JPWO2019181475A1 - ろ過装置、精製装置、薬液の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
近年、フォトリソグラフィ技術の進歩によりパターンの微細化が進んでいる。
このような配線形成工程に用いられる薬液には、更なる欠陥抑制性能の向上を求められている。このような薬液は、一般に、薬液に求められる成分を主成分として含有する被精製液をフィルタ等を用いて精製して不純物等を除くことにより得られると考えられている。
本明細書においては、プリウェット液、現像液、及び、リンス液等のレジスト膜の形成の際に用いられる薬液については、後述する実施例における[試験例1]に記載した残渣欠陥抑制性能をリソグラフィープロセスにおける欠陥の代表的な指標値のひとつとして捉え、「欠陥抑制性能」とする。また、樹脂を含有し、レジスト膜の形成に用いられるレジスト樹脂組成物については、後述する実施例における[試験例3]に記載したブリッジ欠陥をレジスト樹脂組成物に由来するリソグラフィープロセスにおける欠陥の代表的な指標値のひとつとして捉え、ブリッジ欠陥抑制性能を「欠陥抑制性能」とする。また、エッチング液、及び、レジスト剥離液等として用いられる薬液については、後述する実施例における[試験例2]に記載したパーティクル欠陥を薬液由来の欠陥の代表的な指標値のひとつとして捉え、パーティクル欠陥抑制性能を「欠陥抑制性能」とする。
以下、単に「欠陥抑制性能」という場合、薬液の種類に応じたそれぞれの欠陥抑制性能(残渣欠陥抑制性能、ブリッジ欠陥抑制性能、又は、パーティクル欠陥抑制性能)を意味する。
[2] 親水性基がポリオキシアルキレン基である、[1]に記載のろ過装置。
[3] フィルタBは、流通路上においてフィルタAの上流側に配置されたフィルタBUを少なくとも1つ含む、[1]又は[2]に記載のろ過装置。
[4] 少なくとも1つのフィルタBUは、フィルタAより大きな孔径を有する[3]に記載のろ過装置。
[5] 少なくとも1つのフィルタBUは、20nm以上の孔径を有する[3]又は[4]に記載のろ過装置。
[6] 少なくとも1つのフィルタBUは、イオン交換基を有する樹脂を含有する、[3]〜[5]のいずれかに記載のろ過装置。
[7] イオン交換基が、酸基、塩基基、アミド基、及び、イミド基からなる群より選択される少なくとも1種である、[6]に記載のろ過装置。
[8] 少なくとも1つのフィルタBUは、フィルタAと少なくとも材料が異なる、[3]〜[7]のいずれかに記載のろ過装置。
[9] フィルタA、及び、フィルタBUからなる群より選択される少なくとも1種のフィルタからなる第1基準フィルタの下流側から、第1基準フィルタの上流側へと、被精製液を返送可能な返送流通路を有する、[3]〜[8]のいずれかに記載のろ過装置。
[10] フィルタBは、流通路上においてフィルタAの下流側に配置されたフィルタBDを少なくとも含む、[1]〜[9]のいずれかに記載のろ過装置。
[11] 少なくとも1つのフィルタBDが、フィルタAより小さな孔径を有する、[10]に記載のろ過装置。
[12] 少なくとも1つのフィルタBDが、20nm以下の孔径を有する、[10]又は[11]に記載のろ過装置。
[13] フィルタBDが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有する、[10]〜[12]のいずれかに記載のろ過装置。
[14] フィルタBDが、親水性基を有する第2の樹脂を含有する[10]〜[13]のいずれかに記載のろ過装置。
[15] フィルタA、及び、フィルタBDからなる群より選択される少なくとも1種のフィルタからなる第2基準フィルタの下流側から、第2基準フィルタの上流側へと、被精製液を返送可能な返送流通路を有する、[10]〜[14]のいずれかに記載のろ過装置。
[16] 流通路上に、フィルタAと直列に配置されたタンクを更に有する[1]〜[15]のいずれかに記載のろ過装置。
[17] タンクに対して流通路の上流側に、タンクと直列に配置された、孔径20nm以上のフィルタCを更に有する[16]に記載のろ過装置。
[18] 薬液が、現像液、リンス液、ウェハ洗浄液、ライン洗浄液、プリウェット液、ウェハリンス液、レジスト液、下層膜形成用液、上層膜形成用液、及び、ハードコート形成用液からなる群より選択される少なくとも1種であるか、又は、水性現像液、水性リンス液、剥離液、リムーバー、エッチング液、酸性洗浄液、及び、リン酸、リン酸−過酸化水素水混合液からなる群より選択される少なくとも1種である[1]〜[17]のいずれかに記載のろ過装置。
[19] [1]〜[17]のいずれかに記載のろ過装置と、ろ過装置の流入部に接続された少なくとも1つの蒸留器と、を有する精製装置。
[20] 少なくとも1つの蒸留器は、直列に接続された複数の蒸留器を含む、[19]に記載の精製装置。
[21] 被精製液を精製して薬液を得る、薬液の製造方法であって、[1]〜[17]のいずれかに記載のろ過装置を用いて、被精製液を精製して薬液を得る、ろ過工程を有する、薬液の製造方法。
[22] ろ過工程の前に、フィルタA、及び、フィルタBを洗浄するフィルタ洗浄工程を更に有する、[21]に記載の薬液の製造方法。
[23] ろ過工程の前に、ろ過装置の接液部を洗浄する装置洗浄工程を更に有する、[21]又は[22]に記載の薬液の製造方法。
[24] 被精製液を精製して薬液を得る、薬液の製造方法であって、被精製液を、ポリフルオロカーボン製の多孔質基材と、多孔質基材を覆うように配置された親水性基を有する第1の樹脂を含有する被覆層を含むフィルタA、並びに、フィルタAとは異なるフィルタB、を用いてろ過して薬液を得る工程を有する、薬液の製造方法。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施形態に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施形態に制限されない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
