50内に設け
た監視装置として静電気除去装置56を設けて、送風機
構のファン71から開口部へ向けて吹かれるエアーを除
電し、これによりガラス基板Gへのパーティクルの付着
を防止しているが、第1変形例のように収容ボックス5
0に送風制御部100と風速センサ101とを設け、こ
れにより送風機構72を制御するように構成することも
できる。すなわち、収容ボックス50の天上面などの適
宜個所にファン71から吹き込まれる気流の風速を検知
する風速センサ101を設ける。そして、風速センサ1
01により検知した信号に基づく電圧値が、所要の閾値
よりも小さいかどうかが送風制御部100で比較判断さ
れる。電圧値が閾値よりも小さいことを判断した場合に
は、フィルタ70がパーティクルにより目詰まりを起こ
したと認識し、検知した電圧値に応じたファン71の回
転数駆動信号が送風制御部100から出力され、ファン
71はその回転数が増大するように制御される。また、
この場合、ファン71の回転数が増大するように制御が
行われるときには、ランプを点灯したり、音を発したり
するなど警報手段102を作動してフィルタ70の交換
を作業者に知らせるように構成する。
【0071】第1変形例はかかる構成にしたことより、
フィルタ70が目詰まりを生じて送風量が低下しても、
送風制御部100によってファン71の回転数を自動的
に高められ、収容ボックス50に吹き出される風量を常
時一定にし、かつ、均一な気流を流すように維持でき、
それだけパーティクルの付着防止に有利である。また、
警報手段102が作動するため、フィルタ70の交換を
作業者に促せることができ便利である。
【0072】次に、第2変形例は図9に示すように送風
制御部100に対面状態検知手段103を接続した構成
のものである。この対面状態検知手段103は、収容ボ
ックス50が処理装置との間でガラス基板Gを受け渡し
する状態になったときに、その状態を検知した信号が送
風制御部100に入力される。これにより送風制御部1
00は、ファン71の回転数を小さくなるように制御信
号を出力する。その一方で、吸引用ファン73に対して
は、その回転数が大きくなるように制御信号が出力され
る。
【0073】このため第2変形例によれば、対面状態検
知手段103により収容ボックス50が処理装置と対面
してガラス基板Gの受け渡しが行われる状態を検知した
ときに、ファン71の回転は弱められ、吸引用ファン7
3の回転は強くなるように制御される。このため、ガラ
ス基板Gの受渡し時、収容ボックス50の開口部を通じ
て処理装置の搬入出口に流入するエアー量を少なくする
ことができ、パーティクルの付着低減に有利となる。
【0074】次に、図10に示す第3変形例は、収容ボ
ックス110の開口部111周縁に収縮自在に変形をす
る蛇腹112を設け、開口部111が処理装置113の
搬入出口114に対面してガラス基板Gを受渡しする状
態になったとき、蛇腹112が搬入出口111に密着す
る構成である。
【0075】第3変形例によれば、収容ボックス110
と処理装置113との間にいろいろ異なる隙間があって
も、蛇腹112が搬入出口114に完全に密着するた
め、隙間からパーティクルが処理装置113に混入する
のを回避できる。なお、蛇腹112は、処理装置側に設
けられていても勿論構わない。
【0076】次に、図11に示す第4変形例を説明する
と、収容ボックス120の天井に吸入ファン121とフ
ィルタ部材122が設けられ、開口部反対側の背面に吸
引用ファン123を設けている。また、124は開口部
122に開閉自在に設けた蓋部材で、収容ボックス12
0が移動する間は閉じ、処理装置に対面してガラス基板
Gの受け渡しを行う場合に開くように形成される。
【0077】かかる構成の第4変形例によれば、ガラス
基板Gを搬送する時、蓋部材124は閉じられ、吸入フ
ァン121からエアーが下に吹き付けられる。エアー
は、収容ボックス120を矢印の方向に流れたあと,吸
引用ファン123を経て外部に排出される。このためパ
ーティクルの付着を回避した状態でガラス基板Gを搬送
することができる。なお、蓋部材124の変わりにエア
ーカーテン方式にしてパーティクルの浸入を防止しても
よい。
【0078】また、第4変形例において収容ボックス1
20の天井下面に除電手段であるイオナイザー125を
設置してもよい。これにより静電気を除去でき、収容ボ
ックス120内のガラス基板Gにとって処理のための良
好な密閉空間を確保できる。
【0079】次に、図12に示す第5変形例は、塗布の
処理搬送システムにおいて収容ボックス130がガラス
基板Gを搬送するとき、その背面を進行方向に向けて移
動するように構成したものである。例えば、洗浄装置1
6でガラス基板Gの受け渡しを終えた後,収容ボックス
130を点線の方向に経由して加熱装置18に移動させ
るとき、収容ボックス130背面を進行方向に向けて移
動し、加熱装置18の手前まで移動したとき収容ボック
