JP2020192527A - 化学液体精製装置及びそれを用いた精製方法 - Google Patents

化学液体精製装置及びそれを用いた精製方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2020192527A
JP2020192527A JP2020091973A JP2020091973A JP2020192527A JP 2020192527 A JP2020192527 A JP 2020192527A JP 2020091973 A JP2020091973 A JP 2020091973A JP 2020091973 A JP2020091973 A JP 2020091973A JP 2020192527 A JP2020192527 A JP 2020192527A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chemical liquid
filter
tank body
liquid
purification apparatus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2020091973A
Other languages
English (en)
Inventor
田中 賢一
Kenichi Tanaka
賢一 田中
政 傑 范
Cheng-Chieh Fan
政 傑 范
聖 賓 黄
Shen-Ping Huang
聖 賓 黄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Electronic Materials Taiwan Co Ltd
Original Assignee
Fujifilm Electronic Materials Taiwan Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Electronic Materials Taiwan Co Ltd filed Critical Fujifilm Electronic Materials Taiwan Co Ltd
Publication of JP2020192527A publication Critical patent/JP2020192527A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D36/00Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D35/00Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
    • B01D35/02Filters adapted for location in special places, e.g. pipe-lines, pumps, stop-cocks
    • B01D35/027Filters adapted for location in special places, e.g. pipe-lines, pumps, stop-cocks rigidly mounted in or on tanks or reservoirs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D29/00Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
    • B01D29/50Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with multiple filtering elements, characterised by their mutual disposition
    • B01D29/56Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with multiple filtering elements, characterised by their mutual disposition in series connection
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D36/00Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • B01D36/003Filters in combination with devices for the removal of liquids
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D36/00Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • B01D36/003Filters in combination with devices for the removal of liquids
    • B01D36/006Purge means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D36/00Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
    • B01D36/02Combinations of filters of different kinds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/58Multistep processes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D63/00Apparatus in general for separation processes using semi-permeable membranes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/06Organic material
    • B01D71/30Polyalkenyl halides
    • B01D71/32Polyalkenyl halides containing fluorine atoms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D71/00Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
    • B01D71/06Organic material
    • B01D71/30Polyalkenyl halides
    • B01D71/32Polyalkenyl halides containing fluorine atoms
    • B01D71/36Polytetrafluoroethene
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2201/00Details relating to filtering apparatus
    • B01D2201/20Pressure-related systems for filters
    • B01D2201/202Systems for applying pressure to filters
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2201/00Details relating to filtering apparatus
    • B01D2201/26Transport systems for filtering devices
    • B01D2201/265Transport systems for filtering devices mounted on vehicles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2221/00Applications of separation devices
    • B01D2221/14Separation devices for workshops, car or semiconductor industry, e.g. for separating chips and other machining residues
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2313/00Details relating to membrane modules or apparatus
    • B01D2313/50Specific extra tanks
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2315/00Details relating to the membrane module operation
    • B01D2315/08Fully permeating type; Dead-end filtration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2317/00Membrane module arrangements within a plant or an apparatus
    • B01D2317/02Elements in series
    • B01D2317/025Permeate series
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2317/00Membrane module arrangements within a plant or an apparatus
    • B01D2317/08Use of membrane modules of different kinds
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D2325/00Details relating to properties of membranes
    • B01D2325/02Details relating to pores or porosity of the membranes
    • B01D2325/0283Pore size
    • B01D2325/028321-10 nm
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/02Reverse osmosis; Hyperfiltration ; Nanofiltration
    • B01D61/027Nanofiltration
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D61/00Processes of separation using semi-permeable membranes, e.g. dialysis, osmosis or ultrafiltration; Apparatus, accessories or auxiliary operations specially adapted therefor
    • B01D61/14Ultrafiltration; Microfiltration

Abstract

【目的】本発明は、化学液体精製 装置及びそれを用いた精製方法を提供する。【解決手段】化学液体精製装置には、タンク本体、戻り管、送液ポンプ、濾過装置、配管が含まれる。タンク本体は、タンク本体内の貯蔵空間と連通する通液口と循環口を有する。戻り管の一端は循環口に接続され、他端は貯蔵空間に延伸される。送液ポンプと濾過装置は、通液口と循環口との間においてタンク本体の外側に配置される。配管は、送液ポンプと濾過装置を通液口と循環口に接続している。【選択図】図1

