JP2016073922A - 有機溶剤の精製装置 - Google Patents
有機溶剤の精製装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016073922A JP2016073922A JP2014206043A JP2014206043A JP2016073922A JP 2016073922 A JP2016073922 A JP 2016073922A JP 2014206043 A JP2014206043 A JP 2014206043A JP 2014206043 A JP2014206043 A JP 2014206043A JP 2016073922 A JP2016073922 A JP 2016073922A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic solvent
- filter
- propylene glycol
- purifying
- resist
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
- Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
- Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
Abstract
Description
有機溶剤を循環させるポンプ、前記有機溶剤を貯蔵するタンク、及び前記有機溶剤を精製する手段を具備する有機溶剤の精製装置であって、
前記有機溶剤を精製する手段として、
(1)除粒子径が20nm以下であるフィルターを備えたろ過手段と、
(2)金属イオン吸着手段と
を具備する有機溶剤の精製装置を提供する。
有機溶剤を循環させるポンプ、前記有機溶剤を貯蔵するタンク、及び前記有機溶剤を精製する手段を具備する有機溶剤の精製装置であって、
前記有機溶剤を精製する手段として、
(1)除粒子径が20nm以下であるフィルターを備えたろ過手段と、
(2)金属イオン吸着手段と
を具備する有機溶剤の精製装置である。
有機溶剤中の金属不純物の含有量は、アジレント・テクノロジー社製7700sで測定した。
有機溶剤を東京エレクトロン社製クリーントラックACT12を用いてシリコンウエハーに1500rpmで回転塗布し、スピンドライでウエハーを乾燥した。このウエハーの表面をKLA−Tencor社製暗視野欠陥検査装置SP−2で検査し、55nm以上の塗布欠陥数を測定した。
図2に示される装置を使用した。内面がテフロン(登録商標)コーティングされた容量200Lのステンレス製循環液タンク2、オールフッ素樹脂製ポンプ1、内面がテフロンライニングされた容器にセットされた金属イオン吸着手段4(3M社製、ゼータプラスEC)、高密度ポリエチレン製ろ過機にセットされたナイロンフィルター5A(ポール社製ウルチプリーツ−Pナイロン、20インチ、除粒子径20nm)、高密度ポリエチレン製ろ過機にセットされたポリエチレン製フィルター5B(インテグリス社製マイクロガード、20インチ、除粒子径3nm)を、それぞれ外径12mmのPFAチューブで接続し、途中、テフロン製バルブ6A、6Bを設置して、有機溶剤の循環とレジスト関連材料製造装置7への供給を切り替えることができるようにした。
PGMEAの代わりに、有機溶剤として、プロピレングリコールモノメチルエーテル(PGM)、プロピレングリコールモノエチルエーテル(PGE)、プロピレングリコールモノプロピルエーテル(PGP)、乳酸エチル(EL)、メトキシプロピオン酸メチル(MMP)、シクロペンタノン(CP)、シクロヘキサノン(CH)、ガンマブチロラクトン(GBL)、ジイソアミルエーテル(DAE)、酢酸ブチル(BA)、及び4−メチル−2−ペンタノール(4MP)を用い、実施例1と同じ条件でそれぞれ精製を行った。得られた有機溶剤中の金属不純物の含有量及び塗布欠陥数の測定結果を表2に示す。
金属イオン吸着手段4を設置しない他は、実施例1と同様の装置を用いた。PGMEAをタンク2、フィルター5A、フィルター5B、タンク2の順番で流通して、40L/時の速度で10時間循環させ、精製を行った。得られたPGMEA中の金属不純物の含有量及び塗布欠陥数の測定結果を表3に示す。
フィルター5A、5Bを設置しない他は、実施例1と同様の装置を用いた。PGMEAをタンク2、金属イオン吸着手段4、タンク2の順番で流通して、40L/時の速度で10時間循環させ、精製を行った。得られたPGMEA中の金属不純物の含有量及び塗布欠陥数の測定結果を表3に示す。
フィルター5Aの除粒子径を100nm、フィルター5Bの除粒子径を50nmに代えた以外は、実施例1と同様の装置を用い、実施例1と同様の手順でPGMEAを精製した。得られたPGMEA中の金属不純物の含有量及び塗布欠陥数の測定結果を表3に示す。
4…金属イオン吸着手段、 5A、5B…フィルター、
6A、6B…バルブ、 7…レジスト関連材料製造装置。
Claims (6)
- 有機溶剤を循環させるポンプ、前記有機溶剤を貯蔵するタンク、及び前記有機溶剤を精製する手段を具備する有機溶剤の精製装置であって、
前記有機溶剤を精製する手段として、
(1)除粒子径が20nm以下であるフィルターを備えたろ過手段と、
(2)金属イオン吸着手段と
を具備するものであることを特徴とする有機溶剤の精製装置。 - 前記ろ過手段が、2種類の異なるろ材で構成された1つのフィルターを備えたものであることを特徴とする請求項1に記載の有機溶剤の精製装置。
- 前記ろ過手段が、それぞれ異なるろ材で構成された2つ以上のフィルターを備えたものであることを特徴とする請求項1に記載の有機溶剤の精製装置。
- 前記フィルターを構成するろ材が、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、及びフッ素樹脂のいずれかから選択されるものであることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の有機溶剤の精製装置。
- 前記金属イオン吸着手段は、セルロース、ケイソウ土、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、又はフッ素樹脂の表面が酸基で変性されたものであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の有機溶剤の精製装置。
- 前記有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、ガンマブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、又は4−メチル−2−ペンタノールであることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の有機溶剤の精製装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014206043A JP2016073922A (ja) | 2014-10-07 | 2014-10-07 | 有機溶剤の精製装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014206043A JP2016073922A (ja) | 2014-10-07 | 2014-10-07 | 有機溶剤の精製装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016073922A true JP2016073922A (ja) | 2016-05-12 |
