WO2018180735A1 - 薬液の精製方法、薬液の製造方法、及び、薬液 - Google Patents

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    • B01D2239/0428—Rendering the filter material hydrophobic

Definitions

  • the present invention relates to a chemical liquid purification method, a chemical liquid manufacturing method, and a chemical liquid.
  • a photolithography process is used for manufacturing semiconductor devices.
  • a substrate such as a semiconductor wafer (hereinafter also referred to as “wafer”) is pre-wet, and then the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition (hereinafter also referred to as “resist composition”). )
  • the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition hereinafter also referred to as “resist film”.
  • resist film an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film
  • the formed resist film is exposed, the exposed resist film is developed, the developed resist film is rinsed, and a resist pattern is formed on the wafer.
  • Patent Document 1 discloses that a composition for forming a coating film for lithography is spin-coated on a substrate for manufacturing a semiconductor device using a spin coating apparatus having an integrated filter in which a casing and a filtration film are integrated.
  • the present inventors examined a semiconductor substrate manufactured using the method for forming a coating film for lithography described in Patent Document 1, and although the generation of defects was suppressed, the metal wiring of the obtained semiconductor substrate was reduced. It has been found that a short circuit may occur.
  • the present invention provides a method for purifying a chemical solution capable of suppressing the occurrence of a short circuit in a semiconductor substrate manufactured by a photolithography process (hereinafter also referred to as “having a short circuit occurrence suppressing performance”). Is an issue. Moreover, this invention also makes it the subject to provide the manufacturing method of a chemical
  • a chemical liquid purification method having a purification step of filtering a liquid to be purified containing an organic solvent using a filter, wherein a filter satisfying requirement 1 or requirement 2 in the following test is used.
  • a method for purifying chemicals 1500 ml of a test solution composed of an organic solvent and a filter are brought into contact with each other at 23 ° C. for 24 hours, and selected from the group consisting of Fe, Al, Cr, Ni, and Ti in the test solution after contact. The content of the particles containing at least one kind of metal satisfies the following requirement 1 or 2.
  • Requirement 1 When the test solution contains one type of particles containing at least one metal selected from the group consisting of Fe, Al, Cr, Ni, and Ti, the inclusion of one type of particles in the test solution The amount is 5.0 mass ppm or less.
  • Requirement 2 When the test liquid contains two or more kinds of particles containing at least one metal selected from the group consisting of Fe, Al, Cr, Ni, and Ti, two or more kinds in the test liquid The total content of the particles is 5.0 mass ppm or less.
  • test liquid after contact contains one kind of ion containing at least one metal selected from the group consisting of Fe, Al, Cr, Ni, and Ti
  • the test liquid after contact contains two or more ions containing at least one metal selected from the group consisting of Fe, Al, Cr, Ni, and Ti
  • medical solution as described in [1] whose total content of 2 or more types of ion in a test liquid is 10 mass ppb or less.
  • the cleaning liquid is dimethyl sulfoxide, n-methylpyrrolidone, diethylene glycol, ethylene glycol, dipropylene glycol, propylene glycol, ethylene carbonate, propylene carbonate, sulfolane, cyclohexane, cyclohexanone, cycloheptanone, cyclopentanone, 2-heptanone, And the method for purifying a drug solution according to [5], which is at least one selected from the group consisting of ⁇ -butyrolactone.
  • any of [1] to [6], wherein the filter is composed of at least one material component selected from the group consisting of nylon, polyethylene, polypropylene, polyfluorocarbon, cellulose, diatomaceous earth, polystyrene, and glass.
  • a method for purifying a chemical solution according to 1. [8] The method for purifying a chemical solution according to [8], wherein the purification step is a step of passing the product to be purified through at least two filters and filtering the product to be purified.
  • the filter includes at least a hydrophobic filter and a hydrophilic filter.
  • the organic solvent is propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl lactate, methyl methoxypropionate, cyclopentanone, cyclohexanone, ⁇ -butyrolactone, diisoamyl
  • the method for purifying a chemical solution according to any one of [1] to [11], which is at least one selected from the group consisting of ether, butyl acetate, isoamyl acetate, isopropanol, and 4-methyl-2-pentanol .
  • a method for producing a chemical solution comprising the method for purifying a chemical solution according to any one of [1] to [12].
  • the organic solvent is propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monopropyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, ethyl lactate, methoxypropionic acid
  • the present invention it is possible to provide a method for purifying a chemical solution having a short-circuit occurrence suppressing performance (hereinafter also referred to as “having the effect of the present invention”) to obtain a chemical solution. Moreover, according to this invention, the manufacturing method of a chemical
  • a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
  • “preparation” means that a predetermined material is procured by purchasing in addition to synthesizing or preparing a specific material.
  • ppm means “parts-per-million (10 ⁇ 6 )”
  • ppb means “parts-per-billion (10 ⁇ 9 )”
  • ppt means “parts-per-trillion (10 ⁇ 12 )”.
  • 1 ⁇ corresponds to 0.1 nm.
  • the notation that does not indicate substitution or non-substitution includes a group having a substituent together with a group not having a substituent, as long as the effect of the present invention is not impaired. It is included.
  • the “hydrocarbon group” includes not only a hydrocarbon group having no substituent (unsubstituted hydrocarbon group) but also a hydrocarbon group having a substituent (substituted hydrocarbon group). .
  • radiation in the present invention means, for example, deep ultraviolet, extreme ultraviolet (EUV), X-ray, electron beam, or the like.
  • EUV extreme ultraviolet
  • light means actinic rays or radiation.
  • exposure includes not only exposure by far ultraviolet rays, X-rays, EUV, etc., but also drawing by particle beams such as electron beams or ion beams, unless otherwise specified.
  • a method for purifying a chemical solution according to an embodiment of the present invention is a method for purifying a chemical solution having a purification step of filtering a non-purified solution containing an organic solvent using a filter, and the filter is a requirement in a test described later.
  • This is a method for purifying a chemical solution using a filter that satisfies 1 or requirement 2.
  • medical solution which has the effect of this invention can be refine
  • the metal particles entrain impurities to form a complex
  • the complex can cause a short circuit of the metal wiring.
  • the specific metal particles are derived from a chemical solution used in each step of photolithography, and a method for reducing the specific metal particles contained in the chemical solution.
  • medical solution purification method which concerns on embodiment of this invention has the process of refine
  • the filter used in this case satisfies Requirement 1 or Requirement 2 in the following test.
  • 1500 ml of a test solution made of an organic solvent and a filter were brought into contact with each other under a condition of 23 ° C. for 24 hours, and Fe, Al, Cr, Ni, and Ti (hereinafter “specified” in the test solution after contact).
  • the content of particles containing at least one metal selected from the group consisting of “metal” is also measured.
  • the particles typically include Fe-containing particles, Al-containing particles, Cr-containing particles, Ni-containing particles, and Ti-containing particles, which will be described later.
  • a particle (for example, a particle containing Fe and Al) which is intended to be detected as a particle by a measurement method and in which a specific metal is complexed is also included.
  • the test solution consists of an organic solvent. That is, the test solution is composed of the same type of organic solvent as the organic solvent contained in the product to be purified using the filter.
  • the test is performed using the mixture (a mixture of the same kind of organic solvents in the same ratio).
  • it is preferable that a test is performed in the clean room mentioned later.
  • the test solution contains specific metal particles at a stage before the test in that the amount of particles containing at least one specific metal extracted from the filter (hereinafter also referred to as “specific metal particles”) can be more easily evaluated. It is preferably not contained.
  • specific metal particles when specific metal particles are contained in the test solution at the stage before the test, first, the content of the specific metal particles in the test solution before the test is measured, and the specific metal in the test solution after the test is measured. The content of the particles is measured, and the difference is calculated as “content of specific metal particles in the test solution after contact” in the present embodiment. That is, the “content of specific metal particles in the test solution after contact” means the amount of extraction of the specific metal particles into the test solution.
  • Agilent 8800 triple quadrupole ICP-MS Inductively Coupled Plasma-Mass Spectrometry, for semiconductor analysis, option # 200
  • content of the specific metal particle in a test liquid can be measured.
  • the measurement conditions are as described in the examples.
  • apparatuses that can be used for measuring the content of specific metal particles include NexION 350S manufactured by PerkinElmer, Inc., and Agilent 8900 manufactured by Agilent Technologies, for example.
  • a method of bringing the test solution and the filter into contact typically, a method of immersing the filter in a test solution accommodated in an airtight container and storing it in a thermostatic chamber can be mentioned.
  • the filter is taken out from the test solution after contact, and the content of the specific metal particles contained in the test solution after contact is measured.
  • the measurement method at this time is as described above.
  • Requirement 1 is that when the test liquid after contact contains one kind of specific metal particles, the content of the specific metal particles in the test liquid is 5.0 ppm by mass or less with respect to the total mass of the test liquid after contact. is there. In addition, when the test liquid after contact contains one kind of specific metal particles, the content of the specific metal particles in the test liquid after contact is 0.30 mass ppm relative to the total mass of the test liquid after contact. The following is more preferable, 10 mass ppb or less is further preferable, and 1.0 mass ppb or less is particularly preferable. Although it does not restrict
  • Requirement 2 is that when the test solution after contact contains two or more types of specific metal particles, the total content of the two or more types of specific metal particles in the test solution after contact is the total mass of the test solution after contact. It is 5.0 mass ppm or less with respect to. In addition, when the test liquid after contact contains two or more kinds of specific metal particles, the total content of the two or more kinds of specific metal particles in the test liquid after contact is based on the total mass of the test liquid after contact. 0.30 mass ppm or less is more preferred, 10 mass ppb or less is more preferred, and 1.0 mass ppb or less is particularly preferred. Although it does not restrict
  • the test solution after contact may contain particles containing a metal other than the specific metal.
  • the total content of metal particles, including particles containing a metal other than the specific metal in the test solution after contact, is not particularly limited, but in terms of obtaining a chemical solution having a better effect of the present invention, contact is possible.
  • 5.0 mass ppm or less is preferable with respect to the total mass of the later test solution, and 100 mass ppb or less is more preferable. Although it does not restrict
  • the definition of the content of the specific metal particles in the test solution after contact and the measurement method are the same as those described as the definition of the content of the specific metal particles and the measurement method.
  • the test solution after the contact satisfies the following requirement 3 or requirement 4 in that a chemical solution having a better effect of the present invention can be obtained. Is more preferable.
  • Requirement 3 When the test solution after contact contains one kind of ion containing at least one specific metal, the content of one kind of ion in the test solution is 10 mass ppb or less.
  • Requirement 4 When the test solution after contact contains two or more ions containing at least one specific metal, the total content of the two or more ions in the test solution is 10 mass ppb or less.
  • the test solution contains a specific metal ion at a stage prior to the test because the amount of the ion containing the specific metal extracted from the filter (hereinafter also referred to as “specific metal ion”) can be more easily evaluated. Preferably not.
  • a specific metal ion is contained in the test solution before the test, first, the content of the specific metal ion in the test solution before the test is measured, and the specific metal in the test solution after the test is measured. The content of ions is measured, and the difference is calculated as “content of specific metal ions in the test solution after contact” in the present embodiment. That is, the “content of the specific metal ion in the test solution after contact” intends the amount of extraction of the specific metal ion into the test solution.
  • the specific metal ion refers to an ion of the specific metal itself (for example, Fe 2+ ) and a complex ion (for example, [Ni (NH 3 ) 6 ] containing the specific metal. 2+ etc.) are intended.
  • Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS (for semiconductor analysis, option # 200) is used for measuring the content of specific metal ions.
  • content of the specific metal ion in a test liquid can be measured.
  • the measurement conditions are as described in the examples.
  • Requirement 3 is that when the test liquid after contact contains one kind of specific metal ions, the content of one kind of ion in the test liquid is 10 mass ppb or less with respect to the total mass of the test liquid after contact. is there. In addition, when the test liquid after contact contains one kind of specific metal ion, the content of the specific metal ion in the test liquid after contact is 3.5 mass with respect to the total mass of the test liquid after contact. ppb or less is more preferable, and 1.0 mass ppb or less is particularly preferable. Although it does not restrict
  • Requirement 4 is that when the test liquid after contact contains two or more specific metal ions, the total content of the two or more specific metal ions in the test liquid after contact is the total mass of the test liquid after contact. Is 10 mass ppb or less. In addition, when the test liquid after contact contains two or more kinds of specific metal ions, the total content of two or more kinds of specific metal ions in the test liquid after contact is based on the total mass of the test liquid after contact. 3.5 mass ppb or less is more preferable, and 1.0 mass ppb or less is particularly preferable. Although it does not restrict
  • the test solution contains organic impurities
  • the content of organic impurities in the test liquid is 10 mass ppm or less.
  • the organic impurity is an organic compound different from the organic solvent, and the organic solvent (the chemical solution contains a mixture of organic solvents, that is, when the test solution is a mixture of organic solvents, The organic compound contained at a content of 10000 ppm by mass or less relative to the total mass of the mixture) is intended.
  • the organic compound contained at a content of 10000 mass ppm or less with respect to the total mass of the organic solvent corresponds to an organic impurity and does not correspond to an organic solvent.
  • each organic compound is contained in the above-described content of 10,000 ppm by mass or less, each corresponds to an organic impurity.
  • the organic liquid is not contained in the test liquid in the stage before a test at the point which can evaluate the quantity of the organic impurity extracted from a filter more easily.
  • organic impurities are contained in the test solution at the stage before the test, first, the content of organic impurities in the test solution before the test is measured, and the content of organic impurities in the test solution after the test The amount is measured, and the difference is calculated as “the content of organic impurities in the test solution after contact” in the present embodiment. That is, the “content of organic impurities in the test solution after contact” intends the amount of organic impurities extracted into the test solution.
  • a gas chromatograph mass spectrometer (product name “GCMS-2020”, manufactured by Shimadzu Corporation) is used for measuring the content of organic impurities.
  • the measurement conditions are as described in the examples.
  • Py-QTOF / MS Pyrolyzer Quadrupole Time-of-Flight Mass Spectrometry
  • Py-IT / MS Pyrolyzer Ion Trap Mass Spectrometry
  • Py-Sector / MS Pyrolyzer Magnetic Field Mass Spectrometry
  • Py-FTICR / MS Pyrolyzer Fourier Transform Ion Cyclotron Mass Spectrometry
  • Py-Q / MS Pyrolyzer Quadrupole Mass Spectrometry
  • the structure may be identified and the concentration quantified from the decomposition product by a technique such as Py-IT-TOF / MS (Pyrolyzer ion trap time-of-flight mass spectrometry).
  • Py-IT-TOF / MS Pyrolyzer ion trap time-of-f
  • Requirement 5 when the test solution after contact contains organic impurities, the content of organic impurities in the test solution is 10 mass ppm or less with respect to the total mass of the test solution after contact, which is more excellent. In terms of obtaining a chemical solution having the effects of the present invention, 3.0 mass ppm or less is more preferable, and 2.5 mass ppm or less is still more preferable. Although it does not restrict
  • organic impurities examples include compounds represented by the following formulas I to V.
  • R 1 and R 2 each independently represent an amino group, an aryl group, an alkyl group, or a cycloalkyl group, or are bonded to each other to form a ring.
  • the number of carbons when R 1 and R 2 are other than an amino group is not particularly limited, but is generally 1 to 20 in many cases.
  • R 3 and R 4 each independently represent a hydrogen atom, an amino group, an aryl group, an alkyl group, an alkenyl group, a cycloalkyl group, or a cycloalkenyl group, or bonded to each other to form a ring Is forming.
  • R 3 and R 4 are not both hydrogen atoms.
  • the number of carbon atoms when R 3 and R 4 are other than an amino group is not particularly limited, but is generally 1 to 20 in many cases.
  • R 5 represents an alkyl group, an aryl group, or a cycloalkyl group, and the number of carbon atoms is generally 1 to 20 in many cases.
  • R 6 and R 7 each independently represents an alkyl group, an aryl group, or a cycloalkyl group, or are bonded to each other to form a ring.
  • the number of carbon atoms of R 6 and R 7 is not particularly limited, but is generally 1 to 20 in many cases.
  • R 8 and R 9 each independently represent an alkyl group, an aryl group, an alkyloxy group, or a cycloalkyl group, or are bonded to each other to form a ring.
  • L represents a single bond or a divalent linking group.
  • the carbon number of R 8 and R 9 is not particularly limited, but is generally 1 to 20 in many cases.
  • organic impurities include compounds represented by Formula VI.
  • R 61 to R 65 each independently represents an alkyl group, and the number of carbon atoms is not particularly limited, and is generally 1 to 10 in many cases.
  • the requirement 5 is that the organic impurity contains at least one compound selected from the group consisting of the following formulas (1) to (7) in that a chemical solution having the better effect of the present invention can be obtained. It is preferable.
  • the filter used is not particularly limited, and a known filter can be used.
  • nylon, polyethylene (including high density and high molecular weight ones), polypropylene (high density and high molecular weight ones) can be used as a filter because a chemical having the effect of the present invention can be obtained.
  • the purification step is preferably a step in which the liquid to be purified is filtered through at least two filters. In other words, it is preferable to use a process in which at least two filters are used in series, and the liquid to be purified is sequentially passed through the two filters and filtered.
  • the purification step is more preferably a step of passing the liquid to be purified through three or more filters and filtering. In other words, the purification step is preferably a step of purifying the liquid to be purified using two or more (preferably three or more) filters.
  • the filtration with the first filter may be performed only once or may be performed twice or more.
  • the filters may be of the same type or of different types.
  • the 2 or more filter to be used contains at least a hydrophobic filter and a hydrophilic filter at the point from which the chemical
  • hydrophobic filters and one or more hydrophilic filters as filters.
  • hydrophobic means that the water contact angle at 25 ° C. of the filter is 45 ° or more
  • hydrophilic means that the water contact angle at 25 ° C. of the filter is less than 45 °. Intended.
  • the order of passing the liquid to be purified through each filter is not particularly limited, but in the purification step, the liquid to be purified is passed through most.
  • the latter filter in this specification, the filter through which the liquid to be purified passes at the end of the purification step is referred to as “the most latter filter”) is preferably a hydrophilic filter.
  • the hydrophilic filter has a stronger interaction with the specific metal particles contained in the liquid to be purified and the ions containing the specific metal, and is more likely to adsorb the above. Therefore, it becomes easy to control the specific metal particles and the content of ions containing the specific metal in the chemical solution to be in a desired range.
  • the first filter means a filter through which the liquid to be purified passes before the second filter.
  • the first filter and the second filter are filters that satisfy the requirement 1 or the requirement 2, respectively, and it is preferable that the requirement 3 or 4 and the requirement 5 are satisfied.
  • the differential pressure before and after the filter (hereinafter referred to as “filtration”)
  • the pressure difference is also not particularly limited, but is preferably 250 kPa or less, and preferably 200 kPa or less. Although it does not restrict
  • the filtration differential pressure is 250 kPa or less, it is possible to prevent an excessive pressure from being applied to the filter, and thus it is possible to expect a reduction in eluate.
