JP6650100B2 - 物品の洗浄及び濯ぎ方法、並びに物品の洗浄及び濯ぎ装置 - Google Patents
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Description
本発明の方法に係る前記工程[1]、[2]及び[3]を、以下、順に説明する。
本発明の装置は、所定の洗浄機構、濯ぎ機構及び再生機構、並びに所定の供給路及び戻り流路、並びに所定の気化器を含む。
調製例1
(a1)成分としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル(MEDG)28g、(a2)成分として蒸留水70g、及び(a3)成分としてN,N−ブチルジエタノールアミン(MBD)2gをビーカーで良く混合し、実施例態様の洗浄剤(A1)を調製した。また、MEDG 27.7g及び水72.3gをビーカーで良く混合し、実施例態様の濯ぎ液(A2)も調製した。
作製例1
鉛フリーソルダペースト(商品名「パインソルダーTAS LF219−1」、荒川化学工業(株)製)を、ガラスエポキシ銅張積層板(30×30×T1.5mm)の銅パターン上にメタルマスクを介して印刷し、得られた積層板を、以下のプロファイルでリフローすることによって、フラックス残渣が付着した基板(以下、基材Aという。)を作製した。
雰囲気 : 大気
昇温速度 : 2℃/秒
プレヒート : 150℃、60秒間
ピーク温度 : 250℃、30秒間
鉛フリーソルダペースト(パインソルダーTAS LF219−1)を、ソルダレジストが塗工された銅張積層板(30×30×T1.5mm)の銅パターン上にメタルマスクを介して印刷し、得られた積層板を、以下のプロファイルでリフローすることによって、フラックス残渣が付着した基板(以下、基材Bという。)を作製した。
雰囲気 : 大気
昇温速度 : 2℃/秒
プレヒート : 150℃、60秒間
ピーク温度 : 300℃、60秒間
ロジン系ポストフラックス(商品名「パインフラックスWHS−002」、荒川化学工業(株)製)50mgを、JIS2型の櫛形基板(50×50×T1.5mm)の銅パターン上に、軟毛ブラシを用いて均一に塗布し、100℃の乾燥機の中で5分間乾燥させた後、235±5℃の共晶ハンダ浴(錫−鉛合金)に5秒間浸すことによって、ポストフラックスの残渣が付着した基材(以下、基材Cという。)を作製した。
実施例1
200mLのビーカーAに調製例1の洗浄剤を200g入れ、スターラーを用いて撹拌しながら65℃に加温した。一方、200mLのビーカーB及びビーカーCに実施例1の濯ぎ液をそれぞれ200g入れ、スターラーを用いて撹拌しながら25℃に加温した。次いで、前記基材Aを、ビーカーA、ビーカーB及びビーカーCの順にそれぞれ10分間浸漬し、該基材Aを取り出し、80℃の循風乾燥機の中で10分間乾燥させた。また、同様の手順に従い、前記基材B及び基材Cについても洗浄、濯ぎ及び乾燥を行った。
フラックス及びポストフラックスの洗浄性は、光学顕微鏡を用いた目視検査により除去率を求めることで判定した。尚、フラックス、及びポストフラックスの洗浄性の判定基準は下記の通りである。結果を表1に示す。
◎ : 除去率95%以上
○ : 除去率85%以上、かつ95%未満
△ : 除去率75%以上、かつ85%未満
× : 除去率75%未満
実施例1において、ビーカーCから基材Aを取り出した残りの廃液を200mlのナス型フラスコに入れた。次いで、該ナス型フラスコにト字管、温度計及びリービッヒ冷却器を取り付、これをオイルバスに浸し、1気圧の下、該廃液を加熱して沸騰させた。そして、初留区分を20g、中留区分を20gずつ計3回、及び後留区分約20g未満をそれぞれ採取した。そして、各蒸留区分における(a1)成分及び(a2)成分の比率をデジタル濃度計PR−201α((株)アタゴ製)で測定した結果、各区分における組成比は略一定であり(誤差0.1〜0.8%以内)、また、濯ぎ液(原液)における(a1)成分及び(a2)成分の比率と殆ど相違しないことが解った(誤差0.1〜0.8%以内)なお、いずれの留分においても(a3)成分及び(a4)成分は測定されなかった。以上より、実施例1に係る濯ぎ液は、濯ぎ後の廃液が蒸留再生に適すると考えられた。
(a1)成分、(a2)成分、(a3)成分及び(a4)成分として表1〜4に示すものを用いた他は調製例1と同様にして、実施例態様の洗浄剤及び濯ぎ液を調製した。次いで、各洗浄剤を用いて前記洗浄試験及び濯ぎ試験を実施した。次いで、各濯ぎ液の廃液について前記同様にして蒸留試験を実施し、各蒸留区分における(a1)成分及び(a2)成分の比率を測定した結果、どの濯ぎ液も、その廃液が蒸留再生に適することが解った。
MEDG:ジエチレングリコールエチルメチルエーテル(C2H5O-(CH2CH2O)2-CH3)
EA:エタノールアミン
TEA:トリエタノールアミン
MEM:N−エチルエタノールアミン(C2H5-NH-CH2CH2-OH)
MBM:N,N−ブチルエタノールアミン(C4H9-NH-CH2CH2-OH)
MED:N−エチルジエタノールアミン(C4H9-N(CH2CH2OH)2)
MBD:N,N−ブチルジエタノールアミン(CH3)3C-N(CH2CH2OH)2
A212C:ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル(商品名「プライサーフA212C」、第一工業製薬(株)、酸価100〜120mgKOH/g)
