JP2002212597A - 精密部品用水系洗浄剤組成物 - Google Patents
精密部品用水系洗浄剤組成物Info
- Publication number
- JP2002212597A JP2002212597A JP2001045766A JP2001045766A JP2002212597A JP 2002212597 A JP2002212597 A JP 2002212597A JP 2001045766 A JP2001045766 A JP 2001045766A JP 2001045766 A JP2001045766 A JP 2001045766A JP 2002212597 A JP2002212597 A JP 2002212597A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- cleaning
- mass
- composition
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 フロンやトリクロロエタン等の有機溶剤を用
いることなく、洗浄力の優れた安仝性の高い精密部品用
水系洗浄剤を得ること。 【構成】 アニオン界面活性剤と下記一般式（Ｉ）で示
される化合物及び水からなることを特徴とする精密部品
用水系洗浄剤組成物。 Ｒ１−Ｏ−（Ｒ３Ｏ）ｍ−Ｒ２ …（Ｉ） （式中、Ｒ１は炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル
基、フェニル基。Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜９のア
ルキル基ないしアルケニル基、フェニル基。Ｒ３は炭素
数２〜４のアルキレン基。ｍは１〜１０の数）
いることなく、洗浄力の優れた安仝性の高い精密部品用
水系洗浄剤を得ること。 【構成】 アニオン界面活性剤と下記一般式（Ｉ）で示
される化合物及び水からなることを特徴とする精密部品
用水系洗浄剤組成物。 Ｒ１−Ｏ−（Ｒ３Ｏ）ｍ−Ｒ２ …（Ｉ） （式中、Ｒ１は炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル
基、フェニル基。Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜９のア
ルキル基ないしアルケニル基、フェニル基。Ｒ３は炭素
数２〜４のアルキレン基。ｍは１〜１０の数）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、金属、ガラス、セラミ
ック等の硬質表面であって研磨加工ないし研削加工した
後にその該表面に付着する研磨粉、研磨材、該硬質の切
りくず等の汚垢、さらには研磨用組成物に含まれる高分
子等の有機物がバインダーとなって付着している研磨粉
やほこりを洗浄するための精密部品用洗浄剤組成物に関
する。特に、コンピューターシステムの外部記憶装置に
使用されているハードディスク用基板を洗浄する洗浄剤
に関する。
ック等の硬質表面であって研磨加工ないし研削加工した
後にその該表面に付着する研磨粉、研磨材、該硬質の切
りくず等の汚垢、さらには研磨用組成物に含まれる高分
子等の有機物がバインダーとなって付着している研磨粉
やほこりを洗浄するための精密部品用洗浄剤組成物に関
する。特に、コンピューターシステムの外部記憶装置に
使用されているハードディスク用基板を洗浄する洗浄剤
に関する。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスクは、コンピューターの外
部記憶装置として、広く用いられ、ガラス、セラミック
ス、アルミニウム等の種々の基板上に、主にスパッタリ
ング等の方法により磁性層を設けることにより製造され
ている。中でも、アルミニウムを基板とするハードディ
スクは、アルミニウムやその合金板を研磨し、その後、
Ｎｉ−Ｐのメッキ層を形成する。次いで、Ｎｉ−Ｐ表面
を研磨し加工してハードディスク基板を作成する。ハー
ドディスクと磁気ヘッドの間隔は狭く、ハードディスク
表面に突起等があると、磁気ヘッドが突起に衝突して損
傷させる場合がある。このため、ハードディスク基板の
研磨工程で、突起のない高品質の研磨面を形成させるこ
とが重要であり、従来から多くの研磨用組成物や研磨方
法について提案がなされてきた。
部記憶装置として、広く用いられ、ガラス、セラミック
ス、アルミニウム等の種々の基板上に、主にスパッタリ
ング等の方法により磁性層を設けることにより製造され
ている。中でも、アルミニウムを基板とするハードディ
スクは、アルミニウムやその合金板を研磨し、その後、
Ｎｉ−Ｐのメッキ層を形成する。次いで、Ｎｉ−Ｐ表面
を研磨し加工してハードディスク基板を作成する。ハー
ドディスクと磁気ヘッドの間隔は狭く、ハードディスク
表面に突起等があると、磁気ヘッドが突起に衝突して損
傷させる場合がある。このため、ハードディスク基板の
研磨工程で、突起のない高品質の研磨面を形成させるこ
とが重要であり、従来から多くの研磨用組成物や研磨方
