JP2017206582A - 洗浄用組成物 - Google Patents

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旻又 金子
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清 嶋田
啓文 鈴木
Takafumi Suzuki
啓文 鈴木
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Abstract

【課題】難溶性組成物であるクリームハンダの汚れを含む様々な汚れに対して洗浄効果の高い洗浄組成物を提供すること。【解決手段】(A)1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンと、(B)式(1)で示されるイソプロパノールアミン、モノエタノールアミン、及び、式(2)で示されるN置換エタノールアミンからなる群から選択される1種以上である第1の溶剤と、(C)(c1)グリコールエーテル系溶剤、(c2)アルコール系溶剤、(c3)エーテル系溶剤、及び(c4)前記式(2)で示されるN置換エタノールアミンからなる群より選択される1種以上の第2の溶剤からなり、但し、(B)が式(2)で示されるN−置換エタノールアミンを含む場合、(C)は(c4)を含まない、洗浄用組成物であって、(A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が3.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜27.0質量%である、洗浄用組成物。【選択図】なし

Description

本発明は、洗浄用組成物に関する。
精密機械部品、光学機械部品等の加工時に種々の加工油類、例えば、切削油、プレス油、熱処理油、防錆油、潤滑油等、又は、グリース類、ワックス類等が使用されるが、これらの汚れは最終的には除去する必要があり、溶剤による除去が一般的に行われている。また、電子回路の接合方法としてはハンダ付けが最も一般的に行われているが、ハンダ付けすべき金属表面の酸化物の除去洗浄化、再酸化防止、ハンダの濡れ性の改良目的で、ロジンを主成分としたフラックスでハンダ付け面を予め処理することが通常行われている。ハンダ付けの方法としては溶液状のフラックス中に基板を浸漬する等により、フラックスを基板面に付着させたあと、溶融ハンダを供給する方法や予めフラックスとハンダ粉末を混合してペースト状にしたものをハンダ付けすべき場所に供給した後加熱する方法等があるが、いずれにしても、フラックス残渣は金属の腐食や絶縁性の低下の原因となるため、ハンダ付け終了後、十分に除去する必要がある。
ハンダ付けフラックスの除去に用いる洗浄剤として、塩素系炭化水素、例えば1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン(CFC−113)に代表される塩素を含むフロン系溶剤が用いられている。塩素を含むフロン系溶剤は、他の溶剤(例えば、メタノール、アルカノールアミン又は炭化水素系溶剤)との混合溶剤の形態で組み合わされている。しかし、オゾン層を破壊する原因物質として使用することが不可能となってきたため、塩素を含むフロン系溶剤を用いた洗浄剤の代替洗浄剤が広く要望されている。
塩素原子を含まない代替洗浄剤として、ハイドロフルオロカーボン類(HFC)やハイドロフルオロエーテル類(HFE)等が提案されており、これらはオゾン層破壊係数(ODP)が0であり、毒性も少なく、また地球温暖化係数(GWP)も小さく、環境にクリーンである。しかし、塩素原子を含まない代替洗浄剤の一つである、1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン(365mfc)は、塩素原子を含まないため、単独では洗浄剤として十分な洗浄力が得られないという問題があった。
このような問題に対して特許文献1には、1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンと、グリコールエーテル類であるプロピレングリコールモノメチルエーテルとを組み合わせた洗浄剤技術が提案されている。また、本出願と同一出願人により出願された、特許文献2には、1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン、n−プロピルアルコール及びプロピレングリコールモノメチルエーテルを、特定の配合質量比で含む洗浄用組成物が提案されている。
特開2003−129090号公報 特願2015−163139号
