JP7215978B2 - 洗浄剤組成物及び洗浄方法 - Google Patents
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Description
る。
表1に示す各成分を混合し(重量%基準)、実施例1~15及び比較例1~3の洗浄剤組成物を調製した。
市販のロジンフラックス(製品名「VHP-45」、三井金属鉱業(株)製)10.7重量部と、鉛フリーはんだ粉末(96.5Sn3.0Ag0.5Cu、20-38μm、三井金属鉱業(株)製)99.3重量部を混合しソルダペーストを調製した。これを用いてARKW-WS基板((株)エムアールーエー設計センター製)にマスク厚み100μmのメタルマスクを用いて印刷後、基板を270℃ホットプレートに静置してはんだを溶融させ、フラックス洗浄用モデル基板(1)(以下、モデル基板(1)という)を作成した。
ビーカーに、実施例1の鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物を100g採取し、液温が60℃になるまで加温した。モデル基板(1)を浸漬し、5分間静置した後、モデル基板(1)を取り出し、cis-1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブテン(商品名:「オプテオン SF33」、三井・ケマーズ フロロプロダクツ(株)製)(以下、“SF33”という)のみで5分間リンスした後、窒素ブローにて液滴を除去し、室温(25℃)で5分間乾燥させた。乾燥後のモデル基板(1)に残ったフラックス残渣を光学顕微鏡((株)キーエンス製 VHX6000)で観察した。評価基準を以下に示す。また、実施例2~15、及び比較例1~3の洗浄剤組成物についても同様に評価した。結果を表1に示す(以下同様)。
◎:フラックス残渣がない
○:フラックス残渣が若干あるが、基板の電気的信頼性に影響を及ぼさないレベル
△:フラックス残渣が若干あり、基板の電気的信頼性に若干影響を及ぼすレベル
×:フラックス残渣がある
スクリュー管(α)(容量20mL)にアセトン(和光純薬工業(株)製、純度99.5%以上)9.8g、結晶性シリカフィラー(商品名「クリスタライト VX-S2」、(株)龍森製、平均粒子径5μm)0.1g、及びアルミナ粒子(商品名「精密研磨用α-アルミナ」、和光純薬工業(株)製、平均粒子径0.5μm)0.1gを入れ、よく振盪し、濃度1%の汚染液(α)を10g調製した。
次に、汚染液(α)0.02gをARKW-WS基板((株)エムアールーエー設計センター社製)の中心に滴下し、自然乾燥させ、パーティクル洗浄用モデル基板(2)(以下、モデル基板(2)という)を作成した。
ビーカー(容量1000mL、胴径φ110mm、高さ150mm)に実施例1の洗浄剤組成物100gを採取し、スターラーピースを入れ、マグネチックスターラーにより十分に撹拌した。続いて、マグネチックスターラーの回転速度を800rpmに調節し、溶液中にモデル基板(2)を入れた。ステンレスクリップ及びステンレス棒により固定しながら、室温(25℃)で5分間洗浄後、モデル基板(1)を取り出し、SF33のみでリンスし、室温(25℃)で5分間乾燥させた。
◎:パーティクル除去率が90%以上
○:パーティクル除去率が70%以上90%未満
△:パーティクル除去率が50%以上70%未満
×:パーティクル除去率が50%未満
<(A)成分>
・HeG:エチレングリコールモノn-ヘキシルエーテル
・HeDG:ジエチレングリコールモノn-ヘキシルエーテル
・BTG:トリエチレングリコールモノn-ブチルエーテル
・DEDG:ジエチレングリコールジエチルエーテル
・PhG:エチレングリコールモノフェニルエーテル
<(B)成分>
・MBD:N-n-ブチルジエタノールアミン(商品名:『アミノアルコール MBD』、日本乳化剤(株)製)
・2B:N,N-ジブチルアミノエタノール(商品名:『アミノアルコール 2B』、日本乳化剤(株)製)
・CHE-20:N,N-ビス(2-ヒドロキシエチル)-N-シクロヘキシルアミン(商品名:『アミノアルコール CHE-20』、日本乳化剤(株)製)
<(C)成分>
・C-1:cis-1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブテン(商品名:『オプテオン SF33』、三井・ケマーズ フロロプロダクツ(株)製)
<(D)成分>
・酒石酸:DL-酒石酸(キシダ化学(株)製)
Claims (5)
- グリコールエーテル(A)、脂肪族アルカノールアミン及び/又は脂環族アルカノールアミン(B)、並びに、cis-1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブテン及び/又はtrans-1,1,1,4,4,4-ヘキサフルオロ-2-ブテン(C)を含み、(A)成分10~60重量%、(B)成分1~70重量%及び(C)成分10~70重量%を含む洗浄剤組成物。
- (A)成分が、一般式(1):X1-(O-(CH2-CHY))n-O-X2(式(1)中、X1は炭素数1~6のアルキル基、X2は水素又は炭素数1~4のアルキル基、Yは水素又はメチル基、nは1~3の整数を示す)で表される脂肪族グリコールエーテルである請求項1の洗浄剤組成物。
- 更に、ヒドロキシカルボン酸(D)を含む請求項1又は2の洗浄剤組成物。
- (D)成分がクエン酸、イソクエン酸、酒石酸及びリンゴ酸からなる群より選ばれる少なくとも1種である請求項3の洗浄剤組成物。
- 被洗浄物を、請求項1~4のいずれかの洗浄剤組成物で洗浄する工程を含む、洗浄方法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010024141A1 (ja) | 2008-08-27 | 2010-03-04 | 荒川化学工業株式会社 | 鉛フリーはんだフラックス除去用洗浄剤組成物および鉛フリーはんだフラックス除去システム |
JP2016147941A (ja) | 2015-02-10 | 2016-08-18 | セントラル硝子株式会社 | 含フッ素オレフィンを構成成分とする共沸様組成物 |
JP2017206582A (ja) | 2016-05-16 | 2017-11-24 | 株式会社カネコ化学 | 洗浄用組成物 |
JP2018199808A (ja) | 2017-05-26 | 2018-12-20 | 荒川化学工業株式会社 | 鉛フリーはんだフラックス用洗浄剤組成物、鉛フリーはんだフラックスの洗浄方法 |
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