  • the purification step is a step of filtering the liquid to be purified through two or more filters
  • the relationship between the pore sizes of the filters is not particularly limited, but is preferably different. It is preferable that the hole diameter of the second filter is the same or smaller than the hole diameter of the first filter. Two first filters having different pore diameters may be used.
  • the nominal value of a filter maker can be referred for with the hole diameter of a filter. As a commercially available filter, it can select from the various filters which Nippon Pole Co., Ltd., Advantech Toyo Co., Ltd., Japan Integris Co., Ltd. (former Japan Microlith Co., Ltd.), KITZ micro filter, etc. provide, for example.
  • P-nylon filter (pore size 0.02 ⁇ m, critical surface tension 77 mN / m) made of polyamide; (manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.), “PE / clean filter (pore size 0.02 ⁇ m)” made of high-density polyethylene; (Manufactured by Nippon Pole Co., Ltd.) and “PE / clean filter (pore diameter 0.01 ⁇ m)” (made by Nippon Pole Co., Ltd.) made of high-density polyethylene can also be used.
  • the ratio of the hole diameter of the second filter to the hole diameter of the first filter (the hole diameter of the second filter / the hole diameter of the first filter) is 0.01. To 0.99, preferably 0.1 to 0.9, and more preferably 0.2 to 0.9.
  • the relationship between the chemical solution and the filter material is the Hansen solubility that can be derived from the filter material
  • a combination that satisfies the relational expression (Ra / R0) ⁇ 1 between Ra and R0 when the interaction radius (R0) in the parameter space and the radius of the Hansen space sphere (Ra) that can be derived from the organic solvent contained in the chemical solution are used.
  • it is a chemical
  • the pressure pulsation during filtration is preferably as small as possible.
  • the filtration rate is not particularly limited, in that the chemical which has the effect of better present invention is obtained, preferably 1.0 L / min / m 2 or more, 0.75 L / min / m 2 or more, and 0 More preferably, it is 6 L / min / m 2 or more.
  • the filter is set with a differential pressure resistance that ensures filter performance (the filter is not broken). If this value is large, the filtration speed can be increased by increasing the filtration pressure. That is, the upper limit of the filtration rate usually depends on the differential pressure resistance of the filter, but is usually preferably 10.0 L / min / m 2 or less.
  • the pressure can be adjusted according to the purpose.
  • the filtration pressure is preferably 0.001 to 1.0 MPa, more preferably 0.003 to 0.5 MPa, and even more preferably 0.005 to 0.3 MPa in that a chemical solution having the better effect of the present invention can be obtained.
  • a chemical solution having the better effect of the present invention can be obtained.
  • the filtration pressure is particularly preferably 0.005 to 0.3 MPa.
  • the filtration speed decreases when the pore size of the filtration filter is reduced.
  • the filtration area is expanded and the filtration pressure is lowered, so that it is possible to compensate for a decrease in filtration rate.
  • the purification step includes the following steps.
  • purification process may have each following process once and may have multiple times. Further, the order of the following steps is not particularly limited.
  • each filter used in the following steps is a filter that satisfies the above requirement 1 or 2, and a filter that satisfies the requirement 3, the requirement 4, and the requirement 5 is preferable.
  • Metal ion removal step Organic Impurity Removal Step Each of the above steps will be described below.
  • the purification step may include a particle removal step.
  • the particle removal step is a step of removing particles in the liquid to be purified using a particle removal filter.
  • limit especially as a form of a particle removal filter For example, the filter whose particle removal diameter is 20 nm or less is mentioned.
  • the particle removal diameter of the filter is preferably 1 to 15 nm, and more preferably 1 to 12 nm. When the particle removal diameter is 15 nm or less, finer particles can be removed, and when the particle removal diameter is 1 nm or more, the filtration efficiency is improved.
  • the particle removal diameter means the minimum particle size that can be removed by the filter.
  • the material for the particle removal filter include nylons such as 6-nylon and 6,6-nylon, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyimide, polyamideimide, and polyfluorocarbon.
  • the polyimide and / or the polyamideimide may have at least one selected from the group consisting of a carboxy group, a salt-type carboxy group, and an —NH— bond.
  • solvent resistance polyfluorocarbon, polyimide and / or polyamideimide are excellent.
  • 6-nylon and nylon such as 6,6-nylon are particularly preferable.
  • a plurality of particle removal filters may be used.
  • one filter is preferably a filter having a particle removal diameter of 50 nm or more (for example, a microfiltration membrane for removing fine particles having a pore diameter of 50 nm or more).
  • the particles should be removed before filtering using a filter having a particle removal diameter of 20 nm or less (for example, a microfiltration membrane having a pore diameter of 20 nm or less).
  • a filter having a diameter of 50 nm or more for example, a microfiltration membrane for removing fine particles having a pore diameter of 50 nm or more
  • a filter for example, having a pore diameter of 20 nm or less. The filtration efficiency of the microfiltration membrane (20 nm or less) is improved, and the particle removal performance is further improved.
  • the purification step may include a metal ion removal step.
  • the metal ion removing step is preferably a step of passing the liquid to be purified through the metal ion adsorption filter. It does not restrict
  • examples of the metal ions to be adsorbed include ions containing a specific metal and ions containing other metals.
  • the metal ion adsorption filter preferably contains an acid group on the surface from the viewpoint of improving the adsorption performance of metal ions.
  • Examples of the acid group include a sulfo group and a carboxy group.
  • Examples of the substrate (material) constituting the metal ion adsorption filter include cellulose, diatomaceous earth, nylon, polyethylene, polypropylene, polystyrene, and polyfluorocarbon. Nylon is particularly preferable from the viewpoint of the efficiency of adsorbing metal ions.
  • the purification step may include an organic impurity removal step.
  • the organic impurity removal step a step of passing the liquid to be purified through the organic impurity adsorption filter is preferable. It does not restrict
  • an organic impurity adsorption filter has an organic skeleton capable of interacting with organic impurities on the surface in terms of improving the adsorption performance of organic impurities (in other words, the surface by an organic skeleton capable of interacting with organic impurities. Is preferably modified).
  • Examples of the organic skeleton capable of interacting with the organic impurities include a chemical structure that can react with the organic impurities and trap the organic impurities in the organic impurity adsorption filter. More specifically, when the organic impurity contains n-long chain alkyl alcohol (structural isomer when 1-long chain alkyl alcohol is used as the organic solvent), the organic skeleton includes an alkyl group. It is done. When dibutylhydroxytoluene (BHT) is included as an organic impurity, the organic skeleton includes a phenyl group.
  • BHT dibutylhydroxytoluene
  • Examples of the base material (material) constituting the organic impurity adsorption filter include cellulose, diatomaceous earth, nylon, polyethylene, polypropylene, polystyrene, polyfluorocarbon and the like supporting activated carbon.
  • the organic impurity adsorption filter a filter in which activated carbon described in JP-A-2002-273123 and JP-A-2013-150979 is fixed to a nonwoven fabric can be used.
  • a physical adsorption method can be applied in addition to the above-described chemical adsorption (adsorption using an organic impurity adsorption filter having an organic substance skeleton capable of interacting with organic impurities on the surface).
  • a filter having a pore size of 3 nm or more is used as the “particle removal filter”, and a filter having a pore size of less than 3 nm is used as the “organic impurity adsorption filter”.
  • medical solution purification method which concerns on embodiment of this invention further has the process of wash
  • cleaning liquid pass through a filter, and the method of combining them is mentioned.
  • By washing the filter it becomes easy to control the amount of the component extracted from the filter so as to satisfy each requirement related to the test solution, and as a result, a chemical solution having a better effect of the present invention is obtained. It is done.
  • the cleaning liquid is not particularly limited, and a known cleaning liquid can be used.
  • the cleaning liquid is not particularly limited, and examples thereof include water and an organic solvent.
  • an organic solvent an organic solvent that can be contained in a chemical solution, for example, alkylene glycol monoalkyl ether carboxylate, alkylene glycol monoalkyl ether, alkyl lactate ester, alkyl alkoxypropionate, cyclic lactone (preferably having 4 to 10 carbon atoms), It may be a monoketone compound (preferably having 4 to 10 carbon atoms) which may have a ring, alkylene carbonate, alkyl alkoxyacetate, alkyl pyruvate or the like.
  • examples of the cleaning liquid include propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, dimethyl sulfoxide, n-methylpyrrolidone, diethylene glycol, ethylene glycol, dipropylene glycol, propylene glycol, ethylene carbonate, propylene carbonate, and sulfolane. , Cyclohexane, cyclohexanone, cycloheptanone, cyclopentanone, 2-heptanone, ⁇ -butyrolactone, and mixtures thereof.
  • the solubility parameter of the cleaning liquid is preferably more than 16 (MPa) 1/2 , more preferably 18.0 or more, and 18.9 or more in that a chemical solution having the better effect of the present invention can be obtained. Is more preferable.
  • the upper limit of the solubility parameter is not particularly limited, but generally 30.0 or less is preferable.
  • the solubility parameter is a value represented by the square root of the molecular cohesive energy. Polymer HandBook (Second Edition) is described in Chapter IV, Solubility Parameter Values, and the value is used as a solubility parameter in this specification.
  • a unit is (MPa) 1/2 and points out the value in 25 degreeC.
  • the solubility parameter of the cleaning liquid is the sum of the products of the volume fraction of each solvent mixed and the solubility parameter of each solvent.
  • dimethyl sulfoxide (26.7), n-methylpyrrolidone (23.0), diethylene glycol (29.1), and ethylene glycol (28.5) are used as the cleaning liquid because they have more excellent effects of the present invention.
  • Dipropylene glycol (31.2), propylene glycol (30.2), ethylene carbonate (29.6), propylene carbonate (27.6), sulfolane (25.9), cyclohexanone (19.6), cyclohepta At least one selected from the group consisting of non (19.7), cyclopentanone (18.9), 2-heptanone (21.2), and ⁇ -butyrolactone (25.5) is preferred.
  • the method for producing a chemical solution according to the embodiment of the present invention is a method for producing a chemical solution having the method for purifying a chemical solution already described.
  • a method for producing a chemical solution according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing a first embodiment of a chemical liquid production apparatus to which a chemical liquid production method according to an embodiment of the present invention can be applied.
  • a tank 11 and a filling apparatus 12 are connected by a conduit 13, and the liquid to be purified is transferred along an arrow F in FIG. 1.
  • Three filtration devices 14 are provided in the middle of the pipeline 13, and each filtration device 14 has one filter.
  • the liquid to be purified is first stored in the tank 11. Next, when the valve 16 is opened and the pump 15 is operated, the liquid to be purified is transferred along the arrow F to the filling device 12. During this time, the liquid to be purified is filtered through the filters of the three filtration devices 14 in order.
  • the apparatus of the whole quantity filtration system (dead end system) which filters the whole quantity of the to-be-purified liquid introduce
  • the cross-flow type filtration device is not limited to the above, and separates the introduced liquid to be purified into the purified liquid to be purified and the concentrated liquid (further, the concentrated liquid may be reintroduced into the filter as the liquid to be purified). Alternatively, a combination of these methods may be used.
  • the method for producing a chemical solution according to the present embodiment has the chemical solution purification method already described.
  • the liquid to be purified stored in the tank 11 is transferred in the direction of arrow F and passed through the filtration device 14. .
  • the filter to be used is a filter that satisfies the predetermined requirements described above.
  • medical solution which concerns on this embodiment has the washing
  • the filter may be cleaned outside the chemical solution manufacturing apparatus 10.
  • the filter is cleaned using a cleaning device (not shown) (for example, a cleaning tank), and the cleaned filter is attached to the chemical manufacturing apparatus 10. Good.
  • the filter can also be cleaned using the chemical solution manufacturing apparatus 10. That is, the cleaning liquid is stored in the tank 11. Next, the cleaning liquid is transferred to the filling device 12 along the arrow F. During this time, each filtration device 14 (and the filter attached thereto) and the pipe line 13 are washed by the washing liquid. This method is preferable because the liquid contact parts such as the tank 11 and the pipe line 13 can be simultaneously cleaned in addition to the filter.
  • FIG. 2 is a schematic view showing a second embodiment of a chemical liquid manufacturing apparatus to which the chemical liquid manufacturing method according to the embodiment of the present invention can be applied.
  • the tank 11 and the filling apparatus 12 are connected by a pipe line 13, and three filtration devices 14 are continuously provided in the middle of the pipe line 13.
  • Each filtration device 14 contains one filter.
  • a filtration device 14 is provided with a circulation line 21 connected to the tank 11 and a valve 22 that connects the pipe 13.
  • the liquid to be purified is first stored in the tank 11. Next, the valve 16 is opened, the pump 15 is operated, and the liquid to be purified is filtered through the filters contained in the three filtration devices 14 in order. The filtered liquid to be purified further returns to the tank 11 through the circulation line 21 via the valve 22 (arrow F1 in FIG. 2). Since the chemical liquid production apparatus 20 includes the circulation pipe 21, it is possible to perform circulation filtration in which the filtration apparatus 14 is passed twice or more while circulating the liquid to be purified in the purification step. That is, the filtered liquid to be purified that has returned to the tank 11 is again filtered by the pump 15 through the filtration device 14 provided in the pipe line 13. At this time, the liquid to be purified may be returned from the circulation pipe 21 to the tank 11 again, or may be sent from the valve 22 to the filling device 12 through the pipe 13.
  • medical solution which concerns on this embodiment has the washing
  • the filter can be cleaned using the chemical solution manufacturing apparatus 20. That is, the cleaning liquid is stored in the tank 11, and the cleaning liquid is allowed to pass through each filtration device 14 (and the filter attached thereto) and the pipe line 13 while circulating the cleaning liquid to the tank 11 along the arrow F ⁇ b> 2. Can be washed. Furthermore, the above may be repeated using the cleaning liquid circulated and transferred to the tank 11 (circulating cleaning). According to this method, the filter can be more efficiently cleaned while circulating the cleaning liquid until the filter has a desired cleanliness.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a third embodiment of a chemical liquid manufacturing apparatus to which the chemical liquid manufacturing method according to the embodiment of the present invention can be applied.
  • the tank 11 and the filling device 12 are connected by a pipe line 13, and three filtration devices 14 are continuously provided in the middle of the pipe line 13.
  • Each filtration device 14 contains one filter.
  • a filtration device 14 is provided with a circulation line 21 connected to the tank 11 and a valve 22 that connects the pipe 13.
  • the chemical production apparatus 30 includes a distillation column 31, and the distillation column 31 is connected to the tank 11 through a distillation pipe 32.
  • the tank 11 is connected to the raw material input pipe 36 through the pipe 13, the valve 33, the distillation tower circulation pipe 34, and the valve 35, and the raw material input pipe 36 is connected to the distillation tower 31. Yes.
  • the liquid to be purified is first introduced into the distillation column 31 from the raw material input pipe 36 and distilled in the distillation column 31.
  • the distilled liquid to be purified is concentrated by a concentrating device (not shown) and stored in the tank 11 through the distillation pipe 32.
  • the liquid to be purified stored in the tank 11 is circulated and filtered through the path F1 in the drawing, or filtered through the path F2 in the drawing.
  • the method for purifying the liquid to be purified by the above route is the same as described in the first and second embodiments.
  • medical solution which concerns on this embodiment has the washing
  • the filter can be cleaned using the chemical solution manufacturing apparatus 30. That is, the cleaning liquid is stored in the tank 11, and the cleaning liquid passes through each filtration device 14 (and the filter attached thereto) and the pipe line 13 while circulating the cleaning liquid to the tank 11 along the arrow F 1. What is necessary is just to wash
  • the cleaning liquid stored in the tank 11 is introduced into the distillation tower 31 through the distillation tower circulation pipe 34 and the raw material input pipe 36 (arrow F3), and the cleaning liquid is distilled and then concentrated by a concentrating device (not shown). Then, the cleaning liquid may be circulated and transferred to the tank 11 again through the distillation pipe 32 (arrow F4). According to said method, not only a filter but each pipe line and the liquid-contact part of the distillation column 31 can also be wash
  • the distillation step is intended to remove impurities by distilling the liquid to be purified.
  • the liquid contact part of the distillation column (the definition of the liquid contact part will be described later) is made of a nonmetallic material and an electropolished metal material.
  • a distillation column formed from at least one selected from the group is made of the nonmetallic material and the electropolished metal material.
  • the ion exchange step intends a step of passing the liquid to be purified through the ion exchange unit.
  • the method for allowing the liquid to be purified to pass through the ion exchange unit is not particularly limited, and an ion exchange unit is arranged in the middle of the pipeline of the chemical liquid production apparatus already described, and the ion exchange unit is pressurized or subjected to no application.
  • the method of letting an organic solvent pass by pressure is mentioned.
  • the ion exchange unit is not particularly limited, and a known ion exchange unit can be used.
  • a known ion exchange unit can be used.
  • As an ion exchange unit what accommodated the ion exchange resin in the tower-shaped container, an ion adsorption film, etc. are mentioned, for example.
  • the ion exchange resin As one form of the ion exchange step, as the ion exchange resin, a cation exchange resin or anion exchange resin provided in a single bed, a cation exchange resin and an anion exchange resin provided in a multiple bed, and a cation exchange resin The process using what provided the anion exchange resin with the mixed bed is mentioned.
  • the ion exchange resin in order to reduce water elution from the ion exchange resin, it is preferable to use a dry resin containing as little water as possible. As such a dry resin, commercially available products can be used.
  • the ion exchange step is preferably performed before the distillation step already described.
  • a process using an ion-adsorbing film may be mentioned.
  • an ion adsorption film By using an ion adsorption film, processing at a high flow rate is possible.
  • limit especially as an ion adsorption film For example, a neoceptor (a brand name, Astom company make) etc. are mentioned.
  • the ion exchange step is preferably performed after the distillation step already described. By passing through the ion exchange step, impurities accumulated in the production apparatus can be removed and the eluate from a pipe such as stainless steel (SUS) used as a transfer pipe can be removed.
  • SUS stainless steel
  • the neutralization step intends a step of reducing the charged potential by neutralizing the liquid to be purified.
  • the static elimination method is not particularly limited, and a known static elimination method can be used.
  • Examples of the static elimination method include a method in which a liquid to be purified is brought into contact with a conductive material.
  • the contact time for contacting the liquid to be purified with the conductive material is preferably 0.001 to 60 seconds, more preferably 0.001 to 1 second, and still more preferably 0.01 to 0.1 seconds.
  • the conductive material include stainless steel, gold, platinum, diamond, and glassy carbon.
  • Examples of the method of bringing the liquid to be purified into contact with the conductive material include a method in which a grounded mesh made of a conductive material is disposed inside the pipe and the liquid to be purified is passed therethrough.
  • the material of the wetted part of the manufacturing apparatus (the definition of the wetted part will be described later) is not particularly limited, but a non-metallic material and electropolishing are obtained in that a chemical having superior defect suppression performance can be obtained.
  • it is formed of at least one selected from the group consisting of the prepared metal materials.
  • the “wetted part” is a part where the fluid may come into contact (for example, tank inner surface, liquid feed pump, damper, packing, O-ring, pipe inner surface, etc.), and A region of 100 nm thickness from the surface is intended.
