WO2007116669A1 - 洗浄剤組成物 - Google Patents

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WO2007116669A1
WO2007116669A1 PCT/JP2007/056158 JP2007056158W WO2007116669A1 WO 2007116669 A1 WO2007116669 A1 WO 2007116669A1 JP 2007056158 W JP2007056158 W JP 2007056158W WO 2007116669 A1 WO2007116669 A1 WO 2007116669A1
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substrate
cleaning
cleaning composition
structural unit
mol
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PCT/JP2007/056158
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Atsushi Tamura
Yasunori Horio
Original Assignee
Kao Corporation
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    • C11D2111/00—Cleaning compositions characterised by the objects to be cleaned; Cleaning compositions characterised by non-standard cleaning or washing processes
    • C11D2111/10—Objects to be cleaned
    • C11D2111/14—Hard surfaces
    • C11D2111/22—Electronic devices, e.g. PCBs or semiconductors

Definitions

  • the present invention relates to a cleaning composition used for cleaning a recording medium substrate, a photomask substrate, or a flat panel display substrate, and a cleaning method of the substrate using the cleaning composition.
  • hard disk drives used for various applications such as personal computers and portable music players are required to have a high recording capacity, a small-diameter key and a light-weight disk.
  • the recording density of recording media used in hard disk drives has increased dramatically over the past five years, and the requirement for the degree of cleaning of the substrate surface has become extremely strict. Therefore, it is required that foreign matters such as oil stains and fine particles on the substrate surface be sufficiently cleaned.
  • Patent Document 1 JP-A-5-43897
  • Patent Document 2 Japanese Patent Laid-Open No. 11-116984
  • Patent Document 3 Japanese Patent Laid-Open No. 11-181494
  • An object of the present invention is to provide a recording medium capable of realizing the surface quality required for increasing the density of the recording medium, high integration of the semiconductor, high speed display, or large size and high definition of the FPD.
  • the present invention provides a cleaning composition for use in cleaning a substrate for photomask, a substrate for photomask, or a substrate for flat panel display.
  • the gist of the present invention is as follows:
  • a structural unit A1 derived from acrylic acid is 20 mol% or more of all structural units
  • the total content of the structural unit A1 derived from acrylic acid and the structural unit A2 derived from 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid is 90 mol% or more of the total structural units.
  • a structural unit A1 derived from acrylic acid is 20 mol% or more of all structural units
  • Structural unit A1 derived from acrylic acid and 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid
  • a detergent composition comprising:
  • a cleaning method including a step of injecting the cleaning composition and cleaning the substrate while contacting the surface of the recording medium substrate, the photomask substrate, or the flat panel display substrate;
  • the cleaning composition of the present invention By using the cleaning composition of the present invention to clean a recording medium substrate, a photomask substrate, or a flat panel display substrate, the recording medium is densified, the semiconductor is highly integrated, and high-speed The surface quality required for large-scale and high-definition iv or FPD can be achieved.
  • a cleaning composition used for cleaning a substrate for a recording medium, a substrate for a photomask, or a substrate for a flat panel display, on which the metallic or glassy base material of the present invention is composed at least on the surface contains the following (I) or (ii).
  • the content of the copolymer compound (component a) contained in 1 / A2) is 75% by weight or more.
  • component a 1-hydroxyethylidene 1,1-diphosphonic acid (sometimes referred to herein as “HEDP”) and a nonionic surfactant represented by the following general formula (1) (this specification In the description, it may be referred to as “component B”).
  • HEDPZ component B 1-hydroxyethylidene 1,1-diphosphonic acid
  • component B a nonionic surfactant represented by the following general formula (1)
  • the weight ratio of H EDP and component B contained in the cleaning composition (HEDPZ component B) force 1 / 20 ⁇ : LZ5.
  • R 1 is an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, an acyl group having 8 to 18 carbon atoms, or an alkyl phenol group having 14 to 18 carbon atoms
  • EO is an oxyethylene group.
  • PO is an oxypropylene group
  • m and n are the average number of moles of EO and PO, respectively
  • m is a number from 1 to 20
  • n is a number from 0 to 20, where EO and PO are (Included in random or block)
  • the cleaning composition containing the above (I) is the cleaning composition of Embodiment 1
  • the cleaning composition containing (II) is the cleaning composition of Embodiment 2. It is a thing.
  • the cleaning composition of the present invention may contain both of the above (I) and (II).
  • the cleaning composition of aspect 1 includes one or more kinds of co-polymers containing at least 20 mol% of the structural unit A1 derived from one or more compounds selected from the group consisting of acrylic acid, methacrylic acid and maleic acid.
  • A1ZA2 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid
  • the cleaning composition of aspect 1 can exhibit excellent effects in dissolving oil and dispersing and removing fine particles, especially in dispersing and removing fine particles. Furthermore, the cleaning composition of Embodiment 1 is excellent in cleaning workability with less foaming during use.
  • Component A is a copolymer containing 20 mol% or more of the structural unit A1 derived from one or more compounds selected from the group consisting of acrylic acid, methacrylic acid and maleic acid. A compound.
  • acrylic acid copolymer compound methacrylic acid copolymer compound, maleic acid copolymer compound, acrylic acid / methacrylic acid copolymer compound, acrylic acid / maleic acid And a copolymer of methacrylic acid / methacrylic acid dimethylamino ester, a copolymer of methacrylic acid / methyl acrylate, and the like.
  • the cleaning composition of Embodiment 1 from the viewpoint of dispersion and removal of fine particles, at least one copolymer compound of the above component A is used, but 75% by weight or more of the copolymer compound is used.
  • A1ZA2 2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid in a molar ratio
  • Preferably 90% by weight or more of component A more preferably 100% by weight.
  • Component a contains 20 mol% or more of structural units A1 derived from one or more compounds selected from the group consisting of acrylic acid, methacrylic acid and maleic acid, and includes structural units A1 and 2- It is a copolymer compound containing structural unit A2 derived from acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid in a molar ratio (A1ZA2) of 90 ZlO to 95Z5.
  • A1ZA2 acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid in a molar ratio
  • the total content of the structural unit A1 and the structural unit A2 in all the structural units of the component a is 22 mol% or more, and the water-solubility of the copolymer mixture of the component a is increased. From the viewpoint of achieving both the prevention of aggregation and the prevention of poor particle removability due to a decrease in water solubility, it is preferably at least 80 mol%, more preferably at least 90 mol%, and even more preferably at 100 mol%.
  • the copolymer of the component a containing A1 and A2 at a strong ratio can impart an appropriate charge to the fine particles, and thus is considered to be effective in preventing aggregation of the fine particles.
  • the content ratio [constituent unit A1 (mol%) / constituent unit A2 (mol%)] of constituent unit A1 and constituent unit A2 in all constituent units of component a is determined when the substrate to be cleaned is a recording medium.
  • 91Z9 to 95Z5 is more preferable, and 91Z9 to 93Z7 is more preferable.
  • the substrate to be cleaned is a photomask substrate or a flat panel display substrate, 91/9 to 95/5 is more preferable, and 91Z9 to 93Z7 is more preferable.
  • the weight average molecular weight of the copolymer compound of component A is preferably 500-150,000 from the viewpoint of preventing the fine particle removability from decreasing due to the expression of agglomeration and obtaining sufficient fine particle removability. More preferably 1000-100,000 power, more preferably 1000-50,000 power! /.
  • the weight average molecular weight of the copolymer compound of component A can be determined, for example, by gel permeation chromatography (GPC) under the following conditions.
  • a salt thereof may be used as the copolymer compound of component A.
  • the strong salt is not particularly limited, but specifically, alkali metal salts such as sodium salt and potassium salt, and salts with nitrogen-containing compounds having a molecular weight of 300 or less are preferred.
  • Nitrogen-containing compounds having a molecular weight of 300 or less include, for example, monoethanolamine, jetanolamine, triethanolamine, methylethanolamine obtained by adding ethylene oxide, propylene oxide, etc. to ammonia, alkylamine or polyalkylpolyamine.
  • the total content of the copolymer compound of component A in the cleaning composition of Embodiment 1 is 0.001 to 30% by weight from the viewpoint of exhibiting sufficient fine particle removability, dispersion stability, and wastewater treatment. % Is preferred 0.01 to 20% by weight is more preferred 0.1 to 10% by weight is more preferred 1 to 10% by weight is even more preferred.
  • the cleaning composition of Embodiment 1 may further contain water.
  • water examples include ultrapure water, pure water, ion-exchanged water, distilled water, etc., and ultrapure water that is preferable to ultrapure water, pure water, and ion-exchanged water is more preferably used. Is done. Pure water and ultrapure water can be obtained, for example, by passing tap water through activated carbon, performing ion exchange treatment, and further distilling it, irradiating it with a predetermined ultraviolet germicidal lamp or passing it through a filter as necessary. Is possible.
  • the electrical conductivity at 25 ° C is often 1 ⁇ S / cm or less for pure water and 0.1 ⁇ S / cm or less for ultrapure water.
  • the content of water in the cleaning composition of Embodiment 1 is preferably 70-99.999% by weight, more preferably 80-99.99% by weight, more preferably 90-99. 9% by weight is more preferred.
  • the pH of the cleaning composition of Embodiment 1 may be appropriately adjusted according to the purpose of cleaning.
  • the cleaning composition of Embodiment 1 is preferably acidic.
  • a detergent composition that further contains one or more selected from the group consisting of hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, hydrofluoric acid, formic acid, and acetic acid and that has a pH of 6 or less is preferable.
  • the pH of the cleaning composition is more preferably 4 or less.
  • the pH is preferably 2 or more, more preferably 3 or more.
  • the cleaning composition of Embodiment 1 has a high strength. Specifically, it further contains at least one selected from the group consisting of ammonia, amino alcohol, tetramethyl ammonium hydroxide, choline, potassium hydroxide, and sodium hydroxide, and has a pH of 9-14.
  • a range of detergent compositions is preferred.
