JP4140923B2 - 洗浄剤組成物 - Google Patents
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Description
[1] 金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物であって、以下の(I)及び/又は(II):
(I)以下の(i)〜(iii)を少なくとも満たす共重合化合物、
(i)アクリル酸由来の構成単位A1が、全構成単位中の20モル%以上である、
(ii)アクリル酸由来の構成単位A1と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位A2の合計含有量が、全構成単位中の90モル%以上である、
(iii)全構成単位中の構成単位A1と構成単位A2との含有量比[構成単位A1(モル%)/構成単位A2(モル%)]が、91/9〜95/5である、
(II)1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(HEDP)及び式(1)で表される非イオン性界面活性剤(成分B)、ただし、洗浄剤組成物中に含有されるHEDP及び成分Bの重量比(HEDP/成分B)が、1/20〜1/5である、
R1−O−(EO)m(PO)n−H (1)
(式中、R1は炭素数8〜18のアルキル基、炭素数8〜18のアルケニル基、炭素数8〜18のアシル基又は炭素数14〜18のアルキルフェノール基、EOはオキシエチレン基、POはオキシプロピレン基、m及びnはそれぞれEO及びPOの平均付加モル数であり、mは1〜20の数、nは0〜20の数を表し、ここでEO及びPOはランダム又はブロックで含まれる。)
を含有する洗浄剤組成物、
[2] 金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物であって、以下の(I)及び/又は(II):
(I)以下の(i)〜(iii)を少なくとも満たす共重合化合物、
(i)アクリル酸由来の構成単位A1が、全構成単位中の20モル%以上である、
(ii)アクリル酸由来の構成単位A1と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位A2の合計含有量が、全構成単位中の90モル%以上である、
(iii)全構成単位中の構成単位A1と構成単位A2との含有量比[構成単位A1(モル%)/構成単位A2(モル%)]が、91/9〜95/5である、
(II)1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(HEDP)及び式(1)で表される非イオン性界面活性剤(成分B)、ただし、洗浄剤組成物中に配合されるHEDP及び成分Bの重量比(HEDP/成分B)が、1/20〜1/5である、
R1−O−(EO)m(PO)n−H (1)
(式中、R1は炭素数8〜18のアルキル基、炭素数8〜18のアルケニル基、炭素数8〜18のアシル基又は炭素数14〜18のアルキルフェノール基、EOはオキシエチレン基、POはオキシプロピレン基、m及びnはそれぞれEO及びPOの平均付加モル数であり、mは1〜20の数、nは0〜20の数を表し、ここでEO及びPOはランダム又はブロックで含まれる。)、
を配合してなる洗浄剤組成物、並びに
[3] 前記[1]又は[2]記載の洗浄剤組成物を用いた、金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄方法であって、以下の(a)又は(b)の工程:
(a)該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該フラットパネルディスプレイ用基板を該洗浄剤組成物に浸漬する工程、
(b)該洗浄剤組成物を射出して、該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該フラットパネルディスプレイ用基板の表面に接触させながら洗浄する工程、を含む洗浄方法、
に関する。
(I)アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸からなる群より選ばれる1又は2以上の化合物由来の構成単位A1を全構成単位の20モル%以上含有する1種以上の共重合化合物(成分A)、ただし、該共重合化合物中における構成単位A1と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位A2とを90/10〜95/5のモル比(A1/A2)で含有する共重合化合物(成分a)の含有量が、75重量%以上である。
