JP2016168830A - 化粧シート - Google Patents
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Abstract
Description
1.総発熱量が8MJ/m2以下
2.最高発熱速度が10秒以上継続して200kW/m2を超えない
3.防炎上有害な裏面まで貫通する亀裂および穴が生じない
なお、不燃性基材としては、石こうボード、繊維混入ケイ酸カルシウム板または亜鉛メッキ鋼板から選択して用いることができる。
実施形態1:図1〜図3の化粧シートについて、透明樹脂層1に上述のナノサイズの添加剤が含まれた樹脂層を適用した形態
実施形態2:図1〜図3の化粧シートについて、トップコート層4に上述のナノサイズの添加剤が含まれた樹脂層を適用した形態
実施形態3:図1〜図3の化粧シートについて、トップコート層4および透明樹脂層1に上述のナノサイズの添加剤が含まれた樹脂層を適用した形態
実施形態4:図2および図3の化粧シートについて、原反層7に上述のナノサイズの添加剤が含まれた樹脂層を適用した形態
実施形態5:図2および図3の化粧シートについて、原反層7および透明樹脂層1に上述のナノサイズの添加剤が含まれた樹脂層を適用した形態
実施形態6:図2および図3の化粧シートについて、透明樹脂層1、トップコート層4および原反層7に上述のナノサイズの添加剤が含まれた樹脂層を適用した形態
実施例1においては、図1の構成における実施形態1の化粧シートを作製した。具体的には、アイソタクチックペンタッド分率が97.8%、MFR(メルトフローレート)が15g/10min(230℃)、分子量分布MWD(Mw/Mn)が2.3の高結晶性ホモポリプロピレン樹脂に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010:チバスペシャリティケミカルズ社製)を500PPMと、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チヌビン328:チバスペシャリティケミカルズ社製)を2000PPMと、ヒンダードアミン系光安定剤(キマソーブ944:チバスペシャリティケミカルズ社製)を2000PPMと、固相法によりナノ化処理した2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスホン酸ナトリウム1000PPMとを添加した樹脂を溶融押出機を用いて押出し、透明樹脂層1として使用する厚さ100μmの高結晶性ポリプロピレン製の透明樹脂シートを製膜し、続いて、製膜された透明樹脂シートの両面にコロナ処理を施して表面の濡れ張力を40dyn/cm以上とした。なお、押出製膜時の冷却条件のコントロールにより、製膜された透明樹脂シートの結晶性ポリプロピレン樹脂のヘイズ値は8.5%となった。
実施例2においては、図2の構成における実施形態1の化粧シートを作製した。具体的には、アイソタクチックペンタッド分率が97.8%、MFR(メルトフローレート)が15g/10min(230℃)、分子量分布MWD(Mw/Mn)が2.3の高結晶性ホモポリプロピレン樹脂に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010:チバスペシャリティケミカルズ社製)を500PPMと、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チヌビン328:チバスペシャリティケミカルズ社製)を2000PPMと、ヒンダードアミン系光安定剤(キマソーブ944:チバスペシャリティケミカルズ社製)を2000PPMと、晶析法によりナノ化処理した2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスホン酸ナトリウム1000PPMとを添加した樹脂を溶融押出機を用いて押出し、透明樹脂層1として使用する厚さ80μmの高結晶性ポリプロピレン製の透明樹脂シートを製膜し、続いて、製膜された透明樹脂シートの両面にコロナ処理を施して表面の濡れ張力を40dyn/cm以上とした。なお、押出製膜時の冷却条件のコントロールにより、製膜された透明樹脂シートの結晶性ポリプロピレン樹脂のヘイズ値は6.8%となった。