本発明の実施形態に係るろ過装置は、流入部と、流出部と、フィルタAと、フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、を有し、フィルタA及びフィルタBは、流入部及び流出部の間に直列に配置され、流入部から流出部にいたる流通路(被精製液の流れる経路)を有するろ過装置であって、(言い換えれば、流入部と流出部との間に、フィルタAと上記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBとが直列に配置され、流入部から流出部にいたる流通路を有するろ過装置であって、)フィルタAは、ポリフルオロカーボン製の多孔質基材と、上記基材を覆うように配置された親水性基を有する第1の樹脂を含有する被覆層と、を有するろ過装置である。ろ過装置は、流入部から流出部にいたる流通路を有し、流入部と流出部との間にフィルタAと上記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBとが直列に配置されている。
これらのうち、薬液中の固形分となり得るゲル状の高分子化合物、又は、無機微粒子は、フィルタが有するふるい効果により除去されやすく、結果として、得られる薬液の欠陥抑制性能が向上するものと想定される。
一方、粒子以外の無機成分、及び、イオン性の成分は、フィルタが有する吸着機能(イオン相互作用による吸着、及び、親疎水性の相互作用による吸着等)により除去されやすく、結果として、得られる薬液の欠陥抑制性能が向上するものと想定される。
特に、微小ゲルは、薬液中では溶媒和の影響で分子ふるい効果によるろ過では充分に除去しきれず、薬液をウェハ上に塗布した後、乾燥させる際に溶媒和の効果が低減することでゲルを形成するため、欠陥の発生要因の1つとなるものと想定される。
以下では、上記ろ過装置について、図面を用いて説明する。なお、本発明の実施形態に係るろ過装置はフィルタAとフィルタBとが流通路上に直列に配置されているため、被精製液は、フィルタA及びフィルタB(又は、フィルタB及びフィルタA)によって順次ろ過される。以下、本発明の実施形態に係るろ過装置について説明するが、以下の説明では、フィルタに導入した被精製液の全量をフィルタでろ過する、全量ろ過方式(デッドエンド方式)のろ過装置を例示する。しかし、本発明の実施形態に係るろ過装置としては上記に制限されず、導入した被精製液を精製済み被精製液と濃縮液とに分離する(更に濃縮液を再度被精製液としてフィルタに導入する場合もある)クロスフロー方式のろ過装置であってもよく、これらを組み合わせた方式であってもよい。
図1は、本発明の第一実施形態に係るろ過装置を表す模式図である。
ろ過装置100は、流入部101及び流出部102の間に、フィルタAであるフィルタ103及び上記フィルタ103とは異なるフィルタ104(フィルタBUに該当する)が配管105を介して直列に配置されたろ過装置である。
流入部101、フィルタ104、配管202、フィルタ103、及び、流出部102は、それぞれの内部に被精製液を流通できるよう構成されており、上記部材が連結されて、流通路S1(被精製液が流れる経路)が形成されている。
流入部101、配管105、及び、流出部102の形態としては特に制限されないが、典型的には、内部に被精製液を流通可能に形成された中空円筒状の形態が挙げられる。これらの材料としては特に制限されないが、接液部(被精製液をろ過するに際して、被精製液が接触する可能性のある部分)は、後述する耐腐食材料を材料成分(構成する成分)として含有することが好ましい。言い換えれば、後述する耐腐食材料を用いて形成されていることが好ましい。
なお、ろ過装置100は、被精製液を流通させる目的で、流通路S1上に(例えば、流入部101、配管105、及び、流出部102等)に、図示しないポンプ、ダンパ、及び、弁等を有していてもよい。なお、ろ過装置100内の流通路に被精製液を流通させる方法としては上記に制限されず、流入部に、加圧した被精製液を導入する方法であってもよい。
また、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、ハウジングの接液部の少なくとも一部、好ましくは接液部の表面積に対して90%、より好ましくは接液部の表面積に対して99%は、後述する耐腐食材料からなることが好ましい。なお、本明細書において接液部とは、被精製液が接触する可能性のある部分(但し、フィルタ自体を除く)を意味し、ハウジング等のユニットの内壁等を意味する。
フィルタAはポリフルオロカーボン製の多孔質基材と、上記多孔質基材を覆うように配置された親水性基を有する第1の樹脂を含有する被覆層と、を有する。なお、多孔質基材の表面の全体が上記被覆層で覆われるのが好ましいが、一部、被覆層で覆われていない領域があってもよい。なお、表面には多孔質基材の孔の表面も含まれる。
ポリフルオロカーボン製の多孔質基材としては特に制限されず、公知の多孔質基材を使用できる。
ポリフルオロカーボンは、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシアルカン、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー、エチレン・テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン-クロロトリフロオロエチレンコポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、及び、ポリフッ化ビニル等が挙げられ、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)が好ましい。フィルタAとしては、PTFE製の多孔質基材として市販されているもの等を適宜使用できる。
なお、本明細書において、孔径とは、イソプロパノール(IPA)又は、HFE−7200(「ノベック7200」、3M社製、ハイドロフロオロエーテル、C4F9OC2H5)のバブルポイントによって決定される孔径を意味する。
親水性基としては、特に制限されないが、例えば、水酸基、エーテル基、オキシアルキレン基、ポリオキシアルキレン基、カルボン酸基、エステル基、炭酸エステル基、チオール基、チオエーテル基、リン酸基、リン酸エステル基、アミド基、イミド基、及び、これらを組み合わせた基(例えば、チオエーテル基と水酸基とを有する基)等が挙げられ、本発明の効果がより優れる点で、ポリオキシアルキレン基が好ましい。
以下では、親水性基としてポリオキシアルキレン基を含有するポリノルボルネン又はその共重合体を含有する被覆層を有するフィルタAの実施形態を具体的に説明する。
フィルタAの第一実施形態としては、ポリフルオロカーボン製の多孔質基材と、上記多孔質基材を覆うように配置された、親水性基を有する共重合体(I)を含有する被覆層とを有するものが挙げられる。
上記共重合体(I)は、以下の繰り返し単位(以下単に「単位」ともいう。)A、及び、Bを有する。単位Aは次式のものである。
上記実施形態の共重合体(I)の例として、
