JP3080865B2 - 水素・酸素発生装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、各種工業分野において
必要とされる高純度の酸素ガス及び水素ガスを製造する
ための水素・酸素発生装置において、水素および酸素を
発生させるための電気分解時に発生した熱を付加された
純水を、電解装置とコンプレッサー間の配管経路に設け
た加温装置の熱源として利用することによって、前記配
管経路の加熱に必要な外部からのエネルギーの削減を可
能にした水素・酸素発生装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体の製造工程の際の酸化被膜生成処
理及び各種熱処理工程、ならびに、原子力発電装置の冷
却水配管の腐食防止用など各種工業分野においては、高
純度の酸素ガス及び水素ガス等のガスが必要とされてい
る。

【０００３】上記ガスを発生させて生成するためには、
水ならびにイオンを含む溶液の電気分解を行うのが一般
的な方法として用いられており、例えば、本発明者等
は、特開平5-287570号において、図3 に示したように、
固体電解質28、例えば、カチオン交換膜（フッ素樹脂系
スルフォン酸カチオン交換膜、例えば、デュポン社製
「ナフィオン１１７」）の両面に白金属族金属等からな
る多孔質の陽極22及び陰極23を接合した構造の固体高分
子電解質膜21を隔膜として用いることで、陽極室24と陰
極室25とに分離した構造の水電解セル16を形成し、該水
電解セル16の陽極室24に純水を供給しながら電気分解を
行い、陽極室24から酸素ガスを、陰極室25から水素ガス
をそれぞれ発生するように構成した水電解セルを用いた
水素・酸素発生装置を提案している。

【０００４】ここで、図3 および図5 に示したように上
記水電解セル16の陽極室24の酸素ガス排出口24b には、
水電解セル16の陽極室で発生した酸素を気液分離するた
めの酸素ガス用気液分離装置30が接続される一方、水電
解セル16の陰極室25の水素ガス排出口25b には、水電解
セル16の陰極室で発生した水素を気液分離するための水
素ガス用気液分離装置40が接続され、この両気液分離装
置30,40 によって、酸素ガス及び水素ガスはそれぞれ気
液分離され、酸素ガス及び水素ガス利用施設（図示せ
ず）にそれぞれ必要な処理等を行った後に適宜供給され
るようになっている。

【０００５】一方、上記気液分離装置30、 40において、
酸素ガスおよび水素ガスから分離された純水は、純水タ
ンク10へ戻され、図示しない脱気装置等の処理装置によ
って発生ガスの高純度化を阻害する溶存ガス（窒素、ア
ルゴン等）の除去が行われる他、電解時に発生した熱を
除去するため冷却装置90によって冷却され、その後イオ
ン交換樹脂を用いたイオン交換器92によって、固体電解
質28を劣化させる要因となる金属イオン等の不純物を除
去され、更に、フィルタ94を介して粒子等の不純物を除
去された後、再び原料として用いられているのである。

【０００６】同時に、上記純水は、電気分解によって水
電解セル16内において発生した酸素ガスを水電解セル16
からスムーズに取り出すため、および上記電気分解によ
って発生した熱を冷却するため、電気分解によって消費
された純水量を補うための純水製造装置20から純水タン
ク10へ補給される純水と共に、水電解セル16内に上記電
気分解によって消費された純水量よりも多く供給される
ものである。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述の水素
・酸素ガスは、気液分離装置30.40 を通過した後、多く
の場合は圧縮されて、使用者に供給され使用される。

【０００８】そして、このとき用いられる圧縮装置70,8
0 としては、例えば、レシプロ型のコンプレッサーが一
般的であるが、この装置は構造上、フッ素樹脂およびス
テンレス鋼等の材質からなるピストンやシリンダーを有
するため、液状水分の浸入によって容易に上記部材に錆
や磨耗等の損傷が生ずる。これに対して、気液分離後の
酸素ガスおよび水素ガスは、多くの水分と共に、電解時
に伴う熱を含んでおり、気液分離された後も30℃〜80℃
程度という外気よりも高い温度を有するため、気液分離
装置30,40 と圧縮装置70,80 とを連結する酸素ガス供給
用配管38および水素ガス供給用配管48を通過する際、ガ
ス温度と配管38,48 外部の外気とではガス温度の方が高
温であるため、その温度差によって該配管38,48 内に結
露が生じてしまうのである。この結露が、上記圧縮装置
70,80 内に浸入すると、上述の部材からなるコンプレッ
サーの寿命が短くなるばかりか、コンプレッサーがその
機能を最大限に生かすことが不可能となるために圧縮ガ
スとして得られたガスの純度まで低下してしまうのであ
る。