ス130を所定の方向に転換して、収容ボックス130
の開口部を加熱装置18の搬入出口に対面するように回
転させる構成としてもよい。
【0080】かかる第5変形例によれば、収容ボックス
130の開口部を進行方向に向けないで背面を向けるよ
うにして回転移動させる構成により、パーティクルが収
容ボックス130内に入り込む余地を少なくできる点で
有利となる。
【0081】次に、図13に示す第6変形例を説明す
る。 受け渡し部12に設置された受け渡し搬送装置1
40は搬送路10を移動する第1の搬送装置25と第2
の搬送装置26との間でガラス基板Gを中継して相互に
受け渡しするための装置である。その両側には開口部1
41、142が設けられていて、各搬送装置25、26
の基板受け渡し部材60等(図4)が進退する。開口部
141,142の上方からはエアーが吹き降ろすように
エアーカーテン装置143,144が設置される。内部
には載置台145が設けられ、出没自在のピン145に
よりガラス基板Gを支持するように形成されている。受
け渡し搬送装置140の天井には、フィルタ部材147
および吸入ファン148よりなるファン送風機構が設け
られる。
【0082】上記構成に係る第6変形例では、吸入ファ
ン148から受け渡し搬送装置140内に流入したエア
ーはガラス基板Gの周囲を矢印の方向に流れることとな
る。このため、受け渡し搬送装置140においても、外
部からパーティクルの浸入するのをエアカーテン装置1
43,144で食い止め、かつガラス基板Gに吸入ファ
ン148からエアーが吹き付けられているため、パーテ
ィクルが付着することを抑制できる。
【0083】次に、図14に示す第7変形例について説
明する。上記の図3の実施の形態では収容ボックス50
内を流れるエアーは間隙54を通じて背面に設けた吸引
用ファン73を経て外部へ排風する構成にしたが、この
例では、この代わりに図14のように収容ボックス15
0の背面近傍の天井に吸引ファン151を取り付けた構
成にしたものである。
【0084】この第7変形例によれば、収容ボックス1
50の側部に形成した間隙152を通ったエアーが、矢
印153のように天井から排出されるので、背部に存在
する処理装置にエアーが吹き付けられることを回避でき
る。なお、これとは反対に吸引ファン151を収容ボッ
クス150の下面に取り付け、エアーを下面から排出す
るようにしてもよい。さらに、図15のように背面に設
けた図示しない吸引ファンに対向した位置に偏向板15
5を設けた構成にしてもよい。これにより、エアーは偏
向板155で流れが偏向されるため、収容ボックス15
0背後にある処理装置に直接、エアーが吹き付けられる
のを回避できる。
【0085】次に、図16に示す第8変形例を説明す
る。図4の実施の形態では基板受け渡し部材60をガイ
ドレール67aに沿って褶動支持させ、駆動ベルト67
とプーリー65、66からなる巻き掛け伝動機構を介し
てモータ69の駆動力を基板受け渡し部材60に伝達す
るようにした構成であるが、この例ではこの代わりに図
16のように基板受け渡し部材160を直接に水平多関
節型機構161を用いて作動する構成としたものであ
る。水平多関節型機構161は例えば第1アーム162
と第2アーム163を有し、第1アーム162は第2ア
ーム163に第1軸164を介して軸支され、第2アー
ム163は第2軸165に軸支される。また第1アーム
162は基板受け渡し部材160を第3軸166により
回動自在に軸支される。各アーム162,163および
基板受け渡し部材160は第1、第2、第3の各軸16
4,165、166に設けた図示しないモータで回動さ
れる。
【0086】第8変形例によれば多関節型機構160を
使用することで、収容ボックスの空間で基板受け渡し部
材160を矢印167方向に移動させることができる。
このため、収容ボックス内にスライダ機構のような褶動
部を有するものと異なり、モータ周りをシールするだけ
で、パーティクルが収容ボックス内の空間に散逸するの
を簡単に阻止できる。したがって、本第8変形例はシー
ルを施す部位が少なくてすみ、パーティクルの発生を少
なくできる点で有利となる効果がある。
【0087】図17及び図18に示す第9変形例を説明
する。図2に示した収容ボックス50の開口部には、蓋
部材が設けられていない態様であったが、本第9変形例
は、図17のように収容ボックス170開口部の中間高
さにピン171の周りに開閉する蓋部材172を設けた
ものである。このため、収容ボックス170にガラス基
板Gを格納して搬送する場合には、図17のように蓋部
材173を閉じて搬送する。処理装置との間で受け渡し
を行う場合には、図18のように蓋部材173を水平に
開いて上室または下室のいずれに対するガラス基板Gの
搬入出を何ら支障なく行うことができる。
【0088】このため、第9変形例では、収容ボックス
170の移動時でも、蓋部材173により収容ボックス