実施例3においては、図3の構成における実施形態1の化粧シートを作製した。具体的には、隠蔽性のある70μmの原反層7に2液硬化型ウレタンインキ(V180:東洋インキ製造(株)製)にて柄印刷を施して絵柄層2を施し、また、その原反層7の裏面にプライマーコートを施してプライマー層5を設けた。
上記実施例1において、ナノ化処理を施していない2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスホン酸ナトリウム1000PPMを添加した以外は、実施例1と同様の方法で化粧シートを得た。なお、押出製膜時の冷却条件のコントロールにより、成膜された透明樹脂シートの結晶性ポリプロピレン樹脂のヘイズ値は18.3%となった。
上記実施例2において、ナノ化処理を施していない2,2’−メチレンビス(4,6−ジ第三ブチルフェニル)ホスホン酸ナトリウム1000PPMを添加した添加した以外は、実施例2と同様の方法で化粧シートを得た。なお、押出製膜時の冷却条件のコントロールにより、成膜された透明樹脂シートの結晶性ポリプロピレン樹脂のヘイズ値は17.1%となった。
上記実施例1において、造核剤を添加しない以外は、実施例1と同様の方法で化粧シートを得た。なお、押出製膜時の冷却条件のコントロールにより、成膜された透明樹脂シートの結晶性ポリプロピレン樹脂のヘイズ値は1.8%となった。
○:V溝曲げ加工適性に優れていた
×:クラックが発生した
<超臨界逆相蒸発法を用いた造核剤のナノ化処理>
まず、本実施例における超臨界逆相蒸発法を用いた造核剤のナノ化処理方法は、メタノール100重量部、リン酸エステル金属塩系造核剤(アデカスタブNA−11、ADEKA社製)82重量部、ホスファチジルコリン5重量部を60℃に保たれた高圧ステンレス容器に入れて密閉し、圧力が20MPaとなるように二酸化炭素を注入して超臨界状態とした後、激しく攪拌混合しながらイオン交換水を100重量部注入する。容器内の温度および圧力を保持した状態で15分間攪拌後、二酸化炭素を排出して大気圧に戻すことによって造核剤が内包されたリン脂質からなる外膜を具備する造核剤ベシクルを得る。
実施例5においては、図2の構成における実施形態1の化粧シートを作製した。具体的には、アイソタクチックペンタッド分率が97.8%、MFR(メルトフローレート)が15g/10min(230℃)、分子量分布MWD(Mw/Mn)が2.3の高結晶性ホモポリプロピレン樹脂に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010:チバスペシャリティケミカルズ社製)を500PPMと、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チヌビン328:チバスペシャリティケミカルズ社製)を2000PPMと、ヒンダードアミン系光安定剤(キマソーブ944:チバスペシャリティケミカルズ社製)を2000PPMと、前述の超臨界逆相蒸発法によってベシクル化したリン酸エステル金属塩系造核剤(アデカスタブNA−21:ADEKA社製)を1000PPMとを添加した樹脂を溶融押出機を用いて押出し、透明樹脂層1として使用する厚さ80μmの高結晶性ポリプロピレン製の透明樹脂シートを製膜し、続いて、製膜された透明樹脂シートの両面にコロナ処理を施して表面の濡れ張力を40dyn/cm以上とした。なお、押出製膜時の冷却条件のコントロールにより、製膜された透明樹脂シートの結晶性ポリプロピレン樹脂のヘイズ値は6.8%となった。
実施例6においては、図3の構成における実施形態1の化粧シートを作製した。具体的には、隠蔽性のある70μmの原反層7に2液硬化型ウレタンインキ(V180:東洋インキ製造(株)製)にて柄印刷を施して絵柄層2を施し、また、その原反層7の裏面にプライマーコートを施してプライマー層5を設けた。