  • the pH of the cleaning composition is preferably 9 to 12, and when the material surface is glassy, the pH of the cleaning composition is 11 ⁇ 14 is more preferred. Note that the above pH is a detergent composition at 25 ° C. PH.
  • Examples of the amino alcohol include monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, methylethanolamine, methyljetanolamine, monopropanolamine, dipropanolamine, tripropanolamine, Examples thereof include methylpropanolamine, methyldipropanolamine, aminoethylethanolamine and the like, and methyljetanolamine is preferred from the viewpoint of product stability and environmental properties.
  • the powerful amino alcohol can be used alone or in combination of two or more.
  • the detergent composition of Embodiment 1 preferably further contains a nonionic surfactant of Component B described later.
  • the content of Component B in the cleaning composition of Embodiment 1 is preferably 0.0005 to 15% by weight, more preferably 0.005 to 10% by weight, and still more preferably 0.05 to 5% by weight. .
  • the detergent composition of Embodiment 1 may contain HEDP or aminotrimethylenephosphonic acid within the range of the properties of the present invention.
  • the cleaning composition of Embodiment 1 includes a silicone-based antifoaming agent, a chelating agent such as EDTA, alcohols, a low carbon number alkyl group, an alkenyl group, an acyl, and the like within a range not impairing the characteristics of the present invention.
  • a silicone-based antifoaming agent such as EDTA
  • alcohols such as a chelating agent
  • low carbon number alkyl group such as EDTA
  • alcohols a low carbon number alkyl group
  • an alkenyl group such as EDTA
  • acyl an acyl
  • the like within a range not impairing the characteristics of the present invention.
  • glycol ethers having a group or alkylphenol group, preservatives, anti-oxidation agents and the like can be blended.
  • Glycol ethers other than Component B that can be blended in the cleaning composition of Embodiment 1 include diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monomonobutyl ether, diethylene glycol monomonohexino ether, diethylene Examples thereof include glycolenomonophenol ether and triethyleneglycol monophenol ether. Of these, diethylene glycol monobutyl ether and triethylene glycol monophenyl ether are preferably used from the viewpoint of imparting sufficient wettability to the material surface and improving the stability of the product such as water solubility.
  • the cleaning composition of Embodiment 1 can be prepared by blending and mixing the above-mentioned components by a known method.
  • the cleaning object of the cleaning composition of Embodiment 1 is that at least the surface of a metallic or glassy substrate is A substrate for a recording medium, a substrate for a photomask, or a substrate for a flat panel display.
  • the recording medium substrate is a substrate used as a recording medium by forming a metallic base material to be a magnetic recording region on its surface in a thin film shape by sputtering or the like.
  • the substrate include a circular substrate having a surface of an aluminum substrate with Ni-P plating or a chemically tempered glass circular substrate.
  • the metallic base material that can be formed on the surface include a conolate alloy that is an alloy of conoret and chromium, tantalum, platinum, and the like.
  • a photomask substrate is a glassy base material used as a material in a process of producing a circuit pattern master (photomask) used for exposing a circuit pattern of a semiconductor element in a lithography process. Or a metal substrate formed on the surface thereof.
  • the metallic substrate that can be formed on the surface include chromium and molybdenum, and examples of the vitreous substrate include quartz glass.
  • the flat panel display substrate is a glass substrate used as a material for a panel display or a metal substrate formed on the surface thereof in the process of manufacturing a liquid crystal television or a plasma television.
  • metallic substrates that can be formed on the surface include transparent electrode thin films (ITO film: indium tin oxide film, etc.), and examples of vitreous substrates include alkali-free glass.
  • the cleaning composition of aspect 1 may be used by appropriately diluting with water or the like when cleaning the object to be cleaned.
  • the total content of active ingredients in the cleaning composition when diluted, i.e., component A, is preferably 0.001 to 5% by weight, more preferably 0.005 to 3% by weight, and even more preferably. 0.01 to 2% by weight.
  • the cleaning composition of Embodiment 1 contains Component B
  • the total content of Component A and Component B is preferably 0.001 to 5% by weight, more preferably 0.005 to 3%. It is preferable to dilute and use the cleaning composition so that it becomes wt%, more preferably 0.01 to 2 wt%.
  • the cleaning composition of Embodiment 2 contains 1-hydroxyethylidene 1,1-diphosphonic acid and the nonionic surfactant (component B) represented by the general formula (1) in a specific weight ratio. Is preferred. By having a powerful characteristic, the characteristics of each component appear synergistically and good detergency is exhibited. Therefore, the cleaning composition of aspect 2 is capable of dissolving oil and removing fine particles, especially oil content. The effect which was excellent in melt
  • 1-hydroxyethylidene-1,1,1-diphosphonic acid may be a salt of 1-hydroxychichelidene-1,1-diphosphonic acid.
  • strong salts include ammonia salts, amino alcohol salts, choline salts, tetramethyl ammonium hydroxide salts, various primary to quaternary organic amine salts, sodium salts, potassium salts, etc.
  • Alkaline earth metal salts such as alkali metal salts and calcium salts.
  • the nonionic surfactant of component B is represented by the following general formula (1).
  • R 1 is an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, an acyl group having 8 to 18 carbon atoms, or an alkyl phenol group having 14 to 18 carbon atoms
  • EO is an oxyethylene group.
  • PO is an oxypropylene group
  • m and n are the average number of moles of EO and PO, respectively
  • m is a number from 1 to 20
  • n is a number from 0 to 20, where EO and PO are (Included in random or block)
  • R 1 is an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, an alkyl group having 8 to 18 carbon atoms, an acyl group having 8 to 18 carbon atoms, or an alkylphenol having 14 to 18 carbon atoms.
  • an alkyl group having 8 to 14 carbon atoms, an alkenyl group having 8 to 14 carbon atoms, an acyl group having 8 to 14 carbon atoms, or an alkylphenol group having 14 to 16 carbon atoms is preferable.
  • alkyl groups with 8 to 14 carbon atoms are more preferable.
  • (EO) m (PO) n may be composed of an oxyethylene group alone or a mixture with an oxypropylene group. In the case of a mixture, it may contain an oxsethylene group and an oxypropylene group at random, or may be contained in a good block! /. In addition, when the oxyethylene group and the oxypropylene group are contained randomly or in blocks, the molar ratio of the oxyethylene group to the oxypropylene group (oxyethylene group Zoxypropylene group) is 9.5 / 0.5 to 5Z5. Those in the range are preferably from the viewpoint of achieving both oil solubility and high water solubility.
  • M is preferably 1 to 15 and more preferably 1 to 10 from the viewpoint of compatibility between water solubility and low foamability
  • n is preferably from the viewpoint of compatibility between water solubility and low foamability. It is 1-15, More preferably, it is 1-10, m + n becomes like this. Preferably it is 1-30, More preferably, it is 1-20.
  • Specific examples of the compound represented by the general formula (1) include 2-ethylhexanol, octanol, decanol, isodecyl alcohol, tridecyl alcohol, lauryl alcohol, myristyl alcohol, stearyl alcohol, Examples thereof include alcohols such as oleyl alcohol, otachinolephenol, norphenol, and dodecylphenol, and compounds obtained by adding oxyethylene groups or oxyethylene groups and oxypropylene groups to phenols. As described above, the oxyethylene group may be used alone or as a mixture with an oxypropylene group. The compound represented by the general formula (1) may be used alone or in combination of two or more.
  • nonionic surfactant of component B specifically, the following can be preferably used. That is, C H -O- (EO) — H, C H -O- (EO) (PO) — H, where E j 2j + l P j 2j + l q r
  • EO is an oxyethylene group (C H 0)
  • PO is an oxypropylene group
  • j is a number from 8 to 18, p, q, r, s, t and u are calories with an average of EO or PO, respectively.
  • P is a number from 1 to 20
  • q is a number from 1 to 20
  • r is a number from 1 to 20
  • s is 1 to: the number of L0
  • t is 1 to: the number of L0
  • u is 1 ⁇ : Number of L0.
  • Etc. as nonionic surfactant of component B It can be preferably used.
  • the cleaning agent of the present invention contains a nonionic surfactant
  • P-toluenesulfonate preferably Na salt
  • the P-toluenesulfonic acid salt contains a nonionic surfactant.
  • the P-toluenesulfonate is used together with the nonionic surfactant of the formula (1).
  • the non-ionic surfactant has a higher cloud point, improves the water-solubility of the non-ionic surfactant itself, and reduces the residual non-ionic surfactant during rinsing. Conceivable. Further, in Embodiments 1 and 2 of the present invention, from the viewpoint of improving the dispersibility of organic fine particles (particularly, fine particles comprising fine pieces derived from nylon material) and improving the removability of the fine particles, Na dodecylbenzenesulfonate is added. It is preferable to include it.
  • the weight ratio of HEDP to component B (HEDPZ component B) contained in the cleaning composition of aspect 2 is from the standpoint of achieving a higher synergistic effect on fine particle removability and oil removability.
  • 1Z20 to 1Z5 preferably 1Z15 to 1Z7, more preferably lZl2 to: LZ8.
  • the total content of HEDP and component B in the cleaning composition of Embodiment 2 is a viewpoint that exerts sufficient removal and dispersion stability of fine particles, and sufficient wet permeability and solubility in oil. From 0.001 to 30% by weight is preferred, 0.01 to 25% by weight is more preferred, 0.1 to 20% by weight is more preferred, and 1 to 15% by weight is even more preferred.
  • the cleaning composition of Embodiment 2 may further contain water.
  • Examples of such water include those similar to the cleaning composition of Embodiment 1.
  • the content is preferably 70-99.999% by weight, more preferably 75-99.99% by weight, more preferably 80-99.9% by weight from the viewpoint of product stability.
  • the detergent composition of aspect 2 is the same as the pH of the detergent composition of aspect 1.
