WO2012042725A1

WO2012042725A1 - 情報記録媒体用ガラス基板、その製造方法、情報記録媒体、及び情報ディスク装置

Info

Publication number: WO2012042725A1
Application number: PCT/JP2011/004376
Authority: WO
Inventors: 葉月中江
Original assignee: コニカミノルタオプト株式会社
Priority date: 2010-09-30
Filing date: 2011-08-02
Publication date: 2012-04-05

Abstract

　本発明の一局面は、フッ素を含む洗浄液を用いて、板状ガラス素材を洗浄する工程を含む製造工程を経て得られた情報記録媒体用ガラス基板であって、前記製造工程の最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオンコンタミネーション量が１０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように構成されていることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板である。

Description

情報記録媒体用ガラス基板、その製造方法、情報記録媒体、及び情報ディスク装置

　本発明は、情報記録媒体用ガラス基板、その製造方法、情報記録媒体、及び情報ディスク装置に関するものである。

　情報ディスク装置に搭載された情報記録媒体としては、例えば、ガラス製又はアルミニウム製の基板の表面に、情報を記録するための、磁性体からなる記録層が製膜されてなるもの等が挙げられる。そして、情報ディスク装置は、その情報ディスク装置に設けられたヘッドが、情報記録媒体の記録層に対して、数ｎｍの浮上量で位置した状態で、情報記録媒体が前記ヘッドに対して相対的に高速回転して、情報の読み書きを行なっている。このため、例えば、情報記録媒体の表面に付着物が存在すると、付着物とヘッドとが衝突してしまう場合が起こり得る。

　従って、情報記録媒体の表面の付着物をできるだけ少なくなるようにしておく必要がある。このため、従来から、情報記録媒体の表面の付着物を少なくするような試みがなされている。例えば、特許文献１には、製造工程において、ガラス基板の表面に残留するセリウムの量を所定の量以下になるように洗浄する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法が開示されている。

特開２００９－１９３６０８号公報

　本発明は、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドが衝突するおそれの少ない情報記録媒体を製造することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体、及び情報ディスク装置を提供することを目的とする。

　また、本発明の他の一局面は、前記情報記録媒体用ガラス基板と、前記情報記録媒体用ガラス基板における第１面と第２面との少なくとも一方に設けられた記録層とを備えることを特徴とする情報記録媒体である。

　また、本発明の他の一局面は、前記情報記録媒体を備えていることを特徴とする情報ディスク装置である。

　また、本発明の他の局面は、フッ素を含む洗浄液を用いて、板状ガラス素材を洗浄する中間洗浄工程と、前記中間洗浄工程の後に、最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオンコンタミネーション量が１０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する最終洗浄工程とを備えることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。

　本発明の目的、特徴、局面、及び利点は、以下の詳細な記載と添付図面によって、より明白となる。

本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を示す斜視図である。本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を備えた磁気記録媒体の一部を切断して示す斜視図である。前記情報記録媒体を備えた情報ディスク装置のトップカバーを外した状態の平面図である。前記情報ディスク装置のランプの要部拡大斜視図である。前記情報ディスク装置に装着した状態の情報記録媒体の断面図である。

　情報ディスク装置は、情報記録媒体の記録層に対する、ヘッドの浮上量を低減させることによって、情報記録媒体の記録密度の向上を図れることが知られている。特に、ＤＦＨ（Ｄｙｎａｍｉｃ　Ｆｌｙｉｎｇ　Ｈｅｉｇｈｔ）機構を有するハードディスク装置では、ヘッドの浮上量が２ｎｍ以下のもの等が挙げられる。そして、情報ディスク装置に備えられている情報記録媒体は、年々記録密度が向上しており、それに伴って情報ディスク装置のヘッドの上記浮上量が更に低下する傾向にある。

　本発明者の検討によれば、特許文献１に記載のように、セリウムの量を所定の量以下にしても、例えば、フッ素イオンコンタミネーション（フッ化物塩）が存在するとヘッドが衝突してしまうおそれがあることを見出した。詳しくは、次のとおりである。

　情報ディスク装置に用いられる情報記録媒体用の基板としては、ガラス製の基板又はアルミニウム製の基板が挙げられる。近年は、情報ディスク装置に耐久性が求められているため、ガラス製の基板（ガラス基板）が主流となっている。情報記録媒体用のガラス基板は、板状ガラス素材を、研磨剤を用いて複数回研磨することによって製造される。そして、研磨された板状ガラス素材の表面から研磨剤を除去するために、研磨された板状ガラス素材の洗浄が行われている。その際、研磨剤を好適に除去するために、フッ化水素酸（ＨＦ）溶液、ケイ弗酸（ヘキサフルオロケイ酸）溶液、及びフッ化アンモニウム溶液等のフッ素を含む洗浄液を用いる場合も多い。このようなフッ素を含む洗浄液は、研磨剤に対しては洗浄性を発揮する。しかしながら、フッ素を含む洗浄液を用いると、フッ素イオンが板状ガラス素材の表面に残存するおそれがあった。フッ素イオンは、様々なものと塩形成し、フッ化物塩を生成する。このフッ化物塩としては、水溶性のものと水に難溶性のものとがある。