上記実施例4において、ナノ化処理を施していないリン酸エステル金属塩系造核剤(アデカスタブNA−21:ADEKA社製)を1000PPMを添加した以外は、実施例4と同様の方法で化粧シートを得た。なお、押出製膜時の冷却条件のコントロールにより、成膜された透明樹脂シートの結晶性ポリプロピレン樹脂のヘイズ値は18.3%となった。
上記実施例5において、イソプロピルアルコールとリン酸エステル金属塩系造核剤(アデカスタブNA−21:ADEKA社製)の混合物をビーズミルで60分間、30μmの安定化ジルコニアビーズを用いて、固相法によりナノ化処理を施したリン酸エステル金属塩系添加剤1000PPMとを添加した以外は、実施例5と同様の方法で化粧シートを得た。なお、押出製膜時の冷却条件のコントロールにより、成膜された透明樹脂シートの結晶性ポリプロピレン樹脂のヘイズ値は17.1%となった。
上記実施例4において、造核剤を添加しない以外は、実施例4と同様の方法で化粧シートを得た。なお、押出製膜時の冷却条件のコントロールにより、成膜された透明樹脂シートの結晶性ポリプロピレン樹脂のヘイズ値は1.8%となった。
○:V溝曲げ加工適性に優れていた
×:クラックが発生した
実施例7においては、図2の構成における実施形態3の化粧シートを作製した。具体的には、前記造核剤ベシクルを添加した透明樹脂層1の表面に対して、前記分散剤ベシクルを0.5重量部と無機微粒子を5重量部とを光硬化型樹脂に添加したトップコート層4を形成した化粧シートとした。
まず、以下に超臨界逆相蒸発法によりベシクル化された分散剤の詳しい調製方法を説明する。まず、メタノール100重量部、分散剤としての3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン70重量部、ベシクルの外膜を構成するリン脂質としてのホスファチジルコリン5重量部を60℃に保たれた高圧ステンレス容器に入れて密閉し、圧力が20MPaになるように当該容器内に二酸化炭素を注入して超臨界状態とする。その後、当該容器内を激しく攪拌するとともに、イオン交換水100重量部を注入する。温度と圧力を超臨界状態に保ちながらさらに15分間攪拌混合後、二酸化炭素を容器から排出して大気圧に戻すことで分散剤を内包したリン脂質からなる外膜を具備する分散剤ベシクルが得られる。
以下に、超臨界逆相蒸発法によりベシクル化された造核剤を添加した透明樹脂層1の樹脂組成物の詳しい調製方法を説明する。まず、超臨界逆相蒸発法による造核剤のベシクル化方法は、メタノール100重量部、リン酸エステル金属塩系造核剤(アデカスタブNA−11、ADEKA社製)82重量部、ホスファチジルコリン5重量部を60℃に保たれた高圧ステンレス容器に入れて密閉し、圧力が20MPaとなるように二酸化炭素を注入して超臨界状態とした後、激しく攪拌混合しながらイオン交換水を100重量部注入する。容器内の温度および圧力を超臨界状態に保持した状態で15分間攪拌後、二酸化炭素を排出して大気圧に戻すことによって造核剤を内包したリン脂質からなる外膜を具備する造核剤ベシクルを得る。実際に透明樹脂層1としての透明樹脂シートを形成する際には、アイソタクチックペンタッド分率が97.8%、MFR(メルトフローレート)が15g/10min(230℃)、分子量分布MWD(Mw/Mn)が2.3の高結晶性ホモポリプロピレン樹脂に、ヒンダードフェノール系酸化防止剤(イルガノックス1010:チバスペシャリティケミカルズ社製)を500PPMと、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤(チヌビン328:チバスペシャリティケミカルズ社製)を2000PPMと、ヒンダードアミン系光安定剤(キマソーブ944:チバスペシャリティケミカルズ社製)を2000PPMと、前述の造核剤ベシクルを1000PPMとを添加した樹脂を溶融押出機を用いて押出し、透明樹脂層1として使用する高結晶性ポリプロピレン製の透明樹脂シートを得る。
実施例8においては、図2の構成における実施形態3の化粧シートを作製した。具体的には、前記造核剤ベシクルを添加した透明樹脂層1の表面に対して、前記分散剤ベシクルを0.5重量部と無機微粒子を5重量部とを光硬化型樹脂および熱硬化型樹脂の混合樹脂に添加したトップコート層4を形成した化粧シートとした。
