JP4376022B2 - シリカスケール除去剤 - Google Patents
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Description
(1)炭素数2〜4のアルカンの少なくとも2個の隣接炭素原子にそれぞれ結合したヒドロキシル基を有してなる多価アルコール1種又は2種以上と、強酸性化合物と、そして0〜95重量%の疎水性有機溶媒とを含んでなり、水を5重量%以上含まず、且つ金属イオン不含であることを特徴とする、シリカスケール除去剤、
(2)該多価アルコールの該強酸性物質に対する重量比が、100:1〜99.9999:0.0001である、上記(1)に記載のシリカスケール除去剤、
(3)該強酸性物質が硫酸である、上記(1)又は(2)に記載のシリカスケール除去剤、
(4)該疎水性の有機溶媒がトルエンである、上記(1)〜(3)の何れかに記載のシリカスケール除去剤、
(5)該多価アルコールを少なくとも5重量%含有するものである、上記(1)〜(4)の何れかに記載のシリカスケール除去剤、
(6)炭素数2〜4のアルカンの少なくとも2個の隣接炭素原子にそれぞれ結合したヒドロキシル基を有してなる多価アルコール1種又は2種以上と、強酸性化合物と、そして0〜95重量%の疎水性有機溶媒とを含んでなり、水を5重量%以上含まず、且つ金属イオン不含であることを特徴とする処理液にシリカスケールの付着した被処理物を接触させることを特徴とする、シリカスケール除去方法、
(7)該処理液における該多価アルコールの該強酸性物質に対する重量比が、100:1〜99.9999:0.0001である、上記(6)に記載のシリカスケール除去方法、
(8)該強酸性物質が硫酸である、上記(6)又は(7)に記載のシリカスケール除去方法、
(9)該疎水性の有機溶媒がトルエンである、上記(6)〜(8)の何れかに記載のシリカスケール除去方法、
(10)該処理液が該多価アルコールを少なくとも5重量%含有するものである、上記(6)〜(9)の何れかに記載のシリカスケール除去方法。
CMP用スラリー(シリカスラリー)として次のものを用いた。
シリカ平均粒径: 約0.2μm
シリカ含量: 約30重量%
媒質: 水
pH: 11.1(25℃)
鏡面のシリコンウエハーにCMP用スラリー(シリカスラリー)をディッピングすることによりシリカを付着させ、室温で2時間乾燥させた。更にシリカを付着させ室温で2時間乾燥させる工程を5回繰り返した。最後に、室温で50時間乾燥させて試験用固着物とした。表1(製剤実施例1〜3、比較例1〜3)に示す溶液を調整した。製剤実施例1〜3及び比較例1の製剤を100℃に加熱し、試験用固着物を入れ、攪拌し5時間後の固着物の状態とシリコンウエハーの鏡面状態を比較した。比較例2、3については同じ操作を、但し室温で行った。
◎:完全に除去されている。
○:軽く水洗するだけで完全に除去できる。
△:ほとんど取れているがわずかに白い固着物が確認できる。
×:はっきり白い固着物が残っている
A:鏡面状態を保持。
B:わずかにくすむ。
C:くもり発生。
D:凸凹になる。
Claims (10)
- 炭素数2〜4のアルカンの少なくとも2個の隣接炭素原子にそれぞれ結合したヒドロキシル基を有してなる多価アルコール1種又は2種以上と、強酸性化合物と、そして0〜95重量%の疎水性有機溶媒とを含んでなり、水を5重量%以上含まず、且つ金属イオン不含であることを特徴とする、シリカスケール除去剤。
- 該多価アルコールの該強酸性物質に対する重量比が、100:1〜99.9999:0.0001である、請求項1に記載のシリカスケール除去剤。
- 該強酸性物質が硫酸である、請求項1又は2に記載のシリカスケール除去剤。
- 該疎水性の有機溶媒がトルエンである、請求項1ないし3の何れかに記載のシリカスケール除去剤。
- 該多価アルコールを少なくとも5重量%含有するものである、請求項1ないし4の何れかに記載のシリカスケール除去剤。
- 炭素数2〜4のアルカンの少なくとも2個の隣接炭素原子にそれぞれ結合したヒドロキシル基を有してなる多価アルコール1種又は2種以上と、強酸性化合物と、そして0〜95重量%の疎水性有機溶媒とを含んでなり、水を5重量%以上含まず、且つ金属イオン不含であることを特徴とする処理液にシリカスケールの付着した被処理物を接触させることを特徴とする、シリカスケール除去方法。
- 該処理液における該多価アルコールの該強酸性物質に対する重量比が、100:1〜99.9999:0.0001である、請求項6に記載のシリカスケール除去方法。
- 該強酸性物質が硫酸である、請求項6又は7に記載のシリカスケール除去方法。
- 該疎水性の有機溶媒がトルエンである、請求項6ないし8の何れかに記載のシリカスケール除去方法。
- 該処理液が該多価アルコールを少なくとも5重量%含有するものである、請求項6ないし9の何れかに記載のシリカスケール除去方法。
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