  • the non-metallic material is not particularly limited, but a fluorine-containing resin material such as a polyethylene resin, a polypropylene resin, a polyethylene-polypropylene resin, or a perfluoro resin is preferable. From the viewpoint of less elution of metal atoms, a fluorine-containing resin is more preferable. preferable.
  • fluorine-containing resins include perfluororesins, such as tetrafluoroethylene resin (PTFE), tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer (PFA), and tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer.
  • Resin FEP
  • Tetrafluoroethylene-ethylene copolymer resin ETFE
  • Trifluoroethylene chloride-ethylene copolymer resin ECTFE
  • Vinylidene fluoride resin PVDF
  • PCTFE Trifluoroethylene chloride copolymer resin
  • PVDF Vinyl fluoride resin
  • the fluorine-containing resin is preferably a tetrafluoroethylene resin, a tetrafluoroethylene / perfluoroalkyl vinyl ether copolymer, or a tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer resin.
  • the metal material is not particularly limited, and a known material can be used.
  • the metal material include a metal material having a total content of chromium and nickel of more than 25% by mass with respect to the total mass of the metal material, and more preferably 30% by mass or more.
  • the upper limit of the total content of chromium and nickel in the metal material is not particularly limited, but is generally preferably 90% by mass or less.
  • the metal material include stainless steel, carbon steel, alloy steel, nickel chrome molybdenum steel, chrome steel, chrome molybdenum steel, manganese steel, and nickel-chromium alloy.
  • Stainless steel is not particularly limited, and known stainless steel can be used. Especially, the alloy containing 8 mass% or more of nickel is preferable, and the austenitic stainless steel containing 8 mass% or more of nickel is more preferable.
  • the austenitic stainless steel include SUS (Steel Use Stainless) 304 (Ni content 8 mass%, Cr content 18 mass%), SUS304L (Ni content 9 mass%, Cr content 18 mass%), SUS316. (Ni content 10 mass%, Cr content 16 mass%), SUS316L (Ni content 12 mass%, Cr content 16 mass%), etc. are mentioned.
  • the nickel-chromium alloy is not particularly limited, and a known nickel-chromium alloy can be used. Among these, a nickel-chromium alloy having a nickel content of 40 to 75% by mass and a chromium content of 1 to 30% by mass is preferable. Examples of the nickel-chromium alloy include Hastelloy (trade name, the same applies hereinafter), Monel (trade name, the same applies hereinafter), Inconel (product name, the same applies hereinafter), and the like.
  • Hastelloy C-276 (Ni content 63 mass%, Cr content 16 mass%), Hastelloy-C (Ni content 60 mass%, Cr content 17 mass%), and Hastelloy C- 22 (Ni content 61 mass%, Cr content 22 mass%).
  • the nickel-chromium alloy may further contain boron, silicon, tungsten, molybdenum, copper, cobalt, and the like in addition to the above-described alloy as necessary.
  • the method for electropolishing the metal material is not particularly limited, and a known method can be used.
  • a known method can be used.
  • the methods described in JP-A-2015-227501, paragraphs 0011 to 0014 and JP-A-2008-264929, paragraphs 0036 to 0042 can be used.
  • the metal material is electropolished so that the chromium content in the passive layer on the surface is higher than the chromium content in the parent phase. Therefore, from the distillation tower formed from the metal material whose wetted part is electropolished, it is difficult for metal impurities containing metal atoms to flow out into the organic solvent. It is estimated that can be obtained.
  • the metal material may be buffed.
  • the buffing method is not particularly limited, and a known method can be used.
  • the size of the abrasive grains used for buffing finishing is not particularly limited, but is preferably # 400 or less in that the unevenness on the surface of the metal material tends to be smaller.
  • the buffing is preferably performed before the electrolytic polishing.
  • the liquid contact part is preferably formed from stainless steel that has been electropolished in that a chemical having superior defect suppression performance can be obtained.
  • the manufacturing apparatus includes a tank
  • the liquid contact portion of the tank is formed of stainless steel that has been electropolished.
  • the mass ratio of the Cr content to the Fe content in the wetted part (hereinafter, also referred to as “Cr / Fe”) is not particularly limited, but is generally preferably 0.5 to 4, and in particular, the treatment In the point which a metal impurity and / or an organic impurity do not elute more easily in a liquid, 0.5 and less than 3.5 are more preferable, and 0.7 or more and 3.0 or less are more preferable.
  • the method for adjusting Cr / Fe in the metal material is not particularly limited.
  • the coating material technology may be applied to the metal material.
  • metal coating variant plating
  • inorganic coating variant chemical conversion treatment, glass, concrete, ceramics, etc.
  • organic coating rust prevention oil, paint, rubber, and plastics. It is divided roughly.
  • Preferable film technology includes surface treatment with a rust inhibitor oil, a rust inhibitor, a corrosion inhibitor, a chelate compound, a peelable plastic, a lining agent, and the like.
  • Corrosion inhibitors such as ethylene diantetraacetic acid, gluconic acid, nitrilotriacetic acid, hydroxyethyl ethyl orange amine trisuccinic acid, and diethylene triamine pentasic acid; fluororesin lining etc.
  • Surface treatment is preferred. More preferred is a surface treatment by phosphating or fluororesin lining.
  • the clean room preferably meets the 14644-1 clean room criteria. It is preferable to satisfy any of ISO (International Organization for Standardization) class 1, ISO class 2, ISO class 3, and ISO class 4, more preferably ISO class 1 or ISO class 2, and ISO class 1 More preferably.
  • ISO International Organization for Standardization
  • the content of the organic solvent in the chemical solution according to this embodiment is not particularly limited, but is generally preferably 97.0 to 99.999% by mass, and 99.9 to 99.9% by mass with respect to the total mass of the chemical solution. Is preferred.
  • An organic solvent may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together. When two or more organic solvents are used in combination, the total content is preferably within the above range.
  • the organic solvent intends the liquid organic compound contained with content exceeding 10,000 mass ppm per component with respect to the total mass of the said chemical
  • the term “liquid” means liquid at 25 ° C. and atmospheric pressure.
  • the type of the organic solvent is not particularly limited, and a known organic solvent can be used.
  • the organic solvent include alkylene glycol monoalkyl ether carboxylate, alkylene glycol monoalkyl ether, alkyl lactate ester, alkyl alkoxypropionate, cyclic lactone (preferably having 4 to 10 carbon atoms), and monoketone which may have a ring. Examples thereof include compounds (preferably having 4 to 10 carbon atoms), alkylene carbonate, alkyl alkoxyacetate, and alkyl pyruvate.
  • the organic solvent for example, those described in JP-A-2016-57614, JP-A-2014-219664, JP-A-2016-138219, and JP-A-2015-135379 may be used. Good.
  • organic solvents examples include propylene glycol monomethyl ether (PGME), propylene glycol monoethyl ether (PGEE), propylene glycol monopropyl ether (PGPE), propylene glycol monomethyl ether acetate (PGMEA), ethyl lactate (EL), methyl methoxypropionate (MPM), cyclopentanone (CyPn), cyclohexanone (CyHe), ⁇ -butyrolactone (GBL), diisoamyl ether (DIAE), butyl acetate (nBA), isoamyl acetate (iAA), isopropanol (IPA), and 4 It preferably contains at least one selected from the group consisting of methyl-2-pentanol (MIBC), propylene glycol monomethyl ether (PGME), pro Lenglycol monomethyl ether acetate (PGMEA), ethyl lactate (EL), methyl methoxypropionate (MPM), cyclohexan
  • the chemical solution may contain other components other than the organic solvent.
  • other components include metal impurities, organic impurities, surfactants, and water.
  • medical solution contains a metal impurity.
  • a metal impurity intends the total content of the metal containing particle
  • Agilent 8800 Triple Quadrupole ICP-MS for semiconductor analysis, Option # 200 can be used to measure the content of metal-containing particles and metal-containing ions in the chemical solution. The measurement conditions are as described in the examples.
  • the content of the metal-containing particles in the chemical solution is not particularly limited, but in general, the total amount is preferably 0.1 to 40 mass ppt, more preferably 1 to 25 mass ppt based on the total mass of the chemical solution. 1 to 17 mass ppt in total is more preferable, and 1 to 13 mass ppt is particularly preferable.
  • the metal-containing particles may be contained alone or in combination of two or more in the chemical solution. When a chemical
  • the content of the one kind of particles in the chemical solution is the total amount of the chemical solution in that the chemical solution has the superior effect of the present invention.
  • 15 mass ppt or less is preferable with respect to mass, 10 mass ppt or less is more preferable, 7 mass ppt or less is further more preferable, and 3 mass ppt or less is especially preferable.
  • limit especially as a minimum Generally 0.01 mass ppt or more is preferable.
  • the chemical solution contains 0.01 mass ppt or more of the above particles, various impurities generated on the semiconductor substrate are more easily aggregated in the photolithography process, and defects are less likely to occur. Therefore, as a result, a short circuit is less likely to occur in the obtained semiconductor substrate.
  • medical solution contains 2 or more types of specific metal particles among the particles containing a metal
  • 15 mass ppt or less is preferable with respect to the total mass of a chemical
  • 10 mass ppt or less is more preferable, 7 mass ppt or less is still more preferable, and 3 mass ppt or less is especially preferable.
  • limit especially as a minimum Generally 0.01 mass ppt or more is preferable.
  • the chemical solution contains the above particles in a total of 0.01 mass ppt or more, impurities generated on the semiconductor substrate are more easily aggregated in the photolithography process, and defects are less likely to occur. Therefore, as a result, a short circuit is less likely to occur in the obtained semiconductor substrate.
  • the content of metal-containing ions in the chemical solution is not particularly limited, but in general, the total amount is preferably 0.1 to 45 mass ppt, more preferably 1 to 24 mass ppt in total with respect to the total mass of the chemical solution. Further, a total of 2 to 10 mass ppt is more preferable.
  • the ions containing metal may be contained alone or in combination of two or more in the chemical solution. When a chemical
  • the content of one kind of ion in the chemical solution is the total amount of the chemical solution in that the chemical solution has the effect of the present invention.
  • 15 mass ppt or less is preferable with respect to mass, 11 mass ppt or less is more preferable, and 8 mass ppt or less is still more preferable.
  • limit especially as a minimum Generally 0.1 mass ppt or more is preferable.
  • the chemical solution contains 0.1 mass ppt or more of the above ions, impurities generated on the semiconductor substrate are more easily aggregated in the photolithography process, and defects are less likely to occur. Therefore, as a result, a short circuit is less likely to occur in the obtained semiconductor substrate.
  • medical solution contains 2 or more types of specific metal ions among the ions containing a metal
  • medical solution is 15 mass ppt or less with respect to the total mass of a chemical
  • 11 mass ppt or less is more preferable, and 8 mass ppt or less is still more preferable.
  • limit especially as a minimum, Generally 0.1 mass ppt or more is preferable.
  • the chemical solution contains the total amount of the above ions of 0.1 mass ppt or more, various impurities generated on the semiconductor substrate are more easily aggregated in the photolithography process, and defects are less likely to occur. Therefore, as a result, a short circuit is less likely to occur in the obtained semiconductor substrate.
  • the chemical solution may contain an organic impurity.
  • the definition of the organic impurity, the content measuring method in the chemical solution, and the preferred embodiment are as described above. Although it does not restrict
  • the organic impurity acts as a ligand for the metal and forms a complex with the metal.
  • a complex is highly hydrophobic and tends to remain on the surface of a semiconductor substrate treated with a chemical solution. Therefore, it is considered that the above complex containing a metal remains on the semiconductor substrate, resulting in a short circuit between the wirings.
  • the container for storing the chemical solution is not particularly limited, and a known container can be used.
  • a container for storing the chemical solution a container having a high cleanliness in the container and a small amount of impurity elution is preferable for semiconductor applications.
  • Specific examples of containers that can be used include, but are not limited to, “Clean Bottle” series manufactured by Aicello Chemical Co., Ltd., “Pure Bottle” manufactured by Kodama Resin Co., Ltd., and the like.
  • a container for the purpose of preventing contamination (contamination) of impurities in raw materials and chemicals, a multi-layer bottle having a six-layer structure with six kinds of resin on the inner wall of the container or a multi-layer bottle having a seven-layer structure with six kinds of resins is used. It is also preferable to use it.
  • these containers include containers described in JP-A-2015-123351.
  • the liquid contact part of this container is formed of a non-metallic material or stainless steel.
  • the non-metallic material include materials exemplified as the non-metallic material used in the liquid contact part of the distillation column described above.
  • an oligomer of ethylene or propylene is used as compared with using a container having a wetted part made of polyethylene resin, polypropylene resin, or polyethylene-polypropylene resin. Occurrence of the problem of elution can be suppressed.
  • liquid contact portion is polyfluorocarbon
  • the containers described in, for example, page 4 of Japanese Patent Publication No. 3-502677, page 3 of International Publication No. 2004/016526, and pages 9 and 16 of International Publication No. 99/46309 Can also be used.
  • it is set as the liquid-contact part of a nonmetallic material it is preferable that the elution to the chemical
  • medical solution is formed from stainless steel, and it is more preferable that it is formed from stainless steel electropolished.
  • impurity metals and / or organic impurities are less likely to elute in the chemical solution stored in the container.
  • the form of the stainless steel is as already described as the material of the wetted part of the distillation tower. The same applies to electropolished stainless steel.
  • the content mass ratio of the Cr atom content to the Fe atom content (hereinafter also referred to as “Cr / Fe”) in the stainless steel forming the wetted part of the container is not particularly limited. 5 to 4 is preferable, and more preferably, it is more than 0.5 and less than 3.5 in that the impurity metal and / or organic impurity is more difficult to elute in the chemical solution stored in the container.
  • Cr / Fe exceeds 0.5, metal elution from the inside of the container can be suppressed, and when Cr / Fe is less than 3.5, peeling of the inner container that causes particles is difficult to occur.
  • the method for adjusting Cr / Fe in the stainless steel is not particularly limited. The method for adjusting the content of Cr atoms in the stainless steel, and the content of chromium in the passive layer on the polished surface by electrolytic polishing. However, there is a method of increasing the chromium content of the parent phase.
  • the inside of the container is cleaned before storing the solution.
  • the chemical solution itself or a solution obtained by diluting the chemical solution is preferable.
  • the chemical solution may be transported and stored by bottling into a container such as a gallon bottle or a coated bottle after production.
  • the gallon bottle may be one using a glass material or the other.
  • the inside of the container may be replaced with an inert gas (such as nitrogen or argon) having a purity of 99.99995 volume% or more.
  • an inert gas such as nitrogen or argon
  • a gas having a low moisture content is preferable.
  • the temperature may be normal temperature, but the temperature may be controlled in the range of ⁇ 20 ° C. to 30 ° C. in order to prevent deterioration.
  • the chemical solution according to the above embodiment is preferably used for semiconductor manufacturing.
  • an organic substance is processed after the end of each process or before moving to the next process.
  • it is preferably used as a pre-wet liquid, a developer, a rinse liquid, a stripping liquid, and the like.
  • medical solution can be used also as a dilution liquid of resin contained in a resist liquid (after-mentioned).
  • medical solution can be used suitably also for uses other than the object for semiconductor manufacture, and can also be used as developing solutions, such as a polyimide, a resist for sensors, a resist for lenses, and a rinse solution.
  • medical solution can be used also as a solvent for a medical use or a washing
  • medical solution which concerns on the said embodiment is used more preferably for pre-wet use. That is, the chemical solution according to the above embodiment is preferably used as a pre-wet solution.
  • the cleaning solutions and the organic solvents described in Table 1 used high-purity grades having a purity of 99% by mass or more.
  • medical solution of each Example and a comparative example is as follows, and "1st filter”"2ndfilter” and "3rd filter” are in FIG.
  • the filters attached to the respective filtration devices 14 are shown in order from the pump 15 side.
  • IEX-PTFE (10 nm) Surfic acid: 10 nm IEX PTFE manufactured by Entegris (corresponding to a filter having a pore size of 10 nm containing a sulfo group on the surface of a base made of polytetrafluoroethylene, a metal ion adsorption filter. Hydrophilic filter Fall under) IEX-PTFE (10 nm) Imido: 10 nm IEX PTFE manufactured by Entegris (corresponds to a filter with a 10 nm pore size having an imide group on the surface of a polytetrafluoroethylene substrate and a metal ion adsorption filter. Corresponds to a hydrophilic filter.
  • IEX-PTFE (10 nm) carboxylic acid: 10 nm
  • IEX PTFE manufactured by Entegris (corresponding to a filter having a carboxy group on the surface of a polytetrafluoroethylene substrate having a pore diameter of 10 nm and a metal ion adsorption filter.
  • HDPE 10 nm
  • PP 20 nm
  • PP manufactured by Entegris, material: polypropylene, pore size 20 nm, corresponding to a hydrophobic filter.
  • HDPE (3 nm): manufactured by Entegris, material: high density polyethylene, pore diameter 3 nm, corresponding to a hydrophobic filter.
  • UPE (3 nm): manufactured by Entegris, material: ultra-high molecular weight polyethylene, pore diameter 3 nm, corresponding to a hydrophobic filter.
  • the sample introduction system used a quartz torch, a coaxial PFA (perfluoroalkoxyalkane) nebulizer (for self-priming), and a platinum interface cone.
  • the measurement parameters for the cool plasma conditions are as follows.
  • the short-circuit occurrence suppressing performance of the obtained chemical solution was measured by the following method.
  • a MOSFET (Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor) type test substrate was prepared by a photoresist process using each chemical solution described in the examples and comparative examples as a pre-wet solution.
  • the TDDB (Time Dependent Dielectric Breakdown) test was done and the short generation
  • the total charge Q bd was 60 [C / cm 2 ] or more.
  • D Total charge Q bd was less than 30 [C / cm 2].
  • “material” means a material component of the filter.
  • Table 1 for each row, the chemical solution purification method according to each Example and each Comparative Example, the properties of the obtained chemical solution, and the evaluation are shown in [Table 1] ⁇ 1> 1 to [Table 1] ⁇ 1. > No. 10 or [Table 1] ⁇ 2> No. 1 to [Table 1] ⁇ 2> No. 10 That is, in the case of the chemical solution of Example 45, the filter cleaning conditions were cyclohexanone (solubility parameter 19.6 (MPa) 1/2 ) as the cleaning solution, and each filter was passed through the cleaning solution and circulated 10 times. It was. This was repeated 3 sets as 1 set.
  • the content of metal particles in the test solution was the total mass of the test solution.
  • Fe-containing particles are 0.15 mass ppt
  • Al-containing particles are 0.13 mass ppt
  • Cr-containing particles are 0.05 mass ppt
  • Ni-containing particles are 0.07 mass ppt.
  • Particles containing Ti are 0.10 mass ppt, and the total of these is 0.50 mass ppt, and the total content including particles containing other metals (hereinafter simply referred to as “total particle”). ) was 1.5 mass ppt.
  • the content of ions containing metal in the test solution is 0.30 mass ppt for ions containing Fe, 0.25 mass ppt for ions containing Al, and Cr with respect to the total mass of the test solution.
  • the ion containing 0.10 mass ppt, the ion containing Ni is 0.13 mass ppt, the ion containing Ti is 0.20 mass ppt, and the total of these is 0.98 mass ppt, etc.