Family
ID=55950481
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014206043A Pending JP2016073922A (ja) | 2014-10-07 | 2014-10-07 | 有機溶剤の精製装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2016073922A (ja) |
Cited By (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018043695A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2018-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 溶液、溶液収容体、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、半導体デバイスの製造方法 |
WO2018043697A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2018-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置 |
WO2018051716A1 (ja) * | 2016-09-15 | 2018-03-22 | 富士フイルム株式会社 | 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置 |
WO2018061573A1 (ja) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体、薬液の充填方法、及び、薬液の保管方法 |
WO2018092763A1 (ja) * | 2016-11-18 | 2018-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体、パターン形成方法、及び、キット |
WO2018128159A1 (ja) * | 2017-01-06 | 2018-07-12 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の品質検査方法 |
WO2018142888A1 (ja) * | 2017-02-01 | 2018-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置 |
WO2018151164A1 (ja) * | 2017-02-20 | 2018-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体、及び、パターン形成方法 |
WO2018159707A1 (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-07 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物又は樹脂の精製方法、及び組成物の製造方法 |
WO2018180735A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の精製方法、薬液の製造方法、及び、薬液 |
WO2019009363A1 (ja) * | 2017-07-05 | 2019-01-10 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体 |
WO2019139062A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液の製造方法、及び、被検液の分析方法 |
WO2019139034A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液の製造方法 |
WO2019138959A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、及び、薬液の製造方法 |
WO2019181435A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
WO2019181475A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
WO2019181580A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
WO2020009207A1 (ja) * | 2018-07-06 | 2020-01-09 | 富士フイルム株式会社 | フィルタ、フィルタの製造方法、ろ過装置、薬液の製造方法 |
KR20200019719A (ko) * | 2017-08-31 | 2020-02-24 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액의 정제 방법, 및 약액 |
US10773210B2 (en) | 2018-11-20 | 2020-09-15 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Systems and methods for purifying solvents |
WO2020184306A1 (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | 日産化学株式会社 | 有機溶媒の製造方法 |
JP2020192527A (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | 台灣富士電子材料股▲ふん▼有限公司 | 化学液体精製装置及びそれを用いた精製方法 |
WO2021045956A1 (en) * | 2019-09-03 | 2021-03-11 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Systems and methods for purifying solvents |
KR20210035800A (ko) | 2018-08-10 | 2021-04-01 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 불소계 용제 함유물의 정제 방법 및 불소계 용제 함유 정제물 |
KR20210053873A (ko) | 2018-08-31 | 2021-05-12 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 용제의 정제 방법 |
JP2021519680A (ja) * | 2018-03-30 | 2021-08-12 | フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド | 化学液体製造装置 |
US11440866B2 (en) | 2020-06-12 | 2022-09-13 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Systems and methods for purifying solvents |