Description

本発明は、一般に、精製装置に関し、特に、化学液体精製装置及びそれを用いた方法に関する。
半導体産業は、電子部材の集積密度の急速な改良が達成されており、それは、部材のサイズの継続的な縮小に起因している。最終的には、より小さなコンポーネントの多くが、特定の領域に統合されるようになっている。これらの改良は、主に新しい精度と高解像度の処理技術の開発によるものである。
高解像度の集積回路の製造においては、さまざまな処理液がベアウェーハ又はフィルムコーティングされたウェーハと接触する。例えば、微細金属相互接続の製造は、典型的には、基材が複合液体でコーティングされてレジスト膜を形成する前に、基材をプレウェッティング液でコーティングする手順を含む。その後、現像液及び/又はリンス液を塗布して、レジストパターンを形成する。適切な成分とさまざまな添加剤を含むこれらの処理液は、ICウェーハの汚染源であることが知られている。
ウェーハのプリウェット液や現像液などの化学液体に微量の汚染物質が混入される場合、回路パターンに欠陥が生じる可能性があると推測される。1.0ppt(1兆分の1)と非常に低いレベルの金属不純物が存在すると、半導体デバイスのパフォーマンスと安定性が妨げられることが知られている。また、金属汚染物質の種類によっては、酸化特性が劣化したり、不正確なパターンが形成されたり、半導体回路の電気的性能が低下したりして、製造歩留まりに悪影響を与える場合がある。
金属不純物、粗粒子、金属粒子、有機不純物、水分などの不純物の汚染は、化学液体の製造の様々な段階の間に、化学液体に不注意で導入される可能性がある。例えば、原料中に不純物が含まれている場合や、原料や化学液体の輸送、保管、反応に用いられる容器設備や反応容器、化学液体を製造する際に生成される副産物又は残った未反応物に由来する場合である。
従って、高精度で超微細な半導体電子回路を形成するために、プレウェッティング液、レジスト液、現像液、剥離液、リンス液、及びコーティング液等、半導体プロセスのさまざまな段階で使用される化学液体は、大幅な品質改善を必要とし、得られる回路パターンに欠陥が生じないようにするために、厳密な品質管理を維持しなければならない。
従来、これらの高度な溶剤(処理液又は化学液体)は、トラックなどの完成品パッケージに充填される前に、粒子数が少なくなるように濾過循環によって数回処理される。これは一般に、溶媒が混合タンクに入れられ、粒子を減らすために濾過循環によって処理されるバッチ循環法によって実現される。但し、バッチ循環方式には、製造スループットや設備調査コストなど、多くの欠点がある。例えば、混合タンクへの溶媒装入プロセスと、精製された溶媒/液体を完成品パッケージに充填するための別の溶媒充填プロセスの必要性により、製造スループット時間(manufacturing throughput time)が増加する。一方、混合タンクを使用することにより、設備調査費も増加する。
従って、製造スループット時間及び設備調査費用を低減しながら、高品質(低粒子)の化学液体を得ることができるように精製方法を改善する必要がある。
本開示は、精製装置において濾過循環を行うことができる精製装置に関する。これにより、従来の方法で必要であった溶剤装入プロセスや溶剤充填プロセスを簡略化でき、製造スループット時間を改善させることができる。
本開示の一実施形態によれば、タンク本体と、戻り管と、送液ポンプ及び濾過装置と、配管と、を含む化学液体精製装置が提供される。前記タンク本体は、内部の貯蔵空間と連通する通液口及び循環口を有する。前記戻り管の一端は、前記循環口に接続され、他端は、前記貯蔵空間に延伸する。前記送液ポンプ及び前記濾過装置は、前記通液口と前記循環口との間において、タンク本体の外側に配置される。前記配管は、前記送液ポンプ及び前記濾過装置を前記通液口及び前記循環口に接続する。
幾つかの実施形態では、前記通液口に接続される一端及び前記貯蔵空間の底に延伸する他端を有する抽出管を更に含む。
幾つかの実施形態では、前記戻り管及び前記抽出管の接液面がフッ素樹脂で形成される。
幾つかの実施形態では、前記濾過装置が少なくとも第1フィルタと第2フィルタを含み、前記第1フィルタが前記第2フィルタと前記通液口との間に配置され、前記第2フィルタが前記第1フィルタと前記循環口との間に配置される。
幾つかの実施形態では、前記第1フィルタ及び前記第2フィルタは、100nm以下の孔径を有する。
幾つかの実施形態では、前記第1フィルタの孔径がR1であり、前記第2フィルタの孔径がR2であり、且つR1≧R2である。
幾つかの実施形態では、前記第1フィルタの孔径がR1であり、前記第2フィルタの孔径がR2であり、且つR1>R2である。
幾つかの実施形態では、前記第1フィルタ及び前記第2フィルタがフッ素樹脂で形成される。
幾つかの実施形態では、前記第1フィルタ及び前記第2フィルタが異なる材料で形成される。
幾つかの実施形態では、前記タンク本体の接液面がフッ素樹脂で形成される。
幾つかの実施形態では、前記送液ポンプが、遠心ポンプ、混合流ポンプ及び軸流ポンプからなる群から選択される。
幾つかの実施形態では、前記送液ポンプが遠心ポンプである。
幾つかの実施形態では、前記配管の接液面が電解研磨されたステンレス鋼である。
幾つかの実施形態では、前記タンク本体が可動型タンク本体である。
幾つかの実施形態では、前記タンク本体がトラックのタンク本体である。
幾つかの実施形態では、前記戻り管の長さと前記タンク本体の高さとの比が、1:10〜2:10の範囲である。
幾つかの実施形態では、前記タンク本体が前記タンク本体の上部に配置されるマンホール及び空気穴を更に含む。
幾つかの実施形態では、前記タンク本体の底部に取り付けられ、それぞれ前記タンク本体の前端及び後端に近接され、且つ地上で前記タンク本体を共同で支持するように構成される、支持体及びホイールセットを更に含む。
本開示の幾つかの実施形態によれば、化学液体精製装置を使用する精製方法が提供される。前記方法は、前記貯蔵空間の内部から前記通液口を経由して前記化学液体を抽出し、前記送液ポンプ及び前記濾過装置に前記配管を介して前記化学液体を通過させ、濾過された前記化学液体を、前記戻り管を介して前記貯蔵空間に戻すことによって、前記タンク本体の前記化学液体を精製することを含む。
幾つかの実施形態では、前記タンク本体を、空気穴を介して窒素でパージし、正圧をかけながら前記化学液体を精製する。
上記を考慮して、本開示の化学液体精製装置は、送液ポンプと、通液口と循環口との間に配置された濾過デバイスとで構成される。従って、高品質(低粒子)の化学液体を得るとともに、製造スループット時間及び設備調査コストを低減することができる。
本発明の実施形態による化学液体精製装置の断面図である。 本発明の幾つかの実施形態による化学液体精製装置を含むトラックの概略図である。 本発明の幾つかの他の実施形態による化学液体精製装置を含むトラックの概略図である。
本発明の前述の及び他の特徴と利点を理解可能にするために、図面を合わせて幾つかの例示的な実施形態を以下に詳細に説明する。
添付の図面は、本発明を更に理解させるために含められ、本明細書に組み込まれ、本明細書の一部を構成する。図面は、説明とともに、本発明の実施形態を示し、本発明の原理を説明するために提供される。
以下の開示は、現在の保護対象の様々な特徴を実装するための異なる実施形態又は例を提供する。本開示を簡略化するために、構成要素及び配置の特定の例を以下に説明する。これらは単なる例であり、限定を意図するものではない。例えば、「溶媒」という用語が使用される場合、特に明記しない限り、それは単一の溶媒又は2つ以上の溶媒の組み合わせを指す場合がある。
更に、「下」、「下方」、「より下」、「上」、「より上」などの空間的に相対的な用語は、図面に示される1つの要素又は特徴の別の要素又は特徴に対する説明を容易にするために用いられる。空間的に相対的な用語は、図に示されている向きに加えて、使用中又は動作中のデバイスのさまざまな向きを包含することが意図されている。装置は他の方向に配向されてもよく(90度又は他の配向で回転)、本明細書で使用される空間的に相対的な記述子は同様にそれに応じて解釈されることができる。
本開示において、「〜」という用語を用いて示される数値範囲は、「〜」という用語の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本開示において、「ppm」は「百万分の1(10−6)」を意味し、「ppb」は「10億分の1(10−9)」を意味し、「ppt」は「1兆分の1(10−12)」を意味する。
本開示において、1Å(オングストローム)は、0.1nm(ナノメートル)に対応し、1μm(ミクロン)は、1000nmに対応する。
<処理対象>
精製プロセスに供される前に、本開示の液体材料又は化学液体は、望ましくない量の不純物及び汚染物質を含み得る。ここでは、事前に精製された化学液体を「処理対象」又は「処理対象材料」とする。本開示の化学液体精製装置で処理対象を処理した後、処理対象から十分な量の汚染物質及び不純物を取り除き、不純物及び汚染物質を所定の範囲に管理・制限した液体材料/化学液体を生成する。
<液体材料/化学液体>
図1は、本発明の実施形態による化学液体精製装置の断面図である。例示的な実施形態では、化学液体精製装置100は、液体材料10又は化学液体を製造又は精製するために使用される。本開示において、液体材料10(化学液体)は、有機溶剤と所定量の不純物とを含む。例えば、液体材料10(化学液体)は、半導体チップの製造方法において、プレウェッティング液及び現像液の少なくとも一方として用いられる処理液であることができる。また、液体材料10は、リンス液、洗浄液、剥離液などのほか、処理液の合成に使用する原料として使用されることができ、又は、レジスト膜を形成するための複合体の溶剤として使用されることもできる。幾つかの他の実施形態では、液体材料10は、半導体処理の様々な段階で使用される他の任意の化学液体であり得る。本開示はこれについて限定するものではない。
幾つかの実施形態では、液体材料10は、有機溶剤を精製することによって得られ、その有機溶剤は、金属原子、金属イオン成分、及び有機不純物を含む粒子が実質的に含まれないか、又はそれらの量が十分に低減された有機溶剤を使用することができる。言い換えれば、化学液体精製装置100は、処理対象(化学液体/溶剤)中の金属不純物、有機不純物、水などを除去する。
<有機溶剤>
本開示において、液体材料10(化学液体)は有機溶剤を含む。有機溶剤の種類は特に限定しないが、公知の有機溶剤が適用されることができる。液体材料10における有機溶剤の含有量は特に限定しないが、有機溶剤は、主成分として含まれる。具体的には、有機溶剤の含有量は、液体材料10の全質量に対して98質量%以上である。特定の実施形態では、有機溶剤の含有量は、液体材料10の全質量に対して99質量%以上である。他の実施形態では、有機溶剤の含有量は、液体材料10の全質量に対して99.5質量%以上である。更に別の実施形態では、有機溶剤の含有量は、液体材料10の全質量に対して99.8質量%以上である。その上限値は特に限定しないが、通常では、その上限値は、99.99質量%以下である。
有機溶剤は、1種単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。有機溶剤を2種以上組み合わせて使用する場合は、その合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
化学液体中の有機溶剤の含有量は、ガスクロマトグラフィー質量分析(GCMS)装置を用いて測定することができる。
有機溶剤の沸点は特に限定しない。但し、半導体チップの製造歩留まりを向上させる観点から、有機溶剤の沸点は200℃未満であることが好ましい。本開示において、沸点は、1atmでの沸点を意味する。