  • the total content (hereinafter simply referred to as “total total ions”) including ions containing the metals was 3.0 mass ppt.
  • content of the organic impurity in a test liquid was 0.50 mass ppm.
  • the content of metal particles in the test solution is 0.15 mass ppt of Fe-containing particles with respect to the total mass of the test solution, Al Particles containing 0.13 mass ppt, particles containing Cr 0.05 mass ppt, particles containing Ni 0.07 mass ppt, particles containing Ti 0.10 mass ppt, the sum of these Was 0.50 mass ppt, and the total particle size was 1.4 mass ppt.
  • the content of ions containing metal in the test solution is 0.30 mass ppt for ions containing Fe, 0.25 mass ppt for ions containing Al, and Cr with respect to the total mass of the test solution.
  • the content of the metal particles in the test solution is 0.15 mass ppt of Fe containing particles with respect to the total mass of the test solution, Al Particles containing 0.13 mass ppt, particles containing Cr 0.05 mass ppt, particles containing Ni 0.07 mass ppt, particles containing Ti 0.10 mass ppt, the sum of these Was 0.50 mass ppt, and the total particle size was 1.4 mass ppt.
  • the content of ions containing metal in the test solution is 0.30 mass ppt for ions containing Fe, 0.25 mass ppt for ions containing Al, and Cr with respect to the total mass of the test solution.
  • the filtration differential pressure was 120 kPa for the first to second stages (first filter to second filter) and 110 kPa for the second to third stages (second filter to third filter).
  • grains of metal contain 0.06 mass ppt of the particle
  • the short-circuit suppression performance of this chemical was “AA”. Examples and comparative examples other than those described above are also shown in Table 1 in the same manner as described above.
  • Example 45 in which the content of organic impurities in the test solution is 10 mass ppm or less, compared with the purification method of Example 47, the effects of the present invention are more excellent. It was possible to obtain a chemical solution having the same. Moreover, compared with the chemical
  • Example 45 in which the chemical liquid is purified through two or more filters as compared with the chemical liquid purification method of Example 1, the chemical liquid having the superior effect of the present invention is obtained. I was able to get it.
  • the chemical solution purification method of Example 45 in which the last filter through which the chemical solution passes is a hydrophilic filter, compared with the chemical solution purification method of Example 43, the chemical solution having the superior effect of the present invention can be obtained. I was able to get it.

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Abstract

本発明は、フォトリソグラフィプロセスにより製造される半導体基板において、ショートの発生を抑制できる薬液が得られる薬液の精製方法を提供することを課題とする。本発明は、薬液の製造方法、及び、薬液を提供することも課題とする。本発明の薬液の精製方法は、フィルタを用いて、被精製液をろ過する精製工程を有する、薬液の精製方法であって、フィルタとして、以下の試験における要件１又は要件２を満たすフィルタを用いる。試験：有機溶剤からなる試験液１５００ｍｌとフィルタとを、２３℃の条件下にて、２４時間接触させ、接触後の試験液におけるＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有する粒子の含有量が、所定の要件を満たす。

Description

薬液の精製方法、薬液の製造方法、及び、薬液
　本発明は、薬液の精製方法、薬液の製造方法、及び、薬液に関する。
　半導体デバイスの製造には、フォトリソグラフィプロセスが用いられている。フォトリソグラフィプロセスにおいては、半導体ウェハ（以下、「ウェハ」ともいう。）等の基板をプリウェットし、次に、感活性光線性又は感放射線性組成物（以下、「レジスト組成物」ともいう。）を塗布し、感活性光線性又は感放射線性膜（以下、「レジスト膜」ともいう。）を形成する。更に、形成されたレジスト膜を露光し、露光されたレジスト膜を現像して、現像後のレジスト膜をリンスして、ウェハ上にレジストパターンが形成される。
　近年、半導体デバイスの微細化に伴い、フォトリソグラフィーの各工程において基板上に発生し得る欠陥を抑制することが求められている。
　特許文献１には、「筐体とろ過膜が一体となった一体型ろ過器を具備する回転塗布装置を用いて、半導体装置製造用基板上にリソグラフィー用塗布膜形成用組成物を回転塗布し、リソグラフィー用塗布膜形成用組成物を塗布した半導体装置製造用基板を加熱することで、半導体装置製造用基板上にリソグラフィー用塗布膜を形成する方法であって、一体型ろ過器として、有機溶剤を毎分１０ｍｌの速度で２４時間循環させた際に抽出されるろ過器一個当たりの溶出物の重量が３ｍｇ以下のものを用いることを特徴とするリソグラフィー用塗布膜の形成方法」が記載されている。
特開２０１６－２０１４２６号公報
　本発明者らは、特許文献１に記載されたリソグラフィー用塗布膜の形成方法を用いて製造された半導体基板について検討したところ、欠陥の発生は抑制されるものの、得られる半導体基板において金属配線のショート（短絡）が発生する場合があることを知見した。
　そこで、本発明は、フォトリソグラフィプロセスにより製造される半導体基板において、ショートの発生を抑制できる（以下、「ショート発生抑制性能を有する」ともいう。）薬液が得られる薬液の精製方法を提供することを課題とする。
　また、本発明は、薬液の製造方法、及び、薬液を提供することも課題とする。
　本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。
　［１］　フィルタを用いて、有機溶剤を含有する被精製液をろ過する精製工程を有する、薬液の精製方法であって、フィルタとして、以下の試験における要件１又は要件２を満たすフィルタを用いる、薬液の精製方法。
試験：有機溶剤からなる試験液１５００ｍｌとフィルタとを、２３℃の条件下にて、２４時間接触させ、接触後の試験液中におけるＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有する粒子の含有量が、以下の要件１又は２を満たす。
要件１：試験液がＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有する粒子を１種含有する場合、試験液中における１種の粒子の含有量が５．０質量ｐｐｍ以下である。
要件２：試験液が、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有する粒子を２種以上含有する場合、試験液中における２種以上の粒子の合計含有量が５．０質量ｐｐｍ以下である。
　［２］　接触後の試験液がＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有するイオンを１種含有する場合、試験液中における１種のイオンの含有量が１０質量ｐｐｂ以下であり、接触後の試験液がＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有するイオンを２種以上含有する場合、試験液中における２種以上のイオンの合計含有量が１０質量ｐｐｂ以下である、［１］に記載の薬液の精製方法。
　［３］　接触後の試験液が有機不純物を含有する場合、試験液中における有機不純物の含有量が１０質量ｐｐｍ以下である、［１］又は［２］に記載の薬液の精製方法。
　［４］　有機不純物が、式（１）～（７）からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含有する、［３］に記載の薬液の精製方法。
　［５］　更に、精製工程の前に、洗浄液を用いて、フィルタを洗浄する工程を有し、
　洗浄液の溶解度パラメータが１６（ＭＰａ）１／２を超える、［１］～［４］のいずれかに記載の薬液の精製方法。
　［６］　洗浄液が、ジメチルスルホキシド、ｎ－メチルピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルホラン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロペンタノン、２－ヘプタノン、及び、γ－ブチロラクトンからなる群から選択される少なくとも１種である、［５］に記載の薬液の精製方法。
　［７］　フィルタが、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフルオロカーボン、セルロース、ケイソウ土、ポリスチレン、及び、ガラスからなる群から選択される少なくとも１種の材料成分からなる［１］～［６］のいずれかに記載の、薬液の精製方法。
　［８］　精製工程が、少なくとも２枚以上のフィルタに被精製物を通液して、被精製物をろ過する工程である、［８］に記載の薬液の精製方法。
　［９］　フィルタが、疎水性フィルタ、及び、親水性フィルタを少なくとも含む、［１］～［８］のいずれかに記載の薬液の精製方法。
　［１０］　精製工程において前記被精製液が通液される最も後段のフィルタが親水性フィルタである、［９］に記載の薬液の精製方法。
　［１１］　薬液をろ過する際のろ過差圧が２５０ｋＰａ以下である、［８］～［１０］のいずれかに記載の薬液の精製方法。
　［１２］　有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ－ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、及び、４－メチル－２－ペンタノールからなる群から選択される少なくとも１種である、［１］～［１１］のいずれかに記載の薬液の精製方法。
　［１３］　［１］～［１２］のいずれかに記載の薬液の精製方法を含有する薬液の製造方法。
　［１４］　［１３］に記載の薬液の製造方法により製造された薬液。
　［１５］　［１３］に記載の薬液の製造方法により製造され、有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ－ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、及び、４－メチル－２－ペンタノールからなる群から選択される少なくとも１種である、薬液。
　本発明によれば、ショート発生抑制性能を有する（以下、「本発明の効果を有する」ともいう。）薬液が得られる薬液の精製方法を提供することができる。
　また、本発明によれば、薬液の製造方法、及び、薬液を提供することもできる。
本発明の実施形態に係る薬液の製造方法を適用することができる薬液の製造装置の第一形態を示す概略図である。 本発明の実施形態に係る薬液の製造方法を適用することができる薬液の製造装置の第二形態を示す概略図である。 本発明の実施形態に係る薬液の製造方法を適用することができる薬液の製造装置の第三形態を示す概略図である。
　以下、本発明について詳細に説明する。
　以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に限定されるものではない。
　なお、本明細書において、「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
　また、本発明において「準備」というときには、特定の材料を合成又は調合して備えることのほか、購入等により所定の物を調達することを含む意味である。
　また、本発明において、「ｐｐｍ」は「parts-per-million（１０－６）」を意味し、「ｐｐｂ」は「parts-per-billion（１０－９）」を意味し、「ｐｐｔ」は「parts-per-trillion（１０－１２）」を意味し、「ｐｐｑ」は「parts-per-quadrillion（１０－１５）」を意味する。
　また、本発明において、１Å（オングストローム）は、０．１ｎｍに相当する。
　また、本発明における基（原子群）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、本発明の効果を損ねない範囲で、置換基を有さない基と共に置換基を有する基をも包含するものである。例えば、「炭化水素基」とは、置換基を有さない炭化水素基（無置換炭化水素基）のみならず、置換基を有する炭化水素基（置換炭化水素基）をも包含するものである。このことは、各化合物についても同義である。
　また、本発明における「放射線」とは、例えば、遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ；Extreme ultraviolet）、Ｘ線、又は、電子線等を意味する。また、本発明において光とは、活性光線又は放射線を意味する。本発明中における「露光」とは、特に断らない限り、遠紫外線、Ｘ線又はＥＵＶ等による露光のみならず、電子線又はイオンビーム等の粒子線による描画も露光に含める。
［薬液の精製方法］
　本発明の実施形態に係る薬液の精製方法は、フィルタを用いて、有機溶剤を含有する非精製液をろ過する精製工程を有する、薬液の精製方法であって、フィルタとして、後述する試験における要件１又は要件２を満たすフィルタを用いる、薬液の精製方法である。
　上記薬液の精製方法によれば、本発明の効果を有する薬液を精製することができる。
　本発明者らは、半導体基板において金属配線のショートが発生する原因について鋭意検討した結果、半導体基板上に特定の金属の粒子が存在すると、その金属の粒子が不純物を巻き込んで錯体を形成し、上記錯体が金属配線をショートさせる原因となり得ることを知見した。本発明者らは、上記特定の金属の粒子が、フォトリソグラフィーの各工程において使用される薬液に由来することを更に知見し、上記薬液中に含有される特定の金属の粒子を減少させる方法について更に検討を重ねた結果、有機溶剤を含有する被精製液をろ過する精製工程で用いられるフィルタとして、所定の要件を満たすものを用いると、得られる半導体基板における金属配線のショートが発生しにくい（ショート発生抑制性能を有する）薬液が得られることを知見し、本発明を完成させた。
　以下では、本発明に実施形態に係る薬液の精製方法について、工程ごとに説明する。
〔精製工程：薬液を精製する工程〕
（試験液中の特定金属を少なくとも１種含有する粒子の含有量）
　本発明の実施形態に係る薬液の精製方法は、フィルタを用いて、有機溶剤を含有する被精製液を精製する工程を有する。この際用いるフィルタは、以下の試験における要件１又は要件２を満たす。
　試験は、有機溶剤からなる試験液１５００ｍｌとフィルタとを、２３℃の条件下にて、２４時間接触させ、接触後の試験液中におけるＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉ（以下「特定金属」ともいう。）からなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有する粒子の含有量を測定するものである。なお、上記粒子としては、典型的には、Ｆｅを含有する粒子、Ａｌを含有する粒子、Ｃｒを含有する粒子、Ｎｉを含有する粒子、及び、Ｔｉを含有する粒子が挙げられるが、後述する測定方法によって粒子として検出されるものを意図し、特定金属同士が複合化した状態である粒子（例えば、ＦｅとＡｌとを含有する粒子）も含まれる。
　上記試験において、試験液は有機溶剤からなる。すなわち、試験液は、そのフィルタを用いて精製されるべき被精製物が含有する有機溶剤と同一種類の有機溶剤からなる。なお、精製する被精製物が、２種以上の有機溶剤の混合物である場合には、その混合物（同一種類の有機溶剤を、同一比率で混合したもの）を用いて試験を行う。なお、試験は、後述するクリーンルームで行われることが好ましい。
　フィルタから抽出される特定金属を少なくとも１種含有する粒子（以下「特定金属粒子」ともいう。）の量をより容易に評価できる点で、試験液には、試験前の段階で特定金属粒子が含有されていないことが好ましい。一方で、試験前の段階で、試験液に特定金属粒子が含有されている場合、まず、試験前の試験液中における特定金属粒子の含有量を測定し、試験後の試験液中における特定金属粒子の含有量を測定し、その差を計算し、本実施形態における「接触後の試験液中における特定金属粒子の含有量」とする。すなわち、「接触後の試験液中における特定金属粒子の含有量」とは、特定金属粒子の試験液への抽出量を意味する。
　なお、特定金属粒子の含有量の測定には、Ａｇｉｌｅｎｔ　８８００　トリプル四重極ＩＣＰ－ＭＳ（Ｉｎｄｕｃｔｉｖｅｌｙ　Ｃｏｕｐｌｅｄ　Ｐｌａｓｍａ－Ｍａｓｓ　Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ、半導体分析用、オプション＃２００）を用いる。上記測定装置によれば、試験液中における特定金属粒子の含有量を測定できる。なお、測定条件は、実施例に記載したとおりである。
　また、上述した装置の他、特定金属粒子の含有量の測定に使用し得る装置としては、ＰｅｒｋｉｎＥｌｍｅｒ社製　ＮｅｘＩＯＮ３５０Ｓのほか、例えば、アジレントテクノロジー社製、Ａｇｉｌｅｎｔ　８９００などが挙げられる。