　まず、水溶性の塩の場合、ウェット洗浄を行うとある程度は除去される。しかしながら、ウェットな状態では基板上にフッ素イオンが残存してしまう。この場合、リンスの量や回数を大幅に増やすことによりフッ素イオンを減らすことは可能である。しかしながら、大規模な施設が必要とされ、また生産効率は大幅に悪くなる。特に、近年は、純水、あるいは超純水がリンスに使用されるため、基板上にフッ素イオンが残存しやすくなる。このことは、超純水が１８ＭΩ・ｃｍ以上であるため電気を通さず、基板上が帯電しやすくなり、その結果、基板上にフッ化物塩が残存することになるためである。

　また、難溶性の塩の場合、一般的に、超音波等の物理的作用でほとんどのものが除去される。しかしながら、ｎｍレベルと微小な塩は基板上に残存すると考えられる。

　そして、基板にフッ素イオンが残存した状態で乾燥工程を行うと、基板表面付近にあるナトリウムやカリウムと再度塩を形成し、表面に存在するようになる。よって、ガラス基板にフッ素イオンが残存すると、それらの塩が記録面上に存在することになる。フッ化物塩は、その種類にもよるが、単体では１ｎｍ以上の大きさにはなり難いが、数個の塩が存在するだけで、２ｎｍ程度の大きさにまでなる。そして、複数の塩が存在するだけで、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドが衝突するおそれがあると考えられる。しかしながら、上記のように大きさが数ｎｍ程度のため、従来の分析方法、例えば、ＴＸＲＦ（全反射蛍光Ｘ線分析）やＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）－ＥＤＸ（エネルギー分散型Ｘ線分光法）では、検出されにくい。また、ＩＣＰ－ＭＳ（誘導結合プラズマ質量分析装置）でも、同様に検出されにくい。これらのことから、フッ化物塩の存在が上記ヘッドとの衝突に関して着目されにくかった。

　そして、本発明者の検討によれば、上述したように、ヘッドの浮上量を低減させた場合に用いる情報記録媒体、具体的には、ＤＦＨ機構を有する、基板とヘッドとの距離（ヘッドの浮上量）が２ｎｍ以下のハードディスク装置に搭載する情報記録媒体のガラス基板を、例えば、ＴＸＲＦやＳＥＭ－ＥＤＸで検出されるＣｅやＦｅ等の金属元素を取り除いて製造したとしても、得られたガラス基板を用いて製造された情報記録媒体をハードディスク装置に搭載すると、ヘッドが何か異物に衝突することがあることを確認した。鋭意検討した結果、上記の事情に鑑みて、この異物は、基板に残存するフッ素イオンに由来する塩に基づくものであることがわかった。

　本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドが衝突するおそれの少ない情報記録媒体を製造することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。具体的には、情報記録媒体用ガラス基板上のフッ素イオンコンタミネーション量を一定値以下のものにし、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドがフッ素イオンコンタミネーションに衝突するおそれの少ない情報記録媒体を製造することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体、及び情報ディスク装置を提供することを目的とする。

　以下、本発明に係る実施形態について説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。図１は、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を示す斜視図である。図２は、本実施形態に係る情報記録媒体用ガラス基板を備えた磁気記録媒体の一部を切断して示す斜視図である。図３は、前記情報記録媒体を備えた情報ディスク装置のトップカバーを外した状態の平面図である。

　磁気ディスク用ガラス基板１０は、例えば、（１）第１ラッピング工程、（２）端部形状加工工程（穴部を形成するコアリング工程、外周端部及び内周端部に面取りを形成するチャンファリング工程（面取り形成工程））、（３）第２ラッピング工程、（４）端面研磨工程（外周端部及び内周端部）、（５）第１研磨工程、（６）化学強化工程、（７）第２研磨工程、（８）中間洗浄工程、（９）最終洗浄工程を経て製造される。なお、上記工程は適宜順序を入れ替えることも可能である。例えば、前記中間洗浄工程を、前記第１研磨工程後、前記化学強化工程前に行ってもよい。また、前記中間洗浄工程を、前記化学強化工程後、前記第２研磨工程前に行ってもよい。また、前記化学強化工程を、前記第２研磨工程後、前記中間洗浄工程前に行なうこともできる。

　この情報記録媒体用ガラス基板１０は、図１に示すように、中心部に円形状の貫通孔１１を有する円盤状のものから構成されている。例えば、３．５インチ型ディスク（φ８９ｍｍ）、２．５インチ型ディスク（φ６５ｍｍ）等の所定の形状を有するものとして製造される。ノートパソコンの普及が増えるにつれ２．５インチ型ディスクが増えている。

　（１）第１ラッピング工程
　まず、板状ガラス素材の表面をラッピング（研削）加工してガラス母材とし、このガラス母材を切断してガラス基板を切り出す。板状ガラス素材としては、様々な板状ガラス素材を用いることができる。例えば、溶融ガラスを材料として、プレス法やフロート法、ダウンドロー法、リドロー法、フュージョン法など、公知の製造方法を用いて製造することができる。これらのうち、プレス法を用いれば、板状ガラス素材を廉価に製造することができる。板状ガラス素材の材質としては、例えばアモルファスガラスやガラスセラミクス（結晶化ガラス）を利用できる。また、板状ガラス素材の材料としては、アルミノシリケートガラス、ソーダライムガラス、ボロシリケートガラス等を用いることができる。特にアモルファスガラスとしては、化学強化を施すことができ、また主表面の平坦性及び基板強度において優れた磁気ディスク用ガラス基板を供給することができるという点で、アルミノシリケートガラスを好ましく用いることができる。