法について提案がなされてきた。
【０００３】例えば、特開平１−２０５９７３号公報で
は、水、α−アルミナ、ベーマイト及び水溶性金属塩を
含有してなる研磨用組成物が、特開平２−１５８６８２
号公報では水、α−アルミナ、金属の亜硝酸塩を含有し
てなる研磨用組成物が、特開平４−１０８８８７号公報
では、水、α−アルミナ、アミノ酸類からなる研磨用組
成物が提案されている。しかし、近年のハードディスク
の高密度化に伴い、従来の研磨用組成物では問題となっ
ていなかった突起・ほこり・粒子等がエラーの原因にな
りつつある。そこで、特開平６−０３３０４２号公報で
は、炭素数２〜５の２価アルコール、エチレングリコー
ル重合物又はプロピレングリコール重合物を分散剤とし
て用いて、ダイヤモンド、炭化珪素、酸化アルミニウム
の砥粒を分散させる研磨用組成物が、特開平１０−８０
３９号公報ではα−アルミナ微粒子を研磨粉として用
い、研磨促進剤としてアセチルアセトン酢酸塩を配合し
てなる研磨用組成物が提案されている。
は、水、α−アルミナ、ベーマイト及び水溶性金属塩を
含有してなる研磨用組成物が、特開平２−１５８６８２
号公報では水、α−アルミナ、金属の亜硝酸塩を含有し
てなる研磨用組成物が、特開平４−１０８８８７号公報
では、水、α−アルミナ、アミノ酸類からなる研磨用組
成物が提案されている。しかし、近年のハードディスク
の高密度化に伴い、従来の研磨用組成物では問題となっ
ていなかった突起・ほこり・粒子等がエラーの原因にな
りつつある。そこで、特開平６−０３３０４２号公報で
は、炭素数２〜５の２価アルコール、エチレングリコー
ル重合物又はプロピレングリコール重合物を分散剤とし
て用いて、ダイヤモンド、炭化珪素、酸化アルミニウム
の砥粒を分散させる研磨用組成物が、特開平１０−８０
３９号公報ではα−アルミナ微粒子を研磨粉として用
い、研磨促進剤としてアセチルアセトン酢酸塩を配合し
てなる研磨用組成物が提案されている。
【０００４】このように、近年は、粒径が細かい研磨
粉、種々の研磨促進剤、さらには水溶性の高分子や樹脂
等を配合した研磨用組成物が用いられ、その結果、高密
度化に対応した突起の少ない表面を得ることが出来るよ
うになった。しかし、一方では、研磨加工後の研磨粉や
このような研磨用組成物に用いられている研磨促進剤あ
るいは高分子の除去が困難になり、これら残留した研磨
用組成物が微小突起の原因になる現象が起こっている。
すなわち、微粒子研磨粉を含有する研磨液を用いて表面
加工する場合、研磨後に効果的に洗浄し、表面に残留す
る研磨粉等を排除することが重要である。
粉、種々の研磨促進剤、さらには水溶性の高分子や樹脂
等を配合した研磨用組成物が用いられ、その結果、高密
度化に対応した突起の少ない表面を得ることが出来るよ
うになった。しかし、一方では、研磨加工後の研磨粉や
このような研磨用組成物に用いられている研磨促進剤あ
るいは高分子の除去が困難になり、これら残留した研磨
用組成物が微小突起の原因になる現象が起こっている。
すなわち、微粒子研磨粉を含有する研磨液を用いて表面
加工する場合、研磨後に効果的に洗浄し、表面に残留す
る研磨粉等を排除することが重要である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来、このような精密
部品の洗浄にはフロンやトリクロロエタンに代表される
有機溶剤が用いられてきたが、これらの洗浄剤は高い洗
浄力を示すが地球規模の環境破壊や人体への毒性等によ
り、水系・非水系洗浄剤へと転換が進んでいる。その中
で、非水系洗浄剤は油汚れに対しては高い洗浄性を有す
るが粒子等の汚れに対する洗浄性は低いため、研磨剤の
微粒子研磨剤の洗浄には効果を示さない。
部品の洗浄にはフロンやトリクロロエタンに代表される
有機溶剤が用いられてきたが、これらの洗浄剤は高い洗
浄力を示すが地球規模の環境破壊や人体への毒性等によ
り、水系・非水系洗浄剤へと転換が進んでいる。その中
で、非水系洗浄剤は油汚れに対しては高い洗浄性を有す
るが粒子等の汚れに対する洗浄性は低いため、研磨剤の
微粒子研磨剤の洗浄には効果を示さない。
【０００６】又、ハードディスク表面のような表面上の
研磨粉や切りくずのような無機性汚垢に対しては、研磨
後、純水や界面活性剤を含有した洗浄剤組成物で洗浄さ
れてきたが、微粒子研磨剤や研磨用組成物中に含まれる
高分子等の有機物がバインダーとなって付着している研
磨剤やほこり等の汚れについては、十分な洗浄性は得ら
れていない。
研磨粉や切りくずのような無機性汚垢に対しては、研磨
後、純水や界面活性剤を含有した洗浄剤組成物で洗浄さ
れてきたが、微粒子研磨剤や研磨用組成物中に含まれる
高分子等の有機物がバインダーとなって付着している研
磨剤やほこり等の汚れについては、十分な洗浄性は得ら
れていない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、従来技術の欠
点を解消し、表面を傷つけることなく、上記の研磨用促
進剤由来の研磨粉・切りくず等の汚垢さらには研磨用組
成物に含まれる高分子等の有機物がバインダーとなって