有機溶剤は特に限定しない。有機溶剤の例としては、メタノール、エタノール、1‐プロパノール、イソプロパノール、n‐プロパノール、2‐メチル‐1‐プロパノール、n‐ブタノール、2‐ブタノール、tert‐ブタノール、1‐ペンタノール、2‐ペンタノール、3‐ペンタノール、n‐ヘキサノール、シクロヘキサノール、2‐メチル‐2‐ブタノール、3‐メチル‐2‐ブタノール、2‐メチル‐1‐ブタノール、3‐メチル‐1‐ブタノール、2‐メチル‐1‐ペンタノール、2‐メチル‐2‐ペンタノール、2‐メチル‐3‐ペンタノール、3‐メチル‐1‐ペンタノール、3‐メチル‐2‐ペンタノール、3‐メチル‐3‐ペンタノール、4‐メチル‐1‐ペンタノール、4‐メチル‐2‐ペンタノール、2‐エチル‐1‐ブタノール、2,2‐ジメチル‐3‐ペンタノール、2,3‐ジメチル‐3‐ペンタノール、2,4‐ジメチル‐3‐ペンタノール、4,4‐ジメチル‐2‐ペンタノール、3‐エチル‐3‐ヘプタノール、1‐ヘプタノール、2‐ヘプタノール、3‐ヘプタノール、2‐メチル‐2‐ヘキサノール、2‐メチル‐3‐ヘキサノール、5‐メチル‐1‐ヘキサノール、5‐メチル‐2‐ヘキサノール、2‐エチル‐1‐ヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、トリメチルシクロヘキサノール、4‐メチル‐3‐ヘプタノール、6‐メチル‐2‐ヘプタノール、1‐オクタノール、2‐オクタノール、3‐オクタノール、2‐プロピル‐1‐ペンタノール、2,6‐ジメチル‐4‐ヘプタノール、2‐ノナノール、3,7‐ジメチル‐3‐オクタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ブチルメチルエーテル、ブチルエチルエーテル、ブチルプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジイソブチルエーテル、tert‐ブチルメチルエーテル、tert‐ブチルエチルエーテル、tert‐ブチルプロピルエーテル、ジ‐tert‐ブチルエーテル、ジペンチルエーテル、ジイソアミルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、シクロヘキシルメチルエーテル、ブロモメチルメチルエーテル、α‐ジクロロメチルメチルエーテル、クロロメチルエチルエーテル、2‐クロロエチルメチルエーテル、2‐ブロモエチルメチルエーテル、2,2‐ジクロロエチルメチルエーテル、2‐クロロエチルエチルエーテル、2‐ブロモエチルエチルエーテル、(±)‐1,2‐ジクロロエチルエチルエーテル、2,2,2‐トリフルオロエチルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルプロピルエーテル、アリルブチルエーテル、ジアリルエーテル、2‐メトキシプロペン、エチル‐1‐プロペニルエーテル、シス‐1‐ブロモ‐2‐エトキシエチレン、2‐クロロエチルビニルエーテル、アリル‐1,1,2,2‐テトラフルオロエチルエーテル、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、メチルシクロヘキサン、デカリン、キシレン、エチルベンゼン、ジエチルベンゼン、クメン、第2‐ブチルベンゼン、シメン、ジペンテン、ピルビン酸メチル、プロピレングリコールモノメットヒルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸ブチル、γ‐ブチロラクトン、酢酸イソアミル、クロロホルム、ジクロロメタン、1,4‐ジオキサン、ヘキシルアルコール、2‐ヘプタノン、酢酸イソアミル、及びテトラヒドロフランが挙げられる。
液体材料10(化学液体)が有機溶剤を2種以上含む場合、有機溶剤の組み合わせは特に限定しない。液体材料10が有機溶剤を2種類以上含む場合、本発明の効果を高める観点から、有機溶剤は、例えば、異なる沸点、異なる溶解度パラメーター、及び/又は異なる比誘電率を有するものが好ましい。
液体材料10が2種類以上の有機溶剤を含む場合、2種類以上のエーテルを含む物質が有機溶剤として好ましい。2種類以上のエーテルを含む液体材料10は、より優れた欠陥抑制性能を有する。
エーテルの種類は特に限定せず、公知のエーテルを使用することができる。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルからなる群より選ばれる2種以上のエーテルが2種以上のエーテルとして好ましい。
上記物質の中で、有機溶剤は、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルを含むことが好ましい。
液体材料10が2種類の有機溶剤を含む場合、有機溶剤の含有質量比は特に限定されない。その含有質量比は、通常、1/99〜99/1であることが好ましく、10/90〜90/10であることがより好ましく、20/80〜60/40であることが更に好ましい。
液体材料10の用途は、特に限定しない。具体的な使用例としては、半導体製造用の現像液、リンス液、プレウェッティング液、クリーナー液、エッチング液、及び洗浄液の少なくとも1つが挙げられる。
<不純物>
処理対象物及び/又は液体材料10に含まれる不純物としては、金属不純物、粒子及びその他、有機不純物、水分などを含む。
<金属不純物>
最も一般的な金属不純物は、鉄(Fe)、アルミニウム(Al)、クロム(Cr)、ニッケル(Ni)などの重金属と、ナトリウム(Na)やカルシウム(Ca)などのイオン性金属がある。金属の種類に応じて、金属不純物は、酸化物の完全性を悪化させたり、MOSゲートスタックを低減させ、デバイスの寿命を短縮させたりする。本開示の化学液体精製装置によって調製された液体材料10(化学液体)では、総微量金属含有量が質量で0〜150pptの所定の範囲内であることが好ましい。
この開示では、金属不純物は、固体(金属単体、粒子状金属含有化合物など)の形態で提供される金属不純物を指す。
この開示において、液体材料10(化学液体)中の総微量金属は、富士フイルム開発法(Fujifilm developed method)を使用して誘導結合プラズマ質量分析(ICP−MS)により測定される。OWMP(on−wafer metal particle)は、レーザーベースの検査システムとEDX(energy dispersive x−ray)検査を組み合わせてウェーハを検査することによって決定される。ICP‐MSを使用した総微量金属、レーザーとEDXを使用したオンウェーハ金属粒子(OWMP)の測定方法は、以下の例に示すとおりである。
<粒子>
本開示では、0.03μm以上のサイズを有する計数対象を「粒子」と称する。液体媒体中の「粒子」の数は、光散乱式液中粒子カウンタでカウントするものであり、LPC(液体粒子数)と称する。
粒子の例としては、ほこり、汚れ、有機固形物、及び無機固形物を含む。粒子は、また、コロイド化金属原子の不純物を含み得る。金属原子の種類は、コロイド化し易いものであり、特に限定せず、Na、K、Ca、Fe、Cu、Mg、Mn、Li、Al、Cr、Ni、Zn及びPbからなる群より選ばれる少なくとも1種の金属原子を含むことができる。本開示の化学液体精製装置により調製される液体材料10(化学液体)において、0.03μm以上のサイズの粒子の合計含有量は、化学液体1mlあたり100以下の所定の範囲内であることが好ましい。
<有機不純物>
有機不純物とは、液体材料10(化学液体)に含まれる主成分である有機溶剤とは異なる化合物を意味し、液体材料10(化学液体)の全質量に対して5000質量ppm以下の含有量で含まれる有機物を指す。即ち、本明細書では、液体材料10の全質量に対して5000質量ppm以下の含有量の有機物は、有機不純物に該当し、有機溶剤には該当しないものとする。
クリーンルーム内であっても、揮発性有機化合物が大気中に存在する。一部の有機不純物は出荷及び保管機器に由来し、一部は最初から原料に存在している。有機不純物の他の例としては、有機溶剤が合成される時に生成される副産物及び/又は未反応の反応物を含む。
液体材料10(化学液体)中の有機不純物の合計含有量は特に限定しない。半導体装置の製造歩留まり向上の観点から、有機不純物の合計含有量は、液体材料10(化学液体)の全質量に対して、ppm、0.1〜5000質量ppmが好ましく、1〜2000質量ppmがより好ましく、1〜1000質量ppmが更に好ましく、1〜500質量ppmが特に好ましく、1〜100質量ppmが最も好ましい。
化学液体中の有機不純物の含有量は、ガスクロマトグラフ質量分析(GCMS)装置で測定されることができる。
<水分(水)>
水分は、半導体表面の化学的及び物理的状態を不安定にする作用を有する。水分は、周囲の空気又は湿式プロセスの残渣から発生する可能性がある。水分は、化学液体に含まれる原料に不可避的に含まれる水であってもよく、化学液体製造時に不可避的に含まれるか、又は意図的に導入される水であってもよい。
液体材料10(化学液体)中の水の含有量は特に限定しない。一般的に、水の含有量は、液体材料10(化学液体)の全質量に対して、2.0質量%以下が好ましく、1.0質量%以下がより好ましく、0.5質量%以下が更に好ましい。液体材料10(化学液体)中の水の含有量が1.0質量%以下であれば、半導体チップの製造歩留まりは、更に向上される。下限は特に限定しないが、0.01質量%程度である場合が多い。製造上、水の含有量を上記の値以下にすることは困難である。
水の含有量とは、カールフィッシャー水分測定法を測定原理とする装置を用いて測定されることができる水分含有量を意味する。
以下では、本開示の実施形態は、例示的な化学液体精製装置及びそれを使用する例示的な液体材料10(化学液体)の製造/精製方法を説明する。化学液体精製装置は、少なくとも複数の材料処理システムを含み、化学液体精製装置を使用して調製された液体材料10(化学液体)中の不要な粒子(粒子)の数及び金属不純物の量が所定の範囲内に制限される。従って、残渣及び/又はパーティクル欠陥の発生が抑制され、半導体ウェーハの歩留まりが向上される。
<化学液体精製装置>
図1を参照し、幾つかの実施形態では、化学液体精製装置100は、タンク本体110、戻り管120、配管122、送液ポンプ124、濾過装置(126、130)、及び抽出管140を含む。
一部の実施形態では、タンク本体110は、マンホール112、空気穴114、液穴116及び循環ホール118を有する。マンホール112、空気穴114、液穴116及び循環ホール118は、タンク本体110内の貯蔵空間S12と連通される。マンホール112は、スタッフがタンク本体110内の貯蔵空間S12に入ることを可能にする開口部である。マンホール112のサイズは、主にスタッフが通り抜けることを可能にする要素に基づいて設計される。例えば、本実施形態のマンホール112は、直径約50cmの円形の穴である。但し、本開示は、これに限定するものではなく、必要に応じてマンホール112の設計を調整することができる。マンホール112は、通常、タンク本体110に保管される流体のロード及びアンロードには使用されない。また、マンホール112の数は、増やしてもよい。
空気穴114は主に、ガスがタンク本体110内の貯蔵空間S12に出入りする経路を提供するために使用される。例えば、液体材料10(又は化学液体)が液穴116を介して貯蔵空間S12に投入される時、空気穴114は、貯蔵空間S12内のガスを流出することを可能にし、それにより、液体材料10が貯蔵空間S12にスムーズに投入されることができる。更に、液体材料10が空気と化学反応を起こしやすい材料である場合、窒素などの不活性ガスが空気穴114を介して更に注入されて、液体材料10により良好な貯蔵環境を提供することができる。本実施形態の空気穴114は、直径約2cmの円形の穴であるが、本発明はこれに限定するものではない。空気穴114の設計は、必要に応じて調整することができる。また、空気穴114は、更に、貯蔵空間S12内部のガス圧力状態を制御するために、気圧計(図示せず)に連通されることができる。また、空気穴114の数は、増やしてもよい。