特許文献2に記載された洗浄用組成物は、特許文献1に記載された洗浄用組成物に比べて、高温リフローによる一部変質、もしくは炭化したフラックスに対して効果はあるものの、以下に述べるプリント基板のようなより高度な接続に用いられるクリームハンダ(ソルダーペースト)の汚れに対して用いる洗浄用組成物として不十分であった。
本発明の課題は、難溶性組成物であるクリームハンダの汚れを含む様々な汚れに対して洗浄効果の高い洗浄組成物を提供することである。
本発明者らは、前記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン、特定のアミン系溶剤及び前記特定のアミン系溶剤のための溶剤を、特定の質量比で含む洗浄用組成物が、前記課題を解決できることを見出し、本発明に至った。
本発明は、以下の態様を含む。
[1](A)1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンと、
(B)式(1)で示されるイソプロパノールアミン、モノエタノールアミン、及び、式(2)で示されるN−置換エタノールアミンからなる群より選択される1種以上の第1の溶剤と、
(C)(c1)グリコールエーテル系溶剤、(c2)アルコール系溶剤、(c3)エーテル系溶剤、及び(c4)式(2)で示されるN−置換エタノールアミンからなる群より選択される1種以上の第2の溶剤
からなり、但し、(B)が式(2)で示されるN−置換エタノールアミンを含む場合、(C)は(c4)を含まない、洗浄用組成物であって、
(A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が3.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜27.0質量%である、洗浄用組成物。
−NHCHCH(CH)OH (1)
−NHCHCHOH (2)
〔式(1)中、Rは、水素、炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、炭素原子数1〜4のアミノアルキル基であり、式(2)中、Rは、炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、炭素原子数1〜4のアミノアルキル基である〕
[2](A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が6.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜24.0質量%である、[1]の洗浄用組成物。
[3](c1)グリコールエーテル系溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジメチルグリコール及びジメトキシメタンからなる群より選択される1種以上であり、
(c2)アルコール系溶剤が、メタノール、エタノール、1−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、ベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール及び2−ヒドロキシプロピオン酸エチルからなる群より選択される1種以上であり、かつ
(c3)エーテル系溶剤が、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン及び2−メチルテトラヒドロフランからなる群より選択される1種以上である、[1]又は[2]の洗浄用組成物。
[4]更に、(D)紫外線吸収剤、酸化防止剤、防錆剤、消泡剤、界面活性剤及びキレート剤からなる群より選択される1種以上の更なる成分のみを含み、洗浄用組成物中の(A)〜(C)の量が、95質量%〜100質量%である、[1]〜[3]のいずれかの洗浄用組成物。
本発明により、難溶性組成物であるクリームハンダの汚れを含む様々な汚れに対して洗浄効果の高い洗浄組成物を提供できる。
[洗浄用組成物]
洗浄用組成物は、(A)1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンと、(B)式(1)で示されるイソプロパノールアミン、モノエタノールアミン、及び、式(2)で示されるN−置換エタノールアミン溶剤からなる群より選択される1種以上の第1の溶剤と、(C)(c1)グリコールエーテル系溶剤、(c2)アルコール系溶剤、(c3)エーテル系溶剤、及び(c4)式(2)で示されるN−置換エタノールアミンからなる群より選択される1種以上の第2の溶剤からなり、但し、(B)が式(2)で示されるN−置換エタノールアミンを含む場合、(C)は(c4)を含まない、洗浄用組成物であって、(A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が3.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜27.0質量%である。洗浄用組成物は、オゾン層を破壊せず、また、フロン系及び塩素系炭化水素を含有するものと比べ同等の洗浄性や低毒性を示す。洗浄用組成物は、各成分が相溶した均一系の溶剤組成物であるため、取り扱いが容易である。本明細書において、「洗浄」とは、被洗浄物から、汚れを除去することを意味する。