実施例9においては、図2の構成における実施形態2の化粧シートを作製した。具体的には、前記造核剤ベシクルを添加しない透明樹脂層1の表面に対して、前記分散剤ベシクルを0.5重量部と無機微粒子を5重量部とを光硬化型樹脂に添加したトップコート層4を形成した化粧シートとした。
比較例7においては、前記造核剤ベシクルを添加した透明樹脂層1の表面に対して、ナノ化処理を施していない分散剤を0.5重量部と無機微粒子を5重量部とを光硬化型樹脂に添加したトップコート層4を形成した化粧シートとした。
比較例8においては、前記造核剤ベシクルを添加した透明樹脂層1の表面に対して、前記分散剤ベシクルを0.5重量部と無機微粒子を0.05重量部とを光硬化型樹脂に添加したトップコート層4を形成した化粧シートとした。
比較例9においては、前記造核剤ベシクルを添加した透明樹脂層1の表面に対して、前記分散剤ベシクルを0.5重量部と無機微粒子を40重量部とを光硬化型樹脂に添加したトップコート層4を形成した化粧シートとした。
実施例10においては、図2の構成における実施形態4の化粧シートを作製した。具体的には、分散剤として12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、無機フィラーとして炭酸カルシウムを用いた原反層7を具備し、透明樹脂層1を具備する化粧シートの具体的な態様について説明する。
実施例11においては、図4の構成における実施形態4の化粧シートを作製した。具体的には、分散剤として12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウム、無機フィラーとして炭酸カルシウムを用いた原反層7を具備し、透明樹脂層1を具備しない化粧シートの具体的な態様について説明する。
実施例12においては、図3の構成における実施形態4の化粧シートを作製した。具体的には、分散剤としてビニルトリエトキシシランを用いた分散剤ベシクルと、無機フィラーとしての炭酸カルシウムとを配合した原反層7を具備し、透明樹脂層1を具備する化粧シートの具体的な態様について説明する。
比較例10においては、分散剤を添加せずに、無機フィラーとしての炭酸カルシウムを添加した化粧シートとした。具体的な作製方法を以下に説明する。なお、透明樹脂層1は実施例10と同じものを用いる。
比較例11においては、分散剤および無機フィラーを添加せずに作製した化粧シートとした。なお、透明樹脂層1は、実施例10と同じものを用いる。
実施例13においては、図3の構成における実施形態1の化粧シートを作製した。具体的には、超臨界逆相蒸発法により得られた造核剤ベシクルを含有する透明樹脂層1を具備する化粧シートである。
<ヘイズ値測定試験>
ここで、ヘイズ値とは、物体の一方の面から入射した光が他方の面に出射する場合に、他方の面から出射した光線のすべての積分値(全光線透過率)から他方の面から出射した光線のうち直線成分のみの積分値(直線透過率)を指し引いた値(拡散透過率)を、全光線透過率で除した値を百分率で表した値であり、値が小さいほど透明性が高いことを表す。このヘイズ値は、結晶部における結晶化度や球晶サイズなどの物体の内部の状態によって決まる内部ヘイズと、入射面および出射面の凹凸の有無などの物体の表面の状態によって決まる外部ヘイズとによって決定付けされる。なお、本発明においては、単にヘイズ値と称する場合には、内部ヘイズおよび外部ヘイズとによって決定される値を意味する。本実施例においては、ヘイズ値測定試験は、ヘイズ値測定試験器(日本電色社製;NDH2000)を用いて、各透明樹脂シートについて行った。予め、サンプルホルダーに何も取り付けない状態でブランク測定を行っておく。各透明樹脂シートの測定においては、サンプルホルダーにサンプルを取り付けてブランク測定と同じ条件でサンプル透過測定を行い、サンプル透過測定とブランク測定との比を百分率で表したものをヘイズ値として算出した。