液穴116と循環ホール118は、主に液体材料10がタンク本体110内の貯蔵空間S12に出入りするための経路を提供するために使用される。本実施形態の液穴116及び循環ホール118は、直径が約10cmの円形の穴であるが、本発明はこれに限定するものではない。液穴116と循環ホール118の寸法は、必要に応じて調整することができる。例示的な実施形態では、液穴116及び循環ホール118は、それぞれ、液体材料10がタンク本体110に入る経路及び液体材料10がタンク本体110を出る経路として使用されることができ、その結果、タンク本体110内の貯蔵空間S12内の液体材料10の良好な対流が得られる。
本開示の幾つかの実施形態では、タンク本体110は、マンホール112、空気穴114、液穴116及び循環ホール118にそれぞれ取り付けられたマンホール口V12、空気穴口V14、通液口V16及び循環口V18を更に含む。マンホール口V12、空気穴口V14、通液口V16、循環口V18は、タンク本体110内の貯蔵空間S12を外部から分離するように構成されている。例示的な実施形態では、戻り管120の一端は循環ホール118を通過する循環口V18に接続され、戻り管120の他端はタンク本体110内の貯蔵空間S12に向かって伸びている。戻り管120の構成により、液体材料10が貯蔵空間S12に戻る際に上から直接落ちることを防ぐことができ、気泡又は液体材料10の品質に影響を与える他の状況が発生する可能性を減らすことができる。更に、幾つかの実施形態では、抽出管140の一端は液穴116を通過する通液口V16に接続され、抽出管140の他端は貯蔵空間S12の底部に向かって延びている。抽出管140の構成により、貯蔵空間S12の底部から液体材料10を抜き出すことができ、長期的な流動性不足による底部の液体材料10の劣化を防ぐことができる。
幾つかの実施形態では、戻り管120の長さL12とタンク本体110の高さL11の長さの比は、1:10〜2:10の範囲内である。言い換えれば、戻り管120の長さL12は、タンク本体110の高さL11の20%よりも短いか、又はタンク本体110の高さL11の10〜20%以内とすべきである。更に、戻り管120の長さL12は、抽出管140の長さより長くすることはできない。このように戻り管120と抽出管140を配置することにより、タンク本体110内の液体材料10(化学液体)の流れを最適化することができ、乱流を防止することができる。
本発明の一実施形態では、化学液体精製装置100は、送液ポンプ124と、通液口V16と循環口V18との間のタンク本体の外側に配置された濾過装置(126、130)とを更に含む。更に、配管122は、送液ポンプ124及び濾過装置(126、130)を通液口V16及び循環口V18に接続している。例えば、1つの実施形態では、液体材料10が貯蔵空間S12の内部から通液口V16を介して抽出される時、液体材料10は送液ポンプ124及び濾過装置(126、130)を配管122を介して順次通過するが、濾過された液体材料10(化学液体)は戻り管120を介して貯蔵空間S12に戻される。送液ポンプ124と濾過装置(126、130)の存在により、製造スループット時間と設備調査コストが低減される一方で、得られる化学液体の品質は大幅に向上される。更に、化学液体精製装置100は輸送前の液体材料10の長期貯蔵空間としても使用することができる。
例示的な実施形態では、送液ポンプ124は、遠心ポンプ、混合流ポンプ及び軸流ポンプからなる群から選択される非容積型ポンプである。特定の実施形態では、送液ポンプ124は遠心ポンプである。遠心ポンプを送液ポンプ124として使用することにより、取得される濾過された液体材料10(化学液体)は、品質が向上されることができる。一部の実施形態では、送液ポンプ124は、脈動が容易に発生しないポンプであることが好ましい。更に、ポンプの接液面は、フッ素樹脂を含むことが好ましい。
図1に示されるように、濾過装置(126、130)は、粒子除去プロセスに使用されることができる。粒子除去プロセスは、粒子除去フィルタを用いて、処理対象の粒子及び/又は金属不純物(固形状の金属不純物)を除去するプロセスである。粒子除去フィルタは、特に限定せず、公知の粒子除去フィルタを用いることができる。
除粒子フィルタの平均孔径(孔径)は特に限定しないが、0.001〜1.0μm(1nm〜1000nm)程度であることが適当であり、好ましくは0.01〜0.5μm(10nm〜500nm)程度であり、より好ましくは0.01〜0.1μm(10nmから100nm)程度である。この範囲であれば、フィルタの目詰まりを抑制しつつ、精製物に含まれる不純物や凝集物等の異物を確実に除去することができる。
例示的な実施形態では、濾過装置(126、130)は、粒子除去フィルタとして少なくとも第1フィルタ126及び第2フィルタ130を含むことができる。第1フィルタ126は第2フィルタ130と通液口V16との間に配置され、第2フィルタ130は第1フィルタ126と循環口V18との間に配置される。即ち、貯蔵空間S12の内部から通液口V16を介して液体材料10が抽出される時、液体材料10は送液ポンプ124、第1フィルタ126、第2フィルタ130を順に通過してから、戻り管120を介して貯蔵空間S12に戻る。
本実施形態では、第1フィルタ126は、2nmという小さな平均孔径を有する粒子除去フィルタ(例えば、2nm以上の孔径を有する精密濾過膜)であることができ、0.002μm(2nm)以上1.0μm(1000nm)以下の範囲であることができる。鉄やアルミニウムなどの金属原子を含むコロイド状不純物に加えて、微粒子が処理対象物に与えられる場合は、濾過対象物は、微粒子を除去するために20nm又は15nmの小さな平均孔径を有するフィルタを使用して濾過が実行される前に、粒子を除去するために50nmという小さな平均孔径を有するフィルタを使用して濾過される。これにより、濾過効率が向上され、粒子除去性能が更に向上される。
本開示の幾つかの実施形態では、第2フィルタ130は、0.001μm(1nm)という小さな孔径を有する粒子除去フィルタであることができ、0.001μm(1nm)以上0.015μm(15nm)以下の範囲であることができる。特定の実施形態では、第2フィルタ130は、3nmという小さな孔径を有するUPEフィルタを含み得る。更に他の実施形態では、第2フィルタ130は、約5nmの孔径を有するナイロン又はMPTFEフィルタを含み得る。ここで、平均孔径は、フィルタ製造業者の公称値を指すことができる。更に、「平均孔径」および「孔径」という用語は、本開示全体にわたって互換的に使用される。このような孔径のフィルタを用いることにより、フィルタの目詰まりの発生を抑制しつつ、粗大粒子及び/又は金属不純物(化学液体中に固形状で付与された金属不純物)を有効に除去することができる。
更に、特定の実施形態では、第1フィルタ126の孔径はR1であり、第2フィルタ130の孔径はR2であり、且つR1≧R2である。言い換えれば、第1フィルタ126の孔径は、第2フィルタ130の孔径以上である。第1フィルタ126の孔径が第2フィルタ130の孔径と等しい場合、第1フィルタ126と第2フィルタ130は同じ材料で作られる。好ましい実施形態では、第1フィルタの孔径はR1であり、第2フィルタの孔径はR2であり、且つR1>R2である。言い換えれば、第1フィルタ126の孔径は第2フィルタ130の孔径よりも大きいことが好ましい。第1フィルタ126の孔径が第2フィルタ130の孔径より大きい場合、第1フィルタ126と第2フィルタ130は異なる材料で作られてもよく、又は必要に応じて同じ材料で作られてもよい。第1フィルタ126の孔径が第2フィルタ130の孔径よりも大きく設定されている場合、液体材料10に混入した微細な異物がより確実に除去される。
1つの例示的な実施形態では、粒子除去に使用される第1フィルタ126及び第2フィルタ130の材料は、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)などのフッ素樹脂、ナイロンなどのポリアミド樹脂、ポリエチレン(HDPE)及びポリプロピレン(PP)などのポリオレフィン樹脂(高密度及び超高分子重量を含む)、パーフルオロアルコキシ(PFA)樹脂等、又は変性ポリテトラフルオロエチレン(MPTFE)等を含むことができる。化学液体に含まれる不純物及び/又は凝集物などの微細な異物を有効に除去する観点において、本開示の粒子除去に用いられるフィルタは、ナイロン、ポリプロピレン(高密度ポリプロピレンを含む)、ポリエチレン、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン‐パーフルオロアルキルビニルエーテルコポリマー、ポリイミド、及びポリアミドイミドからなる群から選択される少なくとも1つからなる。上記材料からなるフィルタによれば、残留欠陥及び/又は粒子欠陥の原因となる極性の高い異物を有効に除去することができ、液体材料10(化学液体)中の金属成分の含有量を有効に低減することができる。
ポリイミド及び/又はポリアミドイミドは、カルボキシ基、塩型カルボキシ基、及び−NH−結合からなる群から選択される少なくとも1つを有することができる。耐溶剤性については、フッ素樹脂、ポリイミド、及び/又はポリアミドイミドが優れている。
市販のフィルタとしては、例えばポール株式会社、アドバンテック東洋濾紙株式会社、インテグリスジャパン株式会社(旧日本マイクロリス株式会社)、キッツマイクロフィルタ株式会社により製造されたフィルタが、様々なフィルタから選択されて提供されることができる。また、ポリアミドからなる「Pナイロンフィルタ(孔径0.02μm、臨界表面張力77mN/m)」(ポール社製)、高密度ポリエチレンからなる「PEクリーンフィルタ(孔径0.02μm)」(ポール社製)、高密度ポリエチレンからなる「PEクリーンフィルタ(孔径0.01μm)」(ポール社製)及び超高分子ポリエチレン膜からなる「UPE(孔径3nm)」(インテグリス社製)が使用されることができる。
幾つかの実施形態では、濾過デバイスは、イオン交換樹脂膜を更に含み得る。本実施形態で用いるイオン交換樹脂膜は特に限定せず、樹脂膜に固定した適当なイオン交換基を含むイオン交換樹脂を含むフィルタが用いられることができる。このようなイオン交換樹脂膜としては、樹脂膜上にスルホン酸基等の陽イオン交換基を化学修飾した強酸性陽イオン交換樹脂を含み、例えば、セルロース、珪藻土、ナイロン(アミドを有する樹脂)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、イミド基を有する樹脂、アミド基とイミド基を有する樹脂、フッ素樹脂、又は粒子除去膜とイオン交換樹脂膜の一体構造を有する膜である高密度ポリエチレン膜と粒子除去膜を有するイオン交換樹脂膜を含む。化学的に修飾されたイオン交換基を有するポリアルキレン膜が好ましい。ポリアルキレンには、例えば、ポリエチレン及びポリプロピレンが含まれ、ポリプロピレンが好ましい。イオン交換基としては、カチオン交換基が好ましい。本実施形態で使用されるイオン交換樹脂膜は、金属イオン除去機能を備えた市販の様々なフィルタであり得る。これらのフィルタは、イオン交換効率に基づいて選択され、フィルタの推定孔径は約0.2μm(200nm)である。
特定の実施形態では、濾過デバイスは、イオン吸着膜を更に含み得る。イオン吸着膜は多孔質膜材料でイオン交換機能を有する。このようなイオン吸着膜は、孔径が100μm以下であり、イオン交換機能を有するものであれば特に限定しない。その材質、種類等は特に限定しない。イオン吸着膜を構成する基材の例としては、限定するものではないが、セルロース、珪藻土、ナイロン(アミド基を有する樹脂)、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、イミド基を有する樹脂、アミド基とイミド基を有する樹脂、フッ素樹脂、又は高密度ポリエチレン樹脂などの精密濾過膜のフィルム材料、イオン交換能官能基を導入した膜材料を含む。膜材料の形状の例としては、日本特開第2003−112060号に記載されているように、プリーツ型、平膜型、中空糸型、多孔質体などを含む。膜材に導入するイオン交換基としては、除去する成分の溶出と選択を最適化するために、カチオン交換基、キレート交換基、及びアニオン交換基の少なくとも2つの組み合わせを用いることが好ましい。イオン吸着膜は多孔性を有しているため、微粒子の一部を除去することも可能である。本開示の特定の実施形態では、イオン吸着膜は、例えば、0.02μm(20nm)という小さな孔径を有するナイロン膜である。