US11541354B2 (en) | 2018-03-22 | 2023-01-03 | Fujifilm Corporation | Filtration device, refining device, and production method for liquid medicine |
US11560346B2 (en) | 2018-10-05 | 2023-01-24 | Tokuyama Corporation | Method for producing isopropyl alcohol |
US11833475B2 (en) * | 2018-03-22 | 2023-12-05 | Fujifilm Corporation | Filtering device, purification device, and method for manufacturing chemical liquid |
Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06106032A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 液体中の不純物除去装置 |
JPH07235487A (ja) * | 1993-12-29 | 1995-09-05 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | レジスト剥離液管理装置 |
JPH11176793A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Sharp Corp | 洗浄装置 |
JP2002519192A (ja) * | 1998-07-01 | 2002-07-02 | クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド | イオン交換パックによる微量の金属イオンの低減方法 |
JP2003251120A (ja) * | 2002-02-27 | 2003-09-09 | Ebara Corp | 微粒子・金属不純物精密濾過用フィルターカートリッジ |
JP2008229409A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Ngk Insulators Ltd | 溶剤精製方法及び溶剤精製システム |
JP2009119415A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Fujifilm Corp | 精密ろ過フィルター及びその製造方法 |
JP2010111002A (ja) * | 2008-11-06 | 2010-05-20 | Jsr Corp | 樹脂組成物溶液の製造方法、及び製造装置 |
JP2013218308A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-10-24 | Jsr Corp | 現像液の精製方法、精製現像液、及びレジストパターン形成方法 |
WO2013165602A1 (en) * | 2012-05-01 | 2013-11-07 | Entegris, Inc. | Organic solvent purifier and method of using |
JP2014511330A (ja) * | 2011-02-22 | 2014-05-15 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | アルカリ金属ケイ酸塩溶液からの高純度水性コロイダルシリカゾルの製造方法 |
-
2014
- 2014-10-07 JP JP2014206043A patent/JP2016073922A/ja active Pending
Patent Citations (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06106032A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 液体中の不純物除去装置 |
JPH07235487A (ja) * | 1993-12-29 | 1995-09-05 | Hirama Rika Kenkyusho:Kk | レジスト剥離液管理装置 |
JPH11176793A (ja) * | 1997-12-09 | 1999-07-02 | Sharp Corp | 洗浄装置 |
JP2002519192A (ja) * | 1998-07-01 | 2002-07-02 | クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド | イオン交換パックによる微量の金属イオンの低減方法 |
JP2003251120A (ja) * | 2002-02-27 | 2003-09-09 | Ebara Corp | 微粒子・金属不純物精密濾過用フィルターカートリッジ |
JP2008229409A (ja) * | 2007-03-16 | 2008-10-02 | Ngk Insulators Ltd | 溶剤精製方法及び溶剤精製システム |
JP2009119415A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Fujifilm Corp | 精密ろ過フィルター及びその製造方法 |
JP2010111002A (ja) * | 2008-11-06 | 2010-05-20 | Jsr Corp | 樹脂組成物溶液の製造方法、及び製造装置 |
JP2014511330A (ja) * | 2011-02-22 | 2014-05-15 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | アルカリ金属ケイ酸塩溶液からの高純度水性コロイダルシリカゾルの製造方法 |
JP2013218308A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-10-24 | Jsr Corp | 現像液の精製方法、精製現像液、及びレジストパターン形成方法 |
WO2013165602A1 (en) * | 2012-05-01 | 2013-11-07 | Entegris, Inc. | Organic solvent purifier and method of using |
Cited By (97)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018043695A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2018-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 溶液、溶液収容体、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、半導体デバイスの製造方法 |
WO2018043697A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2018-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置 |