  • Examples of the amino alcohol that can be used for adjusting the pH include monoethanolamine. , Diethanolamine, triethanolamine, methylethanolamine, methylethanolamine, monopropanolamine, dipropanolamine, tripropanolamine, methylpropanolamine, methyldipropanolamine, aminoethylethanolamine From the viewpoint of product stability, monoethanolamine is preferable.
  • Such amino alcohols may be used alone or in admixture of two or more.
  • the cleaning composition of Embodiment 2 further includes the above-mentioned copolymer compound of component a or a salt thereof from the viewpoint of achieving higher particle removability and dispersion stability.
  • the content of the component a in the detergent composition aspect 2 preferably 0.001 to 30 wt%, more preferably from 0.01 to 20 weight 0/0, more preferably from 0.1 to 10 wt% It is.
  • the cleaning composition of Embodiment 2 is a silicone-based antifoaming agent, a chelating agent such as EDTA, alcohols, glycol ethers other than Component B, preservatives, and acid acids, as long as the characteristics of the present invention are not impaired.
  • An inhibitor or the like can be blended.
  • glycol ethers other than Component B that can be contained in the cleaning composition of aspect 2 include the same as those exemplified in the cleaning composition of aspect 1.
  • diethylene glycol monobutyl ether and triethylene glycol monophenyl ether are preferably used from the viewpoint of imparting sufficient wettability to the material surface of the substrate to be cleaned and from the viewpoint of improving product stability such as water solubility.
  • the cleaning composition of Embodiment 2 can be prepared by blending and mixing the above-mentioned components by a known method.
  • Examples of the cleaning target of the cleaning composition of aspect 2 include the same as the cleaning target of the cleaning composition of aspect 1.
  • Embodiment 2 By using the cleaning composition of Embodiment 2 in, for example, a cleaning method described later, it is possible to perform good dissolution of oil, removal of fine particles, and the like for the above-described cleaning target.
  • the cleaning composition of aspect 2 may be used by appropriately diluting with water or the like when cleaning the object to be cleaned.
  • the total content of active ingredients in the cleaning composition when diluted, that is, HEDP and component B, is preferably 0.001 to 5% by weight, more preferably 0.005 to 3% by weight, and even more preferably. Is from 0.01 to 2% by weight.
  • the cleaning composition of Embodiment 2 contains component a
  • the total content of HEDP, component B and component a is preferably 0.001 to 5% by weight, more preferably 0.005. It is preferable to use the diluted detergent composition so that it is ⁇ 3 wt%, more preferably 0.01 to 2 wt%.
  • the cleaning method of the present invention comprises a recording medium substrate, a photomask substrate, or a flat, wherein a metallic or glassy base material is formed on at least the surface using the cleaning composition of the first aspect or the second aspect.
  • a method for cleaning a panel display substrate which includes the following step (a) or (b).
  • the conditions for immersion are not particularly limited, and examples include immersion conditions at 20 to 100 ° C for 10 seconds to 30 minutes. Further, from the viewpoint of fine particle removability and dispersibility, it is preferable to immerse under conditions where ultrasonic waves are oscillated.
  • the frequency of the ultrasonic wave is preferably 20 to 2000 kHz, more preferably 100 to 2000 kHz, and even more preferably ⁇ 1000 to 2000 kHz.
  • an ultrasonic wave is oscillated from the viewpoint of promoting cleaning of fine particles and solubility of oil! / Inject the cleaning composition to contact with the surface of the substrate to be cleaned for cleaning, or contact the cleaning brush with the surface of the substrate to be cleaned in the presence of the injected cleaning composition. It is preferable to clean it and oscillate ultrasonic waves! More preferably, the cleaning composition is injected and then cleaned by bringing the cleaning brush into contact with the surface of the substrate to be cleaned in the presence of the cleaning composition.
  • known means such as a spray nozzle can be used.
  • the cleaning brush is not particularly limited, and a known brush such as a nylon brush or a PVA ⁇ bond brush can be used.
  • the frequency of the ultrasonic wave may be the same as that exemplified in step (a).
  • the cleaning method of the present invention uses known cleaning means such as rocking cleaning, cleaning using rotation of a spinner, paddle cleaning, and the like. One or more steps may be included.
  • the viewpoint power such as the cleanability of fine particles and oil
  • the viewpoint power is also preferably a content power of (I) or (II), preferably 0.001 to 5% by weight. Is preferably adjusted to 0.005 to 3% by weight, more preferably 0.01 to 2% by weight.
  • the cleaning composition of the present invention contains HEDP, component a and component B, from the viewpoints of fine particle removability and cleaning properties, HEDP, component a and It is preferable to perform cleaning with a total content of component B of 0.001 to 5% by weight. It is more preferable to perform cleaning with 0.005 to 3% by weight. It is more preferable to carry out.
  • the substrate to be cleaned may be cleaned one by one in a single cleaning operation, or a plurality of substrates may be cleaned.
  • the number of cleaning tanks used for cleaning may be one or more.
  • the temperature of the cleaning composition at the time of cleaning is not particularly limited! /, But a range of 20 to 100 ° C. is preferable from the viewpoint of safety and operability.
  • the cleaning compositions of Examples 1 to 9 and Comparative Examples 1 to 8 were obtained by blending and mixing each component so as to have the composition described in Table 1 and Table 2, and adjusting the pH as necessary. .
  • the following cleaning test was performed using the obtained detergent composition diluted with ultrapure water at the dilution ratios shown in Tables 1 and 2.
  • a substrate to be cleaned contaminated with abrasive particles derived from the slurry and fine particles such as polishing scraps derived from the substrate material is prepared and cleaned using the substrate.
  • the detergency of the agent composition with respect to fine particles was evaluated.
  • a substrate for a recording medium having a metallic substrate formed on the surface Ni-P plating substrate (outer diameter: 95mm ⁇ , inner diameter: 25mm ⁇ , thickness: 1.27mm, surface roughness (Ra): lnm) obtained by rough polishing in advance with a slurry containing alumina abrasive The substrate polished under the polishing conditions was used as the substrate to be cleaned.
  • Polishing machine Double-sided 9B polishing machine (made by Speed Fam Co., Ltd.)
  • Polishing pad Suede type (Thickness: 0.9mm, average pore size: 30 / ⁇ ⁇ , manufactured by Fujibow Corp.)
  • Polishing fluid Colloidal silica slurry (Product number: Memorized 2 ⁇ -2000, manufactured by Kao Corp.)
  • Main polishing Load 100g / cm 2 , time 300 seconds, polishing fluid flow lOOmL / min
  • An aluminosilicate glass substrate (outer diameter: 65 mm ⁇ , inner diameter: 20 mm ⁇ , thickness: 0.635 mm) obtained by two-stage polishing in advance with a slurry containing an oxycerium abrasive is further subjected to the following polishing conditions: The polished substrate was used as a substrate to be cleaned.
  • Polishing machine Double-sided 9B polishing machine (made by Speed Fam Co., Ltd.)
  • Polishing pad Suede type (Thickness: 0.9mm, average hole diameter: 30 / ⁇ ⁇ , manufactured by Fujibow Corp.)
  • Polishing fluid Colloidal silica slurry (Product number: Memorized GP2-317, manufactured by Kao Corp.) Reserve Polishing: Load 60g / cm 2 , time 60 seconds, polishing fluid flow lOOmL / min
  • a cleaning composition at room temperature is injected onto a substrate to be cleaned, which is held at three points by a roller, and in the presence of the cleaning composition, a cleaning brush is applied to both sides, inner diameter and outer diameter of the substrate at 300 rpm. Washing was performed for 60 seconds by pressing while rotating with.
  • Rinsing 3 points held by a roller (1) Injecting ultrapure water at room temperature onto the substrate after cleaning, and press the cleaning brush while rotating it on both sides, inner diameter and outer diameter of the substrate at 300rpm Rinse for 60 seconds.
  • Drying (2) The substrate after rinsing was rotated at a high speed of 3000 rpm, and the liquid was dried for 30 seconds.
  • Point power is Sl ⁇ 2.
  • ⁇ The total number of bright spots is 3-5.
  • the acceptable product is one in which the cleaning property of fine particles is ⁇ or ⁇ .
  • the substrate after cleaning was observed under a magnification of 1000 times (field range: about 100 / zm square) using a scanning electron microscope, and the number of fine particles remaining on the surface of the substrate observed in the observation field was counted.
  • ⁇ Total fine particle count force Sl ⁇ 2.
  • ⁇ The total number of fine particles is 3-5.
  • the total number of fine particles is 6 or more.
  • the acceptable product is one in which the cleaning property of fine particles is ⁇ or ⁇ .
  • a quartz glass substrate (approx. 25 x 50 mm) with a chromium thin film formed on the surface, a substrate with a fingerprint (sebum) attached to the entire surface, and a quartz glass substrate (approx. Approx. 25 x 50 mm) is immersed in 100 ml of methylene chloride solution in which 5 g of grease used in the glass substrate transport device is dissolved, and then air-dried. A substrate was used.
  • a quartz glass substrate (approx. 25 x 50mm) with fingerprints (sebum) attached to the entire surface, and 100 ml of methylene chloride solution containing 5 g of dally dissolved in it, and then air-dried to dry the entire substrate.
  • Adhered quartz glass substrate (about 25 X 50mm) was used as the substrate to be cleaned.
  • the entire substrate (about 25 ⁇ 50 mm) was observed for the five substrates after cleaning at a magnification of 20 ⁇ . Based on the remaining fingerprint (sebum) remaining state and the following evaluation criteria, the fingerprint (sebum) detergency was evaluated in four stages.
  • the entire substrate (about 25 ⁇ 50 mm) was visually observed on the five substrates after cleaning. Based on the observed durries remaining condition and the following evaluation criteria, the cleaning performance of the lubricating oil (dalis) was evaluated in four stages.
  • a pass product is a thing in which the washing
  • the substrate to be cleaned prepared in 4-1. was cleaned in the same way as 3-2.
  • a pass product is a thing in which the washing
  • the cleaning composition of the present invention is excellent in the cleaning properties of fine particles and oily soils.