170の開口部が閉じられているため、収容ボックス内
にパーティクルが浸入することを良好に阻止できる。
【0089】なお、蓋部材173は図19のようにピン
174の周りに蓋部材175を設けて開閉できる構成に
することもできる。
【0090】さらに、上記実施の形態における洗浄装置
16、現像装置17、加熱装置18,22等の処理装置
には、何ら遮蔽部材を設けなかったが、図20に示す第
10変形例のように処理装置180の受け渡し口である
搬入出口にエアカーテン装置181を設けた構成にして
もよい。これにより、収容ボックス183が処理装置1
80の搬入出口に対面した場合でも、エアカーテン装置
181で搬入出口が外部と遮蔽されているため、不用意
に収容ボックス183からエアーが浸入することを防ぐ
ことができる。また、図21のようにエアカーテン装置
181を設ける代わりに上下方向に開閉可能なシャッタ
ー装置184を設けることもできる。
【0091】また、上述した実施形態では、基板受け渡
し部材60をX方向に駆動させる手段を図3に例示した
が、図22に示すように変形することも可能である。す
なわち、隔壁53に設けられたスリット53aを覆うよ
うに間隙54内に無端のシールドベルト221を配置す
る。そして、このシールドベルト221の一方側は、連
結部材222を介して駆動ベルト67に連結され、シー
ルドベルト221の他方側は、連結部材223を介して
基板受け渡し部材60の基部61に連結されている。従
って、駆動ベルト67の駆動されると、シールドベルト
221を介して基板受け渡し部材60がX方向に駆動さ
れるようになっている。本実施形態では、特にシールド
ベルト221がスリット53aを覆っているので、間隙
54側から基板受け渡し部材60側へパーティクルが流
出することが少なくなる。
【0092】なお、本発明の基板搬送装置の搬送対象と
なる基板は、上記したLCD用のガラス基板Gだけでな
く、半導体ウェハ等の基板についても本発明を当然適用
できる。さらに、上記した塗布・現像処理システムの処
理装置の組み合わせはあくまで一例であり、CVD、ア
ッシャー、エッチャーなどが配置されたラインにおいて
も本発明は当然有効である。
【0093】
【発明の効果】請求項1記載の本発明の基板搬送装置
は、収容ボックス内に設けられると共に、処理装置の搬
入出口に対峙した姿勢において該搬入出口に離接する方
向に移動可能な基板受け渡し部材により基板を保持して
いる構成である。このため、基板の搬送エリアをクリー
ン環境にする必要がなくなり、クリーン環境の形成コス
トを大幅に削減できる。
【0094】請求項2記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックス内に、複数段の基板載置部を備えた基板受
け渡し部材が設けられている。従って、複数の基板を同
時に搬送することができ、基板の連続処理に適する。
【0095】請求項3記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスが複数段に積層されて設けられ、そのそれ
ぞれに前記基板受け渡し部材が設けられている。従っ
て、複数の基板を同時に搬送することができ、基板の連
続処理に適する。
【0096】請求項4記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスが略水平に配置された仕切板を介して複数
室に区分され、前記基板受け渡し部材が、区分された各
室ごとに設けられている。従って、複数の基板を同時に
搬送することができ、基板の連続処理に適する。
【0097】請求項5記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスに形成された開口部に開閉可能な蓋部材が
設けられている。従って、処理装置との間で基板の受け
渡しを行うときだけこの蓋部材を開閉させるようにすれ
ば、移動中に外部パーティクルが収容ボックス内に侵入
することがない。
【0098】請求項6記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスに形成された開口部が常時開口している構
造である一方、該収容ボックス内部を陽圧に保つための
圧力制御機構を備えている。このため、基板の受け渡し
を行う開口部が常時開口していても、収容ボックス外に
浮遊するパーティクルが収容ボックス内に侵入すること
がない。また、基板の受け渡しを行う開口部が常時開口
していて、この開口部を開閉する開閉機構が設けられて
いないため、基板の受け渡しを迅速に行うことができ
る。
【0099】請求項7記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックスに形成された開口部が常時開口している構
造である一方、該収容ボックスの開口部に対向する面側