一実施形態によれば、親水性PTFE膜は多孔質膜であり、例えば、直径1nm〜100nmの孔を有するナノ多孔質膜、又は直径1μm〜10μmの孔を有する微多孔質膜である。
フィルタAの第二実施形態としては、ポリテトラフルオロエチレン製の多孔質基材、及び、共重合体(II)を含む被覆層を含む、親水性複合多孔質膜であって、共重合体(II)が繰返し単位C及びDを含み、単位Cは次式のものであり、
一実施形態において、共重合体(II)を含む溶液は、架橋剤、例えば式Cのポリマーをさらに含む。
フィルタBUは、フィルタAとは異なるフィルタであって、流通路上においてフィルタAの上流側に、フィルタAと直列に配置されたフィルタである。流通路上において、流入部が上流側であり、流出部が下流側である。なお、本明細書において、フィルタAと異なるフィルタとは、フィルタAと材料、孔径、及び、細孔構造からなる群より選択される少なくとも1種が異なるフィルタを意味する。
なかでもより優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、フィルタBUはフィルタAと孔径、及び、材料からなる群より選択される少なくとも一方が異なることが好ましく、少なくとも材料が異なることが好ましい。
なお、本明細書においてフィルタAとフィルタBUの材料が異なるとは、それぞれのフィルタが含有する成分(材料成分)が異なる場合;フィルタが樹脂からなる場合に、表面処理の違いによって、フィルタの表面に配置された置換基の種類が異なる場合等が典型的には含まれる。
本発明者らの検討によれば、流通路S1に上においてフィルタAの上流側に、孔径が20nm以上のフィルタBUを配置したろ過装置を用いた場合、フィルタAがより目詰まりしにくく、フィルタAの寿命をより長くすることができることを知見している。その結果として、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液を安定して提供できるろ過装置が得られる。
本明細書において、フィルタの細孔構造とは、細孔径分布、フィルタ中の細孔の位置的な分布、及び、細孔の形状等を意味し、典型的には、フィルタの製造方法により制御可能である。
例えば、樹脂等の粉末を焼結して形成すれば多孔質膜が得られ、及び、エレクトロスピニング、エレクトロブローイング、及び、メルトブローイング等の方法により形成すれば繊維膜が得られる。これらは、それぞれ細孔構造が異なる。
ふるい膜の典型的な例としては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)膜とUPE膜が含まれるが、これらに制限されない。
なお、「ふるい保持機構」とは、除去対象粒子が多孔質膜の細孔径よりも大きいことによる結果の保持を指す。ふるい保持力は、フィルタケーキ(膜の表面での除去対象となる粒子の凝集)を形成することによって向上させることができる。フィルタケーキは、2次フィルタの機能を効果的に果たす。
多孔質膜における細孔の大きさの分布とその膜中における位置の分布は、特に制限されない。大きさの分布がより小さく、かつ、その膜中における分布位置が対称であってもよい。また、大きさの分布がより大きく、かつ、その膜中における分布位置が非対称であってもよい(上記の膜を「非対称多孔質膜」ともいう。)。非対称多孔質膜では、孔の大きさは膜中で変化し、典型的には、膜一方の表面から膜の他方の表面に向かって孔径が大きくなる。このとき、孔径の大きい細孔が多い側の表面を「オープン側」といい、孔径が小さい細孔が多い側の表面を「タイト側」ともいう。
また、非対称多孔質膜としては、例えば、細孔の大きさが膜の厚さ内のある位置においてで最小となるもの(これを「砂時計形状」ともいう。)が挙げられる。
なかでも、多孔質膜は、超高分子量ポリエチレンを材料成分として含有することが好ましい。超高分子量ポリエチレンは、極めて長い鎖を有する熱可塑性ポリエチレンを意味し、分子量が百万以上、典型的には、200〜600万が好ましい。
なお、本明細書で使用される「非ふるい」による保持機構は、フィルタの圧力降下、又は、細孔径に関連しない、妨害、拡散及び吸着などの機構によって生じる保持を指す。
すなわち、フィルタとしては、上記で挙げた各成分を含有する材料を基材として、上記基材にイオン交換基を導入したものが好ましい。典型的には、上記基材の表面にイオン交換基を有する基材を含む層を含むフィルタが好ましい。表面修飾された基材としては特に制限されず、製造がより容易な点で、上記重合体にイオン交換基を導入したものが好ましい。
なかでも、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、フィルタBUは、イオン除去が可能な材料からなることが好ましい。この場合、フィルタBUは、イオン交換基を有する樹脂を材料成分として含有することが好ましい。
イオン交換基としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、酸基、塩基基、アミド基、及び、イミド基からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。
フィルタBUは、ポリフルオロカーボン、及び、ポリオレフィン等の基材に、イオン交換基を導入した材料がより好ましい。
図2は、本発明の第二実施形態に係るろ過装置を表す模式図である。
ろ過装置100は、流入部101と流出部102の間に、フィルタAであるフィルタ103と、上記フィルタ103とは異なるフィルタ201(フィルタBD)とが配管202を介して直列に配置されたろ過装置である。
流入部101、フィルタ103、配管202、フィルタ104、及び、流出部102は、それぞれの内部に被精製液を流通できるよう構成されており、上記部材が連結されて、流通路S2(被精製液が流れる経路)が形成されている。
フィルタBDは、フィルタAとは異なるフィルタであって、流通路上においてフィルタAの下流側に、フィルタAと直列に配置されたフィルタである。なかでもより優れた本発明の効果を有するろ過装置が得られる点で、フィルタAとフィルタBDとは、少なくとも孔径が異なることが好ましく、孔径と材料とが異なることが好ましい。
フィルタAを用いて被精製液をろ過したとき、フィルタAに起因する微粒子が発生すると、被精製液に混入してしまうが、本実施形態に係るろ過装置は、流通路上においてフィルタAの下流にフィルタBDを有しているため、フィルタAに起因する微粒子が発生した際にも被精製液からこれをろ別することができ、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい。