<(A)1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン>
(A)は、1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン(「365mfc」とも呼ばれる)である。(A)は、組成物に低毒性を付与する成分である。洗浄用組成物中の(A)の量は、70.0〜85.0質量%であり、70.0〜80.0質量%であるのが好ましく、75.0〜79.0質量%であるのが特に好ましい。(A)の量が80.0質量%以下であると、洗浄性がより向上する傾向がある。また、洗浄用組成物中の(A)の量が70.0質量%以上であると、共沸様組成物になる傾向があり、より低い温度で煮沸洗浄が可能となることから、浸漬洗浄、例えば超音波を用いた浸漬洗浄においても好適に用いることができる。
<(B):第1の溶剤>
(B)は、第1の溶剤であり、組成物に高い洗浄性を付与する成分である。(B)は、式(1)で示されるイソプロパノールアミン、モノエタノールアミン、及び、式(2)で示されるエタノールアミンからなる群より選択される1種以上である。
−NHCHCH(CH)OH (1)
−NHCHCHOH (2)
〔式(1)中、Rは、水素、炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、炭素原子数1〜4のアミノアルキル基であり、式(2)中、Rは、炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、炭素原子数1〜4のアミノアルキル基である。〕
炭素原子数1〜4のアルキル基は、直鎖又は分岐鎖状であり、直鎖状が好ましい。炭素原子数1〜4のアルキル基は、CH−、CHCH−、CHCHCH−、CHCH(CH)−、CHCHCHCH−、CHCH(CH)CH−、CHCHCH(CH)−、及び、(CHC−が挙げられる。炭素原子数1〜4のアミノアルキル基は、1つのアミノ基(−NH)で置換された前記炭素原子数1〜4のアルキル基である。炭素原子数1〜4のアミノアルキル基は、NHCH−、NHCHCH−、NHCHCHCH−及びNHCHCHCHCH−が好ましい。
は、水素、又は、炭素原子数1〜4のアミノアルキル基であるのが好ましい。また、式(1)で示されるイソプロパノールアミンは、モノイソプロパノールアミン及びN−(β−アミノエチル)イソプロパノールアミンからなる群から選択される1種以上であるのがより好ましい。式(1)で示されるイソプロパノールアミン及びモノエタノールアミンからなる群から選択される1種以上を「(b1)」ともいう。
は、炭素原子数1〜4のアルキル基であるのが好ましい。また、式(2)で示されるエタノールアミンは、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン及びN−n−ブチルエタノールアミンからなる群から選択される1種以上であるのがより好ましい。式(2)で示されるエタノールアミンからなる群より選択される1種以上を「(b2)」ともいう。
(B)は、洗浄性がより高まるため、(b1)が好ましく、モノイソプロパノールアミン、N−(β−アミノエチル)イソプロパノールアミン及びモノエタノールアミンからなる群から選択される1種以上であるのがより好ましい。
洗浄用組成物中の(B)の量は、3.0〜22.0質量%である。このような範囲であると、洗浄性が向上する傾向がある。洗浄用組成物中の(B)の量は、6.0〜22.0質量%であるのが好ましく、7.5〜12.5質量%であるのがより好ましく、7.5〜10.0質量%であるのが更に好ましく、7.5〜8.5質量%であるのが特に好ましい。(B)の量が7.5質量%以上であると、洗浄性が良好になる傾向がある。(B)が(b1)である場合、(B)の量が12.5質量%以下であると、リンス性が良好になる傾向がある。
<(C):第2の溶剤>
(C)は、第2の溶剤である。(C)は、(c1)グリコールエーテル系溶剤、(c2)アルコール系溶剤、(c3)エーテル系溶剤、及び(c4)式(2)で示されるエタノールアミンからなる群より選択される1種以上である。(C)は、(A)と(B)との相溶化剤として機能し、また洗浄用組成物に高い洗浄性を付与する成分である。