(II)1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸(本明細書において、「HEDP」と称することがある)及び下記の一般式(1)で表される非イオン性界面活性剤(本明細書において、「成分B」と称することがある)、ただし、洗浄剤組成物中に含有されるHEDP及び成分Bの重量比(HEDP/成分B)が、1/20〜1/5である。
R1−O−(EO)m(PO)n−H (1)
(式中、R1は炭素数8〜18のアルキル基、炭素数8〜18のアルケニル基、炭素数8〜18のアシル基又は炭素数14〜18のアルキルフェノール基、EOはオキシエチレン基、POはオキシプロピレン基、m及びnはそれぞれEO及びPOの平均付加モル数であり、mは1〜20の数、nは0〜20の数を表し、ここでEO及びPOはランダム又はブロックで含まれる。)
態様1の洗浄剤組成物は、アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸からなる群より選ばれる1又は2以上の化合物由来の構成単位A1を全構成単位の20モル%以上含有する1種以上の共重合化合物(成分A)を含有し、該共重合化合物中における構成単位A1と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位A2とを90/10〜95/5のモル比(A1/A2)で含有する共重合化合物(成分a)の含有量が、75重量%以上であることを1つの特徴とする。かかる特徴を有することにより、態様1の洗浄剤組成物は、油分の溶解、並びに微粒子の分散及び除去、中でも微粒子の分散及び除去に優れた効果を奏することができる。さらに、態様1の洗浄剤組成物は、使用時の泡立ちが少なく、洗浄作業性に優れるものである。
成分Aは、アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸からなる群より選ばれる1又は2以上の化合物由来の構成単位A1を全構成単位の20モル%以上含有する共重合化合物である。
成分aは、アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸からなる群より選ばれる1又は2以上の化合物由来の構成単位A1を全構成単位の20モル%以上含有し、かつ、構成単位A1と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位A2とを90/10〜95/5のモル比(A1/A2)で含有する共重合化合物である。前記共重合体を使用することで、洗浄剤のすすぎ性を維持しつつ、ゼータ電位の向上に伴う洗浄剤の分散性が良好な状態で被基板の洗浄ができるという優れた効果を奏すると考えられる。
(GPC条件)
カラム:G4000PWXL+G2500PWXL(東ソ−(株)製)
溶離液:0.2Mリン酸バッファ−/CH3CN=9/1(容量比)
流量:1.0mL/min
カラム温度:40℃
検出:RI
サンプルサイズ:0.2mg/mL
標準物質:ポリエチレングリコール換算
態様1の洗浄剤組成物は、さらに水を含有してもよい。かかる水としては、例えば、超純水、純水、イオン交換水、蒸留水等を挙げることができ、超純水、純水、及びイオン交換水が好ましく、超純水がより好ましく使用される。なお、純水及び超純水は、例えば、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留したものを、必要に応じて所定の紫外線殺菌灯を照射、又はフィルターに通すことにより得ることができる。例えば、25℃での電気伝導率は、多くの場合、純水で1μS/cm以下であり、超純水で0.1μS/cm以下を示す。態様1の洗浄剤組成物中における水の含有量としては、製品安定性の観点から、70〜99.999重量%が好ましく、80〜99.99重量%がより好ましく、90〜99.9重量%がさらに好ましい。
態様1の洗浄剤組成物のpHは、その洗浄目的に対応して、適宜調整されても良い。金属不純物をより効果的に除去する観点から、態様1の洗浄剤組成物は酸性のものが好ましい。具体的には、塩酸、硫酸、硝酸、フッ酸、蟻酸及び酢酸からなる群より選ばれる一種以上をさらに含有し、そのpHが6以下の洗浄剤組成物が好ましい。この場合、洗浄剤組成物のpHは4以下がより好ましい。また、金属材料等の腐食を防止する観点から、該pHは2以上が好ましく、3以上がより好ましい。
さらに態様1の洗浄剤組成物には本発明の特性を損なわない範囲で、シリコン系の消泡剤やEDTAのようなキレート剤、アルコール類、低炭素数のアルキル基、アルケニル基、アシル基又はアルキルフェノール基を有する、成分B以外のグリコールエーテル類、防腐剤、酸化防止剤等を配合できる。