幾つかの例示的な実施形態では、本開示の液体材料10(化学液体)を調製するためのプロセスにおいて、イオン交換樹脂膜又はイオン吸着膜は、事前に有機溶剤と接触させられる。イオン交換樹脂膜又はイオン吸着膜の乾燥状態の市販品がある。更に、水溶液との親和性が高い親水性材料もある。本実施形態では、このようなイオン交換樹脂膜又はイオン吸着膜が用いられる時でも、有機溶剤との予備接触が、未処理の液体材料10(化学液体)中の金属不純物を有効に除去させ、予めイオン交換樹脂膜又はイオン吸着膜を有機溶剤に接触させていない場合に対し、還元効果が非常に優れている。
本開示の幾つかの実施形態によれば、水性溶媒で使用されるような逆浸透膜(ROフィルタ)を使用しないことが好ましい。
また、本実施形態では、タンク本体110の接液面がフッ素樹脂からなる。言い換えれば、タンク本体110の内壁は、フッ素樹脂、又は液体材料10に接着しない他の材料で選択的にコーティングされ得る。同様に、戻り管120と抽出管140の接液面はフッ素樹脂からなる。言い換えれば、戻り管120及び抽出管140の内壁は、フッ素樹脂、又は液体材料10に接着しない他の材料で選択的にコーティングされ得る。幾つかの実施形態では、配管122の液体接触表面は、電解研磨されたステンレス鋼(SUS)である。本発明のタンク本体110、戻り管120、配管122、第1フィルタ126、第2フィルタ130、抽出管140及び液体材料の部材に適切な材料を選択することにより、得られる濾過された液体材料10(化学液体)の品質を向上させることができる。
本実施形態では、タンク本体110は可動式タンク本体(輸送可能なタンク)である。例えば、特定の実施形態では、タンク本体110はトラックのタンク本体である。言い換えれば、化学液体精製装置100はトラックの一部として構成されることができる。また、本実施形態では、循環ホール118及び液穴116は、タンク本体110の前端又は後端にそれぞれ近接されている。言い換えれば、循環ホール118と液穴116はそれぞれタンク本体110の2つの端に近接され、互いには近接されないため、液体材料10はより良い対流を生成することができる。ここで、タンク本体110の前端とは、輸送過程においてタンク本体110の前を向く端を指すが、本発明は、循環ホール118と液穴116のどちらがタンク本体110の前端に近いかを限定するものではない。
幾つかの実施形態では、上記の化学液体精製装置100を使用する精製方法は、次のステップを含む。貯蔵空間S12の内部から抽出管140を介して通液口V16を通して液体材料10を抽出することによりタンク本体110の液体材料10(化学液体/溶媒)を精製し、配管122を介して液体材料10を送液ポンプ124及び濾過装置(126、130)に通過させ、そして、戻り管120を介して液体材料10を貯蔵空間S12に戻す。好ましくは、タンク本体110は、空気穴114を介して窒素(Nガス)でパージ及びシールされ、液体材料10(化学液体)は、正圧を加えながら精製される。上記の方法で液体材料10を精製することにより、液体材料10の汚染及び不純物を防ぐことができる。
幾つかの実施形態では、精製方法は、水分調整プロセスを更に含み得る。水分調整プロセスは、精製対象に含まれる水の含有量を調整するプロセスである。水の含有量の調整方法は特に限定しない。精製対象に水を加える方法、及び精製対象から水を除去する方法が例示される。
水を除去する方法は、特に限定せず、公知の脱水方法を用いることができる。
水の除去方法としては、脱水膜、有機溶剤に不溶の吸水剤、乾燥した不活性ガスを用いた曝気置換装置、加熱又は真空加熱装置などが例示される。
脱水膜を用いる場合、パーベーパレーション(PV)や蒸気透過(VP)による膜脱水が行われる。脱水膜は、例えば、透水膜モジュールの形態で構成される。脱水膜としては、ポリイミド、セルロース、及びポリビニルアルコールなどの高分子材料又はゼオライトなどの無機材料からなる膜を用いることができる。
吸水剤は、浄化対象に添加して使用される。吸水剤の例としては、例えば、ゼオライト、五酸化二リン、シリカゲル、塩化カルシウム、硫酸ナトリウム、硫酸マグネシウム、無水塩化亜鉛、発煙硫酸、ソーダライムを含む。
脱水処理にゼオライト(特に、ユニオン昭和株式会社製のMOLECULAR SIEVE(商品名)等)を用いる場合、オレフィン類も除去することができる。
上記の成分調整プロセスは、精製対象に水が混入する可能性が低い不活性ガス雰囲気下で密閉状態において行うことが好ましい。
以上の処理は、水分の混入を大幅に抑制するために、露点温度が−70℃以下の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。その理由は、−70℃以下の不活性ガス雰囲気下では、気相中の水分濃度が2質量ppm以下であるため、有機溶剤に水分が混入する確率が低いためである。
液体材料10(化学液体)の製造方法は、上記のプロセスに加えて、PCT国際公開第WO2012/043496号に開示されている炭化珪素を用いた金属成分の吸収精製処理プロセスを含んでもよい。
液体材料10(化学液体)の製造方法/精製方法において、化学液体を製造する前に、製造、保管、搬送に関する装置及びプロセスにおいて化学液体と接触する部分を洗浄することが好ましい。洗浄に使用する液体は特に限定しない。液体としては、化学液体そのもの、又は化学液体を希釈したものが好ましい。また、金属原子、金属イオン成分、及び有機不純物を含む粒子を実質的に含まない、又は十分に低減した有機溶剤を用いることができる。洗浄は複数回行ってもよい。有機溶剤は2種類以上用いてもよく、有機溶剤を混合せずに用いてもよい。洗浄は循環洗浄でもよい。
製造に関する装置が十分に洗浄されているか否かは、洗浄時に使用する液体に含まれる金属原子や金属イオン成分などを測定することで判断できる。洗浄の基準としては、洗浄後の液体に含まれる金属原子の含有量が10質量ppm以下であることが好ましく、0.1質量ppm以下であることがより好ましい。更に、洗浄後の液体に含まれる金属原子の含有量が0.001質量ppm以下になるまで洗浄することが好ましい。
製造・精製前の洗浄の例として、濾過プロセスでのフィルタの洗浄の例をあげる。
フィルタを使用する前に、フィルタを洗浄してもよい。フィルタを洗浄する方法は特に限定しない。フィルタを洗浄液に浸漬する方法、洗浄液をフィルタに通過させる方法、上記方法を組み合わせた方法が例示される。
フィルタが洗浄されるため、フィルタからの成分抽出量の制御が容易である。その結果、本発明のより優れた利点を有する液体材料10又は化学液体が得られる。
洗浄液は特に限定せず、公知の洗浄液を使用することができる。洗浄液の例としては、水及び有機溶剤を含む。有機溶剤としては、液体材料10又は化学液体に含まれていてもよい有機溶剤が提供されることができる。このような有機溶剤の例としては、アルキレングリコールモノアルキルエーテルカルボキシレート、アルキレングリコールモノアルキルエーテル、乳酸アルキルエステル、アルコキシプロピオン酸アルキル、環状ラクトン(好ましくは4〜10個の炭素原子)、環、炭酸アルキレン、アルコキシ酢酸アルキル、ピルビン酸アルキルを有することができるモノケトン化合物(好ましくは4〜10個の炭素原子)を含む。
具体的には、洗浄液としては、例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジメチルスルホキシド、n‐メチルピトラックドン、ジエチレングリコール、エチレングリコール、ジプロピレングリコール、プロピレングリコール、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、スルホラン、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、シクロペンタノン、2‐ヘプタノン、γ‐ブチロラクトン、n‐ブチルアセテート、及びそれらの混合物を含む。
洗浄前に、フィルタを有機溶剤にウェッティングする(例えば、浸漬する)プロセスを設けてもよい。有機溶剤にウェッティングするプロセスが先に行われるため、湿潤粒子の量が減り、濾過効率が向上する。
ウェッティングするプロセスで使用する有機溶剤は特に限定しないが、上述の有機溶剤が例示される。特に限定しないが、製造される液体材料10(化学液体)よりも表面張力が低い有機溶剤を用いると、濾過効率が向上する。
有機溶剤及び洗浄液は、不純物の量が少ない高純度品であることが好ましい。製造される液体材料10又は化学液体も同様である。
図2は、本発明の幾つかの実施形態による化学液体精製装置を含むトラックの概略図である。図2を参照し、本実施形態のトラック50は、ヘッド52及びヘッド52に接続された化学液体精製装置100(トラックタンク)を含む。図2に示される化学液体精製装置100は、図1に示される化学液体精製装置100と同じであり、従って、同じ参照符号は、同じ及び類似の部分を指すために使用され、その詳細な説明は、ここでは省略する。本実施形態のトラック50は、例えば、ヘッド52後方の台車に直接固定される化学液体精製装置100(貯蔵タンク)を有するように設計されており、このような設計は小型のトラックタンク(装置100がより小さい)に適しているが、本発明はこれに限定するものではない。本実施形態では、循環ホール118は、例えば、ヘッド52により近く、液穴116は、例えば、ヘッド52から更に離れているが、本発明はこれに限定するものではない。
図3は、本発明の幾つかの他の実施形態による化学液体精製装置を含むトラックの概略図である。図3を参照し、本実施形態のトラック60は図2のトラック50と類似し、従って、ここでは2つの間の違いのみを説明する。本実施形態の化学液体精製装置102は、図1の化学液体精製装置102と同様であるが、本実施形態の化学液体精製装置102は、支持体150及びホイールセット160を更に含み、これらは両方ともタンク本体110の底部に取り付けられる。支持体150はタンク本体110の前端に近接し、ホイールセット160はタンク本体110の後端に近接する。化学液体精製装置100の前端はヘッド62に回転可能に接続される。言い換えれば、本実施形態のトラック60のヘッド62は、一般に見られるトラクタトレーラのヘッドであってもよく、置き換え可能である。このような設計は、大型のトラックタンク(大型の装置102)に適するが、本発明はこれに限定するものではない。
全体として、本開示の化学液体精製装置は、少なくとも送液ポンプと、通液口と循環口との間に配置された濾過装置で構成される。従って、高品質(低粒子)の化学液体を得ることができ、製造スループット時間及び設備調査コストを低減することができる。
上記実施形態において、液体材料10(化学液体)の製造、化学液体の充填等を含むハンドリング、処理分析、及び測定に関する全てのプロセスは、クリーンルーム内で行うことが好ましい。クリーンルームは、ISO14644‐1のクリーンルーム規格を満たしていることが望ましい。クリーンルームは、ISO(国際標準化機構)クラス1、ISOクラス2、ISOクラス3、ISOクラス4のいずれかを満たすことが好ましい。クリーンルームは、ISOクラス1又はISOクラス2を満たすことがより好ましく、ISOクラス1を満たすことが更に好ましい。
本発明で用いる不活性ガス(窒素ガス等)としては、99.99%以上の高純度ガスを用いることが好ましい。液体精製プロセス前の精製に使用することが更に好ましい。
実施例