　試験液とフィルタとを接触させる方法としては、典型的には、密閉容器に収容された試験液に、フィルタを浸漬し、恒温庫で保管する方法が挙げられる。次に、接触後の試験液からフィルタを取り出し、接触後の試験液中に含有される特定金属粒子の含有量を測定する。この際の測定方法は、すでに説明したとおりである。
・要件１
　要件１は、接触後の試験液が特定金属粒子を１種含有する場合、試験液中における特定金属粒子の含有量が、接触後の試験液の全質量に対して５．０質量ｐｐｍ以下である。
　なお、接触後の試験液が特定金属粒子を１種含有する場合、接触後の試験液中における特定金属粒子の含有量としては、接触後の試験液の全質量に対して０．３０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１０質量ｐｐｂ以下が更に好ましく、１．０質量ｐｐｂ以下が特に好ましい。下限値としては特に制限されないが、一般に０．０１質量ｐｐｔ以上が好ましい。
・要件２
　要件２は、接触後の試験液が、特定金属粒子を２種以上含有する場合、接触後の試験液中における２種以上の特定金属粒子の合計含有量が、接触後の試験液の全質量に対して５．０質量ｐｐｍ以下である。
　なお、接触後の試験液が特定金属粒子を２種以上含有する場合、接触後の試験液中における２種以上の特定金属粒子の合計含有量は、接触後の試験液の全質量に対して、０．３０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１０質量ｐｐｂ以下が更に好ましく、１．０質量ｐｐｂ以下が特に好ましい。下限値としては特に制限されないが、一般に０．０１質量ｐｐｔ以上が好ましい。
　接触後の試験液中は、特定金属以外の金属を含有する粒子を含有してもよい。接触後の試験液中における特定金属以外の金属を含有する粒子も含めた、金属粒子の合計含有量としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、接触後の試験液の全質量に対して、５．０質量ｐｐｍ以下が好ましく、１００質量ｐｐｂ以下がより好ましい。下限値としては特に制限されないが、一般に０．０１質量ｐｐｔ以上が好ましい。
　なお、接触後の試験液中における特定金属粒子の含有量の定義、及び、測定方法は、特定金属粒子の含有量の定義、及び、測定方法として説明したものと同様である。
（試験液中の特定金属を含有するイオンの含有量）
　本発明の実施形態に係る薬液の精製方法としては、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、上記接触後の試験液が、以下の要件３、又は、要件４を満たすことがより好ましい。
　要件３：接触後の試験液が特定金属を少なくとも１種含有するイオンを１種含有する場合、試験液中における１種のイオンの含有量が１０質量ｐｐｂ以下である。
　要件４：接触後の試験液が特定金属を少なくとも１種含有するイオンを２種以上含有する場合、試験液中における２種以上のイオンの合計含有量が１０質量ｐｐｂ以下である。
　なお、フィルタから抽出される特定金属を含有するイオン（以下「特定金属イオン」ともいう。）の量をより容易に評価できる点で、試験液には、試験前の段階で特定金属イオンが含有されていないことが好ましい。一方で、試験前の段階で、試験液に特定金属イオンが含有されている場合、まず、試験前の試験液中における特定金属イオンの含有量を測定し、試験後の試験液中における特定金属イオンの含有量を測定し、その差を計算し、本実施形態における「接触後の試験液中における特定金属イオンの含有量」とする。すなわち、「接触後の試験液中における特定金属イオンの含有量」とは、特定金属イオンの試験液への抽出量を意図する。
　また、本明細書において、特定金属イオンとは、特定金属自体のイオン（例えば、Ｆｅ２＋等が挙げられる。）、及び、特定金属を含有する錯イオン（例えば、［Ｎｉ（ＮＨ３）６］２＋等が挙げられる。）等を意図する。
　なお、特定金属イオンの含有量の測定には、Ａｇｉｌｅｎｔ　８８００　トリプル四重極ＩＣＰ－ＭＳ(半導体分析用、オプション＃２００）を用いる。上記測定装置によれば、試験液中における特定金属イオンの含有量を測定できる。なお、測定条件は、実施例に記載したとおりである。
・要件３
　要件３は、接触後の試験液が特定金属イオンを１種含有する場合、試験液中における１種のイオンの含有量が、接触後の試験液の全質量に対して、１０質量ｐｐｂ以下である。
　なお、接触後の試験液中が特定金属イオンを１種含有する場合、接触後の試験液中における特定金属イオンの含有量としては、接触後の試験液の全質量に対して３．５質量ｐｐｂ以下がより好ましく、１．０質量ｐｐｂ以下が特に好ましい。下限値としては特に制限されないが、一般に０．０１質量ｐｐｔ以上が好ましい。
・要件４
　要件４は、接触後の試験液が、特定金属イオンを２種以上含有する場合、接触後の試験液中における２種以上の特定金属イオンの合計含有量が、接触後の試験液の全質量に対して１０質量ｐｐｂ以下である。
　なお、接触後の試験液が特定金属イオンを２種以上含有する場合、接触後の試験液中における２種以上の特定金属イオンの合計含有量は、接触後の試験液の全質量に対して、３．５質量ｐｐｂ以下がより好ましく、１．０質量ｐｐｂ以下が特に好ましい。下限値としては特に制限されないが、一般に０．０１質量ｐｐｔ以上が好ましい。
（試験液中における有機不純物の含有量）
　本発明の実施形態に係る薬液の精製方法としては、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、上記試験液が、以下の要件５を満たすことがより好ましい。
要件５：試験液が有機不純物を含有する場合、試験液中における有機不純物の含有量が１０質量ｐｐｍ以下である。
　なお、本明細書において、有機不純物とは、有機溶剤とは異なる有機化合物であって、有機溶剤（薬液が有機溶剤の混合物を含有する、すなわち、試験液が有機溶剤の混合物である場合は、その混合物）の全質量に対して、１００００質量ｐｐｍ以下の含有量で含有される有機化合物を意図する。つまり、本明細書においては、上記有機溶剤の全質量に対して１００００質量ｐｐｍ以下の含有量で含有される有機化合物は、有機不純物に該当し、有機溶剤には該当しないものとする。
　なお、複数種の有機化合物が有機溶剤に含有される場合であって、各有機化合物が上述した１００００質量ｐｐｍ以下の含有量で含有される場合には、それぞれが有機不純物に該当する。
　なお、フィルタから抽出される有機不純物の量をより容易に評価できる点で、試験液には、試験前の段階で有機不純物が含有されていないことが好ましい。一方で、試験前の段階で、試験液に有機不純物が含有されている場合、まず、試験前の試験液中における有機不純物の含有量を測定し、試験後の試験液中における有機不純物の含有量を測定し、その差を計算し、本実施形態における「接触後の試験液中における有機不純物の含有量」とする。すなわち、「接触後の試験液中における有機不純物の含有量」とは、有機不純物の試験液への抽出量を意図する。
　なお、有機不純物の含有量の測定には、ガスクロマトグラフ質量分析装置（製品名「ＧＣＭＳ－２０２０」、島津製作所社製）を用いる。なお、測定条件は、実施例に記載したとおりである。また、特に制限されないが、有機不純物が高分子量化合物の場合には、Ｐｙ－ＱＴＯＦ／ＭＳ（パイロライザー四重極飛行時間型質量分析）、Ｐｙ－ＩＴ／ＭＳ（パイロライザーイオントラップ型質量分析）、Ｐｙ－Ｓｅｃｔｏｒ／ＭＳ（パイロライザー磁場型質量分析）、Ｐｙ－ＦＴＩＣＲ／ＭＳ（パイロライザーフーリエ変換イオンサイクロトロン型質量分析）、Ｐｙ－Ｑ／ＭＳ（パイロライザー四重極型質量分析）、及び、Ｐｙ－ＩＴ－ＴＯＦ／ＭＳ（パイロライザーイオントラップ飛行時間型質量分析）等の手法で分解物から構造の同定や濃度の定量をしても良い。例えば、Ｐｙ－ＱＴＯＦ／ＭＳは島津製作所社製等の装置を用いることができる。
・要件５
　要件５においては、接触後の試験液が有機不純物を含有する場合、試験液中における有機不純物の含有量が接触後の試験液の全質量に対して、１０質量ｐｐｍ以下であり、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、３．０質量ｐｐｍ以下がより好ましく、２．５質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限としては特に制限されないが、一般に０．１０質量ｐｐｍ以上が好ましい。
　有機不純物としては、例えば、以下の式Ｉ～Ｖで表される化合物が挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
　式Ｉ中、Ｒ１及びＲ２は、それぞれ独立に、アミノ基、アリール基、アルキル基、若しくは、シクロアルキル基を表すか、又は、互いに結合し、環を形成している。
　Ｒ１及びＲ２がアミノ基以外である場合の炭素数としては、特に制限されないが、一般に、１～２０であることが多い。
　式ＩＩ中、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立に、水素原子、アミノ基、アリール基、アルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、若しくは、シクロアルケニル基を表すか、又は、互いに結合して環を形成している。但し、Ｒ３及びＲ４の双方が水素原子であることはない。
　Ｒ３及びＲ４がアミノ基以外である場合の炭素数としては特に制限されないが、一般に１～２０であることが多い。
　式ＩＩＩ中、Ｒ５は、アルキル基、アリール基、又は、シクロアルキル基を表し、炭素数としては、一般に１～２０であることが多い。
　式ＩＶ中、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、若しくはシクロアルキル基を表すか、又は、互いに結合し、環を形成している。Ｒ６及びＲ７の炭素数としては特に制限されないが、一般に１～２０であることが多い。
　式Ｖ中、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立に、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、若しくは、シクロアルキル基を表すか、又は、互いに結合し、環を形成している。Ｌは、単結合、又は、２価の連結基を表す。
　Ｒ８及びＲ９の炭素数としては特に制限されないが、一般に１～２０であることが多い。
　また、有機不純物としては、式ＶＩで表される化合物も挙げられる。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
　式ＶＩ中、Ｒ６１～Ｒ６５はそれぞれ独立にアルキル基を表し、その炭素数としては特に制限されず、一般に１～１０であることが多い。
　要件５としては、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、有機不純物が、以下の式（１）～（７）からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含有することが好ましい。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
（フィルタ）
　本発明の実施形態における精製工程において、用いられるフィルタとしては特に制限されず、公知のフィルタを用いることができる。なかでも、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、フィルタとしては、ナイロン、ポリエチレン（高密度、及び、高分子量のものを含む）、ポリプロピレン（高密度、及び、高分子量のものを含む）、ポリフルオロカーボン（例えば、ポリテトラフルオロエチレン：ＰＴＦＥ等）、セルロース、ケイソウ土、ポリスチレン、及び、ガラスからなる群から選択される少なくとも１種の材料成分を含有することが好ましい。
　精製工程は、少なくとも２枚のフィルタに被精製液を通液してろ過する工程が好ましい。言い換えれば、少なくとも２枚のフィルタを直列に用いて、被精製液を２枚のフィルタに順次通液してろ過する工程が好ましい。なお、精製工程は、３枚以上のフィルタに被精製液を通液してろ過する工程がより好ましい。言い換えれば、精製工程は、２枚以上（好ましくは３枚以上）のフィルタを用いて、被精製液を精製する工程が好ましい。
　その際、第１フィルタ（被精製液をはじめに通液するフィルタ、前段のフィルタ）でのろ過は、１回のみでもよいし、２回以上行ってもよい。異なるフィルタを組み合わせて２回以上ろ過を行う場合には、各フィルタは、互いに同じ種類のものであってもよいし、互いに種類の異なるものであってもよい。
　なかでも、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、使用する２枚以上のフィルタは、疎水性フィルタ、及び、親水性フィルタを少なくとも含むことが好ましい。言い換えれば、２枚以上のフィルタを用いた精製工程においては、フィルタとして１枚以上の疎水性フィルタと、１枚以上の親水性フィルタとを用いることが好ましい。
　なお、明細書において疎水性とは、フィルタの２５℃における水接触角が、４５°以上であることを意図し、親水性とは、フィルタの２５℃における水接触角が４５°未満であることを意図する。
　精製工程が、２枚以上のフィルタを通して被精製液をろ過する工程である場合、被精製液を各フィルタに通す順番としては特に制限されないが、精製工程において、被精製液が通液される最も後段の（本明細書において、精製工程の最後に被精製液が通液するフィルタを「最も後段のフィルタ」という。）フィルタは、親水性フィルタが好ましい。親水性フィルタは、被精製液が含有する特定金属粒子、及び、特定金属を含有するイオンとの相互作用がより強く、上記をより吸着しやすい。従って、得られる薬液中における特定金属粒子、及び、特定金属を含有するイオンの含有量を所望の範囲に制御しやすくなる。
　なお、以下の説明では、第１フィルタ、及び、第２フィルタの用語を用いて２種以上のフィルタを通して被精製液をろ過する形態について説明する。ここで、第１フィルタは、第２フィルタより前に被精製液が通液されるフィルタ、を意味する。
　また、第１フィルタ、及び、第２フィルタは、それぞれ要件１又は要件２を満たすフィルタであり、要件３又は４、及び、要件５を満たすことが好ましい。
　精製工程が、２枚以上のフィルタに被精製液を順次通液して、被精製液をろ過する工程である場合、被精製液を通液際のフィルタの前後の差圧（以下、「ろ過差圧」ともいう。）としては特に制限されないが、２５０ｋＰａ以下が好ましく、２００ｋＰａ以下が好ましい。下限としては特に制限されないが、５０ｋＰａ以上が好ましい。ろ過差圧が２５０ｋＰａ以下であると、フィルタに過剰な圧が掛かるのを防止できるため溶出物の低減が期待できる。
　精製工程が、２枚以上のフィルタ通して被精製液をろ過する工程である場合、各フィルタの孔径の関係は特に制限されないが、異なっていることが好ましい。
　第１フィルタの孔径と比較して、第２フィルタの孔径が同じ、又は、小さい方が好ましい。また、異なる孔径の第１フィルタを２枚用いてもよい。
　なお、本明細書において、フィルタの孔径とは、フィルタメーカーの公称値を参照できる。市販のフィルタとしては、例えば、日本ポール株式会社、アドバンテック東洋株式会社、日本インテグリス株式会社（旧日本マイクロリス株式会社）又は株式会社キッツマイクロフィルタ等が提供する各種フィルタの中から選択できる。また、ポリアミド製の「Ｐ－ナイロンフィルター（孔径０．０２μｍ、臨界表面張力７７ｍＮ／ｍ）」；（日本ポール株式会社製）、高密度ポリエチレン製の「ＰＥ・クリーンフィルタ（孔径０．０２μｍ）」；（日本ポール株式会社製）、及び高密度ポリエチレン製の「ＰＥ・クリーンフィルタ（孔径０．０１μｍ）」；（日本ポール株式会社製）も使用できる。
　第２フィルタの孔径が第１フィルタより小さいものを用いる場合には、第２フィルタの孔径と第１フィルタの孔径との比（第２フィルタの孔径／第１フィルタの孔径）は、０．０１～０．９９が好ましく、０．１～０．９がより好ましく、０．２～０．９が更に好ましい。第２フィルタの孔径を上記範囲とすることにより、被精製液に混入している微細な異物がより確実に除去される。
　得られた薬液の保管に際して、薬液中における特定金属粒子、及び、特定金属を含有するイオンの増加を抑制する観点からは、薬液と、フィルタの材質との関係は、フィルタの材質から導き出せるハンセン溶解度パラメータ空間における相互作用半径（Ｒ０）と、薬液に含有される有機溶剤から導き出せるハンセン空間の球の半径（Ｒａ）とした場合のＲａとＲ０の関係式（Ｒａ／Ｒ０）≦１を満たす組み合わせであって、これらの関係式を満たすフィルタ材質で精製された薬液であることが好ましい。（Ｒａ／Ｒ０）≦０．９８が好ましく、（Ｒａ／Ｒ０）≦０．９５がより好ましい。下限としては、０．５以上が好ましく、０．６以上がより好ましく、０．７が更に好ましい。メカニズムは定かではないが、この範囲内であると、長期保管時における薬液中における特定金属粒子及びイオン含有量の増加が抑制される。
　これらのフィルタ及び、有機溶剤の組み合わせとしては、特に限定されないが、米国ＵＳ２０１６／００８９６２２号公報のものが挙げられる。
　ろ過圧力はろ過精度に影響を与えることから、ろ過時における圧力の脈動は可能な限り少ない方が好ましい。
　ろ過速度は特に限定されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、１．０Ｌ／分／ｍ２以上が好ましく、０．７５Ｌ／分／ｍ２以上がより好ましく、０．６Ｌ／分／ｍ２以上が更に好ましい。
　フィルタにはフィルタ性能（フィルタが壊れない）を保障する耐差圧が設定されており、この値が大きい場合にはろ過圧力を高めることでろ過速度を高めることができる。つまり、上記ろ過速度上限は、通常、フィルタの耐差圧に依存するが、通常、１０．０Ｌ／分／ｍ２以下が好ましい。一方で、ろ過圧力を下げることで薬液中に溶解している粒子状の異物又は不純物の量を効率的に低下させることができ、目的に応じて圧力を調整できる。
　ろ過圧力は、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、０．００１～１．０ＭＰａが好ましく、０．００３～０．５ＭＰａがより好ましく、０．００５～０．３ＭＰａが更に好ましい。特に、孔径が小さいフィルタを使用する場合には、ろ過の圧力を下げることで薬液に溶解している粒子状の異物又は不純物の量を効率的に低下させることができる。孔径が２０ｎｍより小さいフィルタを使用する場合には、ろ過の圧力は、０．００５～０．３ＭＰａであることが特に好ましい。
　また、ろ過フィルタのポアサイズが小さくなるとろ過速度が低下する。しかし、同種のろ過フィルタを、複数個で、並列に接続することでろ過面積が拡大してろ過圧力が下がるので、これにより、ろ過速度低下を補償することが可能になる。
　精製工程は、以下の各工程を有することがより好ましい。なお、精製工程は、以下の各工程を１回有してもよいし、複数回有してもよい。また、以下の各工程の順序は特に制限されない。なお、以下の工程で使用される各フィルタは、上記要件１又は要件２を満たすフィルタであり、要件３又は要件４、及び、要件５を満たすフィルタが好ましい。
１．粒子除去工程
２．金属イオン除去工程
３．有機不純物除去工程
　以下では、上記工程について、それぞれ説明する。
＜粒子除去工程＞
　精製工程は、粒子除去工程を有してもよい。粒子除去工程は、粒子除去フィルタを用いて、被精製液中の、粒子を除去する工程である。
　粒子除去フィルタの形態としては、特に制限されないが、例えば、除粒子径が２０ｎｍ以下のフィルタが挙げられる。
　なお、フィルタの除粒子径としては、１～１５ｎｍが好ましく、１～１２ｎｍがより好ましい。除粒子径が１５ｎｍ以下だと、より微細な粒子を除去でき、除粒子径が１ｎｍ以上だと、ろ過効率が向上する。
　ここで、除粒子径とは、フィルタが除去可能な粒子の最小サイズを意味する。例えば、フィルタの除粒子径が２０ｎｍである場合には、直径２０ｎｍ以上の粒子を除去可能である。
　粒子除去フィルタの材質としては、例えば、６－ナイロン、及び６、６－ナイロンなどのナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリアミドイミド、並びに、ポリフルオロカーボン等が挙げられる。
　ポリイミド、及び／又は、ポリアミドイミドは、カルボキシ基、塩型カルボキシ基及び－ＮＨ－結合からなる群より選択される少なくとも１つを有するものであってもよい。耐溶剤性については、ポリフルオロカーボン、ポリイミド及び／又はポリアミドイミドが優れる。また、金属イオンを吸着する観点からは、６－ナイロン、及び６、６－ナイロンなどのナイロン、が特に好ましい。