　そして、溶融させたアルミノシリケートガラスを上型、下型、胴型を用いたダイレクトプレスによりディスク形状に成型し、アモルファスの板状ガラス素材を得ることができる。アルミノシリケートガラスとして、例えばＳｉＯ_２：５８～７５質量％、Ａｌ_２Ｏ_３：５～２３質量％、Ｌｉ_２Ｏ：３～１０質量％、Ｎａ_２Ｏ：４～１３質量％を主成分として含有するガラスを用いることができる。

　次に、この板状ガラスの両主表面をラッピング加工し、ディスク状のガラス母材とする。ラッピング加工は、例えば遊星歯車機構を利用した両面ラッピング装置により、アルミナ系遊離砥粒を用いて行う。具体的には、板状ガラスの両面に上下からラップ定盤を押圧させ、遊離砥粒を含む研削液を板状ガラス素材の主表面上に供給し、これらを相対的に移動させてラッピング加工を行う。このラッピング加工により、平坦な主表面を有するガラス母材を得ることができる。

　（２）端部形状加工工程（コアリング、チャンファリング）
　端部形状加工工程は、例えば円筒状のダイヤモンドドリルを用いて、この板状ガラス素材の中心部に内孔を形成し、円環状のものとする（コアリング）。その後、内周端面及び外周端面を、例えばダイヤモンド砥石によって研削し、所定の面取り加工を施す（チャンファリング）。

　（３）第２ラッピング工程
　次に、得られた円環状の板状ガラス素材の両主表面について、第１ラッピング工程と同様に、第２ラッピング加工を行う。この第２ラッピング工程を行うことにより、前工程である切り出し工程や端面研磨工程で主表面に形成された微細な凹凸形状を予め除去しておくことができ、後続の主表面に対する研磨工程を短時間で完了させることができる。

　（４）端面研磨工程
　次に、ガラス基板の外周端面及び内周端面を、例えばブラシ研磨方法により、鏡面研磨を行う。その際、研磨砥粒として、例えば酸化セリウム砥粒を含むスラリー（遊離砥粒）を用いて行なうことができる。

　その後、端面研磨工程を終えた板状ガラス素材を水洗浄する。この端面研磨工程により、板状ガラス素材の端面は、ナトリウムやカリウムの析出の発生を防止できる鏡面状態に加工できる。

　（５）第１研磨工程
　第１研磨工程は、前述のラッピング工程において主表面に残留したキズや歪みの除去を主たる目的とするものである。この第１研磨工程は、例えば遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、硬質樹脂ポリッシャを用いて、主表面の研磨を行うことができる。又、研磨剤として、例えば酸化セリウム砥粒を用いることができる。

　第１研磨工程を終えた板状ガラス素材を、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄するのが好ましい。この洗浄の代わりに、上述したように、下記中間洗浄工程を適用してもよい。具体的には、第１研磨工程の後の板状ガラス素材を洗浄して第１研磨工程で使用した研磨剤を落とす等のために行なうもので、第１研磨工程を終えた板状ガラス素材を、フッ素を含む洗浄液で洗浄した後、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する工程を行ってもよい。中性洗剤、純水、ＩＰＡの各洗浄槽で洗浄する前に、フッ素を含む洗浄液で洗浄することにより、第１研磨工程で使用した研磨剤を落とし易くできる。

　（６）化学強化工程
　化学強化工程は、板状ガラス素材に含まれるイオンを、そのイオンより大きいイオン径のイオンに置換するもので、これにより、板状ガラス素材の表面を強化する。化学強化は、例えば硝酸カリウム又は硝酸ナトリウム或いはそれらの混合した化学強化溶液を用い、化学強化溶液中に所定時間浸漬することによって行うことができる。

　このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、板状ガラス素材の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが、化学強化溶液中のナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換され、板状ガラス素材が強化される。又、化学強化処理を終えた板状ガラス素材を、水槽に浸漬して急冷した後、超音波を印加して洗浄を行うのが好ましい。この洗浄の代わりに、上述したように、下記中間洗浄工程を適用してもよい。

　（７）第２研磨工程
　第２研磨工程は、主表面を鏡面状に仕上げることを目的とする。この第２研磨工程は、例えば遊星歯車機構を有する両面研磨装置により、軟質発泡樹脂ポリッシャを用いて、主表面の鏡面研磨を行うことができる。又、研磨剤として、例えば第１研磨工程で用いた酸化セリウム砥粒よりも微細なコロイダルシリカ砥粒（平均粒子径２０ｎｍ）を用いたスラリーを使用できる。

　そして、上記スラリー（研磨液）のｐＨを所定に設定（例えばｐＨ４）して研磨を行う。このとき、上記スラリーにクエン酸及びクエン酸塩を含む添加剤を加え、ｐＨを調整して研磨を行う。ｐＨの調整は、前記添加剤に限らず、酸またはアルカリ及びそれらの塩を適宜用いることができる。これは、研磨工程中にスラリーのｐＨを一定にコントロールするためである。