本開示の化学液体精製装置が高品質(低粒子)の化学液体を提供する上で有用であることを証明するために、評価のために以下の実験例を行った。
以下、これらの実施例に基づいて、本発明をより具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の実施例により限定的に解釈されるべきではない。また、「%」、「ppt」、「ppm」は、特に記載のない限り質量を基準としている。
<液体材料/化学液体の調製>
実施例及び比較例における液体材料又は化学液体は、それぞれ原料液に対して以下の精製処理を行うことにより調製した。純度99質量%以上の高純度グレードの原料液を使用した。
具体的には、各化学液体の調製において、原料液を下記フィルタ及び/又は下記水分調整手段に通すことにより、各成分の濃度を調整した。
■第1金属イオン吸収フィルタ(15nmIEXPTFE(PTFEからなり、基材表面にスルホ基を有し、孔径15nmを有するフィルタ)インテグリス社製)
■粒子除去フィルタ(12nmPTFE(PTFEからなり、孔径12nmを有するフィルタ)インテグリス社製)
■第2金属イオン吸収フィルタ(15nmIEXPTFE(PTFEからなり、基材表面にスルホ基を有し、孔径15nmを有するフィルタ)インテグリス社製)
■有機不純物吸収フィルタ(特殊フィルタA(日本特開第2013‐150979号に開示され、且つ不織布に活性炭を貼り付けたフィルタ))
■MOLECULAR SIEVE 3A(ユニオン昭和株式会社製、脱水剤)を含む水分調整手段
フィルタ及び/又は水分調整手段の通過回数と使用する原料液の種類を調整して、各実施例及び各比較例の組成を有する化学液体を調製した。
実施例及び比較例の化学液体を調製する際、化学液体の調製、充填、保管、分析測定に関する全てのプロセスは、ISOクラス2以下のレベルを満たすクリーンルームで行った。測定精度を向上させるために、有機不純物の含有量の測定と金属原子の含有量の測定については、通常の測定における検出限界以下の範囲で測定を行う場合は、薬液を体積で1/100に凝縮させた状態で測定した。そして、その値を濃縮前の溶液の濃度に換算して含有量を算出した。
実施例1〜16
実施例1〜16では、表1に記載されている異なる成分を有する化学液体精製装置を使用して、化学液体を精製した。精製された化学液体について、そのハンドリング特性を評価し、微量金属とオンラインウェット粒子(online wet particles)の存在を評価した。
ハンドリング特性については、安定して高品質の最終製品が得られる場合を「良」として判定し、幾らかのケースで最終製品の良好な品質を維持できなかった場合を「不良」として判定した。その評価結果を表2に示す。
<総微量金属(ppb)評価>
微量金属の評価のために、各化学液体サンプルはICP‐MS(誘導結合プラズマ質量分析(ICP‐MS)を使用して、富士フイルム開発法を使用してテストし、各サンプルは26の金属種の存在についてテストされ、検出限界は金属特有であったが、一般的な検出限界は、0.00010‐0.030ppbの範囲であった。次に、各金属種の濃度を合計して、総微量金属(ppb)として示される値を生成した。評価結果を表2に示す。表2では、微量金属は次の基準に従ってスコアリングされている。
5点:非常に少量の微量金属(<10ppt)。
4点:少量の微量金属(10ppt<20ppt);
3点:十分な量の微量金属(20ppt<30ppt);
2点:多量の微量金属(30ppt<100ppt);
1点:非常に多量の微量金属(>100ppt)。
<オンラインウェット粒子カウント評価>
液体粒子カウンタは、精製プロセス中にオンラインウェット粒子の性能をチェックするために設備に接続されている。各サンプルは、液体粒子カウンタを使用してテストされ、機器は、レーザー光を使用して液体サンプル中の粒子を0.04μmまでの検出限界でカウントし、サイズを決定した。報告される値の単位は「粒子数/ml」である。
表2では、オンラインウェット粒子は、次の基準に従ってスコアリングされている。
5点:非常に良好な硬質粒子と非常に良好な染み欠陥(LPC 0.04μm<10(粒子数/ml)、染み欠陥0%);
4点:良好な硬質粒子と良好な染み欠陥(LPC 0.04μm<30(粒子数/ml)、染み欠陥約10%);
3点:良好な硬質粒子と不良な染み欠陥、又は不良な硬質粒子と良好な染み欠陥(LPC 0.04μm<30(粒子数/ml)、50%を超える染み欠陥、又はLPC 0.04μm>100(粒子数/ml)、染み欠陥約10%);
2点:不良な硬質粒子と不良な染み欠陥(LPC 0.04μm>100(粒子数/ml)、染み欠陥が50%を超える);
1ポイント:非常に不良な硬質粒子と非常に不良な染み欠陥(LPC 0.04μm>1000(粒子数/ml)、染み欠陥100%。
一般に、3ポイント以上のスコアが微量金属とオンラインウェット粒子について許容レベルであると判定された。
比較例1、2
比較例1及び2では、表1に記載された異なる成分を有する化学液体精製装置を使用して、化学液体が精製された。比較例1と実施例1の違いは、比較例1の化学液体精製装置には送液ポンプがないことである。更に、比較例2と実施例1との違いは、比較例2の化学液体精製装置には濾過装置がないことである。実施例1〜16と同様に、精製された化学液体のハンドリング特性を評価し、微量金属やオンラインウェット粒子の有無を評価した。評価結果を表2に示す。
Figure 2020192527
Figure 2020192527
Figure 2020192527
表2に示す評価結果から、化学液体精製装置に送液ポンプ以上と濾過装置が含まれる場合、得られた化学液体は、微量金属又はオンラインウェット粒子が許容レベルで良好なハンドリング特性を有することが分かる。より具体的には、実施例1に示すように、濾過装置は、次の特徴を有する。100nm未満の孔径を有する2つのフィルタを有し、R1>R2の要件を満たす;送液ポンプが遠心ポンプである;フィルタ、タンク本体、戻り管、抽出管の材料(接液面)がPTFEからなる;配管は電解研磨されたステンレス鋼である;及び、トラックタイプのタンク本体が精製中に窒素ガスでパージされたものである。従って、実施例1では高品質(低粒子)の化学液体を得ることができ、それによって化学液体は良好なハンドリング特性を有し、微量金属及びオンラインウェット粒子は最適なレベルである。
これに対して、比較例1に示すように、精製装置から送液ポンプを省略した場合、ハンドリング特性が不良であり、微量金属が極めて多く(スコア1)、オンラインウェット粒子について非常に不良な硬質粒子、非常に不良な染み欠陥が得られた(スコア1)。同様に、比較例2に示すように、精製装置から濾過装置を省略した場合、ハンドリング特性が不良であり、微量金属が極めて多く(スコア1)、オンラインウェット粒子について不良な硬質粒子、非常に不良な染み欠陥が得られた(スコア1)。比較例1、2に見られる性能不良の原因は、安定した濾過流量が得られず、安定した濾過性能が得られないためである。
更に、実施例2〜16に示すように、送液ポンプ及び濾過装置以外の部材の一部が精製装置から省略された場合でも、良好なハンドリング特性は達成されるが、微量金属とオンラインウェット粒子は最適なレベルではない。
例えば、実施例2〜3を参照し、フィルタが1つしか使用されていない場合、微量金属とオンラインウェット粒子のスコアは、実施例1のスコアほど良好ではない。実施例4を参照し、タンク本体がトラックタイプのタンクではない場合、微量金属とオンラインウェット粒子のスコアは許容レベルであるが、これらのスコアは実施例1のスコアほど良好ではない。また、実施例4のトラックタイプ以外の装置では、精製後にトラックパッケージへの充填・移し替えプロセスが必要となるため、化学液体が汚染される恐れがあり、ハンドリング特性が良好ではない。実施例5と13を参照し、両方のフィルタの材料がPTFEではない場合、微量金属とオンラインウェット粒子のスコアは許容レベルであるが、これらのスコアは実施例1のスコアほど良好ではない。実施例6を参照し、2つのフィルタが使用され、フィルタの孔径の両方が100nmより大きい場合、多量の微量金属(スコア2)が観察され、オンラインウェットについて不良な硬質粒子と不良な染み欠陥が得られた(スコア2)。実施例7を参照し、遠心ポンプの代わりにダイヤフラムポンプが使用されている場合、微量金属とオンラインウェット粒子のスコアは許容レベルであるが、これらのスコアは実施例1のスコアほど良好ではない。実施例8を参照し、タンク本体の材料がPTFEではない場合、微量金属とオンラインウェット粒子のスコアは許容レベルであるが、これらのスコアは実施例1のスコアほど良好ではない。
実施例9を参照し、配管が電解研磨されたステンレス鋼ではない場合、多量の微量金属が観察され(スコア2)、オンラインウェット粒子について良好な硬質粒子と不良な染み欠陥、又は不良な硬質粒子と良好な染み欠陥が得られた(スコア3)。実施例10を参照し、戻り管及び抽出管の材料がPTFEでない場合、多量の微量金属(スコア2)が観察され、オンラインウェット粒子について良好な硬質粒子と不良な染み欠陥、又は不良な硬質粒子と良好な染み欠陥が得られた(スコア3)。実施例11を参照し、2つのフィルタのフィルタ孔径がR1>R2の要件を満たしていない場合、微量金属とオンラインウェット粒子のスコアは許容レベルであるが、これらのスコアは例1のスコアほど良好ではない。実施例12を参照し、精製中にタンク本体が窒素ガスでパージされない場合、微量金属とオンラインウェット粒子のスコアは許容レベルであるが、これらのスコアは実施例1のスコアほど良好ではない。実施例14を参照し、1つのフィルタの材料のみがPTFEである場合、微量金属とオンラインウェット粒子のスコアは許容レベルであるが、これらのスコアは例1のスコアほど良好ではない。実施例15〜16を参照し、PTFE以外の材料で作られた第3フィルタが使用されている場合、微量金属とオンラインウェット粒子のスコアは許容レベルであるが、これらのスコアは例1のスコアほど良好ではない。
上記の評価結果によれば、本開示の化学液体精製装置は、少なくとも送液ポンプと、通液口と循環口との間に配置された濾過装置とで構成される。従って、高品質(低粒子)の化学液体を得ることができ、製造スループット時間及び設備調査コストを低減することができる。
また、使用する溶剤をメタノール、エタノール、1‐プロパノール、イソプロパノール、モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、酢酸エチル、乳酸エチル、メトキシプロピオン酸メチル、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、γ‐ブチロラクトン、ジイソアミルエーテル、酢酸ブチル、4‐メチル‐2‐ペンタノール、及びそれらの組み合わせから選択した場合も同様の傾向が得られる。その中でも、シクロヘキサノン、PGMEA、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、イソプロパノールを使用すると性能が向上し、シクロヘキサノンを使用すると更に性能が向上する。
当業者であれば、明らかであるように、本開示の範囲又は精神から逸脱することなく、開示された実施形態に対して様々な修正及び変形を行うことができる。上記を考慮して、本開示は、それらが以下の特許請求の範囲及びそれらの均等物の範囲内にあるという条件で、修正及び変形を網羅することが意図されている。
10 液体材料
100 化学液体精製装置
102 化学液体精製装置
110 タンク本体
112 マンホール
114 空気穴
116 液穴
118 循環ホール
120 戻り管
122 配管
124 送液ポンプ
126 第1フィルタ
130 第2フィルタ
140 抽出管
150 支持体
160 ホイールセット
50 トラック
52 ヘッド
60 トラック
62 ヘッド
V12 マンホール口
V14 空気穴口
V16 通液口
V18 循環口
L11 高さ
L12 長さ