(c1)グリコールエーテル系溶剤は、特に限定されず、分子中に1つ以上のエーテル結合及び場合により水酸基を有する、メチレングリコール、エチレングリコール及びプロピレングリコールの誘導体からなる群より選択される1種以上であってよい。グリコールエーテル系溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジメチルグリコール及びジメトキシメタンからなる群より選択される1種以上がより好ましい。
(c2)アルコール系溶剤は、(B)以外の任意のアルコールであれば特に限定されず、窒素原子を含まない、脂肪族モノアルコール及び芳香族モノアルコールからなる群より選択される1種以上であってよい。アルコール系溶剤は、メタノール、エタノール、1−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、ベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール及び2−ヒドロキシプロピオン酸エチルからなる群より選択される1種以上がより好ましい。
(c3)エーテル系溶剤は、グリコールエーテル以外のエーテル結合(炭素−酸素−炭素結合)を有する溶剤であれば特に限定されず、ジアルキルエーテル(例えば、ジエチルエーテル等)及び環状エーテルであってよい。環状エーテルは、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン及び2−メチルテトラヒドロフランからなる群より選択される1種以上が好ましい。
洗浄用組成物において、(c4)式(2)で示されるエタノールアミン(以下、「(c4)」ともいう。)は、式(1)で示されるイソプロパノールアミン及びモノエタノールアミンと(A)との相溶化のための溶剤として用いることができる。(c4)式(2)で示されるエタノールアミンは、好ましいものを含め、(B)において前記したとおりである。
洗浄用組成物は、(B)が式(2)で示されるN−置換エタノールアミンを含む場合、(C)は(c4)を含まない。即ち、洗浄用組成物が、(A)と、(b1)と、(b2)と、(c1)〜(c3)からなる群より選ばれる1種以上のみからなる場合は、(b2)は(c4)ではない。一方、洗剤組成物が、(A)と、(b1)と、(b2)のみからなり、(C)が(c1)〜(c3)の全てを含まないような場合、(B)は(b1)であり、かつ、(C)は(c4)(つまり、(b2))である。また、洗浄用組成物が、(A)と、(c1)〜(c3)からなる群より選ばれる1種以上と、(c4)のみからなる場合は、(c4)は(b2)である。
よって、洗浄用組成物は、以下の(1)及び(2)の組成を有する。
(1)(A)1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンと、
(B)式(1)で示されるイソプロパノールアミン、モノエタノールアミン、及び、式(2)で示されるN−置換エタノールアミンからなる群より選択される1種以上の第1の溶剤と、
(C)(c1)グリコールエーテル系溶剤、(c2)アルコール系溶剤及び(c3)エーテル系溶剤からなる群より選択される1種以上の第2の溶剤
からなり、(A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が3.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜27.0質量%である、洗浄用組成物。
(2)(A)1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンと、
(B)式(1)で示されるイソプロパノールアミン及びモノエタノールアミンからなる群より選択される1種以上である第1の溶剤と、
(C)式(2)で示されるN−置換エタノールアミンからなる群より選択される1種以上である第2の溶剤
からなり、(A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が3.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜27.0質量%である、洗浄用組成物。
洗浄用組成物中の(C)の量は、8.0〜27.0質量%である。このような範囲であると、洗浄性が向上する傾向がある。洗浄用組成物中の(C)の量は、8.0〜24.0質量%であるのが好ましく、10〜20質量%がより好ましく、13.5〜16.5質量%であるのが特に好ましい。
(洗浄用組成物の好ましい組成)
洗浄用組成物は、(A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が6.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜24.0質量%であるのが好ましく;(A)が70.0〜80.0質量%であり、(B)が6.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜24.0質量%であるのがより好ましく;(A)が75.0〜79.0質量%であり、(B)が7.5〜8.5質量%であり、及び(C)が13.5〜16.5質量%であるのが特に好ましい。