　（８）中間洗浄工程
　中間洗浄工程は、第２研磨工程の後の板状ガラス素材を洗浄して第２研磨工程で使用した研磨剤を落とす等のために行なうもので、第２研磨工程を終えた板状ガラス素材を、フッ素を含む洗浄液で洗浄した後、中性洗剤、純水、ＩＰＡ（イソプロピルアルコール）の各洗浄槽に順次浸漬して、洗浄する。中性洗剤、純水、ＩＰＡの各洗浄槽で洗浄する前に、フッ素を含む洗浄液で洗浄することにより、第２研磨工程で使用した研磨剤を落とし易くできる。なお、フッ素を含む洗浄液とは、フッ素を含み、ガラス基板の洗浄に用いられるものであれば、特に限定されない。具体的には、例えば、フッ化水素酸（ＨＦ）水溶液、フッ化アンモニウム水溶液、及びフッ化ケイ素酸水溶液等のＨＦ系水溶液、及びＣ_４Ｆ_９Ｉ等のフッ素系有機溶媒等が挙げられる。

　なお、ここでの洗浄は、前記第１研磨工程や前記化学強化工程に、フッ素を含む洗浄液で洗浄した場合、フッ素を含む洗浄液での洗浄は省略してもよい。

　（９）最終洗浄工程
　最終洗浄工程は、板状ガラス素材の表面にフッ素イオンコンタミネーション（フッ化物塩）を除去する等のために行なうものである。そして、最終洗浄工程は、最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオン（Ｆ^－）コンタミネーション量が１０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する工程であれば、特に限定されない。そして、前記フッ素イオンコンタミネーション量が１ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する工程であるほうが好ましい。この最終洗浄工程は、具体的には、板状ガラス素材に対して、アルカリ性洗剤での洗浄を行い、超純水にＣＯ_２を含有させた機能水によるリンスを行なう工程等が挙げられる。好ましくは、アルカリ性洗剤での洗浄を行い、超純水にＣＯ_２を含有させた機能水によるリンスを行ない、更に、再度上記アルカリ性洗剤で洗浄を行い、超純水に炭酸水を含有させた機能水によるリンスを１回又は複数回、行なう工程が挙げられる。

　より詳しくは、例えば、アルカリ性洗剤（ｐＨ１１、温度６０°Ｃ）で９５０ｋＨｚでの洗浄を行い、超純水にＣＯ_２を含有させた機能水によるリンスを行ない、更に、再度上記アルカリ性洗剤で２０００ｋＨｚでの洗浄行い、超純水に炭酸水を含有させた機能水によるリンス工程（２０００ｋＨｚ）を１回又は複数回、行なった後、ＩＰＡベーパーにて乾燥を行う工程が挙げられる。

　次に、情報記録媒体について説明する。情報記録媒体１は、図２に示すように、上記のようにして得られた情報記録媒体用ガラス基板１０の第１面２１ａ（主表面）と第２面２１ｂ（主表面）との何れか一方の面（この実施形態では、両面）に、付着層、軟磁性層、前下地層、下地層、非磁性グラニュラ層、第１磁気記録層、第２磁気記録層、補助記録層、保護層及び潤滑層を順次積層することによって記録層１２（磁気層）が形成されて情報記録媒体（磁気記録媒体）とされる。なお、図２では、記録層１２を情報記録媒体１の第１面２１ａにだけ表し、第２面２１ｂの記録層を省略している。

　具体的には、例えば情報記録媒体用ガラス基板１０の両面に、真空引きを行った成膜装置を用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法にてＡｒ雰囲気中で、付着層から補助記録層まで順次成膜を行う。付着層は、例えば、ＣｒＴｉとする。軟磁性層は、ＦｅＣｏＴａＺｒからなる第１軟磁性層及び第２軟磁性層の間にＲｕスペーサ層が介在しているものとする。前下地層の組成は、ｆｃｃ構造のＮｉＷ合金とする。下地層は、低圧Ａｒ下でされた第１下地層（Ｒｕ）上に、高圧Ａｒ下で成膜した第２下地層（Ｒｕ）とする。非磁性グラニュラ層の組成は、非磁性のＣｏＣｒ－ＳｉＯ_２とする。第１磁気記録層の組成は、ＣｏＣｒＰｔ－Ｃｒ_２Ｏ_３とし、第２磁気記録層の組成は、ＣｏＣｒＰｔ－ＳｉＯ_２－ＴｉＯ_２とする。補助記録層の組成は、ＣｏＣｒＰｔＢとする。媒体保護層は、ＣＶＤ法によりＣ_２Ｈ_４を用いて成膜し、同一チャンバ内で、表面に窒素を導入する窒化処理を行うことにより形成する。潤滑層は、ディップコート法によりＰＦＰＥを用いて形成する。

　次に、この情報記録媒体１を装着した情報ディスク装置１００について説明する。図３は、前記情報記録媒体を備えた情報ディスク装置１００のトップカバーを外した状態の平面図である。図４は、前記情報ディスク装置１００のランプの要部拡大斜視図である。図５は、前記情報ディスク装置１００に装着した状態の情報記録媒体の断面図である。前記情報ディスク装置１００に装着した状態とは、前記情報ディスク装置１００の回転軸に情報記録媒体を装着した状態である。

　この実施形態に係る情報ディスク装置１００は、情報記録媒体１と、ディスク装置本体１０１とを備えている。情報記録媒体１は、この実施形態では、図５に示すように、上記のものと同構成を採る２枚から構成されている。

　そして、情報記録媒体１は、後述のディスク装置本体１０１の回転軸１３０に固定されるようにしてディスク装置本体１０１に装着されている。尚、情報記録媒体１の固定については後述する。

　ディスク装置本体１０１は、図３に示すように、ケーシング１１０と、先端側に磁気ヘッド１１１（図４に図示）を有する複数のサスペンション１１２と、サスペンション１１２夫々の基端側を支持したアーム１１３と、磁気ヘッド１１１を非動作時に所定位置で保持するためのランプ１２０と、ケーシング１１０内に回転可能に配設された回転軸１３０と、情報記録媒体１を回転軸１３０に固定する固定部材とを備えている。