から該開口部を通じて外部に流れる気流を形成する送風
機構を備えている。このため、基板の受け渡しを行う開
口部が常時開口していても、収容ボックス外に浮遊する
パーティクルが収容ボックス内に侵入することがない。
また、基板の受け渡しを行う開口部が常時開口してい
て、この開口部を開閉する開閉機構が設けられていない
ため、基板の受け渡しを迅速に行うことができる。
【0100】請求項8記載の本発明の基板搬送装置は、
収容ボックス内の状態を監視する監視装置が設けられて
いる。このため、収容ボックス内の状態を基板にとって
良好な環境に保つことが容易となる。特に、収容ボック
スによって基板が密閉的な空間に保持されているため、
良好な環境に制御するのが容易である。
【0101】請求項9記載の本発明の基板搬送装置は、
基板受け渡し部材の近傍に配置される吸塵用のフィルタ
を備えたパーティクル除去手段を具備している。このた
め、基板受け渡し部材に保持された基板周囲の空気は、
このフィルタにより常に浄化されるため、基板周囲を常
に低パーティクル環境で維持できる。従って、基板の搬
送エリア全体をクリーン環境にする必要がなくなり、ク
リーン環境の形成コストを大幅に削減できる。
【0102】請求項10記載の本発明の基板搬送装置
は、前記パーティクル除去手段を構成するフィルタが、
前記基板受け渡し部材の上方に設けられているため、浮
遊するパーティクルを効果的に除去することができる。
【0103】請求項11記載の本発明の基板搬送装置
は、前記パーティクル除去手段が、前記基板受け渡し部
材の周囲を覆うことのできる壁部を有しているため、外
部から侵入するパーティクルが少なくなり、基板周囲に
より高いクリーン環境を形成することができる。
【0104】請求項12記載の本発明の基板搬送装置
は、複数段の基板載置部を備えた基板受け渡し部材が設
けられている。従って、複数の基板を同時に搬送するこ
とができ、基板の連続処理に適する。
【0105】請求項13記載の基板搬送装置は、収容ボ
ックスに設けた監視装置を、風速センサと、送風機構の
ファンを作動制御する送風制御部とで構成しているた
め、フィルタの目詰まりが進行して送風圧力が低下した
ことを風速センサが検知し、これに基づき送風制御部に
よってファンの回転を大きくなるように制御して、風量
を最適量になるように維持する。このため収容ボックス
内には安定した気流を基板受け渡し部材に送風できるの
で、ガラス基板へのパーティクルの付着を回避するに最
適な作業環境を得ることができる効果を奏する。
【0106】請求項14記載の基板搬送装置は、フィル
タが目詰まりを生じたときに、警報を発する警報手段を
送風制御部に設けたため、フィルタの目詰まりを感覚的
に知らせることができ、フィルタ交換ないしは掃除を的
確に行うことができ便利となる効果を奏する。
【0107】請求項15記載の基板搬送装置は、収容ボ
ックスの開口部が前記処理装置の搬入出口に対峙した姿
勢にあるとき、送風制御部により送風機構のファンによ
る送風量を少なくする対面状態検知手段を設けたため、
収容ボックスから不用意に処理装置の搬入出口を通じて
余分なエアーが流入しないため、それだけガラス基板へ
のパーティクル付着防止に有利となる効果を奏する。
【0108】請求項16記載の基板搬送装置では、収容
ボックスの開口部周縁に、前記処理装置の搬入出口を覆
う伸縮部材を設けたので、ガラス基板が受け渡しされる
とき、収容ボックスと処理装置との間にどのような間隙
があっても、伸縮部材によってガラス基板が周囲から遮
断されるため、パーティクル付着防止に有利となる効果
を奏する。
【0109】請求項17記載の基板搬送装置は、収容ボ
ックスの天井に送風機構を設け、該天井から下方に向か
ってエアーを吹き出す構成としたことで、開口部に向か
ってエアーは流れない。このため、処理装置に対面した
場合でも、収容ボックスからエアーが処理装置内へ流入
する量を低減でき、パーティクル付着に有利となる効果
を奏する。
【0110】請求項18記載の基板搬送装置によれば、
収容ボックスが搬送路に沿って移動するとき、収容ボッ
クスの開口部と対向する面を移動する方向に向けて移動
させる構成としたので、収容ボックスの開口部を進行方
向に向けないで、対向する面、すなわち背面を移動する
方向に向けて移動する。このため、パーティクルが収容
ボックスに入り込むのを抑制できる効果を奏する。
【0111】請求項19記載の基板搬送装置は、基板受
け渡し部材を水平多関節機構により移動できるように構
成したため、巻き掛け伝動機構や褶動機構等を使用する
のとは異なり、パーティクルを発生する機械的構成部位
が少なく、収容ボックス空間でのパーティクル発生を抑
制できる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の処理システムの実施の形態を示す斜
視図である。
【図2】 本発明の基板搬送装置の一の実施の形態を示
す斜視図である。