洗浄用組成物は、以下の(1a)及び(2a)の組成を有するものがより好ましい。
(1a)(A)1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンと、(B)モノイソプロパノールアミン、N−(β−アミノエチル)イソプロパノールアミン、モノエタノールアミン、N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン及びN−n−ブチルエタノールアミンからなる群から選択される1種以上である第1の溶剤と、(C)(c1)グリコールエーテル系溶剤、(c2)アルコール系溶剤及び(c3)エーテル系溶剤からなる群より選択される1種以上の第2の溶剤からなる、洗浄用組成物であって、(A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が6.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜24.0質量%である。洗浄用組成物が(1)の組成を有する場合、(A)が70.0〜80.0質量%であり、(B)が6.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜24.0質量%であり、かつ(A)が80.0質量%であるとき、(B)は12.0質量%であり、(C)は8.0質量%であるのが好ましい。
(2a)(A)1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンと、(B)モノイソプロパノールアミン、N−(β−アミノエチル)イソプロパノールアミン及びモノエタノールアミンからなる群から選択される1種以上である第1の溶剤と、(C)N−メチルエタノールアミン、N−エチルエタノールアミン及びN−n−ブチルエタノールアミンからなる群から選択される1種以上である第2の溶剤からなる、洗浄用組成物であって、(A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が3.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜27.0質量%である。洗浄用組成物が(2)の組成を有する場合、(A)が70.0〜80.0質量%であり、(B)が3.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜27.0質量%であるのが好ましく、(A)が70.0〜80.0質量%であり、(B)が3.0〜17.0質量%であり、及び(C)が8.0〜22.0質量%であるのがより好ましい。
<(D):更なる成分>
洗浄用組成物は、本発明の効果を損なわない限り、(D)更なる成分のみを含むことができる。このような成分として、紫外線吸収剤、酸化防止剤、防錆剤、消泡剤、界面活性剤及びキレート剤からなる群より選択される1種以上が挙げられる。更なる成分は、洗浄剤の分野で慣用されている成分であれば特に限定されず、それぞれ単独で用いることもでき、また複数の混合物として用いることもできる。
紫外線吸収剤及び酸化防止剤は、洗浄用組成物の長期保存等における安定性を向上させる成分である。紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、及びヒンダードアミン系紫外線吸収剤が挙げられる。酸化防止剤は、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、及びリン系等酸化防止剤が挙げられる。
フェノール系酸化防止剤は、2,6−ジ−t−ブチル−4−メチルフェノール、トリエチレングリコール−ビス[3−(3−t−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,4−ビス−(n−オクチルチオ)−6−(4−ヒドロキシ−3,5−ジ−t−ブチルアニリノ)−1,3,5−トリアジン、ペンタエリスリチル−テトラキス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、2,2−チオ−ジエチレンビス[3−(3,5−ジ−t−ブチル−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタドデシル−3−[3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシフェニル]プロピオネート]、N,N−ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド)、3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、1,3,5−トリメチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール等が挙げられる。