付着している研磨剤やほこりを十分に除去できる水系洗
浄剤を提供することを目的とする。即ち、表面を研磨加
工ないし、研削加工した後に用いる精密部品用水系洗浄
剤組成物であって、下記の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を
含むことを特徴とする精密部品用水系洗浄剤組成物を提
供する。 （Ａ）アニオン界面活性剤 ３質量％〜３０質量％ （Ｂ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物 １０質量％〜４０質量％ Ｒ１−Ｏ−（Ｒ３Ｏ）ｍ−Ｒ２ …（Ｉ） （式中、Ｒ１は炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル基又はフェニル基、 Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル基又はフェニル基 、 Ｒ３は炭素数２〜４のアルキレン基、ｍは１〜１０の数を表す。） （Ｃ）水 ３０質量％〜８７質量％
点を解消し、表面を傷つけることなく、上記の研磨用促
進剤由来の研磨粉・切りくず等の汚垢さらには研磨用組
成物に含まれる高分子等の有機物がバインダーとなって
付着している研磨剤やほこりを十分に除去できる水系洗
浄剤を提供することを目的とする。即ち、表面を研磨加
工ないし、研削加工した後に用いる精密部品用水系洗浄
剤組成物であって、下記の（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を
含むことを特徴とする精密部品用水系洗浄剤組成物を提
供する。 （Ａ）アニオン界面活性剤 ３質量％〜３０質量％ （Ｂ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物 １０質量％〜４０質量％ Ｒ１−Ｏ−（Ｒ３Ｏ）ｍ−Ｒ２ …（Ｉ） （式中、Ｒ１は炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル基又はフェニル基、 Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル基又はフェニル基 、 Ｒ３は炭素数２〜４のアルキレン基、ｍは１〜１０の数を表す。） （Ｃ）水 ３０質量％〜８７質量％
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明に用いる（Ａ）成分として
は、アニオン界面活性剤が適しており、具体的にはジア
ルキルスルホサクシネート、パラフィンスルホネート、
アルキルベンゼンスルホン酸塩等が挙げられる。好まし
くは、アルキル基又はアルケニル基の炭素数が４〜１０
のジアルキルスルホ琥珀酸塩である。この（Ａ）の配合
量としては、洗浄剤組成物全量に対して３％（％は以
下、質量％を意味する）〜３０％であり、好ましくは３
〜２０％である。（Ａ）成分の配合量が３％未満である
と、洗浄力不足となり、又、過度に多いと液安定性が悪
くなる。
は、アニオン界面活性剤が適しており、具体的にはジア
ルキルスルホサクシネート、パラフィンスルホネート、
アルキルベンゼンスルホン酸塩等が挙げられる。好まし
くは、アルキル基又はアルケニル基の炭素数が４〜１０
のジアルキルスルホ琥珀酸塩である。この（Ａ）の配合
量としては、洗浄剤組成物全量に対して３％（％は以
下、質量％を意味する）〜３０％であり、好ましくは３
〜２０％である。（Ａ）成分の配合量が３％未満である
と、洗浄力不足となり、又、過度に多いと液安定性が悪
くなる。
【０００９】本発明に用いる（Ｂ）成分は、一般式
（Ｉ）で示される化合物であり、グリコールのモノエー
テル又はジエーテルである。 Ｒ１−Ｏ−（Ｒ３Ｏ）ｍ−Ｒ２ …（Ｉ）
（Ｉ）で示される化合物であり、グリコールのモノエー
テル又はジエーテルである。 Ｒ１−Ｏ−（Ｒ３Ｏ）ｍ−Ｒ２ …（Ｉ）
【００１０】この（Ｂ）成分は、炭素数１〜９のアルキ
ルあるいはアルケニル又はフェノールのアルキレンオキ
シド付加物又はこれらのアルキル化物であり、アルキレ
ンオキシドの平均付加モル数は１〜１０である。これら
の化合物はそれぞれ単独で使用してもよいが、２種類以
上を適宜に組み合わせて使用してもよい。アルキレンオ
キシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシドが挙げられる。
ルあるいはアルケニル又はフェノールのアルキレンオキ
シド付加物又はこれらのアルキル化物であり、アルキレ
ンオキシドの平均付加モル数は１〜１０である。これら
の化合物はそれぞれ単独で使用してもよいが、２種類以
上を適宜に組み合わせて使用してもよい。アルキレンオ
キシドとしては、エチレンオキシド、プロピレンオキシ
ド、ブチレンオキシドが挙げられる。
【００１１】一般式（Ｉ）のグリコールモノエーテル類
としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘ
キシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエ
ーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノプロピルエーテル等が挙げられる。
としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレン
グリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモ
ノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノプロピ
ルエーテル、トリエチレングリコールモノプロピルエー
テル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノブチルエーテル、トリエチレングリ
コールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノヘ
キシルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエ
ーテル、エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシル
エーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、
ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレ
ングリコールモノプロピルエーテル、ジプロピレングリ
コールモノプロピルエーテル等が挙げられる。
【００１２】又、グリコールジエーテル類としては、エ
チレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコー
ルジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチル
エーテル等が挙げられる。
チレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコー
ルジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエー
テル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチ
レングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジブチルエーテル、トリエチレングリコールジメチル
エーテル等が挙げられる。
【００１３】本発明では、上記グリコールモノエーテル
単独でもよいが、これとグリコールジエーテルを併用す
ると、洗浄力が一層向上する。この際のグリコールモノ
エーテル／グリコールジエーテル配合質量比は、９０／
１０〜１０／９０が好ましい。一般式（Ｉ）のグリコー
ルエーテル化合物の中でも、末端エーテル残基の合計炭
素数（Ｒ１＋Ｒ２）が２以上で６以下のものが好まし
い。
単独でもよいが、これとグリコールジエーテルを併用す
ると、洗浄力が一層向上する。この際のグリコールモノ
エーテル／グリコールジエーテル配合質量比は、９０／
１０〜１０／９０が好ましい。一般式（Ｉ）のグリコー
ルエーテル化合物の中でも、末端エーテル残基の合計炭
素数（Ｒ１＋Ｒ２）が２以上で６以下のものが好まし
い。
【００１４】本発明に用いる（Ｂ）成分の配合量として
は、洗浄剤組成物全量に対して１０％〜４０％であり、
好ましくは１５〜３５％である。（Ｂ）成分の配合量が
１０％未満であると、洗浄力不足となり、又、４０％を
超えると液安定性が悪くなる傾向にある。
は、洗浄剤組成物全量に対して１０％〜４０％であり、
好ましくは１５〜３５％である。（Ｂ）成分の配合量が
１０％未満であると、洗浄力不足となり、又、４０％を
超えると液安定性が悪くなる傾向にある。
【００１５】本発明に用いる（Ｃ）成分は、水（イオン
交換水、精製水、純水）である。（Ｃ）成分の水の配合
量は、洗浄剤組成物全量に対して３０％〜８７％であ
り、好ましくは３０％〜８０％である。この（Ｃ）成分
の配合量が３０％未満であると洗浄後のすすぎ性が悪く
なり、又、引火性の危険がある。８７％を超えると洗浄
力不足となり好ましくない。
交換水、精製水、純水）である。（Ｃ）成分の水の配合
量は、洗浄剤組成物全量に対して３０％〜８７％であ
り、好ましくは３０％〜８０％である。この（Ｃ）成分
の配合量が３０％未満であると洗浄後のすすぎ性が悪く
なり、又、引火性の危険がある。８７％を超えると洗浄
力不足となり好ましくない。
【００１６】本発明の洗浄剤組成物には、その他必要に
応じて任意成分を配合することができる。これら任意成
分としては、クエン酸塩、燐酸塩、エチレンジアミン４
酢酸塩等の洗浄ビルダー、液安定化の為にエチレングリ
コール、プロピレングリコール等のグリコール類、トル
エンスルホン酸塩、キシレンスルホン酸塩等のハイドロ
トロープ剤、洗浄力向上の為に好ましくは１〜７％の範
囲で流動パラフィンを配合することが可能である。又、
本発明の組成物のｐＨは中性〜弱アルカリ性が好まし