A215C:ポリオキシエチレントリデシルエーテルリン酸エステル(商品名「プライサーフA215C」、第一工業製薬(株)、酸価80〜95mgKOH/g)
ET−115;ポリオキシエチレンアルキルエーテル(商品名「ノイゲンET−115」、第一工業製薬(株))
ET−135;ポリオキシエチレンアルキルエーテル(商品名「ノイゲンET−135」、第一工業製薬(株))
DEDG:ジエチレングリコールジエチルエーテル(C2H5O-(CH2CH2O)2-C2H5)
IPDM:ジエチレングリコールイソプロピルメチルエーテル(isoC3H7O-(CH2CH2O)2-CH3)
MTPOM:トリプロピレングリコールジメチルエーテル(CH3O-(CH2CH(CH3)O)3-CH3)
(a1)成分以外の溶剤((a1’)成分)、(a2)成分及び(a3)成分として表5に示すものを用いた他は調製例1と同様にして、比較例態様の洗浄剤及び濯ぎ液を調製した。次いで、各洗浄剤を用いて前記洗浄試験及び濯ぎ試験を実施した結果、表5で示すように不良であった。次いで、各濯ぎ液の廃液について前記同様にして蒸留試験を実施し、各蒸留区分における(a1’)成分及び(a2)成分の比率を測定した結果、各区分における組成比は誤差0.1〜0.8%以内で一定しており、また、いずれの留分においても(a3)成分及び(a4)成分は測定されなかった。
(a1)成分以外の溶剤((a1’)成分)、(a2)成分及び(a3)成分として表5に示すものを用いた他は調製例1と同様にして、比較例態様の洗浄剤及び濯ぎ液を調製した。次いで、各洗浄剤を用いて前記洗浄試験を用いて前記洗浄試験及び濯ぎ試験を実施したが、洗浄及び濯ぎ試験は良好であったものの、蒸留再生した濯ぎ液が水とベンジルアルコールに分離した。
MFDG:メチルプロピレンジグリコール(CH3O-(CH2CH(CH3)O)2-H)
MMB:3−メチル3−メトキシブタノール(CH3O-C(CH3)2C2H4OH)
BzA:ベンジルアルコール
2 洗浄機構
3 濯ぎ・再生機構
4 洗浄剤
5 濯ぎ液
20A 流路
20B 循環路
20C 供給路
21A 洗浄液槽
21B 第1濯ぎ液槽
21C 第2濯ぎ液槽
22 超音波振動子
30A 戻り流路
31 気化器
32 凝縮器
33 熱源
34 充填物
35 分離促進器
V1 流量調整バルブ
V2 流量調整バルブ
V3 流量調整バルブ
P1 圧送ポンプ
Claims (5)
- [1]:工業汚れが付着した物品を、一般式(1):R1−O−[CH2−CH(X)−O]n−R2(式(1)中、R1及びR2はいずれも同一又は異なっていてよい炭素数1〜3のアルキル基を、Xは水素又はメチル基を、nは2又は3を示す。)で表されかつ常圧下の沸点が160〜230℃のグリコール系溶剤(a1)、水(a2)、並びに該(a1)成分及び(a2)成分と常圧下で共沸しないアミン系化合物(a3)を含む非共沸性洗浄剤(A1)で洗浄する工程と、
[2]:該工程[1]で洗浄された当該物品を、前記(a1)成分及び前記(a2)成分を含み、(a1)成分及び(a2)成分の比率が順に5〜35重量%及び65〜95重量%であり、かつ前記(a3)成分を実質的に含まない常圧下の共沸点が90〜100℃の共沸性濯ぎ液(A2)で濯ぐ工程と、
[3]:該工程[2]で生ずる廃液のみを蒸留することにより前記共沸濯ぎ液(A2)を再生する工程と、
を含む、物品の洗浄及び濯ぎ方法。 - 前記(a3)成分がN−アルキルアルカノールアミン類及び/又はN−アルキルジアルカノールアミン類である、請求項1の方法。
- 前記(A1)成分における(a1)成分、(a2)成分及び(a3)成分の比率が順に10〜90重量%、5〜80重量%及び0.1〜5重量%である、請求項1又は2の方法。
- 前記工業汚れが、ハンダ付用フラックス、ソルダペースト、フラックス残渣及び工業油からなる群より選ばれる少なくとも一種である、請求項1〜3のいずれかの方法。
- 工業汚れが付着した物品を、一般式(1):R1−O−[CH2−CH(X)−O]n−R2(式(1)中、R1及びR2はいずれも同一又は異なっていてよい炭素数1〜3のアルキル基を、Xは水素又はメチル基を、nは2又は3を示す。)で表されかつ常圧下の沸点が160〜230℃のグリコール系溶剤(a1)、水(a2)、並びに該(a1)成分及び(a2)成分と常圧下で共沸しないアミン系化合物(a3)を含む非共沸性洗浄剤(A1)で洗浄する洗浄機構と、
該洗浄機構で洗浄された物品を、前記(a1)成分及び前記(a2)成分を含み、(a1)成分及び(a2)成分の比率が順に5〜35重量%及び65〜95重量%であり、かつ前記(a3)成分を実質的に含まない常圧下の共沸点が90〜100℃の共沸性濯ぎ液(A2)で濯ぐ機構と、
該濯ぎ機構で生ずる廃液のみを蒸留することにより(A2)成分を再生する機構と、
前記濯ぎ機構で生ずる廃液のみを前記再生機構に供給する供給路と、
前記再生機構で再生された(A2)成分を前記濯ぎ機構に戻す戻り流路と、
を備え、
前記再生機構は、前記濯ぎ機構で生ずる廃液のみを気化させることにより、工業汚れ並びに(a3)成分が実質的に除去された(A2)成分を得る気化器を含む、
物品の洗浄及び濯ぎ装置。
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