　ケーシング１１０は、上面開口の直方体状のケーシング本体１１０ａと、ケーシング本体１１０ａの開口を上方側から閉鎖するケーシング本体１１０ａと略同形状の図示しないトップカバーとから構成されている。

　アーム１１３は、ケーシング本体１１０ａ内に設けられたピボット１１４を軸にしてケーシング本体１１０ａに対して回動可能に取り付けられ、ピボット１１４を挟んでサスペンション１１２と反対側に設けられたボイスコイルモータ（図示せず）によって回転駆動されるようになっている。

　サスペンション１１２は、夫々、図４に示すように、磁気ヘッド１１１同士が対向するように配設されているとともに、先端に、リフトタブ１１２ａを備えている。

　又、この実施形態では、情報を情報記録媒体１に読み書きする際に、磁気ヘッド１１１における記録再生動作を行うヘッド素子のみを情報記録媒体１に近接させることによっていわゆるＡＢＳ面（ａｉｒ　ｂｅａｒｉｎｇ　ｓｕｒｆａｃｅ、空気ベアリング面）と情報記録媒体１間の距離を低減する動的浮上量制御部（ｄｙｎａｍｉｃ　ｆｌｙｉｎｇ　ｈｅｉｇｈｔ
制御技術、ＤＦＨ制御技術）が設けられている。

　この動的浮上量制御部は、この実施形態では、図示しないが、磁気ヘッド１１１にヒータを組み込んで情報を情報記録媒体１に読み書きする際にそのヒータに電力を供給することによって、磁気ヘッド１１１の情報記録媒体１に対向するＡＢＳ面を隆起させ、磁気ヘッド１１１と情報記録媒体１との間の距離を低減するように構成されている。この実施形態では、磁気ヘッド１１１と情報記録媒体１との間の距離が２ｎｍ以下になるように構成されている。

　ランプ１２０は、図３、図４に示すように、情報記録媒体１の外周側であって、サスペンション１１２の先端側に配設されている。また、ランプ１２０は、先端側に、情報記録媒体１を挿入する２つの溝１２３（図４では、１つだけ表している）を備えているとともに、その溝１２３夫々の上下両側夫々に摺動部１２１と、摺動部１２１から情報記録媒体１の外周側に延ばされた保持部１２２とを備えている。

　摺動部１２１は、サスペンション１１２のリフトタブ１１２ａを摺動させ、先端から保持部１２２側に漸次情報記録媒体１の上面（この実施形態では、第１面２１ａ）または下面（第２面２１ｂ）からの距離が漸次大きくなる傾斜状に形成されている。

　保持部１２２は、上記摺動部１２１から摺動してきたリフトタブ１１２ａを保持することにより、磁気ヘッド１１１を、情報記録媒体１の外周から所定距離だけ外周側に離間した位置にサスペンション１１２を介して保持する。

　このように構成されたランプ１２０は、その基端側がケーシング本体１２にボルト等の固定手段によって固定されている。又、この固定状態で、溝１２３に情報記録媒体１の外周縁の一部が入り込んで摺動部１２１の先端が、情報記録媒体１の上面、下面夫々から所定の距離を隔てているとともに、情報記録媒体１の上面及び下面における外周縁の一部と軸方向（厚さ方向）に重なるように非接触に配設されている。

　回転軸１３０は、図５に示すように、円柱状の挿入部１３１と、挿入部１３１の下方側に配設され挿入部１３１の外径よりも径大な第１載置部１３２とを備えている。

　挿入部１３１は、その外径が情報記録媒体１の貫通孔１１と同程度の大きさに形成され、情報記録媒体１の貫通孔１１が嵌まり込むようになっている。又、この挿入部１３１の上面は、後述のクランプ部材１４３におけるクランプ本体１４４を取り付ける本体取付部１３３をなしている。

　第１載置部１３２は、挿入部１３１に通された２枚の情報記録媒体１の内の先に通されて下方側に配設される情報記録媒体１を載置する。

　固定部材は、情報記録媒体１を載置する載置部１４１と、載置部１４１に載置された情報記録媒体１を挟持するためのクランプ部材１４３とを備えている。

　載置部１４１は、上記回転軸１３０の第１載置部１３２と、挿入部１３１に通された上方側の情報記録媒体１を載置する第２載置部１４２とから構成されている。第２載置部１４２は、情報記録媒体１の間に配設された所定厚さのリング状部材から構成されている。

　クランプ部材１４３は、円形平板状のクランプ本体１４４と、クランプ本体１４４の外周側の全周に設けられた弾性を有するリング状の押圧片１４５とを備えている。押圧片１４５は、クランプ本体１４４から下方に突出するようにして全周に形成された環状の押圧部１４５ａを有する。

　このように構成されたクランプ部材１４３は、図５に示すように、第１載置部１３２と第２載置部１４２との夫々に情報記録媒体１が載置された状態で、クランプ本体１４４が回転軸１３０の本体取付部１３３にボルト部材１４６を介して取り付けられる。

　その取り付けに際して、押圧部１４５ａが上方側の情報記録媒体１の貫通孔１１の周縁部を上方側から押圧する。そして、その押圧力によって、下方側の情報記録媒体１を第１載置部１３２と第２載置部１４２とで挟持し、上方側の情報記録媒体１を第２載置部１４２と押圧部１４５ａとで挟持し、これにより、情報記録媒体１を回転軸１３０に固定する。