この際、流通路において最も下流側に配置されたフィルタBDの孔径としては、20nm以下が好ましく、15nm以下がより好ましく、10nm以下が更に好ましい。下限としては特に制限されないが、薬液の生産性の面で、1nm以上が好ましい。
特に、最も下流側に配置されたフィルタの孔径が15nm以下であると、得られる薬液はより優れたブリッジ欠陥抑制性能を有する。
フィルタBDの材料としては特に制限されず、フィルタの材料として公知のものが使用できる。具体的には、樹脂である場合、6−ナイロン、及び、6,6−ナイロン等のポリアミド;ポリエチレン、及び、ポリプロピレン等のポリオレフィン;ポリスチレン;ポリイミド;ポリアミドイミド;ポリ(メタ)アクリレート;ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシアルカン、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー、エチレン・テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン-クロロトリフロオロエチレンコポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、及び、ポリフッ化ビニル等のポリフルオロカーボン;ポリビニルアルコール;ポリエステル;セルロース;セルロースアセテート等を材料成分として含有することが好ましい。なかでも、より優れた耐溶剤性を有し、得られる薬液がより優れた欠陥抑制性能を有する点で、ナイロン(なかでも、6,6−ナイロンが好ましい)、ポリオレフィン(なかでも、ポリエチレンが好ましい)、ポリ(メタ)アクリレート、及び、ポリフルオロカーボン(なかでも、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、パーフルオロアルコキシアルカン(PFA)が好ましい。)からなる群から選択される少なくとも1種を材料成分として含有することが好ましい。これらの重合体は単独で又は二種以上を組み合わせて使用できる。
また、樹脂以外にも、ケイソウ土、及び、ガラス等であってもよい。
すなわち、フィルタとしては、上記で挙げた各成分を含有する材料を基材として、上記基材にイオン交換基を導入したものが好ましい。典型的には、上記基材の表面にイオン交換基を有する基材を含む層を含むフィルタが好ましい。表面修飾された基材としては特に制限されず、製造がより容易な点で、上記重合体にイオン交換基を導入したものが好ましい。
ポリオレフィンとしては、ポリエチレン、及び、ポリプロピレン等が挙げられ、中でも、超高分子量ポリエチレンが好ましい。ポリアミドとしては、6−ナイロン、及び、6,6−ナイロン等が挙げられる。ポリフルオロカーボンとしてはポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシアルカン、パーフルオロエチレンプロペンコポリマー、エチレン・テトラフルオロエチレンコポリマー、エチレン-クロロトリフロオロエチレンコポリマー、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、及び、ポリフッ化ビニル等が挙げられ、なかでも、ポリエチレン、及び、ナイロンからなる群より選択される少なくとも1種が好ましく、別の形態では、ポリテトラフルオロエチレンが好ましい。
第2の樹脂としては特に制限されないが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種の樹脂が好ましい。また、別の形態としては、ポリエーテル、ノボラック、シクロオレフィンポリマー、及び、ポリ乳酸等も好ましい。
しかし、本発明者らの検討によれば、ナイロン、及び、超高分子量ポリエチレンのようなフィルタは、被精製液から不純物を除去する一方で、被精製液を通液した際に、微量な不純物が被精製液中に溶出してしまうことがあることを本発明者らは知見している。
このような場合、流通路における最も下流側に材料成分としてPTFEを含有するフィルタ(例えば、PTFE製のフィルタ)を配置すると、上流側のフィルタが原因となって被精製液中に混入した上記の微量な不純物も除去することが可能であり、より優れた欠陥抑制性能を有する。
図3は、本発明の第二実施形態に係るろ過装置の変形例を表すろ過装置の模式図である。ろ過装置300は、流入部101と流出部102との間に、フィルタAであるフィルタ103と、フィルタBUであるフィルタ104と、フィルタBDであるフィルタ201とを有し、フィルタ104と、フィルタ103と、フィルタ201が配管301、及び、配管302を介して直列に配置されたろ過装置である。
ろ過装置300は、流通路上においてフィルタAの上流側にフィルタBUを有するため、フィルタAはより長寿命となり、流通路上においてフィルタAの下流側にフィルタBDを有するため、フィルタAに起因して被精製液に混入する微粒子が効率よく除去でき、結果として更に優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られやすい。
図4は本発明の第四実施形態に係るろ過装置を表す模式図である。
ろ過装置400は、流入部101と流出部102との間であって、流通路S4上においてフィルタ104(フィルタBU)の上流側に、フィルタAと直列に配置されたタンク401を更に有するろ過装置である。タンク401と、フィルタ104(フィルタBU)と、フィルタ103(フィルタA)とは、配管402及び配管105を介して直列に配置されている。タンク401は上記のフィルタ及び配管等とともに、流通路S4を構成している。
なお、タンク401の材料は特に制限されないが、既に説明したハウジングの材料と同様の材料が使用でき、その接液部の少なくとも一部(好ましくは接液部の表面積の90%以上、より好ましくは99%以上)は後述する耐腐食材料からなることが好ましい。
図5は本発明の第三実施形態に係るろ過装置の変形例を表す模式図である。
ろ過装置500は、流入部101と流出部102との間であって、流通路S5上においてフィルタ104(フィルタBU)の下流側に、直列に配置されたタンク401を更に有するろ過装置である。フィルタ104(フィルタBU)と、タンク401と、フィルタ103(フィルタA)とは、配管501及び配管502を介して直列に配置されている。タンク401は上記のフィルタ及び配管等とともに、流通路S5を構成している。
図6は本発明の第四実施形態に係るろ過装置を表す模式図である。