アミン系酸化防止剤は、アルキル化ジフェニルアミン、トリス−(3,5−ジ−t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)−イソシアヌレート、N,N−ジ−sec−ブチル−p−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン誘導体、1,3,5−トリス(4−t−ブチル−3−ヒドロキシ−2,6−ジメチル)イソシアヌレート等が挙げられる。
硫黄系酸化防止剤は、2,4−ビス[(オクチルチオ)メチル]−o−クレゾール、ジラウリル−3,3−チオジプロピオネート、ジミリスチル−3,3−ジオジプロピオネート、ジステアリル−3,3−チオジプロピオネート、ペンタエリスリチルテトラキス(3−ラウリルチオプロピオネート)、ジトリデシル−3,3−チオジプロピオネート、2−メルカプトベンズイミダゾール、ビス[2−メチル−4−(3−n−アルキルチオプロピオニルオキシ)−5−t−ブチルフェニル]スルフィド等が挙げられる。
リン系酸化防止剤は、トリス−ノニルフェニルフォスファイト、トリフェニルフォスファイト、トリス(2,4−ジ−t−ブチルフェニル)フォスファイト、トリス(イソデシル)フォスファイト等が挙げられる。
キレート剤は、アミノカルボン酸系のキレート剤が挙げられ、ヒドロキシエチルアミノ酢酸、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸やそれらの塩等が好ましい。
防錆剤は、シクロヘキシルアミン及びジシクロヘキシルアミンが挙げられる。界面活性剤は、非イオン性界面活性剤が挙げられ、高級アルコールエチレンオキサイド付加物、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加物、脂肪酸エチレンオキサイド付加物、高級アルキルアミンエチレンオキサイド付加物、ソルビトール及びソルビタンの脂肪酸エステル、ショ糖脂肪酸エステル、シリコーン系界面活性剤、及びフッ素系界面活性剤等が好ましい。
(D)の量は、洗浄用組成物中の(A)、(B)及び(C)の量が、95質量%以上100質量%未満であるような量である。よって、洗浄用組成物は、(A)、(B)、(C)及び(D)のみからなり、(A)が70.0〜85.0質量部であり、(B)が3.0〜22.0質量部であり、及び(C)が8.0〜27.0質量部含み、(A)、(B)及び(C)の合計が100質量部であり、洗浄用組成物中の(A)、(B)及び(C)の量が、95質量%以上100質量%未満であることができる。
洗浄用組成物は、原料成分である、(A)、(B)、(C)、及び、場合により(D)更なる成分を混合することにより製造することができる。洗浄用組成物のための原料成分は、市販品を用いることができる。
(汚れ)
洗浄用組成物は、汚れが付着した被洗浄物を洗浄するために用いられる。汚れとして、汚れとして、精密機械部品、光学機械部品等の加工時に用いられる加工油(例えば、切削油、プレス油、熱処理油、防錆油、潤滑油等)、油脂、グリース、ワックス、水、フラックス、ハンダ等からなる群より選ばれる1種以上の汚れが挙げられる。これらの汚れは、油溶性及びイオン汚染性(水溶性)の少なくとも一方の汚れを含みうる。
ここで、フラックスは、ロジン系、有機酸系、無機酸系のフラックスが挙げられる。ロジン系フラックスは、ロジン(アビエチン酸を主成分とする樹脂酸)及び変性ロジン等のロジン類を主成分とする非活性ロジンフラックス;前記ロジン類と、アミン化合物の無機酸塩(例えば、塩酸塩、硫酸塩)及び有機酸からなる群より選択される1種以上の活性化剤とを主成分とする活性ロジンフラックスが挙げられる。アミン化合物の無機酸塩は、トリエタノールアミン塩酸塩、トリエチレンテトラアミン塩酸塩、シクロヘキシルアミン塩酸塩、塩酸アニリン等が挙げられる。有機酸は、コハク酸、アジピン酸、グルタル酸、セバシン酸、マレイン酸等のカルボン酸(ジカルボン酸を含む。);オキシ酸(ヒドロキシカルボン酸)等が挙げられる。よって、フラックスの汚れは、フラックス成分であるロジン、アミン化合物の無機酸塩、有機酸、及び前記成分が高温でのリフローにより一部変質又は炭化した成分を含む。ここで、ロジンに基づく汚れは、油溶性の汚れであり、アミン化合物の無機酸塩及び有機酸に基づく汚れは、イオン汚染性の汚れであり、イオン残渣の原因となる。