態様2の洗浄剤組成物は、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸及び一般式(1)で表される非イオン性界面活性剤(成分B)を特定の重量比で含有することを一つの特徴とする。かかる特徴を有することにより、それぞれの成分の特徴が相乗的に現れ、良好な洗浄性が発揮されることから、態様2の洗浄剤組成物は、油分の溶解及び微粒子の除去、中でも油分の溶解に優れた効果を奏することができる。
本発明においては、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸として、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸の塩を用いてもよい。かかる塩としては、アンモニウム塩、アミノアルコールの塩、コリンとの塩、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドとの塩、各種一〜四級の有機アミン塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩等が挙げられる。
成分Bの非イオン性界面活性剤は、下記の一般式(1)で表される。
R1−O−(EO)m(PO)n−H (1)
(式中、R1は炭素数8〜18のアルキル基、炭素数8〜18のアルケニル基、炭素数8〜18のアシル基又は炭素数14〜18のアルキルフェノール基、EOはオキシエチレン基、POはオキシプロピレン基、m及びnはそれぞれEO及びPOの平均付加モル数であり、mは1〜20の数、nは0〜20の数を表し、ここでEO及びPOはランダム又はブロックで含まれる。)
(式中、EOはオキシエチレン基(C2H4O)、POはオキシプロピレン基(C3H6O)、jは8〜18の数、p、q、r、s、t及びuは、それぞれEO又はPOの平均付加モル数であり、pは1〜20の数、qは1〜20の数、rは1〜20の数、sは1〜10の数、tは1〜10の数、uは1〜10の数である。)等が成分Bの非イオン性界面活性剤として好ましく使用され得る。
態様2の洗浄剤組成物は、さらに水を含有してもよい。かかる水としては、態様1の洗浄剤組成物と同様のものを例示することができる。また、その含有量としては、製品安定性の観点から、70〜99.999重量%が好ましく、75〜99.99重量%がより好ましく、80〜99.9重量%がさらに好ましい。
態様2の洗浄剤組成物としては、態様1の洗浄剤組成物のpHと同様であればよい。
態様2の洗浄剤組成物は、本発明の特性を損なわない範囲で、シリコン系の消泡剤やEDTAのようなキレート剤、アルコール類、成分B以外のグリコールエーテル類、防腐剤、酸化防止剤等を配合できる。
本発明の洗浄方法は、前記の態様1又は態様2の洗浄剤組成物を用いて、金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板を洗浄する方法であって、以下の(a)又は(b)の工程を含む洗浄方法である。
(a)該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該フラットパネルディスプレイ用基板を該洗浄剤組成物に浸漬する工程。
(b)該洗浄剤組成物を射出して、該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の表面に接触させながら洗浄する工程。
洗浄剤組成物を射出する手段としては、スプレ−ノズル等の公知の手段を用いることができる。また、洗浄用ブラシとしては、特に制限はなく、例えばナイロンブラシやPVAスポンジブラシ等の公知のものを使用することができる。超音波の周波数としては、工程(a)で例示されるものと同様であればよい。
表1及び表2記載の組成となるように各成分を配合及び混合し、必要に応じてpHを調整することにより、実施例1〜13(但し、実施例7〜10は参考例である)及び比較例1〜8の洗浄剤組成物を得た。なお、得られた洗浄剤組成物を、超純水により表1及び表2記載の希釈倍率で希釈したものを用いて以下の洗浄性試験を行った。
一般的なスラリー(研磨液)を用いた研磨を施すことにより、スラリー由来の砥粒及び基板材料由来の研磨屑等の微粒子によって汚染された被洗浄基板を調製し、該基板を用いて洗浄剤組成物の微粒子に対する洗浄性を評価した。
(1)金属質基材が表面に構成された記録媒体用基板
アルミナ研磨材を含有するスラリーで予め粗研磨して得たNi−Pメッキ基板(外径:95mmφ、内径:25mmφ、厚さ:1.27mm、表面粗さ(Ra):1nm)をさらに下記研磨条件で研磨した基板を被洗浄基板とした。
<研磨条件>
研磨機:両面9B研磨機(スピ−ドファム(株)製)
研磨パッド:スエードタイプ(厚さ:0.9mm、平均開孔径:30μm、フジボウ(株)製)
研磨液:コロイダルシリカスラリー(品番:メモリード2P-2000、花王(株)製)
本研磨:荷重 100g/cm2、時間 300秒、研磨液流量 100mL/min
