JP5813628B2 - 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
なお、上記式(1)において、δacは音圧境界層の厚さ、νは音速、ωはHz(周波数)を示す。
素材加工工程では、板状のガラスを用いることができる。ガラスとしては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラスなどを用いることができる。特に、主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を提供することができるという点では、アルミノシリケートガラスを用いることが好ましい。板状ガラスは、これらのガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらの方法うち、プレス法を用いれば、板状ガラスを廉価に製造することができる。
第1ラッピング工程では、ディスク状のガラス基板の主表面をラッピング加工し、ガラス基板の形状を整える。第1のラッピング工程は、遊星歯車機構を利用した両面研削装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行うことができる。具体的には、ディスク状のガラス基板の両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液をガラス基板の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行う。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス基板を得ることができる。
コアリング工程では、例えば、円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、ディスク状のガラス基板の中心部に内孔を形成し、円環状のガラス基板とすることができる。チャンファリング工程においては、内周端面及び外周端面をダイヤモンド砥石によって研削し、ガラス基板に所定の面取り加工を施す。
第2ラッピング工程では、得られたガラス基板の両主表面について、第2ラッピング加工を行う。第2ラッピング工程を行うことにより、前工程である形状加工工程においてガラス基板の主表面に形成された微細な凹凸形状を除去することができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることが可能となる。
端面研磨工程では、ガラス基板の外周端面及び内周端面について、ブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行う。このとき、研磨砥粒としては、例えば、酸化セリウム砥粒を含むスラリーを用いることができる。この端面研磨工程により、ガラス基板の端面は、鏡面状態になる。
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施す。第1研磨工程は、前述のラッピング工程で両主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とする工程である。この第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の研磨を行う。研磨剤としては、酸化セリウム砥粒を用いることができる。また、第1研磨工程を終えたガラス基板は、中性洗剤、純水、IPA等で洗浄することが好ましい。
化学強化工程においては、ガラス基板を化学強化液に浸漬して化学強化処理を施す。化学強化処理に用いる化学強化液としては、例えば、硝酸カリウム(60%)と硝酸ナトリウム(40%)の混合溶液などを用いることができる。化学強化処理においては、化学強化液を300℃〜400℃に加熱し、ガラス基板を200℃〜300℃に予熱し、化学強化溶液中に3時間〜4時間浸漬することによって行う。この浸漬の際には、ガラス基板の両表面全体が化学強化されるようにするため、複数のガラス基板が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行うことが好ましい。
最終研磨工程として、第2研磨工程を施す。第2研磨工程は、両主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする工程である。第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、両主表面の鏡面研磨を行う。研磨砥粒としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細な粒径10nm〜30nmのコロイダルシリカなどを有するスラリーを用いることがきる。この最終研磨工程において、遊星歯車機構を利用した両面研磨装置を用いて上記第1研磨工程と同様に行うことができる。
最終研磨工程後にガラス基板に超音波を用いた洗浄工程を施す。超音波洗浄工程は、最終研磨工程後にガラス基板の表面に付着したパーティクルを2種類以上の超音波周波数帯を用いて除去することを目的とする工程である。
上述した工程を経て得られたガラス基板の主表面に、例えば、付着層、軟磁性層、非磁性下地層、垂直磁気記録層、保護層、及び潤滑層を順次成膜することにより、垂直磁気記録ディスクを製造することができる。付着層を構成する材料としては、Cr合金などを挙げることができる。軟磁性層を構成する材料としては、CoTaZr基合金などを挙げることができる。非磁性下地層としては、グラニュラー非磁性層などを挙げることができる。垂直磁気記録層としては、グラニュラー磁性層などを挙げることができる。保護層を構成する材料としては、水素化カーボンなどを挙げることができる。潤滑層を構成する材料としては、フッ素樹脂などを挙げることができる。例えば、これらの記録層等は、より具体的には、インライン型スパッタリング装置を用いて、ガラス基板の上に、CrTiの付着層、CoTaZr/Ru/CoTaZrの軟磁性層、CoCrSiO2の非磁性グラニュラー下地層、CoCrPt−SiO2・TiO2のグラニュラー磁性層、水素化カーボン保護膜を順次成膜し、さらに、ディップ法によりパーフルオロポリエーテル潤滑層を成膜することができる。なお、CoCrSiO2の非磁性グラニュラー下地層の替わりにRuの下地層を用いてもよい。また、軟磁性層と下地層の間にNiWのシード層を追加してもよい。また、グラニュラー磁性層と保護層の間にCoCrPtBの磁性層を追加してもよい。
主表面研磨工程として、まず第1研磨工程を施した。第1研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行った。研磨剤としては、粒径0.2nm〜4.5nmの酸化セリウムを含むスラリーを用いた。
次に、主表面研磨工程として、第2研磨工程を施した。この第2研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。第2研磨工程においては、遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行った。研磨剤としては、第1研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細なコロイダルシリカ砥粒(平均粒子径10nm〜30nm)を含むスラリーを使用した。
最終研磨工程を終えたガラス基板を、濃度2重量%のKOH水溶液に浸漬して表1に示す各条件にて超音波洗浄工程を行った。その後、中性洗剤、純水、純水、IPA、IPA(蒸気乾燥)の各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した後に、光学測定機を用いてガラス基板表面に残存しているパーティクルの個数及び基板表面のクラックの有無について評価した。
評価結果を表1に示す。
次に、上記表1に示した条件で洗浄工程を行ったガラス基板を用いて磁気ディスクを作製し、クボタコンプス社製HDFテスター(Head/Disk Flyability Tester)を用いて、DFHヘッド素子部のタッチダウン試験を行った。この試験は、DFH機構によって素子部を徐々に突き出していき、AEセンサーによって磁気ディスク表面との接触を検知することによって、ヘッド素子部が磁気ディスク表面と接触するときの距離を評価するものである。ヘッドは320GB/P磁気ディスク(2.5インチサイズ)向けのDFHヘッドを用いた。素子部の突き出しがない時の浮上量は10nmである。また、その他の条件は以下の通り設定した。
評価半径:22mm