ろ過装置600は、流入部101と流出部102の間に、フィルタCであるフィルタ601と、タンク401と、フィルタBUであるフィルタ104と、フィルタAであるフィルタ103とが配管602、配管402、及び、配管105を介して直列に配置されたろ過装置である。
ろ過装置600では、流入部101、フィルタ601、配管602、タンク401、配管402、フィルタ104、配管105、フィルタ103、及び、流出部102が、流通路S6を形成している。
なお、本実施形態に係るろ過装置としては、流通路上にフィルタAとフィルタBDがこの順に直列に配置された形態(例えば第二実施形態)、及び、流通路上にフィルタBU、フィルタA,及び、フィルタBDがこの順に直列に配置された形態(例えば第二実施形態の変形例)において、フィルタAの下流側にタンクを更に有し、上記タンクの上流側にフィルタCを有する形態であってもよい。
図7は本発明の第五実施形態に係るろ過装置の模式図である。ろ過装置700は、流入部101と、流出部102と、フィルタBUであるフィルタ104と、フィルタAであるフィルタ103とを有し、フィルタ104とフィルタ103とが、流入部101と流出部102との間に直列に配置され、流入部101から流出部102にいたる流通路S7が形成されたろ過装置である。
ろ過装置700では、流入部101と、フィルタ104と、配管105と、フィルタ103と、流出部102とが、流通路S7を形成している。
また、図7では、返送流通路R1が配管のみから形成されているが、既に説明した1つ又は複数のタンク及び配管から形成されていてもよい。
ろ過装置800は、流入部101と、タンク401(a)、401(b)、流出部102とフィルタAであるフィルタ103と、フィルタBDであるフィルタ104とを有し、タンク401(a)、フィルタ104、フィルタ103、及び、401(b)とが、流入部101と流出部102との間に直列に配置され、流入部101と、タンク401(a)、配管802、フィルタ104、配管803、フィルタ103、配管804、タンク401(b)、及び、流出部102とが、流通路S8を形成している。
図9は本発明の第五実施形態に係るろ過装置の模式図である。ろ過装置900は、流入部101と、流出部102と、フィルタBUであるフィルタ104と、フィルタAであるフィルタ103とを有し、フィルタ104とフィルタ103とが、流入部101と流出部102との間に直列に配置され、流入部101から流出部102にいたる流通路S9が形成されたろ過装置である。
ろ過装置900では、流入部101と、フィルタ103と、配管105と、フィルタ104と、流出部102とが、流通路S9を形成している。
ろ過装置1000では、流入部101と、フィルタ104−1と、配管1001と、フィルタ104−2と、配管1002と、フィルタ103と、流出部102とが、流通路S10を形成している。
また、フィルタA、フィルタBD(フィルタBD−1とする)、及び、フィルタBD(フィルタBD−2とする)がこの順に直列に配置されたろ過装置において、フィルタBD−1(第2基準フィルタ)の下流側(フィルタBD−2の上流側、及び、フィルタBD−2の下流側のいずれであってもよい)から、フィルタBD−1の上流側(フィルタBD−2の上流側であって、フィルタAの下流側、又は、フィルタAの上流側のいずれであってもよい)へと被精製液を返送する返送流通路を有する形態であってもよい。
本発明の実施形態に係る薬液の製造方法は、被精製液を精製して薬液を得る、薬液の製造方法であって、既に説明したろ過装置を用いて被精製液をろ過して、薬液を得るろ過工程を有する。
本発明の実施形態に係る薬液の製造方法が適用できる被精製液としては特に制限されないが、溶剤を含有することが好ましい。溶剤としては有機溶剤、及び、水等が挙げられ、有機溶剤を含有することが好ましい。以下では、被精製液中に含有される溶剤の全質量に対して、有機溶剤の含有量(複数の有機溶剤を含有する場合にはその合計含有量)が50質量%を超える有機溶剤系被精製液と、被精製液中に含有される溶剤の全質量に対して、水の含有量が50質量%を超える水系被精製液とに分けて説明する。
(有機溶剤)
有機溶剤系被精製液は、溶剤を含有し、被精製液に含有される溶媒の全質量に対して有機溶剤の含有量が50質量%超である。
有機溶剤系被精製液は、有機溶剤を含有する。有機溶剤系被精製液中における有機溶剤の含有量としては特に制限されないが、一般に、有機溶剤系被精製液の全質量に対して、99.0質量%以上が好ましい。上限値としては特に制限されないが、一般に、99.99999質量%以下が好ましい。
有機溶剤は1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の有機溶剤を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
なお、本明細書において液状とは、25℃、大気圧下において、液体であることを意味する。
また、有機溶剤としては、例えば、特開2016−57614号公報、特開2014−219664号公報、特開2016−138219号公報、及び、特開2015−135379号公報に記載のものを用いてもよい。
被精製液は、上記以外の他の成分を含有してもよい。他の成分としては、例えば、無機物(金属イオン、金属粒子、及び、金属酸化物粒子等)、樹脂、樹脂以外の有機物、及び、水等が挙げられる。
被精製液は、無機物を含有してもよい。無機物としては特に制限されず、金属イオン、及び、金属含有粒子等が挙げられる。
被精製液は樹脂を含有してもよい。
上記薬液は更に樹脂を含有してもよい。樹脂としては、酸の作用により分解して極性基を生じる基を有する樹脂Pがより好ましい。上記樹脂としては、酸の作用により有機溶剤を主成分とする現像液に対する溶解性が減少する樹脂である、後述する式(AI)で表される繰り返し単位を有する樹脂がより好ましい。後述する式(AI)で表される繰り返し単位を有する樹脂は、酸の作用により分解してアルカリ可溶性基を生じる基(以下、「酸分解性基」ともいう)を有する。
極性基としては、アルカリ可溶性基が挙げられる。アルカリ可溶性基としては、例えば、カルボキシ基、フッ素化アルコール基(好ましくはヘキサフルオロイソプロパノール基)、フェノール性水酸基、及びスルホ基が挙げられる。
樹脂Pは、式(AI)で表される繰り返し単位を有することが好ましい。
Xa1は、水素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。
Tは、単結合又は2価の連結基を表す。
Ra1〜Ra3は、それぞれ独立に、アルキル基(直鎖状又は分岐鎖状)又はシクロアルキル基(単環又は多環)を表す。
Ra1〜Ra3の2つが結合して、シクロアルキル基(単環又は多環)を形成してもよい。