【０００９】上記問題点を解決する手段としては、配管
38,48 経路中で、ガスに含まれる水分を除去するため
に、例えば、モレキュラーシーブや脱気膜などから構成
される除湿装置（図示せず）を設けて、ガス中に含まれ
る水分を除去したり、又は、前記配管内でのガスと外気
との温度差を生じさせないよう配管を加熱するため図5
に示すように保温材やヒーターなどの加熱装置53,63 を
用いていた。

【００１０】しかしながら、上記除湿装置を前記配管3
8,48 に設置するには、除湿装置に伴う配管等が複雑に
なり、これらの設置のために多くの空間を必要とする
上、除湿器の機構上、10％〜50％の容積のガスを除湿時
に損失してしまい、このガス損失のために、コンプレッ
サーへ供給するガスの圧力が変動してしまう等の問題が
あった。

【００１１】また、加熱装置を用いる場合は、上記除湿
器を設ける場合よりも低コストであるが、やはり、配管
38,48 の加熱に要するエネルギーや温度制御機器等にか
なりのコストがかかる。また、上記配管の加熱により、
配管内のガスが更に膨張するため、次工程のコンプレッ
サーの圧縮効率が低下すると共に、コンプレッサーでの
圧縮過程によってさらに高温となったガスを所定の温度
にまで冷却しなければならないため、冷却手段であるク
ーラーに対してより一層多くのエネルギーを必要とする
等の問題があった。

【００１２】また、上述の水素・酸素発生装置において
の純水は、電解時に水電解セル16に高電流を負荷するこ
とにより、該水電解セル16と原料の純水が高温となる。
そのため、水素・酸素それぞれの気液分離装置30,40 に
よってガスから分離された純水も高温であり、再利用す
るためには、純水タンク10から水電解セルの陽極側に供
給するための陽極側供給経路14中にチラー等の別途冷却
装置90を設置して冷却を行わなければならなかった。

【００１３】即ち、上述の水素・酸素発生装置では、圧
縮装置70,80 および水電解セル16内部の保護を図るた
め、気液分離装置とコンプレッサーとをつなぐ酸素ガス
供給用配管38および水素ガス供給用配管48を加熱装置5
3,63 を用いて外部からのエネルギーによって加熱する
一方、循環する冷却水としても利用できる原料の純水
を、純水タンク10と水電解セル16の陽極側との間の陽極
側純水供給経路14において冷却装置90を用いて冷却しな
ければならず、加熱に際しても、冷却に際しても外部か
らのエネルギーを必要とするため、コスト面からも無駄
が多い循環経路を用いていたのである。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明に係る水素・酸素
発生装置は、上記循環用の電解時に付加された純水の熱
を水素・酸素配管経路の加温に利用することで、外部か
らの加温用のエネルギー量を減少させることが出来るこ
とを知見して本発明を完成したものである。

【００１５】すなわち、本発明の水素・酸素発生装置
は、一定量の純水を貯留するための純水タンクと、純水
タンクから純水を水電解セルの陽極側に供給するための
陽極側純水供給経路と、電解質膜を隔膜として用いて、
陽極側と陰極側とに分離して、純水タンクから陽極側純
水供給経路を介して、純水を陽極側に供給しながら純水
を電気分解して、陽極側から酸素ガスを、陰極側から水
素ガスをそれぞれ発生するように構成した水電解セル
と、電解によって得られた水素ガスを分離する水素ガス
用気液分離装置と酸素ガスを分離する酸素ガス用気液分
離装置と、分離された水素ガスを圧縮する水素ガス用圧
縮装置と、分離された酸素ガスを圧縮する酸素ガス用圧
縮装置と、前記水素ガス用気液分離装置と水素ガス用圧
縮装置とを連結する水素ガス供給経路と、前記酸素ガス
用気液分離装置と酸素ガス用圧縮装置とを連結する酸素
ガス供給経路と、水素ガス供給経路に配設された水素用
加温装置と、酸素ガス供給経路に配設された酸素用加温
装置と、水素用加温装置と純水タンク、および酸素用加
温装置と純水タンクとを連結する純水環流経路とを有
し、前記酸素用気液分離装置によって分離された純水
を、酸素用加温装置の熱源として利用した後純水環流経
路を介して純水タンクに循環させると共に、水素用加温
装置の熱源として利用した後純水環流経路を介して純水
タンクに循環させることを特徴とする水素・酸素発生装
置であり、前記水素ガス供給経路および酸素ガス供給経
路に配設された水素用加温装置および酸素用加温装置
が、水素ガス供給経路および酸素ガス供給経路に周設さ
れた水素用ウォータージャケットおよび酸素用ウォータ
ージャケットであって、前記水素用加温装置および酸素
用加温装置と共に、前記水素ガス供給経路に水素用ヒー
ターを設けるとともに、酸素ガス供給経路に酸素用ヒー
ターを設け、前記陽極側純水供給経路に冷却装置を配設
したことを特徴とする水素・酸素発生装置である。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の水素・酸素発生装置の運転状
態について、以下図面に基づいて詳細に説明する。