Claims (20)

  1. 内部の貯蔵空間と連通する通液口及び循環口を有するタンク本体と、
    前記循環口に接続される一端及び前記貯蔵空間に延伸する他端を有する戻り管と、
    前記通液口と前記循環口との間において、タンク本体の外側に配置される送液ポンプ及び濾過装置と、
    前記送液ポンプ及び前記濾過装置を前記通液口及び前記循環口に接続する配管と、
    を含む化学液体精製装置。
  2. 前記通液口に接続される一端及び前記貯蔵空間の底に延伸する他端を有する抽出管を更に含む請求項1に記載の化学液体精製装置。
  3. 前記戻り管及び前記抽出管の接液面がフッ素樹脂で形成される請求項2に記載の化学液体精製装置。
  4. 前記濾過装置が少なくとも第1フィルタと第2フィルタを含み、前記第1フィルタが前記第2フィルタと前記通液口との間に配置され、前記第2フィルタが前記第1フィルタと前記循環口との間に配置される請求項1に記載の化学液体精製装置。
  5. 前記第1フィルタ及び前記第2フィルタは、100nm以下の孔径を有する請求項4に記載の化学液体精製装置。
  6. 前記第1フィルタの孔径がR1であり、前記第2フィルタの孔径がR2であり、且つR1≧R2である請求項5に記載の化学液体精製装置。
  7. 前記第1フィルタの孔径がR1であり、前記第2フィルタの孔径がR2であり、且つR1>R2である請求項5に記載の化学液体精製装置。
  8. 前記第1フィルタ及び前記第2フィルタがフッ素樹脂で形成される請求項4に記載の化学液体精製装置。
  9. 前記第1フィルタ及び前記第2フィルタが異なる材料で形成される請求項4に記載の化学液体精製装置。
  10. 前記タンク本体の接液面がフッ素樹脂で形成される請求項1に記載の化学液体精製装置。
  11. 前記送液ポンプが、遠心ポンプ、混合流ポンプ及び軸流ポンプからなる群から選択される非容積型ポンプである請求項1に記載の化学液体精製装置。
  12. 前記送液ポンプが遠心ポンプである請求項1に記載の化学液体精製装置。
  13. 前記配管の接液面が電解研磨されたステンレス鋼である請求項1に記載の化学液体精製装置。
  14. 前記タンク本体が可動型タンク本体である請求項1に記載の化学液体精製装置。
  15. 前記タンク本体がトラックのタンク本体である請求項14に記載の化学液体精製装置。
  16. 前記戻り管の長さと前記タンク本体の高さとの比が、1:10〜2:10の範囲である請求項1に記載の化学液体精製装置。
  17. 前記タンク本体が前記タンク本体の上部に配置されるマンホール及び空気穴を更に含む請求項1に記載の化学液体精製装置。
  18. 前記タンク本体の底部に取り付けられ、それぞれ前記タンク本体の前端及び後端に近接され、且つ地上で前記タンク本体を共同で支持するように構成される、支持体及びホイールセットを更に含む請求項1に記載の化学液体精製装置。
  19. 請求項1に記載の化学液体精製装置を使用する精製方法であって、
    前記貯蔵空間の内部から前記通液口を経由して前記化学液体を抽出し、前記送液ポンプ及び前記濾過装置に前記配管を介して前記化学液体を通過させ、濾過された前記化学液体を、前記戻り管を介して前記貯蔵空間に戻すことによって、前記タンク本体の前記化学液体を精製することを含む精製方法。
  20. 前記タンク本体を、空気穴を介して窒素でパージし、正圧をかけながら前記化学液体を精製する請求項19に記載の精製方法。
JP2020091973A 2019-05-29 2020-05-27 化学液体精製装置及びそれを用いた精製方法 Pending JP2020192527A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW108118567A TW202043179A (zh) 2019-05-29 2019-05-29 化學液體純化裝置及使用該裝置的純化方法
TW108118567 2019-05-29