  • the cleaning composition of Embodiment 1 exhibits an excellent effect due to the cleaning properties of the fine particles.
  • the cleaning composition of the present invention which contains a specific compound, and a cleaning medium composition, a photomask substrate, or a flat panel by cleaning using the cleaning composition. It can efficiently clean and remove oil, fine particles, metal impurities, and other contaminants adhering to the display substrate, resulting in high clean surface quality, which can contribute to improved yield of manufactured products. .

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Abstract

　　本発明は、金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物であって、 （Ｉ）以下の（i）～（iii）を少なくとも満たす共重合化合物、 （i）アクリル酸由来の構成単位Ａ１が、全構成単位中の２０モル％以上である、 （ii）アクリル酸由来の構成単位Ａ１と２-アクリルアミド-２-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位Ａ２の合計含有量が、全構成単位中の９０モル％以上である、 （iii）全構成単位中の構成単位Ａ１と構成単位Ａ２との含有量比[構成単位Ａ１（モル％）／構成単位Ａ２（モル％）]が、９１／９～９５／５である を含有する洗浄剤組成物に関する。

Description

明 細 書
洗浄剤組成物
技術分野
[0001] 本発明は、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ 用基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物及び該洗浄剤組成物を用いた該基板の洗浄 方法に関する。
背景技術
[0002] 近年、パソコンや携帯音楽プレーヤ一等の様々な用途に使用されているハードディ スクドライブは、高記録容量、並びにディスクサイズの小径ィ匕及び軽量ィ匕が求められ ている。これに伴い、特に、この 5年程の間にハードディスクドライブに用いられる記 録媒体の記録密度は飛躍的に高くなつており、基板表面の洗浄度に対する要求も非 常に厳しくなつてきている。従って、基板表面上の油分の汚れや微粒子等の異物が 十分に洗浄されて ヽることが求められる。
[0003] また、半導体分野においても、特に、この 5年程の間に高集積化と高速ィ匕が飛躍的 に進んでいる。半導体の製造工程で、異物が残留したままのフォトマスクをリソグラフ ィー工程に用いてパターン形成を行うと、設計した通りの回路パターンが得られず、 配線欠落等のトラブルが発生し、品質不良や生産歩留まりの低下を引き起こし得る。 このような傾向は、半導体素子の集積度が上がり、回路パターンが微細化すればす るほど強く現れる。したがって、回路パターンの微細化に伴う製品の品質悪ィ匕ゃ歩留 まり低下を抑えるベぐフォトマスクの表面上における油性汚れや微粒子等の異物が 十分に洗浄されて ヽることが望まれて 、る。
[0004] さらには、近年、特に、この 5年程の間に普及率が急速に伸長している液晶テレビ やプラズマテレビに代表されるフラットパネルディスプレイ（本明細書にぉ 、て、「FP D」と称することがある）においても、パネルサイズの大型化や高精細化が進む中、製 造工程中におけるパネル表面に要求される清浄度は高くなつてきている。
[0005] このような近年の状況の中で、 10年近く前、又はそれ以前の技術状況に基づ!/、て 開発された洗浄剤組成物、例えば、特許文献 1〜3に記載の洗浄剤組成物の洗浄性 は、要求される表面品質を得るには不十分である。
特許文献 1 :特開平 5— 43897号公報
特許文献 2：特開平 11― 116984号公報
特許文献 3：特開平 11― 181494号公報
発明の開示
発明が解決しょうとする課題
[0006] 本発明の課題は、記録媒体の高密度化、半導体の高集積 ·高速ィ匕又は FPDの大 型，高精細化のために要求される表面品質を実現することができる、記録媒体用基 板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄 剤組成物を提供することである。
課題を解決するための手段
[0007] 即ち、本発明の要旨は、
[1] 金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フ オトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組 成物であって、
(I)以下の G)〜 (m)を少なくとも満たす共重合化合物、
(i)アクリル酸由来の構成単位 A1が、全構成単位中の 20モル％以上である、
(ii)アクリル酸由来の構成単位 A1と 2-アクリルアミド -2-メチルプロパンスルホン酸由 来の構成単位 A2の合計含有量が、全構成単位中の 90モル％以上である、
(iii)全構成単位中の構成単位 A1と構成単位 A2との含有量比 [構成単位 A1 (モル %) Z構成単位 A2 (モル0 /0) ]が、 9lZ9〜95Z5である
を含有する洗浄剤組成物、
[2] 金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フ オトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組 成物であって、
(I)以下の G)〜 (m)を少なくとも満たす共重合化合物、
(i)アクリル酸由来の構成単位 A1が、全構成単位中の 20モル％以上である、
(ii)アクリル酸由来の構成単位 A1と 2-アクリルアミド -2-メチルプロパンスルホン酸由 来の構成単位 A2の合計含有量が、全構成単位中の 90モル％以上である、 (iii)全構成単位中の構成単位 Alと構成単位 A2との含有量比 [構成単位 Al (モル %) Z構成単位 A2 (モル0 /0) ]が、 9lZ9〜95Z5である
を配合してなる洗浄剤組成物、並びに
[3] 前記 [1]又は [2]記載の洗浄剤組成物を用いた、金属質又はガラス質基材が 少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパ ネルディスプレイ用基板の洗浄方法であって、以下の（a)又は (b)の工程：
(a)該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該フラットパネルディスプレイ用 基板を該洗浄剤組成物に浸漬する工程、
(b)該洗浄剤組成物を射出して、該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該 フラットパネルディスプレイ用基板の表面に接触させながら洗浄する工程、を含む洗 浄方法、
に関する。
発明の効果
[0008] 本発明の洗浄剤組成物を用いて記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラッ トパネルディスプレイ用基板を洗浄することにより、記録媒体の高密度化、半導体の 高集積化 ·高速ィヒ又は FPDの大型 ·高精細化のために要求される表面品質を実現 することができる。
発明を実施するための最良の形態
[0009] 本発明の金属質若しくはガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用 基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗 浄剤組成物 (本明細書において、単に「洗浄剤組成物」と称することがある）は、以下 の (I)又は (Π)を含有する。
(I)アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸力 なる群より選ばれる 1又は 2以上の化 合物由来の構成単位 A1を全構成単位の 20モル％以上含有する 1種以上の共重合 化合物 (成分 A)、ただし、該共重合ィ匕合物中における構成単位 A1と 2-アクリルアミド - 2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位 A2とを 90ZlO〜95Z5のモル比（A
1/A2)で含有する共重合化合物 (成分 a)の含有量が、 75重量％以上である。 (Π) 1—ヒドロキシェチリデン 1, 1ージホスホン酸（本明細書において、「HEDP」と 称することがある)及び下記の一般式（1)で表される非イオン性界面活性剤 (本明細 書において、「成分 B」と称することがある）、ただし、洗浄剤組成物中に含有される H EDP及び成分 Bの重量比（HEDPZ成分 B)力 1/20〜： LZ5である。
R'-O- (EO) m(PO) n-H (1)
(式中、 R1は炭素数 8〜18のアルキル基、炭素数 8〜18のァルケ-ル基、炭素数 8 〜18のァシル基又は炭素数 14〜18のアルキルフエノール基、 EOはォキシエチレン 基、 POはォキシプロピレン基、 m及び nはそれぞれ EO及び POの平均付カ卩モル数 であり、 mは 1〜20の数、 nは 0〜20の数を表し、ここで EO及び POはランダム又はブ ロックで含まれる。）
[0010] 本発明にお ヽては、上記の (I)を含有する洗浄剤組成物を態様 1の洗浄剤組成物 とし、（II)を含有する洗浄剤組成物を態様 2の洗浄剤組成物とする。特定の化合物を 含有する本発明の洗浄剤組成物を使用することにより、被洗浄基板に要求される高 い洗浄度が実現され得る。なお、本発明の洗浄剤組成物は、上記の (I)及び (II)の 両方を含有するものであってもよ 、。