【００１７】図１は、本発明の水素・酸素発生装置の一
実施例の全体構造を示す概略図であって、図2 は、本実
施例の酸素側および水素側に用いた共通のウォータージ
ャケット50,60 を示す概略図である。また、図3 、図4
は、本実施例に用いた水電解セルの部分を拡大した状態
を示す概略図である。

【００１８】図1 において、１は全体で、本発明の水素
・酸素発生装置を示しており、本水素・酸素発生装置１
では、一定量の純水を貯留する純水タンク10から、純水
がポンプ12によって、陽極側純水供給経路14を介して、
水電解セル16の陽極側（純水供給口24a ）に供給される
ようになっている。また、水電解セル16の陽極側には、
水電解セル16の陽極室で発生した酸素を気液分離するた
めに、酸素ガス用気液分離装置30が接続され、該気液分
離装置30には、気液分離された酸素ガスを圧縮するため
の圧縮装置70が酸素ガス供給用配管38を介して接続され
ており、該酸素ガス供給用配管38の外周には、酸素ガス
供給用配管38を加温するためのウォータージャケット50
が周設され、酸素ガスに含まれる水分が結露となって圧
縮装置70内部へ浸入して、圧縮装置内部70を損傷するの
を防いでいる。

【００１９】一方、上記水電解セル16の陰極側では、発
生した水素を気液分離するために、水素ガス用気液分離
装置40が接続され、該気液分離装置40には、気液分離さ
れた水素ガスを圧縮するための圧縮装置80が水素ガス供
給用配管48を介して接続されており、該水素ガス供給用
配管48の外周には、水素ガス供給用配管48を加温するた
めのウォータージャケット60が周設され、水素ガスに含
まれる水分が結露となって圧縮装置80内部へ浸入して、
圧縮装置内部80を損傷するのを防いでいる。

【００２０】ここで、酸素ガス用気液分離装置30から排
出される純水量は、水素ガス用気液分離装置40からの純
水の量に比べて約97％と多量であるため、上記ウォータ
ージャケット50、 60の熱源としては酸素ガス用気液分離
装置30から排出されている純水を用いている。

【００２１】すなわち、純水タンク10から供給された純
水は、上記水電解セル16の陽極側から生じた酸素ガスを
酸素ガス用気液分離装置30で気液分離された後、一部
は、酸素用のウォータージャケット50に、図2 に示す導
入口から導入され、ウォータージャケット中を通過して
酸素ガス供給用配管38を加温した後排出口から排出さ
れ、純水環流経路59,18 を介して、純水タンク10に環流
される。また、もう一部は、水素ガス用気液分離装置40
から水素ガス供給用配管48に周設された水素用ウォータ
ージャケット60に、図2 に示す導入口から導入され、ウ
ォータージャケット60中を通過して水素供給用配管48を
加温した後排出口から排出され、純水環流経路69を通過
した後、酸素側と同様の純水環流経路18を介して、純水
タンク10に環流されるようになっている。

【００２２】一方、水素ガス用気液分離装置40から排出
される純水は、酸素ガス用気液分離装置30から排出され
る純水に比べて約２％程度と量が少なく、且つ溶存水素
の濃度が高いため、純水タンク10に戻す際には、純水中
から溶存水素が放出されて、純水タンク10内で水素ガス
と酸素ガスとが混合するのを防ぐために、脱気処理を施
した後に純水環流経路18を介して純水タンク10に環流す
るのが好ましい。