　以下に、具体的に実施例を挙げて、本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

　（実施例１）
　板状ガラス素材に、第１ラッピング工程、端部形状加工工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１研磨工程、その後、化学強化工程を施した。

　化学強化工程は、第１研磨工程を終えた板状ガラス素材を３００℃に予熱し、硝酸カリウム（６０質量％）と硝酸ナトリウム（４０質量％）とを混合し４００℃に加熱して溶融させた化学強化溶液中に約３時間浸漬する化学強化処理を行った。この浸漬の際には、板状ガラス素材の表面全体が化学強化されるようにするため、複数の板状ガラス素材が端面で保持されるように、ホルダに収納した状態で行った。

　このように、化学強化溶液に浸漬処理することによって、板状ガラス素材の表層のリチウムイオン及びナトリウムイオンが化学強化溶液中のナトリウムイオン及びカリウムイオンにそれぞれ置換されて板状ガラス素材の表層に形成された圧縮応力層の厚さは、約１００～２００μｍであった。

　また、化学強化処理を終えた板状ガラス素材を、２０℃の水槽に浸漬して急冷し、約１０分間維持した。そして、急冷を終えた板状ガラス素材を、約４０℃に加熱した純水に浸漬し、８０ｋＨｚの超音波を印加して洗浄を行った。

　化学強化工程を施した後、第２研磨工程を施し、その後、中間洗浄工程を施した。中間洗浄工程は、第２研磨工程を終えた板状ガラス素材を、濃度０．１質量％のＨＦ水溶液で洗浄後、中性洗剤、純水、ＩＰＡの各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。

　中間洗浄工程を施した後、最終洗浄工程を施した。最終洗浄工程は、アルカリ性洗剤（ｐＨ１１、ζ電位－１５ｍＶ、温度６０°Ｃ）で９５０ｋＨｚでの洗浄を行い、超純水にＣＯ_２を含有させた（比抵抗０．１～０．２ＭΩ／ｃｍ）機能水によるリンス工程（９５０ｋＨｚ）を行なった。その後、再度上記アルカリ性洗剤（ｐＨ１１、ζ電位－１５ｍＶ、温度６０°Ｃ）で２０００ｋＨｚでの洗浄を行なった。その後、超純水にＣＯ_２を含有させた機能水による２０００ｋＨｚでのリンス工程を３回、行なった後、ＩＰＡベーパー乾燥装置により乾燥を行い（ＩＰＡ蒸気による洗浄乾燥）、実施例１の情報記録媒体用ガラス基板を製造した。

　（実施例２）
　最終洗浄工程として、実施例１における上記２０００ｋＨｚでのリンス工程を５回に増やして行って、実施例２の情報記録媒体用ガラス基板を製造した。実施例２におけるその他は、実施例１と同じ条件で製造した。

　（実施例３）
　最終洗浄工程として、上記実施例２の最終洗浄工程を２度、繰り返し行って、実施例３の情報記録媒体用ガラス基板を製造した。実施例３におけるその他は、実施例２と同じ条件で製造した。

　（実施例４）
　板状ガラス素材に、第１ラッピング工程、端部形状加工工程、端面研磨工程、第２ラッピング工程、第１研磨工程、その後、中間洗浄工程を施した。中間洗浄工程は、第１研磨工程を終えた板状ガラス素材を、濃度０．１質量％のＨＦ水溶液で洗浄後、中性洗剤、純水、ＩＰＡの各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。

　中間洗浄工程を施した後、化学強化工程を施した。

　化学強化工程を施した後、第２研磨工程を施し、その後、中性洗剤、純水、ＩＰＡの各洗浄槽に順次浸漬して洗浄した。

　前記洗浄を施した後、最終洗浄工程を施した。最終洗浄工程は、アルカリ性洗剤（ｐＨ１１、ζ電位－１５ｍＶ、温度６０°Ｃ）で９５０ｋＨｚでの洗浄を行い、超純水にＣＯ_２を含有させた（比抵抗０．１～０．２ＭΩ／ｃｍ）機能水によるリンス工程（９５０ｋＨｚ）を行なった。その後、再度上記アルカリ性洗剤（ｐＨ１１、ζ電位－１５ｍＶ、温度６０°Ｃ）で２０００ｋＨｚでの洗浄を行なった。その後、超純水にＣＯ_２を含有させた機能水による２０００ｋＨｚでのリンス工程を３回、行なった後、ＩＰＡベーパー乾燥装置により乾燥を行い（ＩＰＡ蒸気による洗浄乾燥）、実施例４の情報記録媒体用ガラス基板を製造した。

　（比較例１）
　実施例１の最終洗浄工程において、電気抵抗率が１８．２ＭΩ・ｃｍの超純水によりリンス工程を行なった。そして、この２０００ｋＨｚでのリンス工程を１回に変更して行なうことによって比較例１を製造した。比較例１におけるその他は、実施例１と同じ条件で製造した。

　（比較例２）
　実施例１の最終洗浄工程において、アルカリ性洗剤及び超純水による超音波洗浄を全て８０ｋＨｚで行なった。又、超純水を用いて行なうことによって比較例２を製造した。比較例２におけるその他は、実施例１と同じ条件で製造した。