[0011] 1.態様 1の洗浄剤組成物
態様 1の洗浄剤組成物は、アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸力 なる群より選 ばれる 1又は 2以上の化合物由来の構成単位 A1を全構成単位の 20モル％以上含 有する 1種以上の共重合化合物 (成分 A)を含有し、該共重合化合物中における構 成単位 A1と 2-アクリルアミド -2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位 A2とを 9 0Z10〜95Z5のモル比 (A1ZA2)で含有する共重合化合物 (成分 a)の含有量が 、 75重量％以上であることを 1つの特徴とする。力かる特徴を有することにより、態様 1 の洗浄剤組成物は、油分の溶解、並びに微粒子の分散及び除去、中でも微粒子の 分散及び除去に優れた効果を奏することができる。さらに、態様 1の洗浄剤組成物は 、使用時の泡立ちが少なぐ洗浄作業性に優れるものである。
[0012] 《成分 A》
成分 Aは、アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸力 なる群より選ばれる 1又は 2 以上の化合物由来の構成単位 A1を全構成単位の 20モル％以上含有する共重合 化合物である。
[0013] 具体的には、アクリル酸共重合ィ匕合物、メタクリル酸共重合ィ匕合物、マレイン酸共 重合化合物、アクリル酸/メタクリル酸の共重合ィ匕合物、アクリル酸/マレイン酸の共重 合化合物、メタクリル酸/メタクリル酸ジメチルァミノエステルの共重合ィ匕合物、メタタリ ル酸/アクリル酸メチルエステルの共重合ィ匕合物等が挙げられる。
[0014] 態様 1の洗浄剤組成物にお!、ては、微粒子の分散及び除去の観点から、上記成分 Aの共重合化合物を 1種以上使用するが、該共重合化合物の 75重量％以上は、構 成単位 A1と 2-アクリルアミド -2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位 A2とを 9 OZlO〜95Z5のモル比 (A1ZA2)で含有する共重合化合物 (成分 a)であり、成分 aは、好ましくは成分 Aの 90重量％以上、より好ましくは 100重量％である。
[0015] 《成分 a》
成分 aは、アクリル酸、メタクリル酸及びマレイン酸力 なる群より選ばれる 1又は 2以 上の化合物由来の構成単位 A1を全構成単位の 20モル％以上含有し、かつ、構成 単位 A1と 2-アクリルアミド -2-メチルプロパンスルホン酸由来の構成単位 A2とを 90 ZlO〜95Z5のモル比 (A1ZA2)で含有する共重合化合物である。前記共重合体 を使用することで、洗浄剤のすすぎ性を維持しつつ、ゼータ電位の向上に伴う洗浄 剤の分散性が良好な状態で被基板の洗浄ができるという優れた効果を奏すると考え られる。
[0016] 成分 aの全構成単位中における構成単位 A1と構成単位 A2の合計含有量は、 22 モル％以上であり、成分 aの共重合ィ匕合物の水溶性を高め、また、微粒子の凝集防 止と水溶性の低下による微粒子除去性の悪ィ匕防止とを両立する観点から、好ましく は 80モル％以上、より好ましくは 90モル％以上、さらに好ましくは 100モル％である
[0017] 力かる割合で A1と A2とを含有する成分 aの共重合ィ匕合物は、微粒子に対して適度 な電荷を付与し得るため、微粒子の凝集防止に有効であると考えられる。
[0018] 成分 aの全構成単位中における構成単位 A1と構成単位 A2との含有量比 [構成単 位 A1 (モル％) Z構成単位 A2 (モル％) ]は、微粒子の凝集防止と水溶性の低下に よる微粒子除去性の悪ィ匕防止を両立する観点から、 90Z10〜95Z5であり、 91/9 〜95Z5力 子ましく、 9lZ9〜93Z7がより好ましい。ここで、成分 aの全構成単位中 における構成単位 A1と構成単位 A2との含有量比 [構成単位 A1 (モル％) /構成単 位 A2 (モル％) ]は、洗浄対象の基板が記録媒体用基板である場合、 9lZ9〜95Z 5がさらに好ましぐ 91Z9〜93Z7がさらに好ましい。洗浄対象の基板がフォトマスク 用基板又はフラットパネルディスプレイ用基板である場合、 91/9〜95/5がさらに 好ましぐ 91Z9〜93Z7がさらに好ましい。
[0019] 成分 Aの共重合化合物の重量平均分子量は、凝集性の発現により微粒子除去性 が低下するのを防ぎ、充分な微粒子除去性を得る観点から、 500-150, 000が好 ましく、 1000〜100, 000力より好ましく、 1000〜50, 000力さらに好まし!/、。成分 A の共重合化合物の重量平均分子量は、例えば、下記条件のゲルパーミエーシヨンク 口マトグラフィー（GPC)によって求めることができる。
(GPC条件）
カラム： G4000PWXL+G2500PWXL (東ソ (株)製）
溶離液： 0.2Mリン酸バッファー ZCH CN = 9/1 (容量比）
3
流量： l.OmLz mm
カラム温度： 40°C
検出: RI
サンプルサイズ： 0.2mgZmL
標準物質:ポリエチレングリコール換算
[0020] 前記の成分 Aの共重合化合物としては、その塩を用いてもよ!、。力かる塩としては、 特に限定されないが、具体的にはナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ金属塩、及び 分子量 300以下の含窒素系化合物との塩が好まし 、。分子量 300以下の含窒素系 化合物としては、例えば、アンモニア、アルキルアミン又はポリアルキルポリアミンにェ チレンオキサイド、プロピレンオキサイド等を付カ卩したモノエタノールァミン、ジェタノ ールァミン、トリエタノールァミン、メチルエタノールァミン、モノプロパノールァミン、ジ プロパノールァミン、トリプロパノールァミン、メチルプロパノールァミン、モノブタノー ルァミン、アミノエチルエタノールァミン等のァミノアルコール類；テトラメチルアンモ- ゥムノ、イド口オキサイド、コリン等の四級アンモ-ゥム塩等が挙げられる。 [0021] 態様 1の洗浄剤組成物中における成分 Aの共重合化合物の合計含有量は、充分 な微粒子の除去性、分散安定性及び排水処理性を発揮させる観点から、 0. 001〜 30重量％が好ましぐ 0. 01〜20重量％がより好ましぐ 0. 1〜10重量％がさらに好 ましぐ 1〜10重量％がさらにより好ましい。
[0022] 《水》
態様 1の洗浄剤組成物は、さらに水を含有してもよい。かかる水としては、例えば、 超純水、純水、イオン交換水、蒸留水等を挙げることができ、超純水、純水、及びィ オン交換水が好ましぐ超純水がより好ましく使用される。なお、純水及び超純水は、 例えば、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留したものを、必要に 応じて所定の紫外線殺菌灯を照射、又はフィルターに通すことにより得ることができる 。例えば、 25°Cでの電気伝導率は、多くの場合、純水で 1 μ S/cm以下であり、超純水 で 0.1 μ S/cm以下を示す。態様 1の洗浄剤組成物中における水の含有量としては、 製品安定性の観点から、 70-99. 999重量％が好ましぐ 80-99. 99重量％がより 好ましぐ 90-99. 9重量％がさらに好ましい。
[0023] 〈く pH》
態様 1の洗浄剤組成物の pHは、その洗浄目的に対応して、適宜調整されても良い 。金属不純物をより効果的に除去する観点から、態様 1の洗浄剤組成物は酸性のも のが好ましい。具体的には、塩酸、硫酸、硝酸、フッ酸、蟻酸及び酢酸からなる群より 選ばれる一種以上をさらに含有し、その pHが 6以下の洗浄剤組成物が好ましい。こ の場合、洗浄剤組成物の pHは 4以下がより好ましい。また、金属材料等の腐食を防 止する観点から、該 pHは 2以上が好ましぐ 3以上がより好ましい。
[0024] また、微粒子をより効果的に除去する観点力もは、態様 1の洗浄剤組成物はアル力 リ性のものが好ましい。具体的には、アンモニア、ァミノアルコール、テトラメチルアン モ -ゥムハイド口オキサイド、コリン、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群よ り選ばれる一種以上をさらに含有し、その pHが 9〜14の範囲の洗浄剤組成物が好 ましい。ここで、洗浄対象の基板の少なくとも材料表面が金属質である場合、洗浄剤 組成物の pHは 9〜 12がより好ましぐ材料表面がガラス質である場合、洗浄剤組成 物の pHは 11〜14がより好ましい。なお、上記の pHは、 25°Cにおける洗浄剤組成物 の pHである。
[0025] 前記ァミノアルコールとしては、例えば、モノエタノールァミン、ジエタノールァミン、 トリエタノールァミン、メチルエタノールァミン、メチルジェタノールァミン、モノプロパノ ールァミン、ジプロパノールァミン、トリプロパノールァミン、メチルプロパノールァミン、 メチルジプロパノールァミン、アミノエチルエタノールァミン等が挙げられ、製品安定 性及び環境性の観点から、メチルジェタノールァミンが好ましい。力かるアミノアルコ ールは単独で用いても良ぐ二種以上を混合して用いても良 、。
[0026] 態様 1の洗浄剤組成物は、油分への湿潤浸透性及び溶解性を向上させる観点から 、後述の成分 Bの非イオン性界面活性剤をさらに含むことが好ましい。態様 1の洗浄 剤組成物中における成分 Bの含有量としては、好ましくは 0. 0005〜15重量％、より 好ましくは 0. 005〜10重量％、さらに好ましくは 0. 05〜5重量％である。
[0027] さらに態様 1の洗浄剤組成物は、本発明の特性を損なわな!/ヽ範囲で、 HEDP又は アミノトリメチレンホスホン酸を含んで 、てもよ 、。
[0028] 《他の任意成分》
さらに態様 1の洗浄剤組成物には本発明の特性を損なわない範囲で、シリコン系の 消泡剤や EDTAのようなキレート剤、アルコール類、低炭素数のアルキル基、ァルケ -ル基、ァシル基又はアルキルフエノール基を有する、成分 B以外のグリコールエー テル類、防腐剤、酸ィ匕防止剤等を配合できる。