【図3】 上記実施の形態にかかる基板搬送装置の内部
構造を示す平面図である。
【図4】 上記実施の形態にかかる基板搬送装置の駆動
手段を説明する要部を示す図である。
【図5】 収容ボックスに設けられる蓋部材の構成を示
す図である。
【図6】 本発明の基板搬送装置の他の実施の形態を模
式的に示す側面図である。
【図7】 上記実施の形態にかかる基板搬送装置を模式
的に示す正面図である。
【図8】 基板搬送エリアにおける各種状態を検知する
モニタリングシステムを説明するための模式図である。
【図9】 上記一の実施の形態にかかる第1変形例およ
び第2変形例における基板搬送装置の内部構造を示す平
面図である。
【図10】 同じく第3変形例における収容ボックスを
側面から見た断面図である。
【図11】 第4変形例における収容ボックスの側面図
である。
【図12】 第5変形例における収容ボックスの移動を
示す平面図である。
【図13】 第6変形例における受け渡し装置の断面図
である。
【図14】 第7変形例における収容ボックスの斜視図
である。
【図15】 第7変形例のさらに別の変形例における収
容ボックスの斜視図である。
【図16】 第8変形例における基板受け渡し部材の斜
視図である。
【図17】 第9変形例における収容ボックスに係り、
蓋部材を閉じた状態を示す斜視図である。
【図18】 第9変形例に係り、蓋部材を開いた状態に
おける斜視図である。
【図19】 第9変形例のさらに別の変形例における収
容ボックスの斜視図である。
【図20】 第10変形例における処理装置の断面図で
ある。
【図21】 第10変形例のさらに別の処理装置の断面
図である。
【図22】 さらに別の変形例における収容ボックスを
示す平面図である。
【符号の説明】
40 基板搬送装置 43 回転軸 50 収容ボックス 51 仕切板 51a 室 51b 室 58 蓋部材 60 基板受け渡し部材 72 送風機構 80 基板搬送装置 82 回転軸 83 基板受け渡し部材 83a 基板載置部 84 パーティクル除去手段 G ガラス基板G
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G03F 7/30 501 G03F 7/30 501 5F046 H01L 21/027 H01L 21/30 502J (72)発明者 荒木 真一郎 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の4 東京エレクトロン九州株式会社 大津事業所内 (72)発明者 岩崎 達也 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の4 東京エレクトロン九州株式会社 大津事業所内 (72)発明者 穴井 徳行 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の4 東京エレクトロン九州株式会社 大津事業所内 (72)発明者 岩津 春生 熊本県菊池郡大津町大字高尾野字平成272 番地の4 東京エレクトロン九州株式会社 大津事業所内 Fターム(参考) 2H025 AB13 AB16 AB17 EA04 2H088 FA17 FA21 FA30 HA01 2H090 JC19 2H096 CA12 GA24 5F031 CA05 DA01 DA17 FA02 GA02 GA06 GA43 GA47 GA48 GA49 GA50 NA03 NA08 PA26 5F046 AA17 AA22 CD01 CD05 CD08 DA27

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 搬送路に沿って移動可能な搬送方向移動
    体と、 前記搬送方向移動体に対して水平回転可能な回転軸を介
    して支持された収容ボックスと、 前記収容ボックス内に設けられると共に、処理装置の搬
    入出口に対峙した姿勢において該搬入出口に離接する方
    向に移動可能であり、該収容ボックスに形成された開口
    部を通じて処理装置に対し、保持した基板を受け渡すこ
    とが可能な基板受け渡し部材とを具備することを特徴と
    する基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の基板搬送装置であって、
    前記収容ボックス内に、複数段の基板載置部を備えた基
    板受け渡し部材が設けられていることを特徴とする基板
    搬送装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の基板搬送装置であ
    って、前記収容ボックスが複数段に積層されて設けら
    れ、そのそれぞれに前記基板受け渡し部材が設けられて
    いることを特徴とする基板搬送装置。
  4. 【請求項4】 請求項1又は2記載の基板搬送装置であ
