JP5122497B2 - ハードディスク用基板用の洗浄剤組成物 - Google Patents
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Description
重量平均分子量が1,000〜10,000であるポリアクリル酸アルカリ金属塩(成分(a))と、
p−トルエンスルホン酸アルカリ金属塩(成分(b))と、
水溶性アミン化合物(成分(c))と、
キレート剤(成分(d))と、
水(成分(e))とを含有し、
実質的に非イオン性界面活性剤は含まず、
前記成分(a)、成分(b)、成分(c)、および成分(d)の総量中、前記成分(a)を5〜35重量%、前記成分(b)を15〜50重量%、前記成分(c)を15〜50重量%、前記成分(d)を5〜25重量%含有し、かつ
前記成分(c)と前記成分(d)の重量比{成分(c)/成分(d)}が0.8〜5である。
被研磨基板を、無機微粒子を含有する研磨液組成物で研磨した後、水で濯いで、被洗浄基板を得る工程と、前記被洗浄基板を本発明のHD用基板用の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程とを含む。
本発明の洗浄剤組成物に含まれるポリアクリル酸アルカリ金属塩は、p-トルエンスルホン酸と共同して、凝集した無機微粒子の凝集の程度を低減し、被洗浄基板表面から無機微粒子を除去する働きをしているものと考えられる。ポリアクリル酸アルカリ金属塩としては、ポリアクリル酸ナトリウム塩、ポリアクリル酸カリウム塩等が挙げられるが、洗浄性を向上させる観点から、ポリアクリル酸ナトリウム塩が好ましい。
本発明の洗浄剤組成物に含まれるp−トルエンスルホン酸アルカリ金属塩は、ポリアクリル酸アルカリ金属塩の水に対する溶解度を高め、凝集した無機微粒子に対するポリアクリル酸アルカリ金属塩(成分(a))による凝集低減効果を高めているものと考えられる。p−トルエンスルホン酸アルカリ金属塩としては、p−トルエンスルホン酸ナトリウム塩、p−トルエンスルホン酸カリウム塩等が挙げられるが、洗浄性を向上させる観点から、p−トルエンスルホン酸ナトリウム塩が好ましい。
本発明の洗浄剤組成物に含まれる水溶性アミン化合物(成分(c))としては、例えば、アルカノールアミン、1級アミン、2級アミン、および3級アミンからなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。
本発明の洗浄剤組成物に含まれるキレート剤(成分(d))は、非洗浄基板表面をソフトエッチングすると共に、ソフトエッチングにより溶出したNiイオンを捕らえて、被洗浄基板へのNiの再析出化を抑制しているものと考えられる。本発明の洗浄剤組成物に含まれるキレート剤としては、グルコン酸、グルコヘプトン酸などのアルドン酸類;エチレンジアミン四酢酸などのアミノカルボン酸類;クエン酸、リンゴ酸などのヒドロキシカルボン酸類;アミノトリメチレンホスホン酸、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸などのホスホン酸類;およびこれらのアルカリ金属塩、低級アミン塩、アンモニウム塩、アルカノールアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも1種が挙げられる。これらの中でもソフトエッチングし、かつ被洗浄基板へのNiの再析出化を効果的に抑制する観点から、グルコン酸ナトリウム、グルコヘプトン酸ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸ナトリウム、クエン酸ナトリウム、または1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸が好ましく、1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸がより好ましい。これらのキレート剤は、単独でまたは2種以上を混合して用いてもよい。
本発明の洗浄剤組成物に含まれる水は、溶媒としての役割を果たすことができるものであれば特に制限はない。例えば、超純水、純水、イオン交換水、または蒸留水等を挙げることができるが、超純水、純水、またはイオン交換水が好ましく、超純水がより好ましい。なお、純水及び超純水は、例えば、水道水を活性炭に通し、イオン交換処理し、さらに蒸留したものを、必要に応じて所定の紫外線殺菌灯を照射、又はフィルターに通すことにより得ることができる。本発明では、25℃での電気伝導率は、純水で1μS/cm以下であり、超純水で0.1μS/cm以下を示すものである。
本発明の洗浄剤組成物には、成分(a)、(b)、(c)、(d)、(e)以外に、水溶性アミン化合物以外のアルカリ剤、シリコン系の消泡剤、アルコール、防腐剤、酸化防止剤等が含まれていてもよい。