[0029] 態様 1の洗浄剤組成物に配合され得る成分 B以外のグリコールエーテルとしては、 ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノェチルエーテル 、ジエチレングリコーノレモノブチノレエーテル、ジエチレングリコーノレモノへキシノレエー テル、ジエチレングリコーノレモノフエ二ノレエーテル、トリエチレングリコーノレモノフエ二 ルエーテル等が挙げられる。中でも、材料表面へ充分な濡れ性を付与する観点及び 水溶性等の製品安定性向上の観点から、ジエチレングリコールモノブチルエーテル 及びトリエチレングリコールモノフエニルエーテルが好ましく使用される。
[0030] 態様 1の洗浄剤組成物は、上記の各成分を公知の方法で配合し、混合すること〖こ より、調製することができる。
[0031] 態様 1の洗浄剤組成物の洗浄対象は、金属質又はガラス質基材が少なくとも表面 に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパネルディスプレ ィ用基板である。
[0032] 記録媒体用基板とは、その表面に磁気記録領域となる金属質基材をスパッタ等に より薄膜状に形成されることにより、記録媒体として使用される基板をいう。該基板とし ては、例えば、アルミニウム基板の表面に Ni—Pのメツキが施された円形基板、又は 化学強化ガラスの円形基板等が挙げられる。また、その表面に構成され得る金属質 基材としては、例えば、コノ レトと、クロム、タンタル、白金等との合金であるコノ レト 合金等が挙げられる。
[0033] フォトマスク用基板とは、半導体素子の回路パターンをリソグラフィー工程にて露光 する際に用いる回路パターンの原版 (フォトマスク)を製造する工程において、材料と して使用されるガラス質基材やその表面に金属質基材を成膜したものをいう。その表 面に構成され得る金属質基材としては、クロムやモリブデン等が挙げられ、ガラス質 基材としては、石英ガラス等が挙げられる。
[0034] フラットパネルディスプレイ用基板とは、液晶テレビやプラズマテレビを製造するェ 程にお 、て、パネルディスプレイの材料として使用されるガラス質基材やその表面に 金属質基材を成膜したものをいう。その表面に構成され得る金属質基材としては、透 明電極薄膜 (ITO膜：酸化インジウムスズ膜等)等が挙げられ、ガラス質基材としては 、無アルカリガラス等が挙げられる。
[0035] 態様 1の洗浄剤組成物を、例えば後述の洗浄方法で用いることにより、上記の洗浄 対象について良好な油分の溶解及び微粒子の除去等を行うことができる。
[0036] なお、態様 1の洗浄剤組成物は、洗浄対象を洗浄する際に水等で適宜希釈して用 いられてもよい。希釈された際の洗浄剤組成物中の有効成分、即ち、成分 Aの合計 含有量は、好ましくは 0. 001〜5重量％、より好ましくは 0. 005〜3重量％、さらに好 ましくは 0. 01〜2重量％である。
[0037] また、態様 1の洗浄剤組成物が、成分 Bを含有する場合、成分 A及び成分 Bの合計 含有量が、好ましくは 0. 001〜5重量％、より好ましくは 0. 005〜3重量％、さらに好 ましくは 0. 01〜2重量％になるように、洗浄剤組成物を希釈して用いることが好まし い。 [0038] 2.態様 2の洗浄剤組成物
態様 2の洗浄剤組成物は、 1ーヒドロキシェチリデン 1, 1ージホスホン酸及び一 般式 ( 1)で表される非イオン性界面活性剤 (成分 B)を特定の重量比で含有すること が好ましい。力かる特徴を有することにより、それぞれの成分の特徴が相乗的に現れ 、良好な洗浄性が発揮されることから、態様2の洗浄剤組成物は、油分の溶解及び 微粒子の除去、中でも油分の溶解に優れた効果を奏することができる。
[0039] 《1ーヒドロキシェチリデン 1, 1ージホスホン酸》
本発明においては、 1—ヒドロキシェチリデン一 1, 1—ジホスホン酸として、 1—ヒド 口キシェチリデン一 1, 1—ジホスホン酸の塩を用いてもよい。力かる塩としては、アン モ -ゥム塩、ァミノアルコールの塩、コリンとの塩、テトラメチルアンモ -ゥムハイドロォ キサイドとの塩、各種一〜四級の有機アミン塩、ナトリウム塩、カリウム塩等のアルカリ 金属塩、カルシウム塩等のアルカリ土類金属塩等が挙げられる。
[0040] 1—ヒドロキシェチリデン一 1, 1—ジホスホン酸の塩を用いる場合、製品安定性の 観点から、アンモ-ゥム塩ゃァミノアルコールの塩、コリンとの塩、テトラメチルアンモ -ゥムハイド口オキサイドとの塩、カリウム塩等が好まし 、。
[0041] 《成分 B》
成分 Bの非イオン性界面活性剤は、下記の一般式（1)で表される。
R'-O- (EO) m(PO) n-H (1)
(式中、 R1は炭素数 8〜18のアルキル基、炭素数 8〜18のァルケ-ル基、炭素数 8 〜18のァシル基又は炭素数 14〜18のアルキルフエノール基、 EOはォキシエチレン 基、 POはォキシプロピレン基、 m及び nはそれぞれ EO及び POの平均付カ卩モル数 であり、 mは 1〜20の数、 nは 0〜20の数を表し、ここで EO及び POはランダム又はブ ロックで含まれる。）
[0042] 一般式（1)において、 R1は炭素数 8〜18のアルキル基、炭素数 8〜18のァルケ- ル基、炭素数 8〜18のァシル基又は炭素数 14〜18のアルキルフエノール基であり、 洗浄性の観点から、炭素数 8〜 14のアルキル基、炭素数 8〜 14のアルケニル基、炭 素数 8〜14のァシル基又は炭素数 14〜16のアルキルフエノール基が好ましぐ洗浄 性、排水処理性及び環境性を両立する観点から、炭素数 8〜 14のアルキル基がより 好ましい。
[0043] (EO) m (PO) nは、ォキシエチレン基単独で構成されていても良ぐォキシプロピレ ン基と混合して構成されていても良い。混合して構成されている場合、ォキシェチレ ン基とォキシプロピレン基とをランダムで含んで 、ても良ぐブロックで含んで!/、ても良 い。また、ォキシエチレン基とォキシプロピレン基とをランダム又はブロックで含有する 場合、ォキシエチレン基とォキシプロピレン基との比〔ォキシエチレン基 Zォキシプロ ピレン基〕がモル比で 9. 5/0. 5〜5Z5の範囲のものは、油分の溶解性と高い水溶 性とを両立させる観点力 好ましい。また、 mは、水溶性及び低泡性の両立の観点か ら、好ましくは 1〜15、より好ましくは 1〜10であり、 nは、水溶性及び低泡性の両立の 観点から、好ましくは 1〜15、より好ましくは 1〜10であり、 m+nは、好ましくは 1〜30 、より好ましくは 1〜20である。
[0044] 一般式（1)で示される化合物としては、具体的には、 2—ェチルへキサノール、オタ タノール、デカノール、イソデシルアルコール、トリデシルアルコール、ラウリルアルコ ール、ミリスチルアルコール、ステアリルアルコール、ォレイルアルコール、オタチノレフ ェノール、ノ-ルフエノール、ドデシルフェノール等のアルコール類、フエノール類等 にォキシエチレン基、又はォキシエチレン基及びォキシプロピレン基を付加した化合 物等が挙げられる。前記の通り、ォキシエチレン基は単独で用いても良ぐォキシプ ロピレン基と混合して用いても良い。一般式（1)で示される化合物としては、単独で 用いても良ぐ二種以上を混合して用いても良い。
[0045] 成分 Bの非イオン性界面活性剤としては、具体的には以下のものが好ましく使用さ れ得る。即ち、 C H -O-(EO)— H、 C H -O-(EO) (PO)— H、（ただし、 E j 2j+l P j 2j+l q r
Oと POがブロック付カロしたもの）、 C H -O-(PO) (EO)— H、（ただし、 EOと PO j ¾+l q r
がブロック付カロしたもの）、 C H -O-(EO) (PO) (EO)— H、（ただし、 EOと POが j 2j+l s t u
ブロック付カロしたもの）、 C H -O-(EO) (PO)— H (ただし、 EOと POがランダム j ¾+l q r
付カ卩したもの）（式中、 EOはォキシエチレン基（C H 0)、 POはォキシプロピレン基（
2 4
C H O)、 jは 8〜18の数、 p、 q、 r、 s、 t及び uは、それぞれ EO又は POの平均付カロ
3 6
モル数であり、 pは 1〜20の数、 qは 1〜20の数、 rは 1〜20の数、 sは 1〜： L0の数、 t は 1〜： L0の数、 uは 1〜： L0の数である。）等が成分 Bの非イオン性界面活性剤として 好ましく使用され得る。
[0046] さらに、本発明の洗浄剤が非イオン界面活性剤を含有する場合に、洗浄剤の製 品安定性とすすぎ性を向上する観点から P-トルエンスルホン酸塩 (好ましくは Na塩） を含むことが好ましい。 P-トルエンスルホン酸塩は、例えば、本発明の態様 1にあって は、非イオン界面活性剤を含有した場合、態様 2にあっては、式（1)の非イオン界面 活性剤と併用すると、非イオン界面活性剤の曇点を高め、非イオン界面活性剤自体 の水溶性を向上し、また、すすぎ時の非イオン性界面活性剤の残留を低減できること から、すすぎ性が向上するものと考えられる。さらに、本発明の態様 1及び態様 2では 有機系微粒子 (特に、ナイロン材料由来の微細片からなる微粒子)の分散性を高め、 当該微粒子の除去性を向上する観点から、ドデシルベンゼンスルホン酸 Naを含むこ とが好ましい。
[0047] また、態様 2の洗浄剤組成物に含有される HEDPと成分 Bとの重量比 (HEDPZ成 分 B)は、微粒子除去性と油分除去性への相乗効果をより高く発揮させる観点から、 好ましくは 1Z20〜1Z5であり、より好ましくは 1Z15〜1Z7、さらに好ましくは lZl 2〜： LZ8である。
[0048] 態様 2の洗浄剤組成物中における HEDP及び成分 Bの合計含有量は、充分な微 粒子の除去性及び分散安定性、並びに油分への充分な湿潤浸透性及び溶解性を 発揮させる観点から、 0. 001〜30重量％が好ましぐ 0. 01〜25重量％がより好まし 0. 1〜20重量％がさらに好ましぐ 1〜15重量％さらにより好ましい。
[0049] 《水》