Xa1は、水素原子、メチル基、トリフルオロメチル基又はヒドロキシメチル基が好ましい。
Tは、単結合又は−COO−Rt−基が好ましい。Rtは、炭素数1〜5のアルキレン基が好ましく、−CH2−基、−(CH2)2−基、又は、−(CH2)3−基がより好ましい。
Ra1〜Ra3の2つが結合して形成されるシクロアルキル基としては、シクロペンチル基、若しくはシクロヘキシル基等の単環のシクロアルキル基、又は、ノルボルニル基、テトラシクロデカニル基、テトラシクロドデカニル基、若しくはアダマンチル基等の多環のシクロアルキル基が好ましい。炭素数5〜6の単環のシクロアルキル基がより好ましい。
また、樹脂Pは、ラクトン構造を有する繰り返し単位Qを含有することが好ましい。
ラクトン構造を有する繰り返し単位Qは、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用していてもよいが、1種単独で用いることが好ましい。
ラクトン構造を有する繰り返し単位Qの含有量は、樹脂P中の全繰り返し単位に対して、3〜80モル%が好ましく、3〜60モル%がより好ましい。
ラクトン構造としては、下記式(LC1−1)〜(LC1−17)のいずれかで表されるラクトン構造を有する繰り返し単位を有することが好ましい。ラクトン構造としては式(LC1−1)、式(LC1−4)、式(LC1−5)、又は式(LC1−8)で表されるラクトン構造が好ましく、式(LC1−4)で表されるラクトン構造がより好ましい。
また、樹脂Pは、フェノール性水酸基を有する繰り返し単位を含有していてもよい。
フェノール性水酸基を有する繰り返し単位としては、例えば、下記一般式(I)で表される繰り返し単位が挙げられる。
R41、R42及びR43は、各々独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルコキシカルボニル基を表す。但し、R42はAr4と結合して環を形成していてもよく、その場合のR42は単結合又はアルキレン基を表す。
L4は、単結合又はアルキレン基を表す。
Ar4は、(n+1)価の芳香環基を表し、R42と結合して環を形成する場合には(n+2)価の芳香環基を表す。
nは、1〜5の整数を表す。
(n+1)価の芳香環基は、更に置換基を有していてもよい。
樹脂Pは、極性基を有する有機基を含有する繰り返し単位、特に、極性基で置換された脂環炭化水素構造を有する繰り返し単位を更に含有していてもよい。これにより基板密着性、現像液親和性が向上する。
極性基で置換された脂環炭化水素構造の脂環炭化水素構造としては、アダマンチル基、ジアマンチル基又はノルボルナン基が好ましい。極性基としては、水酸基又はシアノ基が好ましい。
樹脂Pは、下記一般式(VI)で表される繰り返し単位を含有していてもよい。
R61、R62及びR63は、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、又はアルコキシカルボニル基を表す。但し、R62はAr6と結合して環を形成していてもよく、その場合のR62は単結合又はアルキレン基を表す。
X6は、単結合、−COO−、又は−CONR64−を表す。R64は、水素原子又はアルキル基を表す。
L6は、単結合又はアルキレン基を表す。
Ar6は、(n+1)価の芳香環基を表し、R62と結合して環を形成する場合には(n+2)価の芳香環基を表す。
Y2は、n≧2の場合には各々独立に、水素原子又は酸の作用により脱離する基を表す。但し、Y2の少なくとも1つは、酸の作用により脱離する基を表す。
nは、1〜4の整数を表す。
Mは、単結合又は2価の連結基を表す。
Qは、アルキル基、ヘテロ原子を含んでいてもよいシクロアルキル基、ヘテロ原子を含んでいてもよいアリール基、アミノ基、アンモニウム基、メルカプト基、シアノ基又はアルデヒド基を表す。
Q、M、L1の少なくとも2つが結合して環(好ましくは、5員若しくは6員環)を形成してもよい。
Ar3は、芳香環基を表す。
R3は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アシル基又はヘテロ環基を表す。
M3は、単結合又は2価の連結基を表す。
Q3は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表す。
Q3、M3及びR3の少なくとも二つが結合して環を形成してもよい。
樹脂Pは、更に、側鎖に珪素原子を有する繰り返し単位を含有していてもよい。側鎖に珪素原子を有する繰り返し単位としては、例えば、珪素原子を有する(メタ)アクリレート系繰り返し単位、及び、珪素原子を有するビニル系繰り返し単位などが挙げられる。側鎖に珪素原子を有する繰り返し単位は、典型的には、側鎖に珪素原子を有する基を有する繰り返し単位であり、珪素原子を有する基としては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基、トリシクロヘキシルシリル基、トリストリメチルシロキシシリル基、トリストリメチルシリルシリル基、メチルビストリメチルシリルシリル基、メチルビストリメチルシロキシシリル基、ジメチルトリメチルシリルシリル基、ジメチルトリメチルシロキシシリル基、及び、下記のような環状もしくは直鎖状ポリシロキサン、又はカゴ型あるいははしご型もしくはランダム型シルセスキオキサン構造などが挙げられる。式中、R、及び、R1は各々独立に、1価の置換基を表す。*は、結合手を表す。
水系被精製液は、水系被精製液が含有する溶剤の全質量に対して、水を50質量%超含有し、51〜95質量%が好ましい。
上記水は、特に限定されないが、半導体製造に使用される超純水を用いることが好ましく、その超純水を更に精製し、無機陰イオン及び金属イオン等を低減させた水を用いることがより好ましい。精製方法は特に限定されないが、ろ過膜又はイオン交換膜を用いた精製、並びに、蒸留による精製が好ましい。また、例えば、特開2007―254168号公報に記載されている方法により精製を行うことが好ましい。
水系被精製液は、酸化剤を含有してもよい、酸化剤としては特に制限されず、公知の酸化剤が使用できる。酸化剤としては、例えば、過酸化水素、過酸化物、硝酸、硝酸塩、ヨウ素酸塩、過ヨウ素酸塩、次亜塩素酸塩、亜塩素酸塩、塩素酸塩、過塩素酸塩、過硫酸塩、重クロム酸塩、過マンガン酸塩、オゾン水、銀(II)塩、及び鉄(III)塩等が挙げられる。
水系被精製液は無機酸を含有してもよい。無機酸としては特に制限されず、公知の無機酸を用いることができる。無機酸としては例えば、硫酸、リン酸、及び、塩酸等が挙げられる。なお、無機酸は上述した酸化剤には含まれない。