KR102224135B1 (ko) * | 2016-09-02 | 2021-03-08 | 후지필름 가부시키가이샤 | 용액, 용액 수용체, 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법 |
TWI742152B (zh) * | 2016-09-02 | 2021-10-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 溶液、溶液收容體、感光化射線性或感放射線性樹脂組成物、圖案形成方法、半導體元件的製造方法 |
JPWO2018043695A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2019-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 溶液、溶液収容体、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、パターン形成方法、半導体デバイスの製造方法 |
CN109661615B (zh) * | 2016-09-02 | 2022-08-02 | 富士胶片株式会社 | 溶液、溶液收容体、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法、半导体装置的制造方法 |
US11573489B2 (en) | 2016-09-02 | 2023-02-07 | Fujifilm Corporation | Solution, solution storage body, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method, and manufacturing method of semiconductor device |
JPWO2018043697A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2019-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置 |
KR20190034611A (ko) * | 2016-09-02 | 2019-04-02 | 후지필름 가부시키가이샤 | 용액, 용액 수용체, 감활성 광선성 또는 감방사선성 수지 조성물, 패턴 형성 방법, 반도체 디바이스의 제조 방법 |
CN109661615A (zh) * | 2016-09-02 | 2019-04-19 | 富士胶片株式会社 | 溶液、溶液收容体、感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法、半导体装置的制造方法 |
WO2018051716A1 (ja) * | 2016-09-15 | 2018-03-22 | 富士フイルム株式会社 | 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置 |
TWI742144B (zh) * | 2016-09-15 | 2021-10-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 有機溶劑的精製方法以及有機溶劑的精製裝置 |
JPWO2018051716A1 (ja) * | 2016-09-15 | 2019-06-24 | 富士フイルム株式会社 | 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置 |
US11740557B2 (en) | 2016-09-27 | 2023-08-29 | Fujifilm Corporation | Chemical liquid, chemical liquid storage body, chemical liquid filling method, and chemical liquid storage method |
JPWO2018061573A1 (ja) * | 2016-09-27 | 2019-08-29 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体、薬液の充填方法、及び、薬液の保管方法 |
WO2018061573A1 (ja) * | 2016-09-27 | 2018-04-05 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体、薬液の充填方法、及び、薬液の保管方法 |
KR20190044643A (ko) * | 2016-09-27 | 2019-04-30 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액 수용체, 약액의 충전 방법, 및 약액의 보관 방법 |
KR102263278B1 (ko) * | 2016-09-27 | 2021-06-10 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액 수용체, 약액의 충전 방법, 및 약액의 보관 방법 |
TWI796300B (zh) * | 2016-09-27 | 2023-03-21 | 日商富士軟片股份有限公司 | 藥液、藥液收容體、藥液的填充方法及藥液的保管方法 |
US11360389B2 (en) | 2016-09-27 | 2022-06-14 | Fujifilm Corporation | Chemical liquid, chemical liquid storage body, chemical liquid filling method, and chemical liquid storage method |
KR102282589B1 (ko) * | 2016-11-18 | 2021-07-28 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액 수용체, 패턴 형성 방법, 및 키트 |
WO2018092763A1 (ja) * | 2016-11-18 | 2018-05-24 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体、パターン形成方法、及び、キット |
CN109863452A (zh) * | 2016-11-18 | 2019-06-07 | 富士胶片株式会社 | 药液、药液容纳体、图案形成方法及试剂盒 |
TWI791474B (zh) * | 2016-11-18 | 2023-02-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 化學液、化學液容器、圖案形成方法以及半導體元件的製造製程用套組 |
US11747727B2 (en) | 2016-11-18 | 2023-09-05 | Fujifilm Corporation | Chemical liquid, chemical liquid storage body, pattern forming method, and kit |
KR20190052066A (ko) * | 2016-11-18 | 2019-05-15 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액 수용체, 패턴 형성 방법, 및 키트 |