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2020192527A true JP2020192527A (ja) 2020-12-03

Family

ID=73507063

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020091973A Pending JP2020192527A (ja) 2019-05-29 2020-05-27 化学液体精製装置及びそれを用いた精製方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11541335B2 (ja)
JP (1) JP2020192527A (ja)
KR (1) KR102450525B1 (ja)
CN (1) CN112007418A (ja)
TW (1) TW202043179A (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20220054123A (ko) 2020-10-23 2022-05-02 주식회사 엘지에너지솔루션 배터리 팩, 및 자동차
CN113617117A (zh) * 2021-07-21 2021-11-09 武汉智宏思博环保科技有限公司 一种有机溶剂综合回收液相膜脱水设备及其工艺
US11975958B2 (en) 2022-08-31 2024-05-07 Industrial Technology Research Institute Automatic fluid replacement device and fluid convey joint

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4390286A (en) * 1981-07-29 1983-06-28 Pietro Regaldo Plant composed of multi-functional apparatus for delivering substances for treating roadways or the land, and which can be self-loaded from the ground on to the platform of a transporter vehicle, and vice versa
JP2001205019A (ja) * 2000-01-26 2001-07-31 Sanetsu:Kk 湿し水浄化システム用のバッグフィルター
JP2002035517A (ja) * 2000-07-28 2002-02-05 Kawasaki Steel Corp 金属粉除去方法
JP2002062667A (ja) * 2000-08-23 2002-02-28 Sumitomo Chem Co Ltd 微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法
JP2016073922A (ja) * 2014-10-07 2016-05-12 信越化学工業株式会社 有機溶剤の精製装置
JP2017013900A (ja) * 2015-06-29 2017-01-19 台灣富士電子材料股▲ふん▼有限公司 ローリーおよびローリータンク
WO2017188209A1 (ja) * 2016-04-28 2017-11-02 富士フイルム株式会社 精製装置、精製方法、製造装置、薬液の製造方法、容器、及び薬液収容体
WO2018043697A1 (ja) * 2016-09-02 2018-03-08 富士フイルム株式会社 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
WO2018051716A1 (ja) * 2016-09-15 2018-03-22 富士フイルム株式会社 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
WO2018142888A1 (ja) * 2017-02-01 2018-08-09 富士フイルム株式会社 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置
WO2018180735A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 富士フイルム株式会社 薬液の精製方法、薬液の製造方法、及び、薬液

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3080865B2 (ja) * 1995-06-26 2000-08-28 神鋼パンテツク株式会社 水素・酸素発生装置
DE202006019301U1 (de) * 2006-12-23 2008-04-30 Mann+Hummel Gmbh Kraftstofffilter
FR2945080B1 (fr) 2009-04-30 2016-05-06 Filtrauto Filtre a diffusion d'eau
CN102908888B (zh) 2012-10-18 2014-08-20 中国石油化工股份有限公司 硫化亚铁及含硫化氢气体清洗钝化装置、方法及应用
CN203469662U (zh) 2013-09-30 2014-03-12 张家港浦项不锈钢有限公司 循环过滤系统
EP2883844B1 (de) * 2013-12-12 2017-07-12 EXERGENE Technologie GmbH Verfahren zur energiesparung in einem system zur wasserbereitstellung
WO2015168801A1 (en) * 2014-05-08 2015-11-12 Thetis Environmental Inc. Closed loop membrane filtration system and filtration device
TW201823879A (zh) * 2016-11-07 2018-07-01 日商富士軟片股份有限公司 處理液及圖案形成方法

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4390286A (en) * 1981-07-29 1983-06-28 Pietro Regaldo Plant composed of multi-functional apparatus for delivering substances for treating roadways or the land, and which can be self-loaded from the ground on to the platform of a transporter vehicle, and vice versa
JP2001205019A (ja) * 2000-01-26 2001-07-31 Sanetsu:Kk 湿し水浄化システム用のバッグフィルター
JP2002035517A (ja) * 2000-07-28 2002-02-05 Kawasaki Steel Corp 金属粉除去方法
JP2002062667A (ja) * 2000-08-23 2002-02-28 Sumitomo Chem Co Ltd 微粒子量の低減されたフォトレジスト組成物の製造方法
JP2016073922A (ja) * 2014-10-07 2016-05-12 信越化学工業株式会社 有機溶剤の精製装置
JP2017013900A (ja) * 2015-06-29 2017-01-19 台灣富士電子材料股▲ふん▼有限公司 ローリーおよびローリータンク
WO2017188209A1 (ja) * 2016-04-28 2017-11-02 富士フイルム株式会社 精製装置、精製方法、製造装置、薬液の製造方法、容器、及び薬液収容体
WO2018043697A1 (ja) * 2016-09-02 2018-03-08 富士フイルム株式会社 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
WO2018051716A1 (ja) * 2016-09-15 2018-03-22 富士フイルム株式会社 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置
WO2018142888A1 (ja) * 2017-02-01 2018-08-09 富士フイルム株式会社 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置
WO2018180735A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 富士フイルム株式会社 薬液の精製方法、薬液の製造方法、及び、薬液

Also Published As

Publication number Publication date
TW202043179A (zh) 2020-12-01
US20200376419A1 (en) 2020-12-03
US11541335B2 (en) 2023-01-03
CN112007418A (zh) 2020-12-01
KR20200138666A (ko) 2020-12-10
KR102450525B1 (ko) 2022-10-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102263278B1 (ko) 약액, 약액 수용체, 약액의 충전 방법, 및 약액의 보관 방법
JP6794462B2 (ja) 薬液、薬液収容体、薬液の製造方法、及び、薬液収容体の製造方法
JP2020192527A (ja) 化学液体精製装置及びそれを用いた精製方法
CN112272585B (zh) 化学液制造设备
US10773210B2 (en) Systems and methods for purifying solvents
US20210300850A1 (en) Systems and Methods for Purifying Solvents
US20230257331A1 (en) Systems and Methods for Purifying Solvents
US11679375B2 (en) Methods for purifying solvents
TW202019551A (zh) 處理化學液體的方法及純化化學液體的方法
JP2023511119A (ja) 溶媒を精製するためのシステムおよび方法
JPWO2020041388A5 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20200527

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20210407

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210511

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210705

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20220111

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20230428