磁気ディスクの回転数:5400RPM
温度:25℃
湿度:60%
○:x≦1.0nm
△:1.0nm<x
Claims (9)
- ガラス基板に対して所定の粒径を有する研磨砥粒を用いて研磨を行う研磨処理と、前記研磨処理後に前記ガラス基板に超音波洗浄を行う超音波洗浄処理を有し、
前記超音波洗浄処理は、前記所定の粒径を有するパーティクルを凝集させる第1の周波数で第1の超音波洗浄を行って二次粒子を形成した後、前記二次粒子を洗浄対象とする前記第1の周波数より低く、且つ、30KHz〜100KHzである第2の周波数で第2の超音波洗浄を行うことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - ガラス基板の表面を研磨砥粒を含むスラリーを利用して研磨する研磨処理の後、前記研磨砥粒を除去する洗浄処理を含む磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨処理の後、第1の周波数の超音波を用いて前記ガラス基板の表面に付着した研磨砥粒を凝集させて二次粒子を形成する凝集処理を行なった後、前記第1の周波数よりも低く、且つ、30KHz〜100KHzである第2の周波数を用いて前記二次粒子を前記洗浄処理で除去することを特徴とする、磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。 - 前記研磨砥粒は、珪素酸化物からなることを特徴とする請求項2に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記凝集処理は、アルカリ性に調整された液体中で、前記研磨砥粒に超音波を印加する処理であることを特徴とする請求項2又は請求項3に記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記スラリーは、珪素酸化物の研磨砥粒を含む酸性に調整されたスラリーであることを特徴とする請求項2から請求項4のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記第1の周波数が300KHz〜1000KHzであることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨砥粒の粒径が10nm〜30nmであることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記第1の超音波洗浄を行うことにより、粒径が1000nm〜3000nmの前記二次粒子を形成することを特徴とする請求項1記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
- 前記研磨処理は、前記ガラス基板に対して複数行われる研磨処理のうち最終の研磨処理であることを特徴とする請求項1から請求項8のいずれかに記載の磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。
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CN103418571A (zh) * | 2012-05-25 | 2013-12-04 | 宝山钢铁股份有限公司 | 一种金属板带表面超声波表面清洗装置及方法 |
JP5983164B2 (ja) * | 2012-08-07 | 2016-08-31 | 旭硝子株式会社 | Ti膜付きガラス基板及びこれを用いた金属膜付きガラス基板、Ti膜付きガラス基板及びこれを用いた金属膜付きガラス基板の製造方法、ならびにガラス基板表面の平坦度評価方法 |
JP2014154187A (ja) * | 2013-02-08 | 2014-08-25 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 |
US9561982B2 (en) * | 2013-04-30 | 2017-02-07 | Corning Incorporated | Method of cleaning glass substrates |
US11103898B2 (en) * | 2016-09-19 | 2021-08-31 | Acm Research, Inc. | Methods and apparatus for cleaning substrates |
JP6737124B2 (ja) * | 2016-10-20 | 2020-08-05 | Agc株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法 |
JP6659607B2 (ja) * | 2017-03-17 | 2020-03-04 | キオクシア株式会社 | テンプレート洗浄方法、及びテンプレート洗浄装置 |
CN110739209A (zh) * | 2019-11-01 | 2020-01-31 | 中国电子科技集团公司第四十六研究所 | 一种锗单晶单面抛光片的清洗工艺 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07153074A (ja) * | 1993-12-01 | 1995-06-16 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH1143791A (ja) * | 1997-07-23 | 1999-02-16 | Mitsubishi Chem Corp | 研磨液用洗浄剤組成物 |
JP2007179612A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Kao Corp | 磁気ディスク基板用研磨液組成物 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6036785A (en) * | 1997-05-02 | 2000-03-14 | Ferrell; Gary W. | Method for removing chemical residues from a surface |
US6124207A (en) * | 1998-08-31 | 2000-09-26 | Micron Technology, Inc. | Slurries for mechanical or chemical-mechanical planarization of microelectronic-device substrate assemblies, and methods and apparatuses for making and using such slurries |
JP2000288914A (ja) * | 1999-04-01 | 2000-10-17 | Tama Kagaku Kogyo Kk | 半導体製造用研磨剤の供給装置及び供給方法 |
US6402851B1 (en) * | 2000-05-19 | 2002-06-11 | International Business Machines Corporation | Lanthanide oxide dissolution from glass surface |
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JP4140923B2 (ja) * | 2006-03-31 | 2008-08-27 | 花王株式会社 | 洗浄剤組成物 |
JP5419612B2 (ja) * | 2008-10-23 | 2014-02-19 | Hoya株式会社 | マスクブランク用基板の製造方法、反射型マスクブランクの製造方法及び反射型マスクの製造方法 |
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07153074A (ja) * | 1993-12-01 | 1995-06-16 | Hitachi Maxell Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
JPH1143791A (ja) * | 1997-07-23 | 1999-02-16 | Mitsubishi Chem Corp | 研磨液用洗浄剤組成物 |
JP2007179612A (ja) * | 2005-12-27 | 2007-07-12 | Kao Corp | 磁気ディスク基板用研磨液組成物 |
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