水系被精製液中の無機酸の含有量としては特に制限されないが、水系被精製液の全質量に対して0.01質量%以上が好ましく、99.0質量%以下が好ましい。
無機酸は、1種を単独で用いても、2種以上を併用してもよい。2種以上の無機酸を併用する場合には、合計含有量が上記範囲内であることが好ましい。
水系被精製液は、防食剤を含有してもよい。防食剤としては特に制限されず、公知の防食剤が使用できる。防食剤としては例えば、1,2,4−トリアゾール(TAZ)、5−アミノテトラゾール(ATA)、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−チオール、3−アミノ−1H−1,2,4トリアゾール、3,5−ジアミノ−1,2,4−トリアゾール、トリルトリアゾール、3−アミノ−5−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、1−アミノ−1,2,4−トリアゾール、1−アミノ−1,2,3−トリアゾール、1−アミノ−5−メチル−1,2,3−トリアゾール、3−メルカプト−1,2,4−トリアゾール、3−イソプロピル−1,2,4−トリアゾール、ナフトトリアゾール、1H−テトラゾール−5−酢酸、2−メルカプトベンゾチアゾール(2−MBT)、1−フェニル−2−テトラゾリン−5−チオン、2−メルカプトベンゾイミダゾール(2−MBI)、4−メチル−2−フェニルイミダゾール、2−メルカプトチアゾリン、2,4−ジアミノ−6−メチル−1,3,5−トリアジン、チアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、トリアジン、メチルテトラゾール、ビスムチオールI、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、1,5−ペンタメチレンテトラゾール、1−フェニル−5−メルカプトテトラゾール、ジアミノメチルトリアジン、イミダゾリンチオン、4−メチル−4H−1,2,4−トリアゾール−3−チオール、5−アミノ−1,3,4−チアジアゾール−2−チオール、ベンゾチアゾール、リン酸トリトリル、インダゾール、アデニン、シトシン、グアニン、チミン、ホスフェート阻害剤、アミン類、ピラゾール類、プロパンチオール、シラン類、第2級アミン類、ベンゾヒドロキサム酸類、複素環式窒素阻害剤、アスコルビン酸、チオ尿素、1,1,3,3−テトラメチル尿素、尿素、尿素誘導体類、尿酸、エチルキサントゲン酸カリウム、グリシン、ドデシルホスホン酸、イミノ二酢酸、ホウ酸、マロン酸、コハク酸、ニトリロ三酢酸、スルホラン、2,3,5−トリメチルピラジン、2−エチル−3,5−ジメチルピラジン、キノキサリン、アセチルピロール、ピリダジン、ヒスタジン(histadine)、ピラジン、グルタチオン(還元型)、システイン、シスチン、チオフェン、メルカプトピリジンN−オキシド、チアミンHCl、テトラエチルチウラムジスルフィド、2,5−ジメルカプト−1,3−チアジアゾールアスコルビン酸、カテコール、t−ブチルカテコール、フェノール、及びピロガロールが挙げられる。
上記の市販品としては、例えばニューカルゲンFS−3PG(竹本油脂社製)、及びホステンHLP−1(日光ケミカルズ社製)等が挙げられる。
親水性ポリマーとしては、例えば、ポリエチレングリコール等のポリグリコール類、ポリグリコール類のアルキルエーテル、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アルギン酸等の多糖類、ポリメタクリル酸、及びポリアクリル酸等のカルボン酸含有ポリマー、ポリアクリルアミド、ポリメタクリルアミド、及びポリエチレンイミン等が挙げられる。そのような親水性ポリマーの具体例としては、特開2009−88243号公報0042〜0044段落、特開2007−194261号公報0026段落に記載されている水溶性ポリマーが挙げられる。
セリウム塩としては特に制限されず、公知のセリウム塩を用いることができる。
セリウム塩としては、例えば、3価のセリウム塩として、酢酸セリウム、硝酸セリウム、塩化セリウム、炭酸セリウム、シュウ酸セリウム、及び硫酸セリウム等が挙げられる。また、4価のセリウム塩として、硫酸セリウム、硫酸セリウムアンモニウム、硝酸セリウムアンモニウム、硝酸二アンモニウムセリウム、及び水酸化セリウム等が挙げられる。
水系被精製液は、有機溶剤を含有してもよい。有機溶剤としては特に制限されないが、有機溶剤系被精製液が含有する有機溶剤として既に説明したとおりである。有機溶剤を含有する場合、水系被精製液が含有する溶媒の全質量に対して、有機溶剤の含有量は5〜35質量%が好ましい。
被精製液とろ過装置(フィルタの配置)の関係としては特に制限されないが、被精製液の溶解パラメータ(SP値)との関係では、SP値が20(MPa)1/2以下である場合、ろ過装置は、既に説明したフィルタBU、及び、フィルタAを有することが好ましく、上記フィルタBUは、イオン交換基を有する樹脂を材料成分として含有することがより好ましい。なお、SP値の下限としては特に制限されないが、一般に14(MPa)1/2以上が好ましい。
言い換えれば、本発明の実施形態に係るろ過装置は、SP値が20(MPa)1/2以下である被精製液の精製に用いられることがより好ましい。すなわち、本発明の実施形態に係るろ過装置は、SP値が14〜20(MPa)1/2である被精製液の精製用として好ましく用いることができる。
この場合、フィルタBUは被精製液中のイオン性成分(典型的には、金属イオン等の不純物)と相互作用が大きく、これらの不純物を被精製液中から除去することが可能である。一方、上記のとおり、被精製液のSP値が所定の範囲以下であると、被精製液中に微量な不純物(ゲル状物質を含む)が混入する場合があった。
フィルタAは、SP値が20(MPa)1/2以下の被精製液に対しても十分な耐久性を有し、かつ、表面が親水化されているため、被精製液を通液すると、膜表面に親水性の液体による被膜が形成されると推測され、この被膜により被精製液中のゲル状の不純物等が効率的に除去できるものと推測される。
(SP値)2=(δHd)2+(δHp)2+(δHh)2
Hd :分散項
Hp :分極項(極性項)
Hh :水素結合項
(被精製液のSP値)=Σ{(各溶剤のSP値)×(各溶剤の体積分率)}
例えば、被精製液が含有する溶剤が、PGMEAとPGMEの7:3(体積基準)の混合液である場合、そのSP値は、17.8×0.7+23.05×0.3により計算され、19.375(MPa)1/2と求められる。なお、本明細書における上記SP値は、(MPa)1/2の単位で表わした際に小数点以下第2位を四捨五入した値として求めるものとし、上記の場合、上記被精製液のSP値は表1に記載したとおり、19.4(MPa)1/2とする。