また、フラックスは、ハンダ用金属とロジンフラックスが一体となったクリームハンダの形態で提供される場合がある。クリームハンダは、ハンダ合金粉末、樹脂、活性剤、酸化防止剤、チクソ剤、及び溶剤を含む組成物であり、いわゆる金属粉末とフラックス成分からなる。クリームハンダについては、ハンダ合金が環境対応の観点から鉛を含まない合金組成となり鉛含有よりもハンダ付け温度が20〜30℃高くなっている。更に、フラックスと異なる成分、及び/又は、ハンダ合金粉末とフラックス成分の分離防止、粘度調整及び印刷適性向上のための難溶チクソ剤を含む、難溶性組成物となっている。
また、フラックスがクリームハンダである場合のフラックスの汚れは、前記難溶性組成物が鉛含有よりもハンダ付け温度が20〜30℃高い高温で一部変質又は炭化した成分を含むため、非常に強い油溶性及びイオン性の汚れである。
(被洗浄物)
被洗浄物は、特に限定されず、精密機械部品、光学機械部品、金属加工装置、電子部品の製造装置等が挙げられる。被洗浄物は、フラックスの影響がある部品、例えば、ハンダ処理された電子部品や製品が好ましい。このような被洗浄物の種類は、特に制限されず、プリント配線板、セラミック配線基板、半導体素子、半導体素子搭載基板等が挙げられる。被洗浄物の材質は、特に限定されず、金属、プラスチック等であってよい。
(洗浄方法)
洗浄用組成物を用いた洗浄方法は、汚れが付着した被洗浄物を洗浄するため方法であって、洗浄用組成物を被洗浄物と接触させることを含む。洗浄用組成物を被洗浄物に接触させることにおいて、被洗浄物に付着した汚れは、被洗浄物から剥離除去又は溶解除去される。洗浄用組成物と、被洗浄物とを接触させるための方法としては、特に制限はなく、例えば、手拭き、浸漬洗浄(液相洗浄)、スプレー、超音波洗浄、蒸気洗浄(気相洗浄)が挙げられる。
浸漬洗浄は、被洗浄物の一部又は全部を洗浄用組成物に浸漬させることにより、洗浄用組成物を被洗浄物に接触させることを含む。浸漬洗浄における洗浄用組成物の温度は、特に限定されず、室温(例えば、15℃)から洗浄用組成物の沸点までの温度であることができる。いわゆる煮沸洗浄のように、洗浄用組成物を沸点に維持して、被洗浄物の一部又は全部を洗浄用組成物に浸漬させることにより、洗浄用組成物を被洗浄物に接触させることを含む方法も浸漬洗浄に含まれる。蒸気洗浄は、被洗浄物の一部又は全部を洗浄用組成物の蒸気に接触させることにより、洗浄用組成物を被洗浄物に接触させることを含む。
洗浄用組成物及び被洗浄物の接触時間に相当する洗浄時間は、被洗浄物から汚れを除去できる時間であれば特に制限されない。例えば、洗浄時間は、10秒〜2時間であってもよい。
(用途)
洗浄用組成物は、レジスト剥離剤、フラックス洗浄剤、脱脂洗浄剤、バフ研磨洗浄剤、接着剤の溶解剤、ドライクリーニング用溶剤、グリース・油・ワックス・インキ等の除去剤、水切り剤等の各種汚れの洗浄剤、好ましくはロジン系フラックス洗浄剤、より好ましくはクリームハンダの汚れを除去するための洗浄剤に用いることができる。
以下、本発明を実施例及び比較例により更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。実施例及び比較例の洗浄用組成物は、各成分を混合することにより調製した。
(洗浄試験)
洗浄用組成物について、洗浄力を以下の方法により評価した。
<洗浄性−評価方法>
(1)洗浄試験サンプルの作成
亜鉛引き鉄板(JIS G3302相当 縦30mm、横30mm、厚さ0.3mm)に、メタルマスクを介して、市販のSMT(表面実装)用鉛フリーソルダーペースト(PF305−117TO(TF)、ニホンハンダ株式会社製)を塗布し、約180℃のホットプレートで3分間載置し、続いて、約250℃のホットプレートで5分載置した。更に室温(22℃)まで冷却し、2日放置し洗浄試験サンプル(クリームハンダの汚れが付着した被洗浄物)を得た。
(2)洗浄試験
ビーカーに洗浄用組成物を20g入れ、アルミホイルで封をし、液温が約40℃になるよう調整し、洗浄試験サンプルを浸漬した。10分後、ビーカーから試験サンプルを取り出し、予めビーカーに準備したリンス液(eクリーン21FE、株式会社カネコ化学社製)へ、常温(15℃)で90秒浸漬した後、取り出し自然乾燥させた後、ズーム型三眼実態顕微鏡(株式会社レイマー製、倍率20倍)を用いて表面を観察し白色の度合いを判断した。
表1〜表4における洗浄性の評価は以下のとおりである。
◎:非常に良い(白色の残渣がない)。○:良い(白色の残渣がほとんどない)。×:悪い(白色の残渣が残る)。
結果を表1〜表4にまとめる。配合量の単位は質量%である。
表中の略語は以下のとおりである。
365mfc:1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタン
PM:プロピレングリコールモノメチルエーテル
MIPA:モノイソプロパノールアミン