水リンス:荷重 30g/cm2、時間 20秒、リンス水流量 約2L/min
酸化セリウム研磨材を含有するスラリーで予め2段研磨して得たアルミノシリケ−ト製のガラス基板(外径:65mmφ、内径:20mmφ、厚さ:0.635mm)をさらに下記研磨条件で研磨した基板を被洗浄基板とした。
<研磨条件>
研磨機:両面9B研磨機(スピ−ドファム(株)製)
研磨パッド:スエードタイプ(厚さ:0.9mm、平均開孔径:30μm、フジボウ(株)製)
研磨液:コロイダルシリカスラリ−(品番:メモリードGP2-317、花王(株)製)
予備研磨:荷重 60g/cm2、時間 60秒、研磨液流量 100mL/min
本研磨:荷重 100g/cm2、時間 900秒、研磨液流量 100mL/min
水リンス:荷重 30g/cm2、時間 300秒、リンス水流量 約2L/min
2−1.で調製した被洗浄基板を洗浄装置にて以下の条件で洗浄した。
(1)洗浄:ローラーで3点保持された被洗浄基板に常温の洗浄剤組成物を射出し、該洗浄剤組成物の存在下で洗浄ブラシを該基板の両面、内径、及び外径に300rpmで回転させながら押し当てることにより、洗浄を60秒間行った。
(2)すすぎ:ローラーで3点保持された(1)洗浄後の基板に常温の超純水を射出し、洗浄ブラシを該基板の両面、内径、及び外径に300rpmで回転させながら押し当てることにより、すすぎを60秒間行った。
(3)乾燥:スピンチャックに保持された(2)すすぎ後の基板を3000rpmで高速回転させることにより、液切り乾燥を30秒間行った。
2−2.の洗浄後の基板の表面における微粒子の洗浄性を以下の方法で評価した。結果を表1及び表2に示す。
(1)金属質基材が表面に構成された記録媒体用基板の評価方法
暗視野顕微鏡を用いて対物レンズ100 倍(視野範囲:約100μm角)の倍率下で、洗浄後の基板を観察し、観察視野内で観察される輝点の個数を基板表面に残存する微粒子の数として数えた。この観察を5枚の基板について、基板の内周部、センター部、外周部でランダムにそれぞれ10点、合計150点(10点×3部位×5枚=150点)実施した。観察された150点における全輝点個数及び下記評価基準に基づき、微粒子の洗浄性を4段階で評価した。
◎:全輝点個数が0個である。
○:全輝点個数が1〜2個である。
△:全輝点個数が3〜5個である。
×:全輝点個数が6個以上である。
尚、合格品は微粒子の洗浄性が○又は◎であるものである。
走査電子顕微鏡を用いて1000倍(視野範囲:約100μm角)の倍率下で、洗浄後の基板を観察し、観察視野内で観察される基板表面に残存する微粒子の数を数えた。この観察を5枚の基板について、基板の内周部、センター部、外周部でランダムにそれぞれ10点、合計150点(10点×3部位×5枚=150点)実施した。観察された150点における全微粒子個数及び下記評価基準に基づき、微粒子の洗浄性を4段階で評価した。
◎:全微粒子個数が0個である。
○:全微粒子個数が1〜2個である。
△:全微粒子個数が3〜5個である。
×:全微粒子個数が6個以上である。
尚、合格品は微粒子の洗浄性が○又は◎であるものである。
フォトマスク用基板表面に付着する種々の油性汚れにおいて、一般的な人為的汚れである指紋(皮脂)、及び搬送装置等からの一般的な環境的汚れである潤滑油(グリ−ス)によって汚染された被洗浄基板を調製し、該基板を用いて洗浄剤組成物の油性汚れに対する洗浄性を評価した。
(1)金属質基材が表面に構成されたフォトマスク用基板
クロム薄膜が表面に成膜された石英ガラス基板(約25×50mm)において、その表面全体に指紋(皮脂)を付着させた基板、及びクロム薄膜が表面に成膜された石英ガラス基板(約25×50mm)を、ガラス基板の搬送装置に使用されるグリース5gを溶解した塩化メチレン溶液100mlに浸漬した後、自然乾燥させることにより、基板全体にグリ−スを付着させた基板を被洗浄基板とした。
(2)ガラス質基材が表面に構成されたフォトマスク用基板
表面全体に指紋(皮脂)を付着させた石英ガラス基板(約25×50mm)、及びグリース5gを溶解した塩化メチレン溶液100mlに浸漬した後、自然乾燥させることにより、基板全体にグリ−スを付着させた石英ガラス基板(約25×50mm)を被洗浄基板とした。
3−1.で調製した被洗浄基板について、以下の条件で洗浄を行った。
(1)洗浄:超音波(35kHz)が照射されている25℃の洗浄剤組成物80mlに、被洗浄基板1枚を浸漬し、30秒間静置した。
(2)すすぎ:洗浄剤組成物から取り出した(1)洗浄後の基板を、80mlの超純水に25℃で30秒間浸漬した。
(3)乾燥:(2)すすぎ後の基板を窒素ブローで乾燥した。
3−2.の洗浄後の基板の表面における油性汚れの洗浄性を以下の方法で評価した。結果を表1及び表2に示す。
(1)指紋(皮脂)の洗浄性評価