　精製工程が、粒子除去工程を有する場合、粒子除去フィルタを複数用いてもよい。粒子除去フィルタを複数用いる場合、更に、一方のフィルタとしては、除粒子径が５０ｎｍ以上のフィルタ（例えば、孔径が５０ｎｍ以上の微粒子除去用の精密濾過膜）が好ましい。被精製液に、コロイド化した不純物等の微粒子が存在する場合には、除粒子径が２０ｎｍ以下であるフィルタ（例えば、孔径が２０ｎｍ以下の精密濾過膜）を用いて濾過する前に、除粒子径が５０ｎｍ以上のフィルタ（例えば、孔径が５０ｎｍ以上の微粒子除去用の精密濾過膜）を用いて被精製液のろ過を実施することで、除粒子径が２０ｎｍ以下であるフィルタ（例えば、孔径が２０ｎｍ以下の精密ろ過膜）のろ過効率が向上し、粒子の除去性能がより向上する。
＜金属イオン除去工程＞
　精製工程は、金属イオン除去工程を有してもよい。金属イオン除去工程は、被精製液を金属イオン吸着フィルタに通過させる工程が好ましい。
　金属イオン吸着フィルタとしては特に制限されず、公知の金属イオン吸着フィルタが挙げられる。
　なかでも、金属イオン吸着フィルタとしては、イオン交換可能なフィルタが好ましい。ここで、吸着対象となる金属イオンは、特定金属を含有するイオン、及び、それ以外の金属を含有するイオンが挙げられる。金属イオン吸着フィルタは、金属イオンの吸着性能が向上するという観点から、表面に酸基を含有することが好ましい。酸基としては、スルホ基、及び、カルボキシ基等が挙げられる。
　金属イオン吸着フィルタを構成する基材（材質）としては、セルロース、ケイソウ土、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、及び、ポリフルオロカーボン等が挙げられる。金属イオンを吸着する効率の観点からは、ナイロンが特に好ましい。
＜有機不純物除去工程＞
　精製工程は、有機不純物除去工程を有してもよい。有機不純物除去工程としては、被精製液を有機不純物吸着フィルタに通過させる工程が好ましい。
　有機不純物吸着フィルタとしては特に制限されず、公知の有機不純物吸着フィルタが挙げられる。
　なかでも、有機不純物吸着フィルタとしては、有機不純物の吸着性能が向上する点で、有機不純物と相互作用可能な有機物骨格を表面に有すること（言い換えれば、有機不純物と相互作用可能な有機物骨格によって表面が修飾されていること）が好ましい。有機不純物と相互作用可能な有機物骨格としては、例えば、有機不純物と反応して有機不純物を有機不純物吸着フィルタに捕捉できるような化学構造が挙げられる。より具体的には、有機不純物としてｎ－長鎖アルキルアルコール（有機溶剤として１－長鎖アルキルアルコールを用いた場合の構造異性体）を含有する場合には、有機物骨格としては、アルキル基が挙げられる。また、有機不純物としてジブチルヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）を含む場合には、有機物骨格としてはフェニル基が挙げられる。
　有機不純物吸着フィルタを構成する基材（材質）としては、活性炭を担持したセルロース、ケイソウ土、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、及び、ポリフルオロカーボン等が挙げられる。
　また、有機不純物吸着フィルタには、特開２００２－２７３１２３号公報及び特開２０１３－１５０９７９号公報に記載の活性炭を不織布に固着したフィルタも使用できる。
　有機不純物吸着フィルタとしては、上記で示した化学吸着（有機不純物と相互作用可能な有機物骨格を表面に有する有機不純物吸着フィルタを用いた吸着）以外に、物理的な吸着方法も適用できる。
　例えば、有機不純物としてＢＨＴを含む場合、ＢＨＴの構造は１０オングストローム（＝１ｎｍ）よりも大きい。そのため、孔径が１ｎｍの有機不純物吸着フィルタを用いることで、ＢＨＴはフィルタの孔を通過できない。つまり、ＢＨＴは、フィルタによって物理的に捕捉されるので、被精製液から除去される。このように、有機不純物の除去は、化学的な相互作用だけでなく物理的な除去方法を適用することでも可能である。ただし、この場合には、３ｎｍ以上の孔径のフィルタが「粒子除去フィルタ」として用いられ、３ｎｍ未満の孔径のフィルタが「有機不純物吸着フィルタ」として用いられる。
〔洗浄工程：フィルタを洗浄する工程〕
　本発明の実施形態に係る薬液の精製方法は、フィルタを洗浄する工程を更に有することが好ましい。フィルタを洗浄する方法としては特に制限されないが、洗浄液にフィルタを浸漬する、洗浄液をフィルタに通液する、及び、それらを組み合わせる方法が挙げられる。
　フィルタを洗浄することによって、上記試験液に係る各要件を満足するよう、フィルタから抽出される成分の量をコントロールすることが容易となり、結果として、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる。
　洗浄液としては特に制限されず、公知の洗浄液を用いることができる。洗浄液としては特に制限されず、水、及び、有機溶剤等が挙げられる。有機溶剤としては、薬液が含有し得る有機溶剤、例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキルエステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、環状ラクトン（好ましくは炭素数４～１０）、環を有してもよいモノケトン化合物（好ましくは炭素数４～１０）、アルキレンカーボネート、アルコキシ酢酸アルキル、及び、ピルビン酸アルキル等であってもよい。
　より具体的には、洗浄液としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルスルホキシド、ｎ－メチルピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルホラン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロペンタノン、２－ヘプタノン、及び、γ－ブチロラクトン、並びに、これらの混合物等が挙げられる。
　なかでも、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、洗浄液の溶解度パラメータが、１６（ＭＰａ）１／２を超えることが好ましく、１８．０以上がより好ましく、１８．９以上が更に好ましい。溶解度パラメータの上限値としては特に制限されないが、一般に３０．０以下が好ましい。
　溶解度パラメータとは分子凝集エネルギーの平方根で表される値である。Ｐｏｌｙｍｅｒ  ＨａｎｄＢｏｏｋ（Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ）第ＩＶ章 Ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ Ｐａｒａｍｅｔｅｒ Ｖａｌｕｅｓに記載があり、その値を本明細書における溶解度パラメータとする。また、単位は（ＭＰａ）１／２であり、２５℃における値を指す。
　なお、データの記載がないものについては、Ｒ．Ｆ．Ｆｅｄｏｒｓ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  Ｓｃｉｅｎｃｅ，１４，ｐ１４７－１５４（１９７４）に記載の方法で計算した値を本明細書における溶解度パラメータとする。
　また、洗浄液が２種以上の溶剤の混合溶剤である場合、洗浄液の溶解度パラメータは、混合した各溶剤の体積分率と各溶剤の溶解度パラメータとの積の和とする。例えば、水（溶解度パラメータ：２３．４）とアセトン（溶解度パラメータ：１０．０）とを水／アセトン＝０．５／０．５（体積比）で混合した混合溶剤の溶解度パラメータは、２３．４×０．５＋１０．０×０．５＝１６．７である。
　なかでも、より優れた本発明の効果を有する点で、洗浄液としてはジメチルスルホキシド（２６．７）、ｎ－メチルピロリドン（２３．０）、ジエチレングリコール（２９．１）、エチレングリコール（２８．５）、ジプロピレングリコール（３１．２）、プロピレングリコール（３０．２）、炭酸エチレン（２９．６）、炭酸プロピレン（２７．６）、スルホラン（２５．９）、シクロヘキサノン（１９．６）、シクロヘプタノン（１９．７）、シクロペンタノン（１８．９）、２－ヘプタノン（２１．２）、及び、γ－ブチロラクトン（２５．５）からなる群から選択される少なくとも１種が好ましい。
［薬液の製造方法］
　本発明の実施形態に係る薬液の製造方法は、既に説明した薬液の精製方法を有する薬液の製造方法である。以下では、図１～３を用いて、本発明の実施形態に係る薬液の製造方法について説明する。
（第一形態）
　図１は、本発明の実施形態に係る薬液の製造方法を適用することができる薬液の製造装置の第一形態を示す概略図である。図１に示す薬液の製造装置１０においては、タンク１１と、充填装置１２とが、管路１３で連結されており、図１中の矢印Ｆに沿って被精製液が移送される。管路１３の途中には、ろ過装置１４が３つ連続して設けられており、それぞれのろ過装置１４は１つのフィルタを有している。被精製液は、まず、タンク１１に貯留される。次に、弁１６が開かれて、ポンプ１５が稼動すると、被精製液は、矢印Ｆに沿って、充填装置１２に移送される。この間、被精製液は、３つのろ過装置１４が有するフィルタを順に通ってろ過される。
　なお、製造装置１０においては、ろ過装置に導入した被精製液の全量をフィルタでろ過する、全量ろ過方式（デッドエンド方式）の装置を例示するが、本発明の実施形態に係る精製装置としては上記に制限されず、導入した被精製液を精製済み被精製液と濃縮液とに分離する（更に濃縮液を再度被精製液としてフィルタに導入する場合もある）クロスフロー方式のろ過装置であってもよく、これらを組合せた方式であってもよい。
　なお、図１の薬液の製造装置１０は、ろ過装置１４を３つ備える形態を示しているが、本発明の実施形態に係る薬液の製造方法を適用することができる薬液の製造装置としてはこれに制限されず、少なくとも１つのろ過装置１４を備えていればよい。
・精製工程（第一形態）
　本実施形態に係る薬液の製造方法は、既に説明した薬液の精製方法を有する。薬液の製造装置１０を用いて、薬液を精製する方法としては、典型的には、タンク１１に貯留した被精製液を、矢印Ｆの方向に移送し、ろ過装置１４を通過させることによって行われる。このとき、使用されるフィルタは、既に説明した所定の要件を満たすフィルタである。
・洗浄工程（第一形態）
　本実施形態に係る薬液の製造方法は、既に説明した洗浄工程を有することが好ましい。薬液の製造方法が洗浄工程を有する場合、フィルタの洗浄は、上記薬液の製造装置１０の外で行われてもよい。言い換えれば、製造装置１０が備えるろ過装置１４からフィルタを外して、図示しない洗浄装置（例えば、洗浄槽等）を用いてフィルタを洗浄し、洗浄後のフィルタを薬液の製造装置１０に装着すればよい。
　また、フィルタの洗浄は、上記薬液の製造装置１０を用いて行うこともできる。すなわち、タンク１１に洗浄液を貯留する。次に、洗浄液を矢印Ｆに沿って充填装置１２まで移送する。この間、洗浄液によって、各ろ過装置１４（及びこれに装着されたフィルタ）と、管路１３とが洗浄される。この方法によれば、フィルタに加えてタンク１１、及び、管路１３等の接液部を同時に洗浄することができるため好ましい。
（第二形態）
　図２は、本発明の実施形態に係る薬液の製造方法を適用することができる薬液の製造装置の第二形態を示す概略図である。図２に示す薬液の製造装置２０においては、タンク１１と、充填装置１２とが、管路１３で連結されており、管路１３の途中には、３つのろ過装置１４が連続して備えられており、それぞれのろ過装置１４は１つのフィルタを含有している。また、ろ過装置１４の後には、タンク１１に連結する循環管路２１と管路１３とを連結する弁２２が備えられている。
・精製工程（第二形態）
　被精製液は、まず、タンク１１に貯留される。次に、弁１６が開かれ、ポンプ１５が稼動し、被精製液は、３つのろ過装置１４が含有するフィルタを順に通ってろ過される。ろ過された被精製液は、更に、弁２２を経て循環管路２１を通って再びタンク１１に戻る（図２中の矢印Ｆ１）。薬液の製造装置２０は、循環管路２１を備えるため、精製工程において、被精製液を循環させながら、各ろ過装置１４を２回以上通過させる、循環ろ過を行うことができる。
　すなわち、タンク１１に戻ったろ過済みの被精製液は、再びポンプ１５によって管路１３中に備えられたろ過装置１４を通過させてろ過される。このとき、被精製液は、再び循環管路２１からタンク１１に戻してもよいし、弁２２から管路１３を経て充填装置１２に送液されてもよい。
・洗浄工程（第二形態）
　本実施形態に係る薬液の製造方法は既に説明した洗浄工程を有することが好ましい。薬液の製造方法が洗浄工程を有する場合、フィルタの洗浄は、上記薬液の製造装置２０を用いて行うこともできる。すなわち、タンク１１に洗浄液を貯留し、洗浄液を矢印Ｆ２に沿ってタンク１１まで循環移送する間に、各ろ過装置１４（及びこれに装着されたフィルタ）と、管路１３とを洗浄液を通過させることにより洗浄すればよい。更に、タンク１１に循環移送された洗浄液を再度用いて上記を繰り返してもよい（循環洗浄）。この方法によれば、フィルタが所望の清浄度となるまで、洗浄液を循環させながらより効率的にフィルタを洗浄することができる。
（第三形態）
　図３は、本発明の実施形態に係る薬液の製造方法を適用することができる薬液の製造装置の第三形態を示す概略図である。図３に示す薬液の製造装置３０においては、タンク１１と、充填装置１２とが、管路１３で連結されており、管路１３の途中には、３つのろ過装置１４が連続して備えられており、それぞれのろ過装置１４は１つのフィルタを含有している。また、ろ過装置１４の後には、タンク１１に連結する循環管路２１と管路１３とを連結する弁２２が備えられている。
　また、薬液の製造装置３０は、蒸留塔３１を備え、蒸留塔３１は、蒸留管路３２を通じてタンク１１と連結している。また、タンク１１は、管路１３、弁３３、蒸留塔循環管路３４、及び、弁３５を通じて、原料投入管路３６と連結しており、原料投入管路３６は蒸留塔３１と連結している。
・精製工程（第三形態）
　薬液の製造装置３０においては、被精製液は、まず、原料投入管路３６から、蒸留塔３１に導入され、蒸留塔３１で蒸留される。蒸留された被精製液は、図示しない濃縮装置によって濃縮され、蒸留管路３２を経てタンク１１に貯留される。タンク１１に貯留された被精製液は、図中のＦ１の経路で循環ろ過されるか、又は、図中のＦ２の経路でろ過される。上記経路によって被精製液を精製する方法としては、第一形態、及び、第二形態で説明したのと同様である。
・洗浄工程（第三形態）
　本実施形態に係る薬液の製造方法は既に説明した洗浄工程を有することが好ましい。薬液の製造方法が洗浄工程を有する場合、フィルタの洗浄は、上記薬液の製造装置３０を用いて行うこともできる。すなわち、タンク１１に洗浄液を貯留し、洗浄液を矢印Ｆ１に沿ってタンク１１まで循環移送する間に、洗浄液を、各ろ過装置１４（及びこれに装着されたフィルタ）と、管路１３とを通過させることにより洗浄すればよい。更に、タンク１１に循環移送された洗浄液を再度用いて上記を繰り返してもよい（循環洗浄）。この方法によれば、所望の清浄度となるまで、洗浄液を循環させながらより効率的にフィルタを洗浄することができる。
　また、タンク１１に貯留された洗浄液を蒸留塔循環管路３４、及び、原料投入管路３６を経て蒸留塔３１へ導入（矢印Ｆ３）し、洗浄液を蒸留してから、図示しない濃縮装置で濃縮し、蒸留管路３２を経て再びタンク１１へ洗浄液を循環移送（矢印Ｆ４）してもよい。上記の方法によれば、フィルタだけでなく、各管路、及び、蒸留塔３１の接液部もあわせて洗浄することができる。
〔その他の工程〕
　本発明の実施形態に係る薬液の製造方法は、上記以外にも、本発明の効果を損なわない範囲内において、他の工程を有してもよい。他の工程としては例えば、蒸留工程、イオン交換工程、及び、除電工程が挙げられる。
＜蒸留工程＞
　蒸留工程は、被精製液を蒸留して不純物を除去する工程を意図する。
　上記蒸留工程で用いることができる蒸留塔の一形態としては、例えば、蒸留塔の接液部（接液部の定義は後述する）が、非金属材料、及び、電解研磨された金属材料からなる群から選択される少なくとも１種から形成される蒸留塔が挙げられる。
　なお、非金属材料、及び、電解研磨された金属材料の形態は後述する。
＜イオン交換工程＞
　イオン交換工程は、被精製液をイオン交換ユニットに通過させる工程を意図する。被精製液をイオン交換ユニットに通過させる方法としては特に制限されず、既に説明した薬液の製造装置の管路の途中に、イオン交換ユニットを配置し、上記イオン交換ユニットに、加圧又は無加圧で有機溶剤を通過させる方法が挙げられる。
　イオン交換ユニットとしては特に制限されず、公知のイオン交換ユニットを用いることができる。イオン交換ユニットとしては、例えば、塔状の容器内にイオン交換樹脂を収容したもの、及び、イオン吸着膜等が挙げられる。
　イオン交換工程の一形態としては、イオン交換樹脂としてカチオン交換樹脂又はアニオン交換樹脂を単床で設けたもの、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを複床で設けたもの、及び、カチオン交換樹脂とアニオン交換樹脂とを混床で設けたものを用いる工程が挙げられる。
　イオン交換樹脂としては、イオン交換樹脂からの水分溶出を低減させるために、極力水分を含まない乾燥樹脂を使用することが好ましい。このような乾燥樹脂としては、市販品を用いることができ、オルガノ社製の１５ＪＳ－ＨＧ・ＤＲＹ（商品名、乾燥カチオン交換樹脂、水分２％以下）、及びＭＳＰＳ２－１・ＤＲＹ（商品名、混床樹脂、水分１０％以下）等が挙げられる。上記イオン交換工程は、既に説明した蒸留工程の前に実施されることが好ましい。
　イオン交換工程の他の形態としては、イオン吸着膜を用いる工程が挙げられる。
　イオン吸着膜を用いることで、高流速での処理が可能である。なお、イオン吸着膜としては特に制限されないが、例えば、ネオセプタ（商品名、アストム社製）等が挙げられる。
　上記イオン交換工程は、既に説明した蒸留工程の後に実施されることが好ましい。上記イオン交換工程を経ることで、製造装置内で蓄積した不純物が流出した場合にこれを除去でき、移送管路として利用されるステンレス鋼（ＳＵＳ）等の配管からの溶出物を除去できる。
＜除電工程＞
　除電工程は、被精製液を除電することで、帯電電位を低減させる工程を意図する。
　除電方法としては特に制限されず、公知の除電方法を用いることができる。除電方法としては、例えば、被精製液を導電性材料に接触させる方法が挙げられる。
　被精製液を導電性材料に接触させる接触時間は、０．００１～６０秒が好ましく、０．００１～１秒がより好ましく、０．０１～０．１秒が更に好ましい。導電性材料としては、ステンレス鋼、金、白金、ダイヤモンド、及びグラッシーカーボン等が挙げられる。
　被精製液を導電性材料に接触させる方法としては、例えば、導電性材料からなる接地されたメッシュを管路内部に配置し、ここに被精製液を通す方法等が挙げられる。
　製造装置の接液部（接液部の定義については後述する。）の材料としては特に制限されないが、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる点で、非金属材料、及び、電解研磨された金属材料からなる群から選択される少なくとも１種から形成されることが好ましい。なお、本明細書において、「接液部」とは、流体が接する可能性がある部位（例えば、タンク内面、送液ポンプ、ダンパー、パッキン、Ｏリング、及び、管路内面等）で、かつ、その表面から厚み１００ｎｍの領域を意図する。
　非金属材料としては、特に限定されないが、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン－ポリプロピレン樹脂、又は、パーフルオロ樹脂などのフッ素含有樹脂材料が好ましく、金属原子の溶出が少ない観点から、フッ素含有樹脂がより好ましい。
　フッ素含有樹脂としては、パーフルオロ樹脂などが挙げられ、四フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、四フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体（ＰＦＡ）、四フッ化エチレン－六フッ化プロピレン共重合樹脂（ＦＥＰ）、四フッ化エチレン－エチレン共重合体樹脂（ＥＴＦＥ）、三フッ化塩化エチレン－エチレン共重合樹脂（ＥＣＴＦＥ）、フッ化ビニリデン樹脂（ＰＶＤＦ）、三フッ化塩化エチレン共重合樹脂（ＰＣＴＦＥ）、及び、フッ化ビニル樹脂（ＰＶＦ）等が挙げられる。
　フッ素含有樹脂としては、四フッ化エチレン樹脂、四フッ化エチレン・パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、又は、四フッ化エチレン－六フッ化プロピレン共重合樹脂が好ましい。
　上記金属材料としては、特に制限されず、公知の材料を用いることができる。