    って、前記収容ボックスが略水平に配置された仕切板を
    介して複数室に区分され、前記基板受け渡し部材が、区
    分された各室ごとに設けられていることを特徴とする基
    板搬送装置。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4のいずれか1に記載の基板
    搬送装置であって、前記収容ボックスに形成された開口
    部に開閉可能な蓋部材が設けられていることを特徴とす
    る基板搬送装置。
  6. 【請求項6】 請求項1〜4のいずれか1に記載の基板
    搬送装置であって、前記収容ボックスに形成された開口
    部が常時開口している構造であると共に、該収容ボック
    ス内部を陽圧に保つための圧力制御機構を備えているこ
    とを特徴とする基板搬送装置。
  7. 【請求項7】 請求項1〜4のいずれか1に記載の基板
    搬送装置であって、前記収容ボックスに形成された開口
    部が常時開口している構造であると共に、該収容ボック
    スの開口部に対向する面側から該開口部を通じて外部に
    流れる気流を形成する送風機構を備えていることを特徴
    とする基板搬送装置。
  8. 【請求項8】 請求項1〜7のいずれか1に記載の基板
    搬送装置であって、前記収容ボックス内の状態を監視す
    る監視装置が設けられていることを特徴とする基板搬送
    装置。
  9. 【請求項9】 搬送路に沿って移動可能な搬送方向移動
    体と、 前記搬送方向移動体に対して水平回転可能な回転軸を介
    して支持されていると共に、処理装置の搬入出口に対峙
    した姿勢において該搬入出口に離接する方向に移動可能
    であり、処理装置に対して、保持した基板を受け渡すこ
    とが可能な基板受け渡し部材と、 前記基板受け渡し部材の近傍に配置される吸塵用のフィ
    ルタを備えたパーティクル除去手段とを具備することを
    特徴とする基板搬送装置。
  10. 【請求項10】 請求項9記載の基板搬送装置であっ
    て、前記パーティクル除去手段を構成するフィルタが、
    前記基板受け渡し部材の上方に設けられていることを特
    徴とする基板搬送装置。
  11. 【請求項11】 請求項9又は10記載の基板搬送装置
    であって、前記パーティクル除去手段が、前記基板受け
    渡し部材の周囲を覆うことのできる壁部を有することを
    特徴とする基板搬送装置。
  12. 【請求項12】 請求項9〜11のいずれか1に記載の
    基板搬送装置であって、前記基板受け渡し部材が、複数
    段の基板載置部を備えていることを特徴とする基板搬送
    装置。
  13. 【請求項13】 請求項8記載の基板搬送装置であっ
    て、前記監視装置が前記収容ボックスに設けた風速セン
    サと、この風速センサで検知した信号により前記送風機
    構を形成するファンを作動制御する送風制御部とで構成
    されたことを特徴とする基板搬送装置。
  14. 【請求項14】 請求項13記載の基板搬送装置であっ
    て、前記風速センサで検知した信号に基づき前記送風制
    御部によって前記ファンがその作動を増強するように指
    示されたとき、前記送風機構を形成するフィルタが目詰
    まり状態にあることを知らせる警報手段を前記送風制御
    部に設けたことを特徴とする基板搬送装置。
  15. 【請求項15】 請求項13記載の基板搬送装置であっ
    て、前記収容ボックスの開口部が前記処理装置の搬入出
    口に対峙した姿勢にあるとき、前記送風制御部により前
    記送風機構のファンによる送風量を少なくする対面状態
    検知手段を設けたことを特徴とする基板搬送装置。
  16. 【請求項16】 請求項7記載の基板搬送装置であっ
    て、前記収容ボックスの開口部が前記処理装置の搬入出
    口と向き合ったとき、収容ボックスと処理装置との空間
    を外部から遮断する伸縮部材を、前記処理装置の開口部
    周縁に設けたことを特徴とする基板搬送装置。
  17. 【請求項17】 請求項1〜4のいずれか1に記載の基
    板搬送装置であって、前記収容ボックスの天井に設けら
    れ、該天井から下方に向かってエアーを吹き出す送風機
    構を備えていることを特徴とする基板搬送装置。
  18. 【請求項18】 請求項1〜4のいずれか1に記載の基
    板搬送装置であって、前記収容ボックスが前記搬送路に
    沿って移動するとき、前記収容ボックスの前記開口部と
    対向する面を移動する方向に向けて移動させるように構
    成したことを特徴とする基板搬送装置。
  19. 【請求項19】 請求項1または9記載の基板搬送装置
    であって、前記基板受け渡し部材を水平多関節機構によ