本発明の洗浄剤組成物の調製方法は、何ら制限されないが、例えば、成分(a)、成分(b)、成分(c)、成分(d)、および必要に応じて任意成分を、水(成分(e))に添加して混合する方法が挙げられる。各成分を水に添加する順序等については特に制限はない。混合方法も公知の方法を採用すればよいが、攪拌中の水に各成分が添加されることが好ましい。各成分を水に添加する時の、水の温度は20〜50℃が好ましい。攪拌モーターの回転数は、通常、周速0.1m/s〜0.65m/sが好ましい。水以外の全成分を水に添加した後の攪拌時間は、通常、0,5〜2時間が好ましい。
本発明のHD用基板の製造方法は、被研磨基板を、無機微粒子を研磨材として含有する研磨液組成物を用いて研磨した後、水で濯いで、被洗浄基板を得る工程と、この工程後に被洗浄基板を本発明の洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程とを含む。
に浸漬するか、および/または、(ii)洗浄剤組成物を射出して、被洗浄基板の洗浄対象表面上に洗浄剤組成物を供給する。
が、例えば、洗浄剤組成物の温度については、安全性および操業性を向上させる観点から20〜100℃であると好ましく、浸漬時間については、洗浄性と生産効率を向上させる観点から10秒〜30分間であると好ましい。また、凝集した無機微粒子に対する成分(a)による凝集低減効果を高める観点から、洗浄剤組成物には超音波振動が付与されていると好ましい。超音波の周波数としては、好ましくは20〜2,000kHzであり、より好ましくは100〜2,000kHzであり、さらに好ましくは1,000〜2,000kHzである。凝集した無機微粒子に対する成分(a)による凝集低減効果を高める観点から、洗浄対象表面を浸漬した状態で洗浄用ブラシでこすることにより洗浄すると好ましい。
よい。
表1に記載の組成となるように各成分を混合することにより、実施例1〜5及び比較例1〜12の洗浄剤組成物(態様1)を得た。混合条件は後述のとおりとした。
温度:25℃
撹拌機:マグネチックスターラー
撹拌子:40mm
回転数:100rpm
撹拌時間:1時間
カラム:GMPWXLを2本(東ソ−社製)
溶離液:0.2Mリン酸バッファ−/CH3CN=9/1(容量比)
流量:1.0mL/min
カラム温度:40℃
検出:RI
サンプルサイズ:0.2mg/mL
標準物質:ポリアクリル酸ナトリウム(重量平均分子量:1,250、4,100、28,000、 115,000)創和科学社製
1.1.被洗浄基板の調製
Ni−Pメッキされたアルミニウム合金からなる基板(外径:95mmφ、内径:25mmφ、厚さ:1.27mm、表面粗さ(算術平均粗さ、Ra):1nm,10枚)の両主面を後述する研磨液組成物を供給しながら両面加工機により研磨した。研磨条件は後述のとおりとした。次いで、研磨液組成物に代えて純水を供給し、研磨後基板を純水により後述の条件で濯いで、被洗浄基板(洗浄対象)を得た。
研磨機:両面9B研磨機(スピ−ドファム社製)
研磨パッド:スエードタイプ(厚さ:0.9mm、平均開孔径:30μm、フジボウ社製)
研磨液組成物:コロイダルシリカスラリー(品番:メモリード2P-2000、花王社製)
本研磨:荷重 100g/cm2、時間 300秒、研磨液組成物流量 100mL/min
純水の電気伝導度:0.71μS/cm
荷重 :30g/cm2
時間 :20秒
純水供給量: 約2L/min
被洗浄基板を洗浄装置(3段式:1段目ロールブラシ−2段目ロールブラシ−3段目超音波シャワー)にて以下の条件で洗浄した。
(1)洗浄:洗浄装置にセットされた被洗浄基板を搬送待機箇所へセットし、次いで、1枚の被洗浄基板を洗浄装置の1段目のロールブラシが在る箇所へ搬送し、被洗浄基板の両主面の各々に、回転しているロールブラシを押し当て、前記希釈液を被洗浄基板の両主面の各々に射出しながら10秒間洗浄した。希釈液の供給量は35g/10秒とした。
(2)濯ぎ:希釈液による洗浄後の被洗浄基板を、洗浄装置の2段目のロールブラシが在る箇所へ搬送し、次いで、前記(1)の洗浄の際と同様に、被洗浄基板の両主面の各々に、回転しているロールブラシを押し当て、25℃の超純水を被洗浄基板の両主面の各々に射出しながら10秒間すすぎを行った。その後、被洗浄基板を3段目の超音波シャワーへ搬送し、950kHzの超音波が付与された25℃の超純水を被洗浄基板の両主面の各々に射出しながら10秒間すすぎを行った。950kHzの超音波が付与された25℃の超純水の供給量は150g/10秒とした。
(3)乾燥:スピンチャックに保持された濯ぎ後の洗浄後基板を、高速回転(3000rpmで)させて液切り乾燥を1分間行った。
前記(1)〜(3)を経た洗浄後基板の表面におけるシリカ微粒子の残存数を後述する方法で調べることにより、各希釈液の洗浄性を評価した。結果を表1に示している。
レベルA:全微粒子個数が0個である。
レベルB:全微粒子個数が1〜2個である。
レベルC:全微粒子個数が3〜4個である。
レベルD:全微粒子個数が5〜7個である。
レベルE:全微粒子個数が8〜10個である。
レベルF:全微粒子個数が11個以上である。
各希釈液(態様2の洗浄剤組成物)60mlを200mlのシリンダーに入れ、ふたをした。次いで、シリンダーを20回手振りで強振動させ、30秒間静置させた後の泡高さ(液面から泡の一番高い所までの高さ)を測定し、後述の評価基準に従って、耐泡立ち性を評価した。泡高さが低いほど、耐泡立ち性が良好なことを示す。なお、シリンダーを強振動させる際の、ストローク長は30cmとし、手振り速度は2回/秒とした。