得られた化粧シートについてJISK−7127−4に準じたスーパーダンベルカッター(ダンベル社製)を用いて引張試験用の試験片を作製する。得られた試験片を、引張試験機(テンシロン社製)にセットし、引張り速度50mm/分にて引張り、試験片が切れる直前の長さと、試験前の長さとの比から引張破断伸度を算出する。さらに、当該試験において得られた応力−歪曲線の応力と歪とが比例関係になる弾性領域における傾きから引張弾性率を算出した。
鉛筆硬度試験においては、2B、B、HB、F、H、2H、3Hの鉛筆を用い、化粧シートに対して鉛筆の角度を45±1°に固定して、当該鉛筆に1kgの荷重を付加した状態でスライドさせて化粧シートに傷が形成されるか否かの判定を行う(旧JIS規格 JISK5400に準拠)。硬度が低い鉛筆から行い、引っ掻き傷が形成された硬度を化粧シートの表面硬度として示す。
V溝曲げ加工適性試験においては、基材としての中質繊維板(MDF)の一方の面に対して、上記の方法により得られた各化粧シートをウレタン系の接着剤を用いて貼り付け、基材の他方の面に対して、反対側の化粧シートにキズが付かないようにV型の溝を基材と化粧シートとを貼り合わせている境界まで入れる。次に、化粧シートの面が山折りとなるように基材Bを当該V型の溝に沿って90度まで曲げ、化粧シートの表面の折れ曲がった部分に白化や亀裂などが生じていないかを光学顕微鏡を用いて観察し、耐後加工性の優劣の評価を行う。表5においては、「Vカット」の項目にて示し、評価は下記の2段階にて行った。
○:白化・亀裂などが認められなかった
×:化粧シートとして容認できない白化・亀裂が認められた
実施例14においては、図3の構成における実施形態1の化粧シートを作製した。具体的には、エクストルージョン法により得られた造核剤ベシクルを含有する透明樹脂層1を具備する化粧シートである。
実施例15においては、図2の構成における実施形態2および実施形態3の化粧シートを作製した。具体的には、超臨界逆相蒸発法により得られた分散剤ベシクルと、無機微粒子とを含有するトップコート層4を具備する化粧シートである。また、実施形態3の形態の化粧シートにおいては、超臨界逆相蒸発法により得られた造核剤ベシクルを含有する透明樹脂層1をさらに具備する。
スチールウールラビング試験は、木質基材に貼り合せた各化粧シートの表面に対し、スチールウールを当接させた状態で治具を用いて固定し、当該治具に500gの荷重をかけたまま一定の速度で、距離50mm、50往復の条件にて擦らせて、化粧シートの表面の傷つきの有無を目視にて判定した。スチールウールは、ボンスター#0(日本スチールウール(株)製)を丸めて使用した。
<ホフマンスクラッチ試験>
ホフマンスクラッチ試験は、ホフマンスクラッチハードネステスター(BYK−Gardner社製)を用いて、1200gの荷重にて、木質基材に貼り合せた各化粧シートの表面を一定の速度で引っ掻き、化粧シートの表面の傷つきの有無を目視にて判定した。なお、表7の記号の説明は下記の通りである。
◎:非常に良好な透明性、耐擦傷性または耐後加工性を有する
○:良好な透明性、耐擦傷性または耐後加工性を有する
×:透明性、耐擦傷性または耐後加工性に劣る
実施例16においては、図2の構成における実施形態2および実施形態3の化粧シートを作製した。具体的には、エクストル−ジョン法により得られた分散剤ベシクルと、無機微粒子とを含有するトップコート層4を具備する化粧シートである。また、実施形態3の形態の化粧シートにおいては、エクストルージョン法により得られた造核剤ベシクルを含有する透明樹脂層1をさらに具備する。
実施例17においては、図2の構成における実施形態4および実施形態5の化粧シートを作製した。具体的には、超臨界逆相蒸発法により得られた分散剤ベシクルと、無機フィラーとを含有する原反層7を具備する化粧シートである。また、実施形態5の形態の化粧シートにおいては、超臨界逆相蒸発法により得られた造核剤ベシクルを含有する透明樹脂層1をさらに具備する。なお、分散剤ベシクルは、実施例15において12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウムを使用して調製したものを用い、造核剤ベシクルは実施例13において調製したものを用いた。化粧シートは、実施例10において説明した方法により作製した。なお、作製した化粧シートの一部においては、表9に示すように、原反層7に対して4倍の延伸倍率にて一軸延伸加工を施した一軸延伸シートを用いた。