JPWO2018092763A1 (ja) * | 2016-11-18 | 2019-10-17 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体、パターン形成方法、及び、キット |
US11392046B2 (en) | 2017-01-06 | 2022-07-19 | Fujifilm Corporation | Quality inspection method for chemical liquid |
WO2018128159A1 (ja) * | 2017-01-06 | 2018-07-12 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の品質検査方法 |
KR102185208B1 (ko) | 2017-01-06 | 2020-12-01 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액의 품질 검사 방법 |
JPWO2018128159A1 (ja) * | 2017-01-06 | 2019-12-26 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の品質検査方法 |
KR20190089022A (ko) * | 2017-01-06 | 2019-07-29 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액의 품질 검사 방법 |
JPWO2018142888A1 (ja) * | 2017-02-01 | 2019-12-19 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置 |
WO2018142888A1 (ja) * | 2017-02-01 | 2018-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置 |
KR20190100355A (ko) * | 2017-02-20 | 2019-08-28 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액 수용체, 및 패턴 형성 방법 |
KR102373044B1 (ko) * | 2017-02-20 | 2022-03-11 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액 수용체, 및 패턴 형성 방법 |
US11079677B2 (en) | 2017-02-20 | 2021-08-03 | Fujifilm Corporation | Chemical liquid, chemical liquid storage body, and pattern forming method |
JPWO2018151164A1 (ja) * | 2017-02-20 | 2019-11-07 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体、及び、パターン形成方法 |
WO2018151164A1 (ja) * | 2017-02-20 | 2018-08-23 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体、及び、パターン形成方法 |
JP2022184850A (ja) * | 2017-02-28 | 2022-12-13 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物又は樹脂の精製方法、及び組成物の製造方法 |
JPWO2018159707A1 (ja) * | 2017-02-28 | 2020-01-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物又は樹脂の精製方法、及び組成物の製造方法 |
WO2018159707A1 (ja) * | 2017-02-28 | 2018-09-07 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 化合物又は樹脂の精製方法、及び組成物の製造方法 |
JPWO2018180735A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2020-01-23 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の精製方法、薬液の製造方法、及び、薬液 |
TWI754736B (zh) * | 2017-03-31 | 2022-02-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 藥液的純化方法、藥液的製造方法及藥液 |
US11465073B2 (en) | 2017-03-31 | 2022-10-11 | Fujifilm Corporation | Chemical liquid purification method, chemical liquid manufacturing method, and chemical liquid |
WO2018180735A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の精製方法、薬液の製造方法、及び、薬液 |
KR20200010346A (ko) * | 2017-07-05 | 2020-01-30 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액 수용체 |
JPWO2019009363A1 (ja) * | 2017-07-05 | 2020-05-21 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体 |
KR102326779B1 (ko) | 2017-07-05 | 2021-11-16 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액 수용체 |
WO2019009363A1 (ja) * | 2017-07-05 | 2019-01-10 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液収容体 |
US11981882B2 (en) | 2017-07-05 | 2024-05-14 | Fujifilm Corporation | Chemical liquid and chemical liquid storage body |
US11491428B2 (en) | 2017-08-31 | 2022-11-08 | Fujifilm Corporation | Chemical liquid purification method and chemical liquid |
KR102351928B1 (ko) * | 2017-08-31 | 2022-01-18 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액의 정제 방법, 및 약액 |
KR20200019719A (ko) * | 2017-08-31 | 2020-02-24 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액의 정제 방법, 및 약액 |