く、ｐＨ調整剤として弱酸・弱アルカリ成分を適宜添加
できる。本発明の洗浄剤組成物は、組成物そのままの濃
度で洗浄に使用することができ、又、水で希釈して水溶
液として使用することも可能である。
応じて任意成分を配合することができる。これら任意成
分としては、クエン酸塩、燐酸塩、エチレンジアミン４
酢酸塩等の洗浄ビルダー、液安定化の為にエチレングリ
コール、プロピレングリコール等のグリコール類、トル
エンスルホン酸塩、キシレンスルホン酸塩等のハイドロ
トロープ剤、洗浄力向上の為に好ましくは１〜７％の範
囲で流動パラフィンを配合することが可能である。又、
本発明の組成物のｐＨは中性〜弱アルカリ性が好まし
く、ｐＨ調整剤として弱酸・弱アルカリ成分を適宜添加
できる。本発明の洗浄剤組成物は、組成物そのままの濃
度で洗浄に使用することができ、又、水で希釈して水溶
液として使用することも可能である。
【００１７】本発明の洗浄対象物は、金属、カラス、セ
ラミックス等の精密部品用硬質表面であり、特に、上記
の如く、研磨加工、研削加工後の各種研磨粉のくず、硬
質表面の切りくず等の微細な汚垢さらには研磨用組成物
に含まれる高分子等がバインダーとなって付着している
研磨粉やほこりの洗浄による除去に好適に用いられる。
洗浄方法としては、超音波洗浄、攪拌洗浄、スプレー洗
浄、スクラブ洗浄等が適宜用いられる。
ラミックス等の精密部品用硬質表面であり、特に、上記
の如く、研磨加工、研削加工後の各種研磨粉のくず、硬
質表面の切りくず等の微細な汚垢さらには研磨用組成物
に含まれる高分子等がバインダーとなって付着している
研磨粉やほこりの洗浄による除去に好適に用いられる。
洗浄方法としては、超音波洗浄、攪拌洗浄、スプレー洗
浄、スクラブ洗浄等が適宜用いられる。
【００１８】
【実施例】次に、実施例及び比較例を挙げて本発明を更
に具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定さ
れるものではない。 （実施例１〜８及び比較例１〜５）表１に示した各洗浄
剤組成物を調製し、以下の基準で洗浄性能を評価し、そ
の結果を同表に示した。なお、実施例、比較例の組成物
はｐＨ６〜８の中性である。
に具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定さ
れるものではない。 （実施例１〜８及び比較例１〜５）表１に示した各洗浄
剤組成物を調製し、以下の基準で洗浄性能を評価し、そ
の結果を同表に示した。なお、実施例、比較例の組成物
はｐＨ６〜８の中性である。
【００１９】（１）ぬれ性評価 ３．５インチＮｉ−Ｐメッキサブストレート表面に、用
意した各洗浄剤組成物の原液を塗布し、表面に対する洗
浄剤のぬれ性を目視で評価する。○以上が合格である。 ◎：ぬれ性良好 ○：ぬれ性やや良好 △：ぬれ性若干悪い ×：水と同等のぬれ性
意した各洗浄剤組成物の原液を塗布し、表面に対する洗
浄剤のぬれ性を目視で評価する。○以上が合格である。 ◎：ぬれ性良好 ○：ぬれ性やや良好 △：ぬれ性若干悪い ×：水と同等のぬれ性
【００２０】（２）洗浄性能の評価方法 ３．５インチＮｉ−Ｐメッキサブストレート表面を、市
販ダイヤモンド系研磨剤（粒径０．１μｍ〜０．５μ
ｍ）を含む研磨液と研磨布を用いて、研磨した後、用意
した各洗浄剤原液中に浸漬し、２５℃、５分間の超音波
洗浄を行う。洗浄槽から取り出し、純水で充分にすすぎ
を行い、風乾し、以下に示す評価点に従い、洗浄性を光
学顕微鏡で表面を観察する。○以上が合格である。 ◎：ほとんど洗浄されている ○：かなり洗浄されている △：ほとんど洗浄されない ×：全く洗浄されない
販ダイヤモンド系研磨剤（粒径０．１μｍ〜０．５μ
ｍ）を含む研磨液と研磨布を用いて、研磨した後、用意
した各洗浄剤原液中に浸漬し、２５℃、５分間の超音波
洗浄を行う。洗浄槽から取り出し、純水で充分にすすぎ
を行い、風乾し、以下に示す評価点に従い、洗浄性を光
学顕微鏡で表面を観察する。○以上が合格である。 ◎：ほとんど洗浄されている ○：かなり洗浄されている △：ほとんど洗浄されない ×：全く洗浄されない
【００２１】（３）洗浄剤組成物の経日安定性 １００ｃｃ透明ビンにいれた、組成を室温５℃及び４０
℃の雰囲気下に１週間静置し、その外観を下記の評価基
準で、目視評価を行った。○以上が合格である。 ◎：均一透明液体 ○：やや濁るが、室温にすると透明になり使用上問題な
し △：やや濁りあり ×：分離あるいは白濁
℃の雰囲気下に１週間静置し、その外観を下記の評価基
準で、目視評価を行った。○以上が合格である。 ◎：均一透明液体 ○：やや濁るが、室温にすると透明になり使用上問題な
し △：やや濁りあり ×：分離あるいは白濁
【００２２】
【表１】
【００２３】上記表１の結果から明らかなように、本発
明範囲となる実施例１〜８は、本発明の範囲外となる比
較例１〜５に比べ、洗浄性、経日安定性ともに優れてい
ることが判明した。本発明によれば、本発明の洗浄剤組
成物はＮｉ−Ｐ表面に付着している汚垢に対して充分な
洗浄力を発揮することができることがわかる。
明範囲となる実施例１〜８は、本発明の範囲外となる比