【００２３】上述のように、純水環流経路18を介して純
水タンク10へ環流した純水を再び水電解セル16内の陽極
室24に供給するには、純水タンク10の出口から水電解セ
ル16までを連結する陽極側純水供給経路14において、冷
却装置90を用いて純水を一定温度にまで冷却した後、水
電解セル16に供給することが好ましい。また同時に、発
生ガスの高純度化を阻害する不要な溶存ガス（窒素、ア
ルゴン等）の除去ならびに水電解セルの固体電解質膜を
劣化させる要因となる鉄（Ｆｅ）、クロム（Ｃｒ）、ナ
トリウム（Ｎａ）、カリウム（Ｋ）等の金属イオン及び
微粒子の除去をイオン交換器92、フィルタ94などの除去
装置を用いて行うことが好ましい。

【００２４】上記純水タンク10には、水電解セル16にて
純水を電気分解することによって消費した水量に相当す
る純水を補給水として、純水タンクに供給するための純
水製造装置20が接続されており、純水タンク10に付設さ
れた光センサーなどの液面センサー11の検知結果に基づ
いて、バルブ19が開放されて、純水製造装置20から純水
が純水タンク10に補給されるようになっている。

【００２５】この場合、水電解セル16としては、上述し
たように、その陽極側に供給された純水を電気分解し
て、陽極室から酸素ガスを、陰極室から水素ガスをそれ
ぞれ発生するように、例えば、図4 に示したような構造
を有するものである。具体的には、固体電解質28、例え
ば、カチオン交換膜（フッ素樹脂系スルフォン酸カチオ
ン交換膜、例えば、デュポン社製「ナフィオン117 」）
の両面に白金族金属等からなる陽極22及び陰極23を化学
的に無電解メッキで接合した構造の固体高分子電解質膜
21を隔膜として用いた陽極室24と陰極室25とに分離した
構造の水電解セル16によって、陽極室24に純水を供給し
ながら電気分解して、陽極室24から酸素ガスを、陰極室
25から水素ガスをそれぞれ発生するように構成したもの
である。また、この水電解セル16は、図3 に示したよう
に、陽極室24には、純水供給口24aと酸素ガス排出口24b
が、陰極室25には、水素ガス排出口25b が設けられた
構造をしている。

【００２６】さらに、この水電解セル16の陽極室24の酸
素ガス排出口24b には、水電解セル16の陽極室で発生し
た酸素を気液分離するための酸素ガス用気液分離装置30
が、接続される一方、前述したように、水電解セル16の
陰極室25の水素ガス排出口25b には、水電解セル16の陰
極室で発生した水素を気液分離するための水素ガス用気
液分離装置40が接続されている。

【００２７】なお、本実施例での配管、純水タンク等の
構成部材材質としては、これらの構成部材から、金属イ
オンや有機物（TOC ）が溶出しないように、PVDF（ポリ
フッ化ビニリデン）やPFA （テトラフルオロエチレン−
パ−フルオロアルキルビニルエーテル共重合体）等のフ
ッ素樹脂、又は、ステンレス鋼を電解研磨したもの、及
びステンレス鋼を電解研磨した後、酸化雰囲気中で加熱
処理して着色酸化被膜（酸化不動態膜）を形成したも
の、或いは、ステンレス鋼を電解研磨した後、酸化性雰
囲気中で加熱処理して着色酸化被膜を形成した後、さら
に酸洗洗浄等によりこの着色酸化皮膜を溶解除去したも
の等から構成するのことが好ましい（特開昭62-13563
号、特開昭62-17184号( 特公平2-1916) 、特開平2-1415
66号参照）。

【００２８】以下に、本発明の水素酸素発生装置1 を運
転させたときの純水の温度変化を説明する。

【００２９】先ず、温度Ｔの純水を純水タンクから水電
解セルの陽極室側に供給し、水電解セル内部の固体電解
質膜を用いて電気分解をすると、水電解セル16及び純水
が温度Ｔ＋△Ｔとなり、水電解セル16の陽極室側には酸
素が発生し、陰極室側には水素が発生する。

【００３０】陽極室から発生した酸素を含有する純水
は、酸素ガス用気液分離装置30を温度Ｔ＋△Ｔで気液分
離された後、一部は、酸素ガス供給用配管38に周設され
たウォータージャケット50を通過して、該酸素ガス供給
用配管38をＴ＋△Ｔ近傍の温度で加温した後、純水環流
経路59,18 を通過して、純水タンク10へ戻るのである。