態様 2の洗浄剤組成物は、さらに水を含有してもよい。かかる水としては、態様 1の 洗浄剤組成物と同様のものを例示することができる。また、その含有量としては、製品 安定性の観点から、 70-99. 999重量％が好ましぐ 75-99. 99重量％がより好ま しく、 80〜99. 9重量％がさらに好ましい。
[0050] 〈く pH》
態様 2の洗浄剤組成物としては、態様 1の洗浄剤組成物の pHと同様であればょ ヽ [0051] pHの調整に使用され得るァミノアルコールとしては、例えば、モノエタノールァミン 、ジエタノールァミン、トリエタノールァミン、メチルエタノールァミン、メチルジェタノ一 ルァミン、モノプロパノールァミン、ジプロパノールァミン、トリプロパノールァミン、メチ ルプロパノールァミン、メチルジプロパノールァミン、アミノエチルエタノールアミン等 が挙げられ、製品安定性の観点から、モノエタノールァミンが好ましい。かかるァミノ アルコールは単独で用いても良ぐ二種以上を混合して用いても良い。
[0052] 態様 2の洗浄剤組成物は、より高 、微粒子除去性及び分散安定性を発揮させる観 点から、前述の成分 aの共重合ィ匕合物又はその塩をさらに含むことが好ましい。態様 2の洗浄剤組成物中における成分 aの含有量としては、好ましくは 0. 001〜30重量 %、より好ましくは 0. 01〜20重量0 /0、さらに好ましくは 0. 1〜10重量％である。
[0053] 《他の任意成分》
態様 2の洗浄剤組成物は、本発明の特性を損なわない範囲で、シリコン系の消泡 剤や EDTAのようなキレート剤、アルコール類、成分 B以外のグリコールエーテル類 、防腐剤、酸ィ匕防止剤等を配合できる。
[0054] 態様 2の洗浄剤組成物が含有し得る成分 B以外のグリコールエーテルとしては、態 様 1の洗浄剤組成物で例示したものと同様のものを挙げることができる。中でも、洗浄 対象の基板の材料表面へ充分な濡れ性を付与する観点及び水溶性等の製品安定 性向上の観点から、ジエチレングリコ—ルモノブチルエーテル及びトリエチレングリコ ールモノフ ニルエーテルが好ましく使用される。
[0055] 態様 2の洗浄剤組成物は、上記の各成分を公知の方法で配合し、混合すること〖こ より、調製することができる。
[0056] 態様 2の洗浄剤組成物の洗浄対象としては、態様 1の洗浄剤組成物の洗浄対象と 同様のものを例示することができる。
[0057] 態様 2の洗浄剤組成物を、例えば後述の洗浄方法で用いることにより、上記の洗浄 対象について良好な油分の溶解及び微粒子の除去等を行うことができる。
[0058] なお、態様 2の洗浄剤組成物は、洗浄対象を洗浄する際に水等で適宜希釈して用 いられてもよい。希釈された際の洗浄剤組成物中の有効成分、即ち、 HEDP及び成 分 Bの合計含有量は、好ましくは 0. 001〜5重量％、より好ましくは 0. 005〜3重量 %、さらに好ましくは 0. 01〜2重量％である。 [0059] また、態様 2の洗浄剤組成物が、成分 aを含有する場合、 HEDP、成分 B及び成分 aの合計含有量が、好ましくは 0. 001〜5重量％、より好ましくは 0. 005〜3重量％、 さらに好ましくは 0. 01〜2重量％になるように、洗浄剤組成物を希釈して用いること が好ましい。
[0060] 3.洗浄方法
本発明の洗浄方法は、前記の態様 1又は態様 2の洗浄剤組成物を用いて、金属質 又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用 基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板を洗浄する方法であって、以下の（a)又 は (b)の工程を含む洗浄方法である。
(a)該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該フラットパネルディスプレイ用 基板を該洗浄剤組成物に浸漬する工程。
(b)該洗浄剤組成物を射出して、該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又はフ ラットパネルディスプレイ用基板の表面に接触させながら洗浄する工程。
[0061] 工程 (a)において、浸漬する際の条件としては、特に制限はないが、例えば、 20〜 100°Cで、 10秒〜 30分の浸漬条件が挙げられる。また、微粒子除去性や分散性の 観点から、超音波が発振されている条件下で浸漬することが好ましい。超音波の周 波数としては、好ましくは 20〜2000kHzであり、より好ましくは 100〜2000kHz、さ らに好まし <は 1000〜 2000kHzである。
[0062] 工程 (b)にお ヽて、微粒子の洗浄性や油分の溶解性を促進させる観点から、超音 波を発振して！/ヽる洗浄剤組成物を射出して、洗浄対象の基板表面に接触させて洗 浄すること、又は射出された洗浄剤組成物の存在下で洗浄用ブラシを洗浄対象の基 板表面へ接触させて洗浄することが好ましく、超音波を発振して！/ヽる洗浄剤組成物を 射出して、該洗浄剤組成物の存在下で洗浄用ブラシを洗浄対象の基板表面へ接触 させて洗浄することがより好ま 、。
洗浄剤組成物を射出する手段としては、スプレ一ノズル等の公知の手段を用いるこ とができる。また、洗浄用ブラシとしては、特に制限はなぐ例えばナイロンブラシや P VA ^ボンジブラシ等の公知のものを使用することができる。超音波の周波数としては 、工程 (a)で例示されるものと同様であればよい。 [0063] また、本発明の洗浄方法は、前記 (a)又は (b)の工程に加えて、揺動洗浄、スピン ナ一等の回転を利用した洗浄、パドル洗浄等の公知の洗浄手段を用いる工程を 1つ 以上含んでもよい。
[0064] 本発明の洗浄剤組成物を用いて洗浄する際、微粒子及び油分の洗浄性等の観点 力も、（I)又は（II)の含有量力 好ましくは 0. 001〜5重量％、より好ましくは 0. 005 〜3重量％、さらに好ましくは 0. 01〜2重量％となるように調整して洗浄を行うことが 好ましい。
[0065] また、本発明の洗浄剤組成物が HEDP、成分 a及び成分 Bを含有する場合、微粒 子の除去性及び洗浄性等の観点から、該洗浄剤組成物中における HEDP、成分 a 及び成分 Bの合計含有量が、 0. 001〜5重量％で洗浄を行うことが好ましぐ 0. 005 〜3重量％で洗浄を行うことがより好ましぐ 0. 01〜2重量％で洗浄を行うことがさら に好ましい。
[0066] また、洗浄対象の基板は、一回の洗浄操作で一枚ずつ洗浄されても良ぐ複数枚 が洗浄されても良い。また、洗浄の際に用いる洗浄槽の数は 1つでも複数でも良い。 洗浄時の洗浄剤組成物の温度は特に限定されるものではな!/、が、 20〜100°Cの範 囲が安全性、操業性の点で好ましい。
実施例
[0067] 1.洗浄剤組成物の調製
表 1及び表 2記載の組成となるように各成分を配合及び混合し、必要に応じて pHを 調整することにより、実施例 1〜9及び比較例 1〜8の洗浄剤組成物を得た。なお、得 られた洗浄剤組成物を、超純水により表 1及び表 2記載の希釈倍率で希釈したものを 用いて以下の洗浄性試験を行った。
[0068] 2.記録媒体用基板の洗浄性試験
一般的なスラリー (研磨液)を用いた研磨を施すことにより、スラリー由来の砥粒及 び基板材料由来の研磨屑等の微粒子によって汚染された被洗浄基板を調製し、該 基板を用いて洗浄剤組成物の微粒子に対する洗浄性を評価した。
[0069] 2— 1.被洗浄基板の調製
(1)金属質基材が表面に構成された記録媒体用基板 アルミナ研磨材を含有するスラリーで予め粗研磨して得た Ni— Pメツキ基板 (外径： 95mm φ、内径： 25mm φ、厚さ： 1.27mm、表面粗さ (Ra) : lnm)をさらに下記研磨条件 で研磨した基板を被洗浄基板とした。
<研磨条件 >
研磨機：両面 9B研磨機 (スピ―ドファム (株)製）
研磨パッド:スエードタイプ (厚さ： 0.9mm、平均開孔径 : 30 /ζ πι、フジボウ (株)製） 研磨液:コロイダルシリカスラリー（品番:メモリード 2Ρ-2000、花王 (株)製） 本研磨：荷重 100g/cm2、時間 300秒、研磨液流量 lOOmL/min
水リンス：荷重 30g/cm2、時間 20秒、リンス水流量約 2L/min
[0070] (2)ガラス質基材が表面に構成された記録媒体用基板
酸ィ匕セリウム研磨材を含有するスラリーで予め 2段研磨して得たアルミノシリケート 製のガラス基板（外径： 65mm φ、内径： 20mm φ、厚さ： 0.635mm)をさらに下記研磨条 件で研磨した基板を被洗浄基板とした。
<研磨条件 >
研磨機:両面 9B研磨機 (スピ—ドファム (株)製）
研磨パッド:スエードタイプ (厚さ： 0.9mm、平均開孔径 : 30 /ζ πι、フジボウ (株)製） 研磨液:コロイダルシリカスラリ—（品番:メモリード GP2- 317、花王 (株)製） 予備研磨：荷重 60g/cm2、時間 60秒、研磨液流量 lOOmL/min
本研磨:荷重 100g/cm2、時間 900秒、研磨液流量 lOOmL/min
水リンス:荷重 30g/cm2、時間 300秒、リンス水流量約 2L/min
[0071] 2- 2.洗浄
2- 1.で調製した被洗浄基板を洗浄装置にて以下の条件で洗浄した。
(1)洗浄:ローラーで 3点保持された被洗浄基板に常温の洗浄剤組成物を射出し、 該洗浄剤組成物の存在下で洗浄ブラシを該基板の両面、内径、及び外径に 300rpm で回転させながら押し当てることにより、洗浄を 60秒間行った。
(2)すすぎ：ローラーで 3点保持された（1)洗浄後の基板に常温の超純水を射出し、 洗浄ブラシを該基板の両面、内径、及び外径に 300rpmで回転させながら押し当てる ことにより、すすぎを 60秒間行った。 (3)乾燥:スピンチャックに保持された（2)すすぎ後の基板を 3000rpmで高速回転さ せることにより、液切り乾燥を 30秒間行った。
[0072] 2- 3.微粒子の洗浄性評価
2- 2.の洗浄後の基板の表面における微粒子の洗浄性を以下の方法で評価した 。結果を表 1及び表 2に示す。
(1)金属質基材が表面に構成された記録媒体用基板の評価方法