　次に、以上のように製造した各実施例１～４、比較例１及び比較例２の情報記録媒体用ガラス基板について、フッ素イオンコンタミネーション量を測定するとともに、夫々に記録層１２を形成し情報記録媒体１にして情報ディスク装置に搭載し、その場合のグライド評価を行なったので、以下に説明する。

　フッ素イオンコンタミネーション量の測定は、各実施例１～４、比較例１及び比較例２のガラス基板を１８ＭΩ・ｃｍの超純水（８０°Ｃ）２０ｍＬに浸漬させ、３０分間静置した。この時撹拌などは行わない。また、作業中は容器の蓋を閉め、さらにクラス１００（ＦＥＤ－ＳＴＤ－２０９Ｄ、アメリカ連邦規格）の部屋で作業を行った。３０分経過後抽出液をイオンクロマトグラフで測定した。８０℃で行うことにより一部存在する難溶性の塩も溶解させることができる。尚、使用したイオンクロマトグラフはダイオネクス社製ＩＣＳ－２１００を用いて測定を行った。

　グライド評価は、上記情報ディスク装置１００を用い、実施例１～４、比較例１及び比較例２のガラス基板夫々１０枚について行なった。グライド評価工程とは、情報記録媒体１の表面に突起物が無いか否かを検査する工程である。すなわち、情報記録媒体１上を浮上走行する磁気ヘッド１１１が情報記録媒体１に対して情報を記録・再生する際に、情報記録媒体１の面上に磁気ヘッド１１１との間隔以上の高さを有する突起があると、この突起に磁気ヘッド１１１が接触することによって、磁気ヘッド１１１が損傷したり、情報記録媒体１に欠陥が発生したりすることがある。この実施形態では、磁気ヘッドの浮上量を１ｎｍとした上記情報ディスク装置１００を用い、実施例１～４、比較例１及び２のガラス基板夫々の１０枚の内、磁気ヘッド１１１が損傷せず、かつ情報記録媒体１に欠陥が生じなかったものが８～１０枚のものを◎、５～７枚のものを○、又、３～４枚のものを△とし、それ以下のものを×と判断した。

　上記フッ素イオンコンタミネーション量の測定結果、及びグライド評価の結果を、下記表１に示す。

　表１に示すように実施例１～４のものは、比較例１及び比較例２のものと比較してフッ素イオンコンタミネーション量が少なかった。また、実施例３及び実施例４のものは、フッ素イオンコンタミネーション量が１ｎｇ／ｃｍ^２以下であった。

　また、実施例１～４のもののフッ素イオンコンタミネーション量が少なかった結果として、記録層１２（磁性層）を形成するに際し、スパッタリングによる磁性粒子の配向が揃い、高密度記憶が可能な磁性層の形成が可能であった。

　このような結果は、表１に示すグライド評価に表れている。表１に示すように、実施例１～４のものは、比較例１及び比較例２のものと比較して、グライド評価が良好であった。また、フッ素イオンコンタミネーション量が１ｎｇ／ｃｍ^２以下の実施例３及び４のものは、より一層、グライド評価が良好であった。

　なお、上記実施形態では、情報ディスク装置１００は、動的浮上量制御部を備えたものとされているが、この形態のものに限らず、例えば動的浮上量制御部を備えていないものでもよく、適宜変更できる。

　本明細書は、上記のように様々な態様の技術を開示しているが、そのうち主な技術を以下に纏める。

　この構成によれば、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドが衝突するおそれの少ない情報記録媒体を製造することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。具体的には、情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオンコンタミネーション量が１０ｎｇ／ｃｍ^２以下になっているため、情報記録媒体用ガラス基板に生成されるフッ化物塩（フッ素イオンコンタミネーション）を少なくできる。従って、この情報記録媒体用ガラス基板を有する情報記録媒体を情報ディスク装置に搭載した場合に、情報ディスク装置の磁気ヘッドが情報記録媒体に存在するフッ化物塩と衝突することによる、磁気ヘッドの損傷、及び情報記録媒体の欠陥が生じるおそれの少ないものにできる。

　また、前記情報記録媒体用ガラス基板において、前記フッ素イオンコンタミネーション量が１ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように構成されていることが好ましい。

　この構成によれば、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドが衝突するおそれのより少ない情報記録媒体を製造することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。具体的には、情報ディスク装置に装着した場合に、ヘッドがフッ素イオンコンタミネーションに衝突するおそれのより少ない情報記録媒体を製造することができる情報記録媒体用ガラス基板を提供することができる。

　この構成によれば、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドが衝突するおそれの少ない情報記録媒体を提供することができる。具体的には、情報ディスク装置に搭載した場合に、情報ディスク装置の磁気ヘッドがフッ化物塩と衝突するおそれの少ないものにでき、磁気ヘッドが損傷し、或いは、情報記録媒体に欠陥が生じるおそれの少ないものにできる。

　この構成によれば、磁気ヘッドとフッ化物塩とが衝突するおそれの少ないものにでき、磁気ヘッドが損傷し、或いは、情報記録媒体に欠陥が生じるおそれの少ないものにできる。

　また、本発明の他の一局面は、フッ素を含む洗浄液を用いて、板状ガラス素材を洗浄する中間洗浄工程と、前記中間洗浄工程の後に、最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオンコンタミネーション量が１０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する最終洗浄工程とを備えることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法である。