    り移動できるように構成したことを特徴とする基板搬送
    装置。
JP2000205330A 1999-07-09 2000-07-06 基板搬送装置 Pending JP2002083854A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2000205330A JP2002083854A (ja) 1999-07-09 2000-07-06 基板搬送装置

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19644999 1999-07-09
JP2000186026 2000-06-21
JP11-196449 2000-06-21
JP2000-186026 2000-06-21
JP2000205330A JP2002083854A (ja) 1999-07-09 2000-07-06 基板搬送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2002083854A true JP2002083854A (ja) 2002-03-22

Family

ID=27327246

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2000205330A Pending JP2002083854A (ja) 1999-07-09 2000-07-06 基板搬送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2002083854A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032718A (ja) * 2004-07-16 2006-02-02 Nikon Corp 露光装置、基板処理装置、リソグラフィシステム及びデバイス製造方法
JP2007139763A (ja) * 2005-11-18 2007-06-07 Paikomu Corp ディスプレイパネルの検査システム
JP2011051770A (ja) * 2009-09-04 2011-03-17 Daifuku Co Ltd カセット搬送装置
WO2013157366A1 (ja) * 2012-04-19 2013-10-24 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法及びフィルタ装置
JP2016051761A (ja) * 2014-08-29 2016-04-11 株式会社Screenホールディングス 搬送装置および基板処理装置
CN108423435A (zh) * 2018-03-29 2018-08-21 武汉华星光电技术有限公司 一种片状基板传送机构
WO2019012978A1 (ja) * 2017-07-10 2019-01-17 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置および基板搬送方法
CN114188202A (zh) * 2020-09-15 2022-03-15 日新离子机器株式会社 基板保持装置以及离子注入装置
CN115818207A (zh) * 2023-02-10 2023-03-21 季华实验室 一种基板传送装置、控制方法及相关设备
US11951660B2 (en) 2021-10-11 2024-04-09 Canon Kabushiki Kaisha Shaping system including an evaporation cover, shaping process, and method of manufacturing an article

Cited By (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006032718A (ja) * 2004-07-16 2006-02-02 Nikon Corp 露光装置、基板処理装置、リソグラフィシステム及びデバイス製造方法
JP2007139763A (ja) * 2005-11-18 2007-06-07 Paikomu Corp ディスプレイパネルの検査システム
JP2011051770A (ja) * 2009-09-04 2011-03-17 Daifuku Co Ltd カセット搬送装置
WO2013157366A1 (ja) * 2012-04-19 2013-10-24 東京エレクトロン株式会社 液処理装置、液処理方法及びフィルタ装置
JP2013222947A (ja) * 2012-04-19 2013-10-28 Tokyo Electron Ltd 液処理装置及び液処理方法並びにフィルタ装置
JP2016051761A (ja) * 2014-08-29 2016-04-11 株式会社Screenホールディングス 搬送装置および基板処理装置