　金属材料としては、例えば、クロム及びニッケルの含有量の合計が金属材料全質量に対して２５質量％超である金属材料が挙げられ、なかでも、３０質量％以上がより好ましい。金属材料におけるクロム及びニッケルの含有量の合計の上限値としては特に制限されないが、一般に９０質量％以下が好ましい。
　金属材料としては、例えば、ステンレス鋼、炭素鋼、合金鋼、ニッケルクロムモリブデン鋼、クロム鋼、クロムモリブデン鋼、マンガン鋼、及びニッケル－クロム合金等が挙げられる。
　ステンレス鋼としては、特に制限されず、公知のステンレス鋼を用いることができる。なかでも、ニッケルを８質量％以上含有する合金が好ましく、ニッケルを８質量％以上含有するオーステナイト系ステンレス鋼がより好ましい。オーステナイト系ステンレス鋼としては、例えば、ＳＵＳ（Steel Use Stainless）３０４（Ｎｉ含有量８質量％、Ｃｒ含有量１８質量％）、ＳＵＳ３０４Ｌ（Ｎｉ含有量９質量％、Ｃｒ含有量１８質量％）、ＳＵＳ３１６（Ｎｉ含有量１０質量％、Ｃｒ含有量１６質量％）、及びＳＵＳ３１６Ｌ（Ｎｉ含有量１２質量％、Ｃｒ含有量１６質量％）等が挙げられる。
　ニッケル－クロム合金としては、特に制限されず、公知のニッケル－クロム合金を用いることができる。なかでも、ニッケル含有量が４０～７５質量％、クロム含有量が１～３０質量％のニッケル－クロム合金が好ましい。
　ニッケル－クロム合金としては、例えば、ハステロイ（商品名、以下同じ。）、モネル（商品名、以下同じ）、及びインコネル（商品名、以下同じ）等が挙げられる。より具体的には、ハステロイＣ－２７６（Ｎｉ含有量６３質量％、Ｃｒ含有量１６質量％）、ハステロイ－Ｃ（Ｎｉ含有量６０質量％、Ｃｒ含有量１７質量％）、及び、ハステロイＣ－２２（Ｎｉ含有量６１質量％、Ｃｒ含有量２２質量％）等が挙げられる。
　また、ニッケル－クロム合金は、必要に応じて、上記した合金の他に、更に、ホウ素、ケイ素、タングステン、モリブデン、銅、及びコバルト等を含有していてもよい。
　金属材料を電解研磨する方法としては特に制限されず、公知の方法を用いることができる。例えば、特開２０１５－２２７５０１号公報の００１１～００１４段落、及び、特開２００８－２６４９２９号公報の００３６～００４２段落等に記載された方法を用いることができる。
　金属材料は、電解研磨されることにより表面の不動態層におけるクロムの含有量が、母相のクロムの含有量よりも多くなっているものと推測される。そのため、接液部が電解研磨された金属材料から形成された蒸留塔からは、有機溶剤中に金属原子を含有する金属不純物が流出しにくいため、不純物含有量が低減された蒸留済みの有機溶剤を得ることができるものと推測される。
　なお、金属材料はバフ研磨されていてもよい。バフ研磨の方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。バフ研磨の仕上げに用いられる研磨砥粒のサイズは特に制限されないが、金属材料の表面の凹凸がより小さくなりやすい点で、＃４００以下が好ましい。なお、バフ研磨は、電解研磨の前に行われることが好ましい。
　より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる点で、接液部は電解研磨されたステンレス鋼から形成されることが好ましい。特に、製造装置がタンクを備える場合、タンクの接液部が電解研磨されたステンレス鋼から形成されることがより好ましい。接液部におけるＦｅの含有量に対するＣｒの含有量の含有質量比（以下、「Ｃｒ／Ｆｅ」ともいう。）としては特に制限されないが、一般に、０．５～４が好ましく、なかでも、処理液中に金属不純物、及び／又は、有機不純物がより溶出しにくい点で、０．５を超え、３．５未満がより好ましく、０．７以上、３．０以下がより好ましい。Ｃｒ／Ｆｅが０．５を超えると、タンク内からの金属溶出を抑えることができ、Ｃｒ／Ｆｅが３．５未満だとパーティクルの原因となる接液部のはがれ等が起きにくい。
　上記金属材料中のＣｒ／Ｆｅを調整する方法としては特に制限されず、金属材料中のＣｒ原子の含有量を調整する方法、及び、電解研磨により、研磨表面の不動態層におけるクロムの含有量が、母相のクロムの含有量よりも多くする方法等が挙げられる。
　金属材料は皮膜技術が適用されていてもよい。
　皮膜技術には、金属被覆（各種メッキ）、無機被覆（各種化成処理、ガラス、コンクリート、及び、セラミックス等）、及び、有機被覆（さび止め油、塗料、ゴム、及び、プラスチックス）の３種に大別されている。
　好ましい皮膜技術としては、錆止め油、錆止め剤、腐食抑制剤、キレート化合物、可剥性プラスチック、及び、ライニング剤等による表面処理が挙げられる。
　なかでも、各種のクロム酸塩、亜硝酸塩、ケイ酸塩、燐酸塩、オレイン酸、ダイマー酸、ナフテン酸等のカルボン酸、カルボン酸金属石鹸、スルホン酸塩、アミン塩、及び、エステル（高級脂肪酸のグリセリンエステルや燐酸エステル）等の腐食抑制剤；エチレンジアンテトラ酢酸、グルコン酸、ニトリロトリ酢酸、ヒドロキシエチルエチオレンジアミン三作酸、及び、ジエチレントリアミン五作酸等などのキレート化合物；フッ素樹脂ライニング等による表面処理が好ましい。より好ましいのは、燐酸塩処理又はフッ素樹脂ライニングによる表面処理である。
〔クリーンルーム〕
　上記薬液の精製、製造、容器の開封及び／又は洗浄、溶液の収容等を含めた取り扱い、処理分析、及び、測定は、全てクリーンルームで行うことが好ましい。クリーンルームは、１４６４４－１クリーンルーム基準を満たすことが好ましい。ＩＳＯ（国際標準化機構）クラス１、ＩＳＯクラス２、ＩＳＯクラス３、及び、ＩＳＯクラス４のいずれかを満たすことが好ましく、ＩＳＯクラス１又はＩＳＯクラス２を満たすことがより好ましく、ＩＳＯクラス１を満たすことが更に好ましい。
［薬液］
　本実施形態に係る薬液中における有機溶剤の含有量としては特に制限されないが、一般に薬液の全質量に対して、９７．０～９９．９９９質量％が好ましく、９９．９～９９．９質量％が好ましい。有機溶剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。２種以上の有機溶剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
　なお、本明細書において、有機溶剤とは、上記薬液の全質量に対して、１成分あたり１００００質量ｐｐｍを超えた含有量で含有される液状の有機化合物を意図する。つまり、本明細書においては、上記薬液の全質量に対して１００００質量ｐｐｍを超えて含有される液状の有機化合物は、有機溶剤に該当するものとする。
　なお、本明細書において液状とは、２５℃、大気圧下において、液体であることを意図する。
　上記有機溶剤の種類としては特に制限されず、公知の有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキルエステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、環状ラクトン（好ましくは炭素数４～１０）、環を有してもよいモノケトン化合物（好ましくは炭素数４～１０）、アルキレンカーボネート、アルコキシ酢酸アルキル、及び、ピルビン酸アルキル等が挙げられる。
　また、有機溶剤としては、例えば、特開２０１６－５７６１４号公報、特開２０１４－２１９６６４号公報、特開２０１６－１３８２１９号公報、及び、特開２０１５－１３５３７９号公報に記載のものを用いてもよい。
　有機溶剤としては、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＥＥ）、プロピレングリコールモノプロピルエーテル（ＰＧＰＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、乳酸エチル（ＥＬ）、メトキシプロピオン酸メチル（ＭＰＭ）、シクロペンタノン（ＣｙＰｎ）、シクロヘキサノン（ＣｙＨｅ）、γ－ブチロラクトン（ＧＢＬ）、ジイソアミルエーテル（ＤＩＡＥ）、酢酸ブチル（ｎＢＡ）、酢酸イソアミル（ｉＡＡ）、イソプロパノール（ＩＰＡ）、及び、４－メチル－２－ペンタノール（ＭＩＢＣ）からなる群から選択される少なくとも１種を含有することが好ましく、プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＥ）、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、乳酸エチル（ＥＬ）、メトキシプロピオン酸メチル（ＭＰＭ）、シクロヘキサノン（ＣｙＨｅ）、γ－ブチロラクトン（ＧＢＬ）、酢酸ブチル（ｎＢＡ）、酢酸イソアミル（ｉＡＡ）、イソプロパノール（ＩＰＡ）、及び、４－メチル－２－ペンタノール（ＭＩＢＣ）からなる群から選択される少なくとも１種を含有することがより好ましい。なお、有機溶剤は１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
　薬液は、有機溶剤以外のその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、金属不純物、有機不純物、界面活性剤、及び、水等が挙げられる。
〔金属不純物〕
　薬液は、金属不純物を含有することが好ましい。本明細書において金属不純物とは、金属を含有する粒子と、金属を含有するイオンの合計含有量を意図する。なお、薬液中における金属を含有する粒子、及び、金属を含有するイオンの含有量の測定には、Ａｇｉｌｅｎｔ　８８００　トリプル四重極ＩＣＰ－ＭＳ半導体分析用、オプション＃２００）を用いることができる。なお、測定条件は実施例に記載したとおりである。
＜金属を含有する粒子＞
　薬液中における金属を含有する粒子の含有量としては特に制限されないが、一般に、薬液の全質量に対して、合計で０．１～４０質量ｐｐｔが好ましく、合計で１～２５質量ｐｐｔがより好ましく、合計で１～１７質量ｐｐｔが更に好ましく、１～１３質量ｐｐｔが特に好ましい。金属を含有する粒子は、薬液中に、１種を単独で含有されていても、２種以上が含有されていてもよい。薬液が金属を含有する粒子を２種以上含有する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
　なかでも、薬液がより優れた本発明の効果を有する点で、金属を含有する粒子のうち、特定金属粒子を１種含有する場合、薬液中における１種の粒子の含有量が、薬液の全質量に対して１５質量ｐｐｔ以下が好ましく、１０質量ｐｐｔ以下がより好ましく、７質量ｐｐｔ以下が更に好ましく、３質量ｐｐｔ以下が特に好ましい。下限としては特に制限されないが、一般に０．０１質量ｐｐｔ以上が好ましい。薬液が、上記の粒子を０．０１質量ｐｐｔ以上含有すると、フォトリソグラフィー工程において、半導体基板上に発生する様々な不純物をより凝集させやすく、欠陥が発生しにくい。従って、結果として、得られる半導体基板には、ショートがより発生しにくい。
　また、薬液が、金属を含有する粒子のうち、特定金属粒子を２種以上含有する場合、薬液中における２種以上の粒子の合計含有量が薬液の全質量に対して１５質量ｐｐｔ以下が好ましく、１０質量ｐｐｔ以下がより好ましく、７質量ｐｐｔ以下が更に好ましく、３質量ｐｐｔ以下が特に好ましい。下限としては特に制限されないが、一般に０．０１質量ｐｐｔ以上が好ましい。薬液が、上記の粒子を合計０．０１質量ｐｐｔ以上含有すると、フォトリソグラフィー工程において、半導体基板上に発生する不純物をより凝集させやすく、欠陥が発生しにくい。従って、結果として、得られる半導体基板には、ショートがより発生しにくい。
　本発明者らの検討によれば、特定金属（粒子及びイオン、中でも特に粒子）は、フォトリソグラフィー工程において、様々な不純物を巻き込んで導電性の錯体を形成しやすいことを知見しており、特に、薬液中の特定金属の粒子を所定の範囲以下とすることにより、薬液はより優れたショート発生抑制性能を有する。
＜金属を含有するイオン＞
　薬液中における金属を含有するイオンの含有量としては特に制限されないが、一般に、薬液の全質量に対して、合計で０．１～４５質量ｐｐｔが好ましく、合計で１～２４質量ｐｐｔがより好ましく、合計で２～１０質量ｐｐｔが更に好ましい。金属を含有するイオンは、薬液中に、１種を単独で含有されていても、２種以上が含有されていてもよい。薬液が金属を含有するイオンを２種以上含有する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
　なかでも、薬液がより優れた本発明の効果を有する点で、金属を含有するイオンのうち、特定金属イオンを１種含有する場合、薬液中における１種のイオンの含有量が、薬液の全質量に対して１５質量ｐｐｔ以下が好ましく、１１質量ｐｐｔ以下がより好ましく、８質量ｐｐｔ以下が更に好ましい。下限としては特に制限されないが、一般に０．１質量ｐｐｔ以上が好ましい。薬液が、上記のイオンを０．１質量ｐｐｔ以上含有すると、フォトリソグラフィー工程において、半導体基板上に発生する不純物をより凝集させやすく、欠陥が発生しにくい。従って、結果として、得られる半導体基板には、ショートがより発生しにくい。
　また、薬液が、金属を含有するイオンのうち、特定金属イオンを２種以上含有する場合、薬液中における２種以上のイオンの合計含有量が、薬液の全質量に対して１５質量ｐｐｔ以下が好ましく、１１質量ｐｐｔ以下がより好ましく、８質量ｐｐｔ以下が更に好ましい。下限としては特に制限されないが、一般に０．１質量ｐｐｔ以上が好ましい。薬液が、上記のイオンを合計０．１質量ｐｐｔ以上含有すると、フォトリソグラフィー工程において、半導体基板上に発生する様々な不純物をより凝集させやすく、欠陥が発生しにくい。従って、結果として、得られる半導体基板には、ショートがより発生しにくい。
〔有機不純物〕
　薬液は、有機不純物を含有してもよい。有機不純物の定義、薬液中における含有量測定方法、及び、好適形態について既に説明したとおりである。
　薬液中における有機不純物の含有量としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有する薬液が得られる点で、薬液の全質量に対して３０質量ｐｐｍ以下が好ましく、１０質量ｐｐｍ以下がより好ましく３質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１．９質量ｐｐｍ以下がより好ましい。下限値としては特に制限されないが、有機不純物を含有しないことが好ましい。
　薬液が有機不純物を含有する場合、有機不純物は金属に対して配位子として振る舞い、金属と錯体を形成する。この様な錯体は疎水性が高く、薬液を用いて処理した半導体基板表面に残存しやすい。そのため、金属を含有する上記の錯体が半導体基板上に残る結果となり、結果的に配線間のショートの原因になると考えられる。
〔容器〕
　上記薬液は、使用時まで一時的に容器内に保管してもよい。上記薬液を保管するための容器としては特に制限されず、公知の容器を用いることができる。
　上記薬液を保管する容器としては、半導体用途向けに、容器内のクリーン度が高く、不純物の溶出が少ないものが好ましい。
　使用可能な容器としては、具体的には、アイセロ化学（株）製の「クリーンボトル」シリーズ、及び、コダマ樹脂工業製の「ピュアボトル」等が挙げられるが、これらに限定されない。
　容器としては、原材料及び薬液への不純物混入（コンタミ）防止を目的として、容器内壁を６種の樹脂による６層構造とした多層ボトル、又は、６種の樹脂による７層構造とした多層ボトルを使用することも好ましい。これらの容器としては例えば特開２０１５－１２３３５１号公報に記載の容器が挙げられる。
　この容器の接液部は、非金属材料、又は、ステンレス鋼により形成されたものであることが好ましい。
　非金属材料としては、上述した蒸留塔の接液部に用いられる非金属材料で例示した材料が挙げられる。
　特に、上記のなかでも、接液部がポリフルオロカーボンである容器を用いる場合、接液部がポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、又はポリエチレン－ポリプロピレン樹脂である容器を用いる場合と比べて、エチレン又はプロピレンのオリゴマーの溶出という不具合の発生を抑制できる。
　このような接液部がポリフルオロカーボンである容器の具体例としては、例えば、Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製　ＦｌｕｏｒｏＰｕｒｅＰＦＡ複合ドラム等が挙げられる。また、特表平３－５０２６７７号公報の第４頁等、国際公開第２００４／０１６５２６号の第３頁等、及び、国際公開第９９／４６３０９号の第９頁及び１６頁等に記載の容器も用いることができる。なお、非金属材料の接液部とする場合、非金属材料中の薬液への溶出が抑制されていることが好ましい。
　容器としては、薬液と接触する接液部が、ステンレス鋼から形成されることも好ましく、電解研磨されたステンレス鋼から形成されることがより好ましい。
　上記容器に薬液を収容した場合、容器内で保管される薬液中に、不純物金属、及び／又は、有機不純物がより溶出しにくい。
　上記ステンレス鋼の形態としては、蒸留塔の接液部の材質として既に説明したとおりである。また、電解研磨されたステンレス鋼についても同様である。
　上記容器の接液部を形成するステンレス鋼中におけるＦｅ原子の含有量に対するＣｒ原子の含有量の含有質量比（以下、「Ｃｒ／Ｆｅ」ともいう。）としては特に制限されないが、一般に、０．５～４が好ましく、なかでも、容器内で保管される薬液中に不純物金属、及び／又は、有機不純物が更に溶出しにくい点で、０．５を超え、３．５未満がより好ましい。Ｃｒ／Ｆｅが０．５を超えると、容器内からの金属溶出を抑えることができ、Ｃｒ／Ｆｅが３．５未満だとパーティクルの原因となる内容器のはがれ等が起きにくい。
　上記ステンレス鋼中のＣｒ／Ｆｅを調整する方法としては特に制限されず、ステンレス鋼中のＣｒ原子の含有量を調整する方法、及び、電解研磨により、研磨表面の不動態層におけるクロムの含有量が、母相のクロムの含有量よりも多くする方法等が挙げられる。
　容器は、溶液を収容前にその内部が洗浄されることが好ましい。洗浄に用いる液体としては、上記薬液そのもの、又は、上記薬液を希釈したものが好ましい。上記薬液は、製造後にガロン瓶又はコート瓶等の容器にボトリングし、輸送、保管されてもよい。ガロン瓶はガラス材料を使用したものであってもそれ以外であってもよい。
　保管における溶液中の成分の変化を防ぐ目的で、容器内を純度９９．９９９９５体積％以上の不活性ガス（チッソ、又はアルゴン等）で置換しておいてもよい。特に、含水率が少ないガスが好ましい。また、輸送、保管に際しては、常温でもよいが、変質を防ぐため、－２０℃から３０℃の範囲に温度制御してもよい。
〔薬液の用途〕
　上記実施形態に係る薬液は、半導体製造用に好ましく用いられる。具体的には、リソグラフィー工程、エッチング工程、イオン注入工程、及び、剥離工程等を含有する半導体デバイスの製造工程において、各工程の終了後、又は、次の工程に移る前に、有機物を処理するために使用され、具体的にはプリウェット液、現像液、リンス液、及び、剥離液等として好適に用いられる。例えばレジスト塗布前後の半導体基板のエッジエラインのリンスにも使用することができる。
　また、上記薬液は、レジスト液（後述する）に含有される樹脂の希釈液としても用いることができる。また、他の有機溶剤、及び／又は、水等により希釈してもよい。
　また、上記薬液は、半導体製造用以外の他の用途でも好適に用いることができ、ポリイミド、センサー用レジスト、レンズ用レジスト等の現像液、及び、リンス液等としても使用することができる。
　また、上記薬液は、医療用途又は洗浄用途の溶媒としても用いることができる。特に、容器、配管、及び、基板（例えば、ウェハ、及び、ガラス等）等の洗浄に好適に用いることができる。
　なかでも、上記実施形態に係る薬液は、プリウェット用としてより好ましく用いられる。すなわち、上記実施形態に係る薬液は、プリウェット液として用いることが好ましい。
　以下に実施例に基づいて本発明を更に詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
［薬液の製造］
　図３に記載した薬液の製造装置を用いて、有機溶剤を精製して薬液を製造した。
　各薬液の精製は、表１に記載した各フィルタを使用した。各フィルタは、表１に記載した方法で洗浄した。
　次に、各フィルタを表１に記載した各有機溶剤（表中の「試験液」欄に記載した。）１５００ｍｌに、２３℃で、２４時間接触させ、試験液を得た。
　得られた試験液中における金属の粒子の含有量、金属を含有するイオンの含有量、及び、有機不純物の含有量をそれぞれ後述する方法により測定して、その結果を表１の各欄に記載した。
　次に、上記洗浄後の各フィルタを図３に記載した薬液の製造装置にとりつけ、表１に記載した条件で有機溶剤を精製した。