A(合格):泡高さが20ml未満
B(不合格):泡高さが20ml以上
JIS K 0400−20−10に規定の方法に基づいてCOD(mg/L)を測定し、後述の評価基準に基づき、各洗浄剤組成物の低環境負荷性を評価した。なお、測定には過マンガン酸カリウムを用いた。
レベルA:29,000(mg/L)未満
レベルB:29,000以上33,000(mg/L)未満
レベルC:33,000(mg/L)以上
後述のようにして、各希釈液(態様2の洗浄剤組成物)によるNiエッチング性を後述の判定基準に基づき評価した。その結果は表1に示している。
(1)容積が2Lのポリエチレン容器(底面の直径125mm×高さ185mm)に各希釈液70gを入れ、25℃の恒温槽中で3時間保管された前記希釈液を試験液とする。
(2)Ni−Pメッキされたアルミニウム合金からなる基板(外径:95mmφ、内径:25mmφ、厚さ:1.27mm)を試験液に10分間浸漬する。
(3)前記基板を試験液から取り出した後、試験液についてICP発光分析装置(パーキンエルマー社製、Optima5300)にてニッケルの発光強度を測定して、Niエッチング量を定量する。
A: Niエッチング量が0.6ppm以上
B: Niエッチング量が0.3ppm以上0.6ppm未満
C: Niエッチング量が0.3ppm未満
[成分(a)]
ポリアクリル酸ナトリウム塩A:ポイズ530(花王社製、重量平均分子量=6,000、40重量%水溶液)
ポリアクリル酸ナトリウム塩B:Sokalan PA20(BASF社製、重量平均分子量=2,500、45重量%水溶液)
[成分(b)]
P-トルエンスルホン酸ナトリウム塩:トルエンスルホン酸ソーダ(明友産業社製、90重量%)
[成分(c)]
モノエタノールアミン:モノエタノールアミン(和光純薬社製、和光1級)
テトラメチルアンモニウムヒドロキシド:テトラメチルアンモニウムヒトロキシド(和光純薬社製、25重量%水溶液)
[成分(d)]
1-ヒト゛ロキシエチリテ゛ン-1,1-シ゛ホスホン酸:デイクエスト2010R(ソルーシア社製、60重量%水溶液)
[成分(e)]
(e)水(25℃での電気伝導率 0.1μS/cm)
[その他の成分]
ポリアクリル酸ナトリウム塩 C:Sokalan PA70PN(BASF社製、重量平均分子量=70,000、30重量%水溶液)
ポリアクリル酸:A-10SL(東亞合成社製、重量平均分子量=6,000、40重量%水溶液)
非イオン界面活性剤A:ポリオキシエチレンドデシルエーテル、オキシエチレン基の平均付加モル数は9:エマルゲン109P(花王社製)
非イオン界面活性剤B:ポリオキシエチレンラウリルアミン、オキシエチレン基の平均付加モル数は7:アミート110(花王社製)
Claims (5)
- 重量平均分子量が1,000〜10,000であるポリアクリル酸アルカリ金属塩(成分(a))と、
p−トルエンスルホン酸アルカリ金属塩(成分(b))と、
水溶性アミン化合物(成分(c))と、
キレート剤(成分(d))と、
水(成分(e))とを含有し、
実質的に非イオン性界面活性剤は含まず、
前記成分(a)、前記成分(b)、前記成分(c)、および前記成分(d)の総量中、前記成分(a)を5〜35重量%、前記成分(b)を15〜50重量%、前記成分(c)を15〜50重量%、前記成分(d)を5〜25重量%含有し、かつ
前記成分(c)と前記成分(d)の重量比{成分(c)/成分(d)}が0.8〜5である、
Ni−P含有層を有するハードディスク用基板用洗浄剤組成物。 - 前記水溶性アミン化合物が、アルカノールアミン、1級アミン、2級アミン、および3級アミンからなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項1に記載のNi−P含有層を有するハードディスク用基板用洗浄剤組成物。
- 前記キレート剤が、アルドン酸類、アミノカルボン酸類、ヒドロキシカルボン酸類、ホスホン酸類、およびこれらのアルカリ金属塩、低級アミン塩、アンモニウム塩、アルカノールアンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも1種である、請求項1または2に記載のNi−P含有層を有するハードディスク用基板用洗浄剤組成物。
- 前記成分(a)と前記成分(b)の重量の合計[成分(a)+成分(b)]と、前記成分(c)と前記成分(d)の重量の合計[成分(c)+成分(d)]との比〔[成分(a)+ 成分(b)]/[成分(c)+成分(d)]〕が0.1〜14である請求項1〜3のいずれかの項に記載のNi−P含有層を有するハードディスク用基板用洗浄剤組成物。
- 被研磨基板を、無機微粒子を含有する研磨液組成物で研磨した後、水で濯いで、被洗浄基板を得る工程と、前記被洗浄基板を請求項1〜4のいずれかの項に記載のハードディスク用基板用洗浄剤組成物を用いて洗浄する工程とを含むNi−P含有層を有するハードディスク用基板の製造方法。
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