CN111051488A (zh) * | 2017-08-31 | 2020-04-21 | 富士胶片株式会社 | 药液的纯化方法及药液 |
US11958005B2 (en) | 2017-08-31 | 2024-04-16 | Fujifilm Corporation | Chemical liquid purification method and chemical liquid |
CN111587405A (zh) * | 2018-01-12 | 2020-08-25 | 富士胶片株式会社 | 药液、药液的制造方法及被检液的分析方法 |
CN111587404A (zh) * | 2018-01-12 | 2020-08-25 | 富士胶片株式会社 | 药液及药液的制造方法 |
KR20200092390A (ko) * | 2018-01-12 | 2020-08-03 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액의 제조 방법, 및 피검액의 분석 방법 |
KR102632077B1 (ko) | 2018-01-12 | 2024-02-01 | 후지필름 가부시키가이샤 | 약액, 약액의 제조 방법, 및 피검액의 분석 방법 |
WO2019139034A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液の製造方法 |
WO2019138959A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、及び、薬液の製造方法 |
TWI788504B (zh) * | 2018-01-12 | 2023-01-01 | 日商富士軟片股份有限公司 | 藥液、藥液的製造方法 |
WO2019139062A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2019-07-18 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液の製造方法、及び、被検液の分析方法 |
JPWO2019139062A1 (ja) * | 2018-01-12 | 2020-12-24 | 富士フイルム株式会社 | 薬液、薬液の製造方法、及び、被検液の分析方法 |
JPWO2019181580A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2021-02-04 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
US11666864B2 (en) | 2018-03-22 | 2023-06-06 | Fujifilm Corporation | Filtering device, purification device, and method for manufacturing chemical liquid |
CN111712318A (zh) * | 2018-03-22 | 2020-09-25 | 富士胶片株式会社 | 过滤装置、纯化装置、药液的制造方法 |
WO2019181475A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
JP7055194B2 (ja) | 2018-03-22 | 2022-04-15 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
JP7055195B2 (ja) | 2018-03-22 | 2022-04-15 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
WO2019181435A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
WO2019181580A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2019-09-26 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
US11833475B2 (en) * | 2018-03-22 | 2023-12-05 | Fujifilm Corporation | Filtering device, purification device, and method for manufacturing chemical liquid |
US11759749B2 (en) | 2018-03-22 | 2023-09-19 | Fujifilm Corporation | Filtering device, purification device, and method for manufacturing chemical liquid |
CN111836677A (zh) * | 2018-03-22 | 2020-10-27 | 富士胶片株式会社 | 过滤装置、纯化装置、药液的制造方法 |
US11745142B2 (en) | 2018-03-22 | 2023-09-05 | Fujifilm Corporation | Filter device, purification device, chemical solution production method |
JPWO2019181475A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2021-02-18 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
TWI791787B (zh) * | 2018-03-22 | 2023-02-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 過濾裝置、純化裝置、藥液的製造方法 |
TWI791790B (zh) * | 2018-03-22 | 2023-02-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 過濾裝置、純化裝置、藥液的製造方法 |
US11541354B2 (en) | 2018-03-22 | 2023-01-03 | Fujifilm Corporation | Filtration device, refining device, and production method for liquid medicine |
JPWO2019181435A1 (ja) * | 2018-03-22 | 2021-03-18 | 富士フイルム株式会社 | ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 |
EP3773997A4 (en) * | 2018-03-30 | 2021-12-29 | FUJIFILM Electronic Materials U.S.A, Inc. | Chemical liquid manufacturing apparatus |
JP2021519680A (ja) * | 2018-03-30 | 2021-08-12 | フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド | 化学液体製造装置 |