光学顕微鏡を用いて20倍の倍率下で、洗浄後の5枚の基板について、基板全体(約25×50mm)を観察した。観察された指紋(皮脂)の残存状態及び下記評価基準に基づき、指紋(皮脂)の洗浄性を4段階で評価した。
<指紋(皮脂)の洗浄性評価基準>
◎:指紋(皮脂)の残渣が全く確認されない。
○:指紋(皮脂)の残渣が極めて微量確認される。
△:指紋(皮脂)の残渣が一部、確認される。
×:指紋(皮脂)の残渣が多い。
洗浄後の5枚の基板について、基板全体(約25×50mm)を目視にて観察した。観察されたグリ−ス残存状態及び下記評価基準に基づき、潤滑油(グリ−ス)の洗浄性を4段階で評価した。
<グリ−スの洗浄性評価基準>
◎:グリ−スの残渣が全く確認されない。
○:グリ−スの残渣が極めて微量確認される。
△:グリ−スの残渣が一部、確認される。
×:グリ−スの残渣が多い。
尚、合格品は指紋及びグリ−スの洗浄性が○又は◎であるものである。
フラットパネルディスプレイ用基板表面に付着する種々の油性汚れにおいて、一般的な人為的汚れである指紋(皮脂)、及び搬送装置等からの一般的な環境的汚れである潤滑油(グリ−ス)によって汚染された被洗浄基板を調製し、該基板を用いて洗浄剤組成物の油性汚れに対する洗浄性を評価した。
(1)金属質基材が表面に構成されたフラットパネルディスプレイ用基板
透明電極膜(ITO膜:酸化インジウムスズ膜)を成膜した無アルカリガラス基板(25×50mm)について、3−1.(1)と同様にして、その表面全体に指紋(皮脂)を付着させた基板、及び基板全体にグリ−スを付着させた基板を被洗浄基板として調製した。
(2)ガラス質基材が表面に構成されたフラットパネルディスプレイ用基板
無アルカリガラス基板(25×50mm)について、3−1.(1)と同様にして、その表面全体に指紋(皮脂)を付着させた基板、及び基板全体にグリ−スを付着させた基板を被洗浄基板として調製した。
4−1.で調製した被洗浄基板について、3−2.と同様にして洗浄を行った。
4−2.の洗浄後の基板の表面における油性汚れの洗浄性を3−3.と同様にして評価した。結果を表1及び表2に示す。
尚、合格品は指紋及びグリ−スの洗浄性が○又は◎であるものである。
Claims (7)
- 金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物であって、アクリル酸(モル%)/2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸(モル%)が91/9〜95/5であり、アクリル酸と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸の合計含有量が90モル%以上の共重合化合物又はその塩を含有する洗浄剤組成物。
- アクリル酸と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸の合計含有量が100モル%である請求項1記載の洗浄剤組成物。
- 該共重合化合物の含有量が、洗浄剤組成物中0.001〜30重量%である請求項1又は2記載の洗浄剤組成物。
- 金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物であって、アクリル酸(モル%)/2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸(モル%)が91/9〜95/5であり、アクリル酸と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸の合計含有量が90モル%以上の共重合化合物又はその塩を水に配合してなる洗浄剤組成物。
- アクリル酸と2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸の合計含有量が100モル%である請求項4記載の洗浄剤組成物。
- pHが9〜14である、請求項1〜5いずれか記載の洗浄剤組成物。
- 請求項1〜6いずれか記載の洗浄剤組成物を用いた、金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄方法であって、以下の(a)又は(b)の工程:
(a)該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該フラットパネルディスプレイ用基板を該洗浄剤組成物に浸漬する工程、
(b)該洗浄剤組成物を射出して、該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該フラットパネルディスプレイ用基板の表面に接触させながら洗浄する工程、を含む洗浄方法。
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