【００３１】また、もう一部は、水素ガス供給用配管48
に周設されたウォータージャケット60を通過して、該水
素ガス供給用配管48をＴ＋△Ｔ近傍の温度で加温した
後、純水環流経路69,18 を通過して、純水タンク10へ戻
るのである。

【００３２】純水タンク10へ戻った純水は、新たに純水
製造装置20から補給される純水と共に、陽極側純水供給
経路14を通過する際、冷却装置90により温度Ｔにまで冷
却され、再び水電解セル16に供給されるのである。

【００３３】上述の熱交換は、断熱状態におけるもので
あるため、実際には各経路を移動中に純水の温度がある
程度変化するものである。

【００３４】例えば、本願の水素・酸素発生装置におい
ては、上記温度Ｔは約30℃であり、電気分解によって、
約4kg ／cm² の水素ガス、および酸素ガスが発生するの
であるが、このとき△Ｔは約10℃であり、また、上記気
液分離装置30,40 によって気液分離された水素ガスは、
温度約40℃、露点温度は約8 ℃であり、同様に気液分離
された酸素ガスは、水素ガスと同様に温度約40℃、露点
温度は約8 ℃の値を示すものである。

【００３５】これに対して、酸素ガス用気液分離装置30
によって気液分離された純水の温度は約40℃、即ち、上
記水素ガスとの温度差がほぼ0 ℃、また上記酸素ガスと
の温度差が0 ℃と少ないため、前記純水によって水素ガ
スおよび酸素ガスの温度を露点温度まで低下させずに維
持することが可能である。

【００３６】従って、ウォータージャケット50,60 を用
いることによって前記酸素ガス用供給用配管38および水
素ガス供給用配管48内部に結露が生じるのを防ぐことが
出来るのである。

【００３７】また、本願に用いたウォータージャケット
50,60 と共に、酸素ガス用気液分離装置30からウォータ
ージャケット50,60 へ通じる純水用の配管の外周に、適
宜保温材、断熱材等を巻いておけば、純水の温度低下を
防ぐことが出来るため、更に、上記結露防止効果を維持
できるものである。

【００３８】さらには、水素ガス、酸素ガスの圧力変化
に伴う気体の温度変化に対応して、ウォータージャケッ
ト50,60 に供給する純水の温度調節できるように、ウォ
ータージャケットと共に簡単なプレヒーターを設けてお
けば、より好ましいものである。

【００３９】これによって、酸素ガス供給用配管38を通
過する酸素ガスは、酸素ガス供給用配管38によって冷却
されることなく、ウォータージャケット50およびヒータ
ーによってウォータージャケット温度であるＴ＋△Ｔ近
傍の温度を維持したまま、圧縮装置に取り込まれるた
め、前記酸素ガス供給用配管内で結露を生じることな
く、また、圧縮装置内部へ液状の水分が侵入することも
防げるのである。

【００４０】また、同様に、水素ガス供給用配管を通過
する水素ガスも、水素ガス供給用配管48によって冷却さ
れることなく、ウォータージャケット60およびヒーター
によって温度Ｔ＋△Ｔ近傍の温度を維持した状態で圧縮
装置80内部に取り込まれるため、前記水素ガス供給用配
管48内で結露を生じることなく、圧縮装置80内部への液
状水分の侵入を防ぐことができるのである。

【００４１】従って、上記純水は、水電解セル内での電
気分解によって得られた温度△Ｔをウォータージャケッ
ト50,60 の熱源として有効に用いることが出来るため、
加熱に必要な外部からのエネルギー供給量を大幅に削減
できるものである。

【００４２】

【発明の効果】本発明は、電解時に発生した熱源を有効
に利用することによって、加熱、冷却に必要な外部から
のエネルギーの削減を可能にした水素・酸素発生装置で
ある。

【００４３】すなわち、加温用の熱源として、酸素ガス
用気液分離装置30で気液分離した純水の一部を、酸素ガ
ス供給用配管38に周設されたウォータージャケット50に
用い、もう一部を、水素供給用配管48に周設された水素
用のウォータージャケットに用いるものである。