CN110832632A (zh) * 2017-07-10 2020-02-21 东京毅力科创株式会社 基片输送装置和基片输送方法
WO2019012978A1 (ja) * 2017-07-10 2019-01-17 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置および基板搬送方法
KR20200027966A (ko) * 2017-07-10 2020-03-13 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 반송 장치 및 기판 반송 방법
JPWO2019012978A1 (ja) * 2017-07-10 2020-07-02 東京エレクトロン株式会社 基板搬送装置および基板搬送方法
US11097907B2 (en) 2017-07-10 2021-08-24 Tokyo Electron Limited Substrate transfer device and substrate transfer method
TWI762668B (zh) * 2017-07-10 2022-05-01 日商東京威力科創股份有限公司 基板搬送裝置及基板搬送方法
KR102510897B1 (ko) * 2017-07-10 2023-03-16 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 기판 반송 장치 및 기판 반송 방법
CN108423435A (zh) * 2018-03-29 2018-08-21 武汉华星光电技术有限公司 一种片状基板传送机构
CN114188202A (zh) * 2020-09-15 2022-03-15 日新离子机器株式会社 基板保持装置以及离子注入装置
US11951660B2 (en) 2021-10-11 2024-04-09 Canon Kabushiki Kaisha Shaping system including an evaporation cover, shaping process, and method of manufacturing an article
CN115818207A (zh) * 2023-02-10 2023-03-21 季华实验室 一种基板传送装置、控制方法及相关设备

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101433068B1 (ko) 기판 수납 장치
JP2002083854A (ja) 基板搬送装置
JP2002217264A (ja) 基板処理装置及びその方法
JP2011205004A (ja) 基板処理装置および基板処理方法
JP7137047B2 (ja) Efem、及び、efemにおけるガス置換方法
JP3824057B2 (ja) 液処理装置
JP5485056B2 (ja) イオン供給装置及びこれを備えた被処理体の処理システム
JP2003083675A (ja) 基板乾燥装置
JP3983481B2 (ja) 基板処理装置及び基板処理装置における基板搬送方法
JP4790326B2 (ja) 処理システム及び処理方法
JP2002093878A (ja) 半導体製造装置
JP2001093827A (ja) 処理システム
KR100741153B1 (ko) 기판반송장치
US20080196658A1 (en) Substrate processing apparatus including a substrate reversing region
TW201811453A (zh) 基板洗淨裝置及具備其之基板處理裝置
KR100650807B1 (ko) 기판반송장치, 처리장치, 기판의 처리시스템, 반송방법, 수납장치 및 수용박스
JP6810631B2 (ja) 基板処理装置および基板処理方法
TW202306003A (zh) 液處理裝置
KR102534203B1 (ko) 기판 처리 시스템
KR100542631B1 (ko) 반도체 제조 설비
JP2002057137A (ja) 基板洗浄装置及び基板処理装置
JP2006190828A (ja) 基板処理装置
JP2001351857A (ja) 基板処理装置
JP2016066689A (ja) 容器清掃装置及び容器清掃方法
JP3559747B2 (ja) 基板搬送方法および処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20060307

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20060428

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20060530