Figure 2017206582
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Figure 2017206582
Figure 2017206582
表より、実施例の洗浄用組成物は、洗浄性が高かった。実施例1〜3と、実施例4〜6との比較により、(B)が式(1)で示されるイソプロパノールアミン、及び、モノエタノールアミンである場合に、洗浄性がより高かった。
比較例1及び2は、(B)を含まないため、洗浄性が劣っていた。比較例3〜12は、(B)を含まず、(B)とは異なるアミン化合物やアルコールアミンを含む。具体的には、比較例3〜5は、分子中に炭素数2〜3のヒドロキシアルキル基を有さず、比較例6〜11は、分子中に炭素数2〜3のヒドロキシアルキル基を2以上有し、比較例12は、窒素原子が、2つのアルキル基で置換されているアルコールアミンであるため、洗浄性が劣っていた。比較例13〜16は、(C)を含まず、(C)とは異なる溶媒を含むため、洗浄性が劣っていた。比較例17〜20、22〜24は、(C)を含まないため、洗浄性が劣っていた。比較例21は、(C)を含まず、さらに各成分が相溶しておらず、均一系の溶剤組成物である洗浄用組成物が得られなかった。
洗浄用組成物は、クリームハンダの汚れを洗浄できるため、油溶性の汚れやイオン汚染性の汚れを含む、様々な汚れに対する洗浄剤に用いることができる。そのため、洗浄用組成物は、各種汚れの洗浄剤として産業上極めて有用である。

Claims (4)

  1. (A)1,1,1,3,3−ペンタフルオロブタンと、
    (B)式(1)で示されるイソプロパノールアミン、モノエタノールアミン、及び、式(2)で示されるN−置換エタノールアミンからなる群より選択される1種以上の第1の溶剤と、
    (C)(c1)グリコールエーテル系溶剤、(c2)アルコール系溶剤、(c3)エーテル系溶剤、及び(c4)式(2)で示されるN−置換エタノールアミンからなる群より選択される1種以上の第2の溶剤
    からなり、但し、(B)が式(2)で示されるN−置換エタノールアミンを含む場合、(C)は(c4)を含まない、洗浄用組成物であって、
    (A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が3.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜27.0質量%である、洗浄用組成物。
    −NHCHCH(CH)OH (1)
    −NHCHCHOH (2)
    〔式(1)中、Rは、水素、炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、炭素原子数1〜4のアミノアルキル基であり、式(2)中、Rは、炭素原子数1〜4のアルキル基、又は、炭素原子数1〜4のアミノアルキル基である〕
  2. (A)が70.0〜85.0質量%であり、(B)が6.0〜22.0質量%であり、及び(C)が8.0〜24.0質量%である、請求項1に記載の洗浄用組成物。
  3. (c1)グリコールエーテル系溶剤が、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジメチルグリコール及びジメトキシメタンからなる群より選択される1種以上であり、
    (c2)アルコール系溶剤が、メタノール、エタノール、1−プロパノール、1−ブタノール、2−ブタノール、3−メトキシ−3−メチル−1−ブタノール、ベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール及び2−ヒドロキシプロピオン酸エチルからなる群より選択される1種以上であり、かつ
    (c3)エーテル系溶剤が、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン及び2−メチルテトラヒドロフランからなる群より選択される1種以上である、請求項1又は2に記載の洗浄用組成物。
  4. 更に、(D)紫外線吸収剤、酸化防止剤、防錆剤、消泡剤、界面活性剤及びキレート剤からなる群より選択される1種以上の更なる成分のみを含み、洗浄用組成物中の(A)〜(C)の量の合計が、95質量%以上100質量%未満である、請求項1〜3のいずれか一項に記載の洗浄用組成物。
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JP2021127355A (ja) * 2020-02-10 2021-09-02 光貴スペーステクノロジーズ株式会社 水系洗浄剤ならびに該水系洗浄剤を用いる洗浄方法

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