WO2020009207A1 (ja) * | 2018-07-06 | 2020-01-09 | 富士フイルム株式会社 | フィルタ、フィルタの製造方法、ろ過装置、薬液の製造方法 |
JPWO2020009207A1 (ja) * | 2018-07-06 | 2021-07-15 | 富士フイルム株式会社 | フィルタ、フィルタの製造方法、ろ過装置、薬液の製造方法 |
KR20210035800A (ko) | 2018-08-10 | 2021-04-01 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 불소계 용제 함유물의 정제 방법 및 불소계 용제 함유 정제물 |
KR20210053873A (ko) | 2018-08-31 | 2021-05-12 | 니폰 제온 가부시키가이샤 | 용제의 정제 방법 |
US11560346B2 (en) | 2018-10-05 | 2023-01-24 | Tokuyama Corporation | Method for producing isopropyl alcohol |
US10773210B2 (en) | 2018-11-20 | 2020-09-15 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Systems and methods for purifying solvents |
CN113574043A (zh) * | 2019-03-11 | 2021-10-29 | 日产化学株式会社 | 有机溶剂的制造方法 |
WO2020184306A1 (ja) * | 2019-03-11 | 2020-09-17 | 日産化学株式会社 | 有機溶媒の製造方法 |
US11541335B2 (en) | 2019-05-29 | 2023-01-03 | FUJIFILM Electronic Materials Taiwan Co., Ltd. | Chemical liquid purification apparatus and purification method using the same |
JP2020192527A (ja) * | 2019-05-29 | 2020-12-03 | 台灣富士電子材料股▲ふん▼有限公司 | 化学液体精製装置及びそれを用いた精製方法 |
WO2021045956A1 (en) * | 2019-09-03 | 2021-03-11 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Systems and methods for purifying solvents |
US11679375B2 (en) | 2019-09-03 | 2023-06-20 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Methods for purifying solvents |
US11440866B2 (en) | 2020-06-12 | 2022-09-13 | Fujifilm Electronic Materials U.S.A., Inc. | Systems and methods for purifying solvents |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2016073922A (ja) | 有機溶剤の精製装置 | |
JP6445382B2 (ja) | リソグラフィー用塗布膜形成用組成物の製造方法及びパターン形成方法 | |
TWI822658B (zh) | 有機溶劑的精製方法及有機溶劑的精製裝置 | |
JP5886804B2 (ja) | レジスト組成物の製造方法 | |
TWI338200B (en) | Cleaning liquid for photolithography and method of recycling use thereof | |
US9502247B2 (en) | Method for forming coating film for lithography | |
TWI754736B (zh) | 藥液的純化方法、藥液的製造方法及藥液 | |
JP6466650B2 (ja) | レジスト組成物の製造方法 | |
JP2014219506A (ja) | レジスト組成物の製造方法 | |
JP2013092643A (ja) | リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法 | |
CN112384858A (zh) | 药液、试剂盒、图案形成方法、药液的制造方法及药液收容体 | |
JP5815477B2 (ja) | ケイ素含有レジスト下層膜の製膜方法 | |
WO2014013902A1 (ja) | 半導体用洗浄液及びそれを用いた洗浄方法 | |
US20130071790A1 (en) | Method of forming an etch mask | |
TW201843298A (zh) | 清洗用組合物及處理方法 | |
TWI592988B (zh) | 半導體乾燥設備和用於該設備之半導體乾燥用處理液體的循環與過濾方法 | |
JP6329889B2 (ja) | 洗浄液及び塗布成膜装置配管の洗浄方法 | |
JP2018182069A (ja) | 洗浄用組成物および処理方法 | |
TW201443571A (zh) | 稀釋劑組成物及其用途 | |
Umeda et al. | Defect reduction by using point-of-use filtration in a new coater/developer | |
US20220365439A1 (en) | Surface charge release in lithography developing process | |
TW202347051A (zh) | 藥液 | |
Brakensiek et al. | Improving material-specific dispense processes for low-defect coatings | |
JP2019040201A (ja) | パターン形成方法 | |
JP2012133343A (ja) | 露光用マスクの表面イオン濃度のモニター方法およびモニターシステム、該モニターシステムを備えた露光用マスク洗浄装置、並びに残留イオン濃度を保証した露光用マスク |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161025 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20170417 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170523 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170629 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20171205 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180424 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20181106 |