　このようにして得られた薬液について、薬液中における金属の粒子の含有量、金属を含有するイオン、及び、有機不純物の含有量を後述する方法により測定した。
　なお、実施例、及び、比較例に係る薬液の製造に際し、表１に記載した洗浄液、及び、有機溶剤は、純度９９質量％以上の高純度グレードを用いた。
　なお、各実施例、及び、比較例の薬液の精製において用いた各フィルタの略号は以下のとおりであり、「第１フィルタ」「第２フィルタ」及び「第３フィルタ」とは、図３における薬液の製造装置において、ポンプ１５側から順に、各ろ過装置１４装着されたフィルタを表している。
・Ｎｙｌｏｎ　（５ｎｍ）：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製、材質：ナイロン、孔径５ｎｍ、親水性フィルタに該当する。
・ＰＥ（５ｎｍ）：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製、材質：ポリエチレン、孔径５ｎｍ、疎水性フィルタに該当する。
・ＰＴＦＥ（１０ｎｍ）：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製、材質：ポリテトラフルオロエチレン、孔径１０ｎｍ、疎水性フィルタに該当する。
・ＰＴＦＥ（２０ｎｍ）：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製、材質：ポリテトラフルオロエチレン、孔径２０ｎｍ、疎水性フィルタに該当する。
・ＩＥＸ－ＰＴＦＥ　（１０ｎｍ）ｓｕｒｆｒｉｃ　ａｃｉｄ：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製の１０ｎｍ　ＩＥＸ　ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン製の基材の表面にスルホ基を含有する孔径１０ｎｍのフィルタ、金属イオン吸着フィルタに該当する。親水性フィルタに該当する。）
・ＩＥＸ－ＰＴＦＥ　（１０ｎｍ）Ｉｍｉｄｏ：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製の１０ｎｍ　ＩＥＸ　ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン製の基材の表面にイミド基を有する孔径１０ｎｍのフィルタ、金属イオン吸着フィルタに該当する。親水性フィルタに該当する。）
・ＩＥＸ－ＰＴＦＥ　（１０ｎｍ）ｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ　ａｃｉｄ：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製の１０ｎｍ　ＩＥＸ　ＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン製の基材の表面にカルボキシ基を有する孔径１０ｎｍのフィルタ、金属イオン吸着フィルタに該当する。親水性フィルタに該当する。）
・ＨＤＰＥ（１０ｎｍ）：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製、材質：高密度ポリエチレン、孔径１０ｎｍ、疎水性フィルタに該当する。
・ＰＰ（２０ｎｍ）：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製、材質：ポリプロピレン、孔径２０ｎｍ、疎水性フィルタに該当する。
・ＨＤＰＥ　（３ｎｍ）：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製、材質：高密度ポリエチレン、孔径３ｎｍ、疎水性フィルタに該当する。
・ＵＰＥ（３ｎｍ）：Ｅｎｔｅｇｒｉｓ社製、材質：超高分子量ポリエチレン、孔径３ｎｍ、疎水性フィルタに該当する。
　表中の各洗浄液、及び、有機溶剤の略号は以下のとおりである。
・ＣｙＨｅ：シクロヘキサノン
・ＤＭＳＯ：ジメチルスルホキシド
・ＮＭＰ：ｎ－メチルピロリドン
・ＤＥＧ：ジエチレングリコール
・ＥＧ：エチレングリコール
・ＤＰＧ：ジプロピレングリコール
・ＰＧ：プロピレングリコール
・ＥＣ：炭酸エチレン
・ＰＣ：炭酸プロピレン
・Ｓｕｌｆｏｌａｎｅ：スルホラン
・ＣｙＰｎ：シクロペンタノン
・ＭＡＫ：２－ヘプタノン
・ＧＢＬ：ガンマブチロラクトン
・ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
・ＰＧＭＥ：プロピレングリコールモノメチルエーテル
・ＰＧＥＥ：プロピレングリコールモノエチルエーテル
・ＰＧＰＥ：プロピレングリコールモノプロピルエーテル
・ＥＬ：乳酸エチル
・ＭＰＭ：メトキシプロピオン酸メチル
・ＤＩＡＥ：ジイソアミルエーテル
・ｎＢＡ：酢酸ブチル
・ｉＡＡ：酢酸イソアミル
・ＩＰＡ：イソプロパノール
・ＭＩＢＣ：４－メチル－２－ペンタノール
＜試験液、及び、薬液中における、金属の粒子等の含有量の測定方法＞
　各実施例、及び、比較例に係る、試験液、及び、薬液中における金属の粒子の含有量、及び、金属を含有するイオンの含有量は以下の方法を用いて測定した。
　測定には、Ａｇｉｌｅｎｔ　８８００　トリプル四重極ＩＣＰ－ＭＳ（半導体分析用、オプション＃２００）を用いた。上記測定装置によれば、各測定試料中における粒子である金属と、それ以外の金属（例えば、イオン等）とを分類し、それぞれの含有量を測定することができる。
・測定条件
　サンプル導入系は石英のトーチと同軸型ＰＦＡ（パーフルオロアルコキシアルカン）ネブライザ（自吸用）、及び、白金インターフェースコーンを使用した。クールプラズマ条件の測定パラメータは以下のとおりである。
・ＲＦ（Ｒａｄｉｏ　Ｆｒｅｑｕｅｎｃｙ）出力（Ｗ）：６００
・キャリアガス流量（Ｌ／ｍｉｎ）：０．７
・メークアップガス流量（Ｌ／ｍｉｎ）：１
・サンプリング深さ（ｍｍ）：１８
＜試験液、及び、薬液中における有機不純物の含有量＞
　試験液、及び、薬液中における有機不純物の含有量は、ガスクロマトグラフ質量分析装置（製品名「ＧＣＭＳ－２０２０」、島津製作所社製、測定条件は以下のとおり）を用いて測定した。
（測定条件）
キャピラリーカラム：ＩｎｅｒｔＣａｐ　５ＭＳ／ＮＰ　０．２５ｍｍＩ．Ｄ．　×３０ｍ　ｄｆ＝０．２５μｍ
試料導入法：スプリット　７５ｋＰａ　圧力一定
気化室温度　：２３０℃
カラムオーブン温度：８０℃（２ｍｉｎ）－５００℃（１３ｍｉｎ）昇温速度１５℃／ｍｉｎ
キャリアガス：ヘリウム
セプタムパージ流量：５ｍＬ／ｍｉｎ
スプリット比：２５：１
インターフェイス温度：２５０℃
イオン源温度：２００℃
測定モード：Ｓｃａｎ　ｍ／ｚ＝８５～５００
試料導入量：１μＬ
　なお、上記方法により試験液、及び、薬液中に含有される有機不純物の含有量を測定したところいずれの薬液についても、式（１）～（７）からなる群から選択される少なくとも１種の有機不純物を含有していた。
［ショート発生抑制性能］
　得られた薬液のショート発生抑制性能は以下の方法により測定した。
　実施例及び比較例に記載した各薬液をプリウェット液として用いて、フォトレジストプロセスによってＭＯＳＦＥＴ（Ｍｅｔａｌ-Ｏｘｉｄｅ-Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ　Ｆｉｅｌｄ-Ｅｆｆｅｃｔ　Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）型テスト基板を作製した。得られたテスト基板についてＴＤＤＢ（Ｔｉｍｅ  Ｄｅｐｅｎｄｅｎｔ  Ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｂｒｅａｋｄｏｗｎ）試験を行い、薬液のショート発生抑制性能を評価した。具体的には、２５℃の環境下で、テスト基板に２０ｍＡ／ｃｍ２の一定電流密度をかけ、ゲート絶縁膜の絶縁破壊が起きるまでの総電荷量Ｑｂｄ［単位：Ｃ／ｃｍ２］を測定した。結果は以下の基準により評価し、表１に示した。
　ＡＡ：総電荷量Ｑｂｄが６０［Ｃ／ｃｍ２］以上だった。
　Ａ：総電荷量Ｑｂｄが５０［Ｃ／ｃｍ２］以上、６０［Ｃ／ｃｍ２］未満だった。
　Ｂ：総電荷量Ｑｂｄが４０［Ｃ／ｃｍ２］以上、５０［Ｃ／ｃｍ２］未満だった。
　Ｃ：総電荷量Ｑｂｄが３０［Ｃ／ｃｍ２］以上、４０［Ｃ／ｃｍ２］未満だった。
　Ｄ：総電荷量Ｑｂｄが３０［Ｃ／ｃｍ２］未満だった。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
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　表中、「材質」とあるのは、フィルタの材料成分を意味する。
　なお、表１では、行ごとに各実施例及び各比較例に係る薬液の精製方法及び得られた薬液の性状、及び、評価について［表１］＜１＞その１～［表１］＜１＞その１０、又は、［表１］＜２＞その１～［表１］＜２＞その１０にわたって記載した。すなわち、実施例４５の薬液であれば、フィルタの洗浄条件は、洗浄液としてシクロヘキサノン（溶解度パラメータ１９．６（ＭＰａ）１／２）を用い、洗浄液にて各フィルタを通液し、１０回循環させた。これを１セットとして３セット繰り返した。次に試験液としてシクロヘキサノンを用い、所定の方法により試験を行ったところ、洗浄後の第１フィルタに係る試験結果としては、試験液中における金属の粒子の含有量は、試験液の全質量に対して、Ｆｅを含有する粒子が０．１５質量ｐｐｔ、Ａｌを含有する粒子が０．１３質量ｐｐｔ、Ｃｒを含有する粒子が０．０５質量ｐｐｔ、Ｎｉを含有する粒子が０．０７質量ｐｐｔ、Ｔｉを含有する粒子が０．１０質量ｐｐｔであり、これらの合計が０．５０質量ｐｐｔであり、他の金属を含有する粒子も含めた合計含有量（以下単に「粒子全合計」という。）が１．５質量ｐｐｔであった。また、試験液中における金属を含有するイオンの含有量は、試験液の全質量に対して、Ｆｅを含有するイオンが０．３０質量ｐｐｔ、Ａｌを含有するイオンが０．２５質量ｐｐｔ、Ｃｒを含有するイオンが０．１０質量ｐｐｔ、Ｎｉを含有するイオンが０．１３質量ｐｐｔ、Ｔｉを含有するイオンが０．２０質量ｐｐｔであり、これらの合計が０．９８質量ｐｐｔであり、他の金属を含有するイオンも含めた合計含有量（以下単に「イオン全合計」という。）が３．０質量ｐｐｔであった。また、試験液中における有機不純物の含有量が０．５０質量ｐｐｍであった。
　次に、洗浄後の第２フィルタに係る試験結果としては、試験液中における金属の粒子の含有量は、試験液の全質量に対して、Ｆｅを含有する粒子が０．１５質量ｐｐｔ、Ａｌを含有する粒子が０．１３質量ｐｐｔ、Ｃｒを含有する粒子が０．０５質量ｐｐｔ、Ｎｉを含有する粒子が０．０７質量ｐｐｔ、Ｔｉを含有する粒子が０．１０質量ｐｐｔ、これらの合計が０．５０質量ｐｐｔであり、粒子全合計が１．４質量ｐｐｔであった。また、試験液中における金属を含有するイオンの含有量は、試験液の全質量に対して、Ｆｅを含有するイオンが０．３０質量ｐｐｔ、Ａｌを含有するイオンが０．２５質量ｐｐｔ、Ｃｒを含有するイオンが０．１０質量ｐｐｔ、Ｎｉを含有するイオンが０．１３質量ｐｐｔ、Ｔｉを含有するイオンが０．２０質量ｐｐｔ、これらの合計が０．９８質量ｐｐｔであり、イオン全合計が２．９質量ｐｐｔであった。また、試験液中における有機不純物の含有量が０．４０質量ｐｐｍであった。
　次に、洗浄後の第３フィルタに係る試験結果としては、試験液中における金属の粒子の含有量は、試験液の全質量に対して、Ｆｅを含有する粒子が０．１５質量ｐｐｔ、Ａｌを含有する粒子が０．１３質量ｐｐｔ、Ｃｒを含有する粒子が０．０５質量ｐｐｔ、Ｎｉを含有する粒子が０．０７質量ｐｐｔ、Ｔｉを含有する粒子が０．１０質量ｐｐｔ、これらの合計が０．５０質量ｐｐｔであり、粒子全合計が１．４質量ｐｐｔであった。また、試験液中における金属を含有するイオンの含有量は、試験液の全質量に対して、Ｆｅを含有するイオンが０．３０質量ｐｐｔ、Ａｌを含有するイオンが０．２５質量ｐｐｔ、Ｃｒを含有するイオンが０．１０質量ｐｐｔ、Ｎｉを含有するイオンが０．１３質量ｐｐｔ、Ｔｉを含有するイオンが０．２０質量ｐｐｔ、これらの合計が０．９８質量ｐｐｔであり、イオン全合計が２．９質量ｐｐｔであった。また、試験液中における有機不純物の含有量が０．３２質量ｐｐｍであった。
　また、薬液の精製条件として、第１フィルタには、ＩＥＸ－ＰＴＦＥ　（１０ｎｍ）ｃａｒｂｏｘｙｌｉｃ　ａｃｉｄ（親水性）を、第２フィルタには、ＰＴＦＥ　（１０ｎｍ）（親水性）を、第３フィルタには、Ｎｙｌｏｎ　（５ｎｍ）（親水性）を用いた。ろ過差圧は、１から２段目（第１フィルタから第２フィルタ）が１２０ｋＰａ、２から３段目（第２フィルタから第３フィルタ）が１１０ｋＰａだった。
　また、洗浄後の薬液中には、金属の粒子が、薬液の全質量に対して、Ｆｅを含有する粒子が０．０８質量ｐｐｔ、Ａｌを含有する粒子が０．０６質量ｐｐｔ、Ｃｒを含有する粒子が０．０３質量ｐｐｔ、Ｎｉを含有する粒子が０．０３質量ｐｐｔ、Ｔｉを含有する粒子が０．０５質量ｐｐｔ、これらの合計として０．２５質量ｐｐｔで、粒子全合計として、０．８質量ｐｐｔ含有され、金属を含有するイオンの含有量が、薬液の全質量に対して、Ｆｅを含有するイオンが０．３０質量ｐｐｔ、Ａｌを含有するイオンが０．２５質量ｐｐｔ、Ｃｒを含有するイオンが０．１０質量ｐｐｔ、Ｎｉを含有するイオンが０．１３質量ｐｐｔ、Ｔｉを含有するイオンが０．２０質量ｐｐｔ、これらの合計が０．７８質量ｐｐｔであり、イオン全合計として３．０質量ｐｐｔ含有され、有機不純物が、０．３質量ｐｐｍ含有され、残部は、シクロヘキサノンであった。この薬液のショート発生抑制性能は「ＡＡ」だった。
　上記以外の実施例及び比較例についても上記と同様に表１に記載した。
　表１に記載した結果から、各実施例の薬液の精製方法によれば、本発明の効果であるショート発生抑制性能を有する薬液を得ることができた。一方、各比較例の薬液の精製方法によれば、本発明の効果を有する薬液を得ることはできなかった。
　また、実施例４４の薬液の精製方法と比較して、要件４を満たす実施例４５の薬液の精製方法によれば、より優れた本発明の効果を有する薬液を得ることができた。
　また、実施例４７の精製方法と比較して、試験液中における有機不純物の含有量が１０質量ｐｐｍ以下である、実施例４５の薬液の精製方法によれば、より優れた本発明の効果を有する薬液を得ることができた。
　また、実施例３３及び３４の薬液の精製方法と比較して、洗浄液がシクロヘキサノンである実施例４５の薬液の精製方法によれば、より優れた本発明の効果を有する薬液を得ることができた。
　また、実施例１の薬液の精製方法と比較して、２枚以上のフィルタをとおして薬液を精製する実施例４５の薬液の精製方法によれば、より優れた本発明の効果を有する薬液を得ることができた。
　また、実施例４３の薬液の精製方法と比較して、薬液が通る最後のフィルタが親水性フィルタである実施例４５の薬液の精製方法によれば、より優れた本発明の効果を有する薬液を得るができた。
　また、実施例１８の薬液の精製方法と比較して、ろ過差圧が２５０ｋＰａ以下である、実施例４５の薬液の精製方法によれば、より優れた本発明の効果を有する薬液を得ることができた。
　１０、２０、３０　薬液の製造装置
　１１　タンク
　１２　充填装置
　１３　管路
　１４　ろ過装置
　１５　ポンプ
　１６、２２、３３、３５　弁
　２１　循環管路
　３１　蒸留塔
　３２　蒸留管路
　３４　蒸留塔循環管路
　３６　原料投入管路

Claims (15)

  1. 　フィルタを用いて、有機溶剤を含有する被精製液をろ過する精製工程を有する、薬液の精製方法であって、
    　前記フィルタとして、以下の試験における要件１又は要件２を満たすフィルタを用いる、薬液の精製方法。
    試験：前記有機溶剤からなる試験液１５００ｍｌと前記フィルタとを、２３℃の条件下にて、２４時間接触させ、接触後の前記試験液中におけるＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有する粒子の含有量が、以下の要件１又は２を満たす。
    要件１：前記試験液がＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有する粒子を１種含有する場合、前記試験液中における１種の前記粒子の含有量が５．０質量ｐｐｍ以下である。
    要件２：前記試験液が、Ｆｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有する粒子を２種以上含有する場合、前記試験液中における２種以上の前記粒子の合計含有量が５．０質量ｐｐｍ以下である。
  2. 　接触後の前記試験液がＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有するイオンを１種含有する場合、前記試験液中における１種の前記イオンの含有量が１０質量ｐｐｂ以下であり、
    　接触後の前記試験液がＦｅ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ、及び、Ｔｉからなる群から選択される少なくとも１種の金属を含有するイオンを２種以上含有する場合、前記試験液中における２種以上の前記イオンの合計含有量が１０質量ｐｐｂ以下である、請求項１に記載の薬液の精製方法。
  3. 　接触後の前記試験液が有機不純物を含有する場合、前記試験液中における前記有機不純物の含有量が１０質量ｐｐｍ以下である、請求項１又は２に記載の薬液の精製方法。
  4. 　前記有機不純物が、下記式（１）～（７）からなる群から選択される少なくとも１種の化合物を含有する、請求項３に記載の薬液の精製方法。
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
  5. 　更に、前記精製工程の前に、洗浄液を用いて、前記フィルタを洗浄する工程を有し、
    　前記洗浄液の溶解度パラメータが１６（ＭＰａ）１／２を超える、請求項１～４のいずれか一項に記載の薬液の精製方法。
  6. 　前記洗浄液が、ジメチルスルホキシド、ｎ－メチルピロリドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、スルホラン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロペンタノン、２－ヘプタノン、及び、γ－ブチロラクトンからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項５に記載の薬液の精製方法。
  7. 　前記フィルタが、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフルオロカーボン、セルロース、ケイソウ土、ポリスチレン、及び、ガラスからなる群から選択される少なくとも１種の材料成分からなる請求項１～６のいずれか一項に記載の、薬液の精製方法。
  8. 　前記精製工程が、少なくとも２枚の前記フィルタに前記被精製液を通液して、前記被精製液をろ過する工程である、請求項１～７のいずれか一項に記載の薬液の精製方法。
  9. 　前記フィルタが、疎水性フィルタ、及び、親水性フィルタを少なくとも含む、請求項８に記載の薬液の精製方法。
  10. 　前記精製工程において前記被精製液が通液される最も後段のフィルタが前記親水性フィルタである、請求項９に記載の薬液の精製方法。
  11. 　前記被精製液をろ過する際のろ過差圧が２５０ｋＰａ以下である、請求項８～１０のいずれか一項に記載の薬液の精製方法。
  12. 　前記有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ－ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、及び、４－メチル－２－ペンタノールからなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１～１１のいずれか一項に記載の薬液の精製方法。
  13. 　請求項１～１２のいずれか一項に記載の薬液の精製方法を有する薬液の製造方法。
  14. 　請求項１３に記載の薬液の製造方法により製造された薬液。
  15. 　請求項１３に記載の薬液の製造方法により製造され、前記有機溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ－ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、酢酸イソアミル、イソプロパノール、及び、４－メチル－２－ペンタノールからなる群から選択される少なくとも１種である、薬液。
     
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