　この構成によれば、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドが衝突するおそれの少ない情報記録媒体を製造することができる情報記録媒体用ガラス基板を製造することができる。具体的には、最終洗浄工程で、最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオンコンタミネーション量が１０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄するため、情報記録媒体用ガラス基板に生成されるフッ化物塩を少なくできる。従って、情報記録媒体用ガラス基板を有する情報記録媒体を情報ディスク装置に搭載した場合に、情報ディスク装置の磁気ヘッドが情報記録媒体に存在するフッ化物塩と衝突して磁気ヘッドが損傷し、或いは、情報記録媒体に欠陥が生じるおそれの少ない情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる。

　また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記最終洗浄工程が、前記フッ素イオンコンタミネーション量が１ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する工程であることが好ましい。

　この構成によれば、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドが衝突するおそれのより少ない情報記録媒体を製造するための情報記録媒体用ガラス基板を製造することができる。具体的には、情報ディスク装置に装着した場合に、ヘッドがフッ素イオンコンタミネーションに衝突するおそれのより少ない情報記録媒体を製造するための情報記録媒体用ガラス基板を製造することができる。

　また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、板状ガラス素材を粗研磨する第１研磨工程と、板状ガラス素材を精密研磨する第２研磨工程とを備え、前記中間洗浄工程が、前記第２研磨工程の後に行い、前記最終洗浄工程が、前記中間洗浄工程の後に行うことが好ましい。

　この構成によれば、第２研磨工程の後に、中間洗浄工程で、フッ素を含む洗浄液を用いて板状ガラス素材の洗浄を行うため、第１研磨工程で用いた研磨剤だけではなく、第２研磨工程で用いた研磨剤をも効率的に落とすことができる。そして、中間洗浄工程の後に、最終洗浄工程で、板状ガラス素材の表面に残存したフッ素イオンを除去でき、最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオンコンタミネーション量を一定値以下まで少なくできる。従って、最終洗浄工程でのガラス素板上のフッ素イオンコンタミネーションをより減らすことができる。

　また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、板状ガラス素材を粗研磨する第１研磨工程と、板状ガラス素材を精密研磨する第２研磨工程とを備え、前記中間洗浄工程が、前記第１研磨工程と前記第２研磨工程との間に行い、前記最終洗浄工程が、前記第２研磨工程の後に行うことが好ましい。

　この構成によれば、第１研磨工程の後に、中間洗浄工程で、フッ素を含む洗浄液を用いて板状ガラス素材の洗浄を行うため、第１研磨工程で用いた研磨剤を効率的に落とすことができる。そして、中間洗浄工程の後に、最終洗浄工程で、板状ガラス素材の表面に残存したフッ素イオンを除去でき、最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオンコンタミネーション量を一定値以下まで少なくできる。従って、最終洗浄工程でのガラス素板上のフッ素イオンコンタミネーションをより減らすことができる。

　また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法において、前記最終洗浄工程が、板状ガラス素材をアルカリ性洗剤で洗浄し、超純水にＣＯ_２を含有させた機能水によりリンスを行う工程であることが好ましい。

　この構成によれば、最終洗浄工程でのガラス素板上のフッ素イオンコンタミネーションを好適に、かつ効率的に減らすことができる。

　本発明によれば、情報記録媒体用ガラス基板上のフッ素イオンコンタミネーション量を一定値以下のものにし、情報ディスク装置に装着した場合にヘッドがフッ素イオンコンタミネーションに衝突するおそれの少ない情報記録媒体用ガラス基板が提供される。また、前記情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体、及び情報ディスク装置が提供される。

Claims

　フッ素を含む洗浄液を用いて、板状ガラス素材を洗浄する工程を含む製造工程を経て得られた情報記録媒体用ガラス基板であって、
　前記製造工程の最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオンコンタミネーション量が１０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように構成されていることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板。
　前記フッ素イオンコンタミネーション量が１ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように構成されていることを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板。
　請求項１又は請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板と、
　前記情報記録媒体用ガラス基板における第１面と第２面との少なくとも一方に設けられた記録層とを備えることを特徴とする情報記録媒体。
　請求項３に記載の情報記録媒体を備えていることを特徴とする情報ディスク装置。
　フッ素を含む洗浄液を用いて、板状ガラス素材を洗浄する中間洗浄工程と、
　前記中間洗浄工程の後に、最終洗浄工程後における情報記録媒体用ガラス基板の表面に残存するフッ素イオンコンタミネーション量が１０ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する最終洗浄工程とを備えることを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　前記最終洗浄工程が、前記フッ素イオンコンタミネーション量が１ｎｇ／ｃｍ^２以下になるように洗浄する工程であることを特徴とする請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　板状ガラス素材を粗研磨する第１研磨工程と、
　板状ガラス素材を精密研磨する第２研磨工程とを備え、
　前記中間洗浄工程が、前記第２研磨工程の後に行い、
　前記最終洗浄工程が、前記中間洗浄工程の後に行うことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　板状ガラス素材を粗研磨する第１研磨工程と、
　板状ガラス素材を精密研磨する第２研磨工程とを備え、
　前記中間洗浄工程が、前記第１研磨工程と前記第２研磨工程との間に行い、
　前記最終洗浄工程が、前記第２研磨工程の後に行うことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。
　前記最終洗浄工程が、板状ガラス素材をアルカリ性洗剤で洗浄し、超純水にＣＯ_２を含有させた機能水によりリンスを行う工程であることを特徴とする請求項５～８のいずれか１項に記載の情報記録媒体用ガラス基板の製造方法。