較例１〜５に比べ、洗浄性、経日安定性ともに優れてい
ることが判明した。本発明によれば、本発明の洗浄剤組
成物はＮｉ−Ｐ表面に付着している汚垢に対して充分な
洗浄力を発揮することができることがわかる。
【００２４】
【発明の効果】本発明により、精密部品硬質表面に残存
する研磨加工ないし、研削加工後の種々の汚垢に対し
て、優れた洗浄力を発揮する洗浄剤組成物を提供するこ
とを可能とした。又、該洗浄剤組成物は引火性もなく、
経日安定性も良好であり、さらに、フロン等の環境汚染
を生ぜしめる揮発性有機溶剤は使用しなくても、充分に
洗浄力を維持することが出来る。
する研磨加工ないし、研削加工後の種々の汚垢に対し
て、優れた洗浄力を発揮する洗浄剤組成物を提供するこ
とを可能とした。又、該洗浄剤組成物は引火性もなく、
経日安定性も良好であり、さらに、フロン等の環境汚染
を生ぜしめる揮発性有機溶剤は使用しなくても、充分に
洗浄力を維持することが出来る。
Claims (1)
- 【請求項１】 表面を研磨加工ないし研削加工した後に
用いる精密部品用水系洗浄剤組成物であって、下記の
（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を含むことを特徴とする精密
部品用水系洗浄剤組成物。 （Ａ）アニオン界面活性剤 ３質量％〜３０質量％ （Ｂ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物 １０質量％〜４０質量％ Ｒ１−Ｏ−（Ｒ３Ｏ）ｍ−Ｒ２ …（Ｉ） （式中、Ｒ１は炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル基又はフェニル基、 Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜９のアルキル基、アルケニル基又はフェニル基 、 Ｒ３は炭素数２〜４のアルキレン基、ｍは１〜１０の数を表す。） （Ｃ）水 ３０質量％〜８７質量％
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001045766A JP2002212597A (ja) | 2001-01-18 | 2001-01-18 | 精密部品用水系洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001045766A JP2002212597A (ja) | 2001-01-18 | 2001-01-18 | 精密部品用水系洗浄剤組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2002212597A true JP2002212597A (ja) | 2002-07-31 |
Family
ID=18907497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001045766A Pending JP2002212597A (ja) | 2001-01-18 | 2001-01-18 | 精密部品用水系洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2002212597A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005100522A1 (en) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Zero to low voc glass and general purpose cleaner |
| JP2009087523A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-23 | Sanyo Chem Ind Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤 |
| JP2009084509A (ja) * | 2007-10-02 | 2009-04-23 | Kao Corp | ハードディスク用基板用の洗浄剤組成物 |
| JP2013133438A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Nikko Kagaku Kenkyusho:Kk | 中性洗浄剤 |
| JP2018021122A (ja) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | 株式会社リコー | 洗浄液、洗浄方法、洗浄装置、記録方法、及びインクジェット記録装置 |
| CN109694782A (zh) * | 2017-10-24 | 2019-04-30 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 一种陶瓷清洗剂及其制备方法 |
-
2001