【００４４】これによって、水素ガスおよび酸素ガスの
大部分の加温を純水に付加された熱によってまかなうこ
とが出来るため、加温に用いる加熱装置に必要な外部か
らのエネルギー供給量を大幅に削減できるものである。

【００４５】従って、本願は、加熱手段に要する外部か
らのエネルギーを大幅に削減し、全体的なコストの低下
を実現することが可能である水素・酸素発生装置であ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の水素・酸素発生装置の一実施例の全
体構成を示す概略図である。

【図２】 図１のウォータージャケットの部分を拡大し
た状態を示す概略図である。

【図３】 水電解セルの部分を拡大した状態を示す概略
図である。

【図４】 水電解セルの部分を拡大した状態を示す概略
図である。

【図５】 水素・酸素発生装置の従来例の全体構成を示
す概略図である。

【符号の説明】

１…水素・酸素発生装置 10…純水タンク 11…液面センサー 12…ポンプ 14…陽極側純水供給経路 16…水電解セル 18…純水環流経路 19…バルブ 20…純水製造装置 21…固体高分子電解質膜 22…陽極 23…陰極 24…陽極室 24a …純水供給口 24b …酸素ガス排出口 25…陰極室 25b …水素ガス排出口 28…固体電解質 30…酸素ガス用気液分離装置 38…酸素ガス供給用配管 40…水素ガス用気液分離装置 48…水素ガス供給用配管 50、 60…ウォータージャケット 53、 63…加温装置 59,69 …純水環流経路 70,80 …圧縮装置 90…冷却装置 92…イオン交換器 94…フィルタ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 長尾 衛 大阪府大阪市東淀川区井高野２丁目７番 18−102号 (72)発明者 小林 宏子 兵庫県神戸市長田区名倉町５丁目８番11 号 (72)発明者 原田 宙幸 東京都練馬区西大泉２−25−43 (56)参考文献 特開 平８−193287（ＪＰ，Ａ) 実開 平４−64569（ＪＰ，Ｕ) (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) C25B 1/00 - 15/08

Claims (4)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一定量の純水を貯留するための純水タン
   クと、 純水タンクから純水を水電解セルの陽極側に供給するた
   めの陽極側純水供給経路と、 電解質膜を隔膜として用いて、陽極側と陰極側とに分離
   して、純水タンクから陽極側純水供給経路を介して、純
   水を陽極側に供給しながら純水を電気分解して、陽極側
   から酸素ガスを、陰極側から水素ガスをそれぞれ発生す
   るように構成した水電解セルと、 電解によって得られた水素ガスを分離する水素ガス用気
   液分離装置と酸素ガスを分離する酸素ガス用気液分離装
   置と、 分離された水素ガスを圧縮する水素ガス用圧縮装置と、
   分離された酸素ガスを圧縮する酸素ガス用圧縮装置と、 前記水素ガス用気液分離装置と水素ガス用圧縮装置とを
   連結する水素ガス供給経路と、前記酸素ガス用気液分離
   装置と酸素ガス用圧縮装置とを連結する酸素ガス供給経
   路と、 水素ガス供給経路に配設された水素用加温装置と、酸素
   ガス供給経路に配設された酸素用加温装置と、 水素用加温装置と純水タンク、および酸素用加温装置と
   純水タンクとを連結する純水環流経路とを有し、 前記酸素用気液分離装置によって分離された純水を、酸
   素用加温装置の熱源として利用した後純水環流経路を介
   して純水タンクに循環させると共に、水素用加温装置の
   熱源として利用した後純水環流経路を介して純水タンク
   に循環させることを特徴とする水素・酸素発生装置。
2. 【請求項２】 前記水素ガス供給経路および酸素ガス供
   給経路に配設された水素用加温装置および酸素用加温装
   置が、水素ガス供給経路および酸素ガス供給経路に周設
   された水素用ウォータージャケットおよび酸素用ウォー
   タージャケットであることを特徴とする請求項１に記載
   の水素・酸素発生装置。
3. 【請求項３】 前記水素用加温装置および酸素用加温装
   置と共に、前記水素ガス供給経路に水素用ヒーターを設
   けるとともに、酸素ガス供給経路に酸素用ヒーターを設
   けることを特徴とする請求項１または２に記載の水素・
   酸素発生装置。
4. 【請求項４】 前記陽極側純水供給経路に冷却装置を配
   設したことを特徴とする請求項１から３のいずれかに記
   載の水素・酸素発生装置。