暗視野顕微鏡を用いて対物レンズ 100倍 (視野範囲:約 100 /z m角）の倍率下で、 洗浄後の基板を観察し、観察視野内で観察される輝点の個数を基板表面に残存す る微粒子の数として数えた。この観察を 5枚の基板について、基板の内周部、センタ 一部、外周部でランダムにそれぞれ 10点、合計 150点（10点 X 3部位 X 5枚 = 150点） 実施した。観察された 150点における全輝点個数及び下記評価基準に基づき、微粒 子の洗浄性を 4段階で評価した。
[0073] <微粒子の洗浄性評価基準 >
◎：全輝点個数が 0個である。
〇 点個数力 Sl〜2個である。
△：全輝点個数が 3〜5個である。
X 点個数力 ¾個以上である。
尚、合格品は微粒子の洗浄性が〇又は ©であるものである。
[0074] (2)ガラス質基材が表面に構成された記録媒体用基板の評価方法
走査電子顕微鏡を用いて 1000倍 (視野範囲:約 100 /z m角）の倍率下で、洗浄後の 基板を観察し、観察視野内で観察される基板表面に残存する微粒子の数を数えた。 この観察を 5枚の基板について、基板の内周部、センター部、外周部でランダムにそ れぞれ 10点、合計 150点（10点 X 3部位 X 5枚 = 150点）実施した。観察された 150点 における全微粒子個数及び下記評価基準に基づき、微粒子の洗浄性を 4段階で評 価し 7こ。
[0075] <微粒子の洗浄性評価基準 >
◎：全微粒子個数が 0個である。
〇：全微粒子個数力 Sl〜2個である。 Δ：全微粒子個数が 3〜5個である。
X：全微粒子個数が 6個以上である。
尚、合格品は微粒子の洗浄性が〇又は ©であるものである。
[0076] 3.フォトマスク用基板の洗浄性試験
フォトマスク用基板表面に付着する種々の油性汚れにおいて、一般的な人為的汚 れである指紋 (皮脂)、及び搬送装置等からの一般的な環境的汚れである潤滑油 (グ リ—ス）によって汚染された被洗浄基板を調製し、該基板を用いて洗浄剤組成物の 油性汚れに対する洗浄性を評価した。
[0077] 3— 1.被洗浄基板の調製
(1)金属質基材が表面に構成されたフォトマスク用基板
クロム薄膜が表面に成膜された石英ガラス基板 (約 25 X 50mm)において、その表面 全体に指紋 (皮脂)を付着させた基板、及びクロム薄膜が表面に成膜された石英ガラ ス基板 (約 25 X 50mm)を、ガラス基板の搬送装置に使用されるグリース 5gを溶解した 塩化メチレン溶液 100mlに浸漬した後、自然乾燥させること〖こより、基板全体にダリ ースを付着させた基板を被洗净基板とした。
(2)ガラス質基材が表面に構成されたフォトマスク用基板
表面全体に指紋 (皮脂）を付着させた石英ガラス基板 (約 25 X 50mm)、及びダリー ス 5gを溶解した塩化メチレン溶液 100mlに浸漬した後、自然乾燥させることにより、 基板全体にダリ一スを付着させた石英ガラス基板 (約 25 X 50mm)を被洗浄基板とした
[0078] 3- 2.洗浄
3- 1.で調製した被洗浄基板について、以下の条件で洗浄を行った。
(1)洗浄:超音波（35kHz)が照射されている 25°Cの洗浄剤組成物 80mlに、被洗浄基 板 1枚を浸潰し、 30秒間静置した。
(2)すすぎ：洗浄剤組成物から取り出した（1)洗浄後の基板を、 80mlの超純水に 25 °Cで 30秒間浸漬した。
(3)乾燥：（2)すすぎ後の基板を窒素ブローで乾燥した。
[0079] 3- 3.洗浄性評価 3- 2.の洗浄後の基板の表面における油性汚れの洗浄性を以下の方法で評価し た。結果を表 1及び表 2に示す。
(1)指紋 (皮脂)の洗浄性評価
光学顕微鏡を用いて 20倍の倍率下で、洗浄後の 5枚の基板について、基板全体（ 約 25 X 50mm)を観察した。観察された指紋 (皮脂)の残存状態及び下記評価基準に 基づき、指紋 (皮脂)の洗浄性を 4段階で評価した。
<指紋 (皮脂)の洗浄性評価基準 >
◎：指紋 (皮脂)の残渣が全く確認されな 、。
〇：指紋 (皮脂）の残渣が極めて微量確認される。
△：指紋 (皮脂）の残渣がー部、確認される。
X：指紋 (皮脂)の残渣が多い。
[0080] (2)潤滑油（ダリ—ス)の洗浄性評価
洗浄後の 5枚の基板にっ 、て、基板全体 (約 25 X 50mm)を目視にて観察した。観 察されたダリ—ス残存状態及び下記評価基準に基づき、潤滑油 (ダリ—ス)の洗浄性 を 4段階で評価した。
<ダリースの洗浄性評価基準 >
◎：ダリースの残渣が全く確認されな!、。
〇：ダリースの残渣が極めて微量確認される。
△:グリースの残渣がー部、確認される。
X：グリースの残渣が多い。
尚、合格品は指紋及びダリ—スの洗浄性が〇又は (§)であるものである。
[0081] 4.フラットパネルディスプレイ用基板の洗浄性試験
フラットパネルディスプレイ用基板表面に付着する種々の油性汚れにおいて、一般 的な人為的汚れである指紋 (皮脂)、及び搬送装置等からの一般的な環境的汚れで ある潤滑油（ダリ—ス）によって汚染された被洗浄基板を調製し、該基板を用いて洗 浄剤組成物の油性汚れに対する洗浄性を評価した。
[0082] 4 1.被洗浄基板の調製
(1)金属質基材が表面に構成されたフラットパネルディスプレイ用基板 透明電極膜 (ITO膜：酸化インジウムスズ膜)を成膜した無アルカリガラス基板 (25 X 50mm)について、 3 - 1. (1)と同様にして、その表面全体に指紋 (皮脂）を付着させ た基板、及び基板全体にダリースを付着させた基板を被洗浄基板として調製した。 (2)ガラス質基材が表面に構成されたフラットパネルディスプレイ用基板
無アルカリガラス基板（25 X 50mm)について、 3— 1. (1)と同様にして、その表面全 体に指紋 (皮脂)を付着させた基板、及び基板全体にダリ—スを付着させた基板を被 洗浄基板として調製した。
[0083] 4- 2.洗浄
4—1.で調製した被洗浄基板について、 3 - 2.と同様にして洗浄を行った。
[0084] 4- 3.洗浄性評価
4- 2.の洗浄後の基板の表面における油性汚れの洗浄性を 3— 3.と同様にして 評価した。結果を表 1及び表 2に示す。
尚、合格品は指紋及びダリ—スの洗浄性が〇又は (§)であるものである。
[0085] [表 1]
Figure imgf000022_0001
Figure imgf000022_0002
礫膦^
Figure imgf000023_0001
Figure imgf000023_0002
※丄はアンモニアで pH調整した。
[0087] 表 1及び表 2の結果より、本発明の洗浄剤組成物は、微粒子の洗浄性及び油性汚 れの洗浄性に優れたものであることがわかる。中でも、態様 1の洗浄剤組成物は、微 粒子の洗浄性により優れた効果を発揮する。
産業上の利用可能性
[0088] 特定の化合物を含有することを特徴とする本発明の洗浄剤組成物及びその洗浄剤 組成物を使用して洗浄することにより、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフ ラットパネルディスプレイ用基板に付着した油分や微粒子、金属不純物等の汚れを 効率良く洗浄、除去することができ、高清浄度の表面品質が得られることから、製造さ れた製品の歩留まり向上に寄与し得る。

Claims

請求の範囲
[1] 金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォト マスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物 であって、
(I)以下の G)〜 (m)を少なくとも満たす共重合化合物、
(i)アクリル酸由来の構成単位 A1が、全構成単位中の 20モル％以上である、
(ii)アクリル酸由来の構成単位 A1と 2-アクリルアミド -2-メチルプロパンスルホン酸由 来の構成単位 A2の合計含有量が、全構成単位中の 90モル％以上である、
(iii)全構成単位中の構成単位 A1と構成単位 A2との含有量比 [構成単位 A1 (モル %) Z構成単位 A2 (モル0 /0) ]が、 9lZ9〜95Z5である
を含有する洗浄剤組成物。
[2] 請求項 1記載の (I)の含有量が、洗浄剤組成物中 0. 001〜30重量％である請求 項 1記載の洗浄剤組成物。
[3] 金属質又はガラス質基材が少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォト マスク用基板、又はフラットパネルディスプレイ用基板の洗浄に用いる洗浄剤組成物 であって、
(I)以下の G)〜 (m)を少なくとも満たす共重合化合物、
(i)アクリル酸由来の構成単位 A1が、全構成単位中の 20モル％以上である、
(ii)アクリル酸由来の構成単位 A1と 2-アクリルアミド -2-メチルプロパンスルホン酸由 来の構成単位 A2の合計含有量が、全構成単位中の 90モル％以上である、
(iii)全構成単位中の構成単位 A1と構成単位 A2との含有量比 [構成単位 A1 (モル %) Z構成単位 A2 (モル0 /0) ]が、 9lZ9〜95Z5である
を配合してなる洗浄剤組成物。
[4] pHが 9〜14である、請求項 1〜3いずれか記載の洗浄剤組成物。
[5] 請求項 1〜3 、ずれか記載の洗浄剤組成物を用いた、金属質又はガラス質基材が 少なくとも表面に構成される、記録媒体用基板、フォトマスク用基板、又はフラットパ ネルディスプレイ用基板の洗浄方法であって、以下の（a)又は (b)の工程：
(a)該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該フラットパネルディスプレイ用 基板を該洗浄剤組成物に浸漬する工程、
(b)該洗浄剤組成物を射出して、該記録媒体用基板、該フォトマスク用基板、又は該 フラットパネルディスプレイ用基板の表面に接触させながら洗浄する工程、を含む洗 浄方法。
(a)又は (b)の工程が、以下の条件：
工程 (a) ;温度が 20〜100°C、浸漬時間が 10秒〜 30分、超音波の周波数が 20〜20 00kHzである、
工程 (b) ;射出された洗浄剤組成物の存在下で洗浄用ブラシを該記録媒体用基板、 該フォトマスク用基板、又は該フラットパネルディスプレイ用の基板表面に接触させる で行なわれる請求項 5記載の洗浄方法。
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