1.総発熱量が8MJ/m2以下
2.最高発熱速度が10秒以上継続して200kW/m2を超えない
3.防炎上有害な裏面まで貫通する亀裂および穴が生じない
なお、不燃性基材としては、石こうボード、繊維混入ケイ酸カルシウム板または亜鉛メッキ鋼板から選択して用いることができる。
実施例18については、 図2の構成における実施形態4の化粧シートを作製した。具体的には、エクストルージョン法により得られた分散剤ベシクルを含有する原反層7を具備する化粧シートである。なお、分散剤ベシクルは、実施例16において12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウムを使用して調製したものを用いた。化粧シートは、実施例10において説明した方法により作製した。なお、作製した化粧シートの一部においては、表10に示すように、原反層7に対して4倍の延伸倍率にて一軸延伸加工を施した一軸延伸シートを用いた。
実施例19においては、図2の構成における実施形態6の化粧シートを作製した。具体的には、超臨界逆相蒸発法により得られた造核剤ベシクルを含有する透明樹脂層1、超臨界逆相蒸発法により得られた分散剤ベシクルと無機微粒子とを含有するトップコート層4、および超臨界逆相蒸発法により得られた分散剤ベシクルと無機フィラーとを含有する原反層7を具備する化粧シートである。なお、造核剤ベシクルは実施例13において調製したものを用い、分散剤ベシクルは実施例15において12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウムを使用して調製したものを用いた。なお、作製した化粧シートの一部においては、表11に示すように、原反層7に対して4倍の延伸倍率にて一軸延伸加工を施した一軸延伸シートを用いた。
◎:非常に良好な透明性、耐擦傷性または耐後加工性を有する
○:良好な透明性、耐擦傷性または耐後加工性を有する
実施例20においては、図2の構成における実施形態6の化粧シートを作製した。具体的には、表12に示す組み合わせのように、超臨界逆相蒸発法またはエクストルージョン法により得られた造核剤ベシクルを含有する透明樹脂層1、超臨界逆相蒸発法またはエクストルージョン法により得られた分散剤ベシクルと無機微粒子とを含有するトップコート層4、および超臨界逆相蒸発法またはエクストルージョン法により得られた分散剤ベシクルと無機フィラーとを含有する原反層7を具備する化粧シートである。なお、超臨界逆相蒸発法による造核剤ベシクルは実施例13において調製したものを用い、エクストルージョン法による造核剤ベシクルは実施例14において調製したものを用いた。また、超臨界逆相蒸発法による分散剤ベシクルは実施例15において調製したものを用い、エクストルージョン法による分散剤ベシクルは実施例16において調製したものを用いた。分散剤としては、12−ヒドロキシステアリン酸マグネシウムを使用した。光硬化型樹脂としては、光硬化型ウレタンアクリレート(ユニディック17−824−9;DICグラフィックス社製)を用いた。化粧シートは、実施例19において説明した方法により作製した。
○:良好な透明性、耐擦傷性または耐後加工性を有する
1a エンボス模様
2 絵柄層
3 隠蔽層
4 トップコート層
5 プライマー層
6 接着剤層
7 原反層
8 接着性樹脂層
Claims (21)
- 複数の樹脂層からなる化粧シートにおいて、
少なくとも1層の前記樹脂層には、ナノサイズの添加剤が含まれていることを特徴とする化粧シート。 - 前記化粧シートは、原反層、透明樹脂層およびトップコート層が順に積層されており、
少なくとも、前記透明樹脂層または前記トップコート層のいずれか一方が前記ナノサイズの添加剤が含まれた前記樹脂層からなることを特徴とする請求項1に記載の化粧シート。 - 前記透明樹脂層は前記ナノサイズの添加剤が含まれた前記樹脂層からなり、結晶性ポリプロピレン樹脂90〜100重量%を主成分とし、