- 2001-01-18 JP JP2001045766A patent/JP2002212597A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005100522A1 (en) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Zero to low voc glass and general purpose cleaner |
| JP2007532720A (ja) * | 2004-04-09 | 2007-11-15 | エス．シー． ジョンソン アンド サン、インコーポレイテッド | ゼロないし低ｖｏｃガラス用及び一般用クリーナー |
| AU2005233608B2 (en) * | 2004-04-09 | 2010-05-20 | S. C. Johnson & Son, Inc. | Zero to low VOC glass and general purpose cleaner |
| JP2009087523A (ja) * | 2007-09-14 | 2009-04-23 | Sanyo Chem Ind Ltd | 磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤 |
| JP2009084509A (ja) * | 2007-10-02 | 2009-04-23 | Kao Corp | ハードディスク用基板用の洗浄剤組成物 |
| JP2013133438A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Nikko Kagaku Kenkyusho:Kk | 中性洗浄剤 |
| JP2018021122A (ja) * | 2016-08-03 | 2018-02-08 | 株式会社リコー | 洗浄液、洗浄方法、洗浄装置、記録方法、及びインクジェット記録装置 |
| CN109694782A (zh) * | 2017-10-24 | 2019-04-30 | 蓝思科技（长沙）有限公司 | 一种陶瓷清洗剂及其制备方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP4140923B2 (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| CN100543124C (zh) | 基板用清洗剂及清洗方法 | |
| TWI440711B (zh) | 鹼性非離子型界面活性劑組合物 | |
| JP5417095B2 (ja) | 洗浄剤組成物、およびガラス製ハードディスク基板の洗浄方法 | |
| RU2631870C2 (ru) | Композиция для очистки после химико-механического полирования (после - смр), содержащая конкретное содержащее серу соединение и сахарный спирт или поликарбоновую кислоту | |
| WO2012161270A1 (ja) | 洗浄剤およびガラス基板の洗浄方法 | |
| JP5518392B2 (ja) | 電子デバイス基板用洗浄剤組成物、および電子デバイス基板の洗浄方法 | |
| KR20040087893A (ko) | 반도체 기판 세정액 조성물 | |
| JP4283952B2 (ja) | 非鉄金属洗浄用洗浄液組成物 | |
| JP2002212597A (ja) | 精密部品用水系洗浄剤組成物 | |
| JP2015181079A (ja) | 磁気ディスク基板用洗浄剤組成物 | |
| JP5623318B2 (ja) | 精密部品用洗浄剤組成物 | |
| KR101645036B1 (ko) | 웨이퍼 다이싱용 세정제 조성물 | |
| JPH0959677A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| KR100863526B1 (ko) | 세정제 조성물 | |
| JP2683301B2 (ja) | 液晶用水系洗浄剤組成物 | |
| CN107532115A (zh) | 玻璃制硬盘基板用清洗剂组合物 | |
| JPH05156185A (ja) | 高分子コーティング除去用組成物 | |
| JP4213260B2 (ja) | 切削油組成物 | |
| JPH01243433A (ja) | セラミック基板用表面処理剤 | |
| TW201339299A (zh) | 包含特定含硫化合物及包含非有效量之特定含氮化合物之化學機械拋光後之清洗組合物 | |
| JPWO2010064558A1 (ja) | シアノアクリレート系接着剤剥離用組成物、および該接着剤の除去方法 | |
| JP2006176700A (ja) | 洗浄剤組成物 | |
| JP4990074B2 (ja) | プラスチックレンズ用洗浄剤組成物 | |
| JP4376022B2 (ja) | シリカスケール除去剤 |