前記ナノサイズの添加剤としての造核剤
が含まれていることを特徴とする請求項2に記載の化粧シート。 - 前記透明樹脂層のヘイズ値が、15%以下であることを特徴とする請求項3に記載の化粧シート。
- 前記透明樹脂層は、引張弾性率が800MPa以上,2000MPa以下であり、引張破断伸度が200%以上であることを特徴とする請求項3または請求項4のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記結晶性ポリプロピレン樹脂は、アイソタクチックペンタッド分率(mmmm分率)95%以上の高結晶性ポリプロピレン樹脂であることを特徴とする請求項3乃至請求項5のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記透明樹脂層は、厚さが20μm以上,250μm以下であることを特徴とする請求項2乃至請求項6のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記トップコート層は前記ナノサイズの添加剤が含まれた前記樹脂層からなり、
前記ナノサイズの添加剤としての分散剤と、
無機微粒子と
を含むことを特徴とする請求項2乃至請求項7のいずれか1項に記載の化粧シート。 - 前記トップコート層は、当該トップコート層の主成分である樹脂材料100重量部に対して、前記無機微粒子が0.1〜30重量部の割合で配合された状態とされていることを特徴とする請求項8に記載の化粧シート。
- 前記樹脂材料が、硬化型樹脂であることを特徴とする請求項9に記載の化粧シート。
- 前記硬化型樹脂が、熱硬化型樹脂または光硬化型樹脂の少なくとも一方であることを特徴とする請求項10に記載の化粧シート。
- 前記無機微粒子が、アルミナ、シリカ、ベーマイト、酸化鉄、酸化マグネシウム、ダイヤモンドのうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項8乃至請求項11のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記原反層が前記ナノサイズの添加剤が含まれた前記樹脂層からなり、
前記ナノサイズの添加剤としての分散剤と、
無機フィラーと
を含むことを特徴とする請求項2乃至請求項12のいずれか1項に記載の化粧シート。 - 前記分散剤が、高分子系の界面活性剤、脂肪酸金属塩、シランカップリング剤、チタネートカップリング剤、シリコーン、ワックスまたは変性樹脂のうち少なくとも1つであることを特徴とする請求項8乃至請求項13
のいずれか1項に記載の化粧シート。 - 前記原反層は、当該原反層の主成分であるポリオレフィン系樹脂100重量部に対して、前記無機フィラーが50〜900重量部の割合で配合された状態とされていることを特徴とする請求項14に記載の化粧シート。
- 前記無機フィラーが、炭酸カルシウムを含むことを特徴とする請求項13乃至請求項15のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記原反層は、一軸延伸シートまたは二軸延伸シートからなることを特徴とする請求項2乃至請求項16のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記化粧シートが、不燃性基材と貼り合わせた状態で、ISO5660−1に準拠したコーンカロリーメータ試験機による発熱試験において、建築基準法施工例第108条の2第1号および第2号に記載の要件を満たす不燃材料であることを特徴とする請求項13乃至請求項17のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記ナノサイズの添加剤が、ベシクルであることを特徴とする請求項1乃至請求項18のいずれか1項に記載の化粧シート。
- 前記ベシクルが、単層膜の外膜を具備することを特徴とする請求項19に記載の化粧シート。
- 前記外膜が、リン脂質からなることを特徴とする請求項20に記載の化粧シート。
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