本実施形態に係る薬液の製造方法は、既に説明したろ過装置を用いて、上記被精製液をろ過して、薬液を得るろ過工程を有する。
上記ろ過装置は、フィルタAとフィルタBとが直列に配置されて形成された流通路を有する。各フィルタに対する被精製液の供給圧力としては特に制限されないが、一般に、0.00010〜1.0MPaが好ましい。
なかでも、より優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる点で、供給圧力P2は、0.00050〜0.090MPaが好ましく、0.0010〜0.050MPaがより好ましく、0.0050〜0.040MPaが更に好ましい。
また、ろ過圧力はろ過精度に影響を与えることから、ろ過時における圧力の脈動は可能な限り少ない方が好ましい。
フィルタにはフィルタ性能(フィルタが壊れない)を保障する耐差圧が設定されており、この値が大きい場合にはろ過圧力を高めることでろ過速度を高めることができる。つまり、上記ろ過速度上限は、通常、フィルタの耐差圧に依存するが、通常、10.0L/分/m2以下が好ましい。
なお、後述する各工程も、上記クリーン環境下にて実施することが好ましい。
循環ろ過の回数としては特に制限されないが、一般に2〜10回が好ましい。なお、循環ろ過はフィルタAによるろ過を繰り返すよう、被精製液をフィルタAの上流に返送してもよいが、この際、フィルタAに加えて少なくとも1のフィルタBによるろ過も合わせ繰り返すよう、返送流通路を調整してもよい。
本実施形態に係る薬液の製造方法は、上記以外の工程を有していてもよい。上記以外の工程としては、例えば、フィルタ洗浄工程、装置洗浄工程、除電工程、及び、被精製液準備工程等が挙げられる。以下では、各工程について詳述する。
フィルタ洗浄工程は、ろ過工程の前にフィルタA及びフィルタBを洗浄する工程である。フィルタを洗浄する方法としては特に制限されないが、例えば、フィルタを浸漬液に浸漬する方法、フィルタに洗浄液を通液して洗浄する方法、及び、これらの組合せ等が挙げられる。
フィルタを浸漬液に浸漬する方法としては、例えば、浸漬用容器を浸漬液で満たし、上記浸漬液にフィルタを浸漬する方法が挙げられる。
浸漬液としては特に制限されず、公知の浸漬液を使用できる。なかでもより優れた本発明の効果が得られる点で、浸漬液としては、水又は有機溶剤を主成分として含有することが好ましく、有機溶剤を主成分として含有することがより好ましい。本明細書において主成分とは、浸漬液の全質量に対して99.9質量%以上含有される成分を意味し、99.99質量%以上含有することがより好ましい。
ケトン系溶剤としては、例えば、アセトン、2−ヘプタノン(MAK)、メチルエチルケトン(MEK)、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、及び、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール等が挙げられるが上記に制限されない。
浸漬液の温度としては特に制限されないが、より優れた本発明の効果が得られる点で、20℃以上が好ましい。
浸漬用容器としては、既に説明したろ過装置において、フィルタユニットが有するハウジングも使用できる。すなわち、ろ過装置が有するハウジングにフィルタ(典型的にはフィルタカートリッジ)を収納した状態で、ハウジング内に浸漬液を満たし、その状態で静置する方法が挙げられる。
また、上記以外にも、浸漬用容器を精製装置が有するハウジングとは別途準備し(すなわち、精製装置外において浸漬用容器を準備し)、別途準備した浸漬用容器に浸漬液を満たし、フィルタを浸漬する方法も挙げられる。
なかでも、フィルタから溶出した不純物がろ過装置内に混入しない点で、ろ過装置外に準備した浸漬用容器に浸漬液を満たし、上記浸漬液にフィルタを浸漬する方法が好ましい。
浸漬用容器の材料としては、特に制限されないが、少なくとも接液部が、既に説明した耐腐食材料で形成されていることが好ましい。
また、浸漬用容器の材料としては、ポリフルオロカーボン(PTFE、PFA:パーフルオロアルコキシアルカン、及び、PCTFE:ポリクロロトリフルオロエチレン等)、PPS(ポリフェニレンスルフィド)、POM(ポリオキシメチレン)、並びに、ポリオレフィン(PP、及び、PE等)からなる群から選択される少なくとも1種を含有することが好ましく、ポリフルオロカーボン、PPS、及び、POMからなる群から選択される少なくとも1種を含有することがより好ましく、ポリフルオロカーボンを含有することが更に好ましく、PTFE、PFA、及び、PCTFEからなる群から選択される少なくとも1種を含有することが特に好ましく、PTFEを含有することが最も好ましい。
また、浸漬用容器は、使用前に洗浄することが好ましく、洗浄の際には浸漬液を使用して洗浄(いわゆる共洗い)することが好ましい。
フィルタに洗浄液を通液して洗浄する方法としては特に制限されないが、例えば、既に説明したろ過装置のフィルタユニットのフィルタハウジングに、フィルタ(典型的にはフィルタカートリッジ)を収納し、上記フィルタハウジングに洗浄液を導入することで、フィルタに洗浄液を通液する方法が挙げられる。
フィルタに洗浄液を通液して洗浄する場合における洗浄液としては特に制限されず、公知の洗浄液が使用できる。なかでも、より優れた本発明の効果が得られる点で、洗浄液の形態としては、既に説明した浸漬液と同様であることが好ましい。
装置洗浄工程は、ろ過工程の前に、ろ過装置の接液部を洗浄する工程である。ろ過工程の前にろ過装置の接液部を洗浄する方法としては特に制限されないが、以下では、フィルタがカートリッジフィルタであり、上記カートリッジフィルタが、流通路上に配置されたハウジング内に収納されるろ過装置を例として説明する。
工程Aは、ハウジングからカートリッジフィルタが取り除かれた状態で、洗浄液を用いてろ過装置の接液部を洗浄する工程である。ハウジングからフィルタが取り除かれた状態で、とは、ハウジングからフィルタカートリッジを取り除くか、ハウジングにフィルタカートリッジを収納する前に、洗浄液を用いてろ過装置の接液部を洗浄することを意味する。
ハウジングからフィルタが取り除かれた状態における(以下「フィルタ未収納の」ともいう。)ろ過装置の接液部を、洗浄液を用いて洗浄する方法としては特に制限されない。流入部から洗浄液を導入し、流出部から回収する方法が挙げられる。
洗浄液としては特に制限されず、公知の洗浄液を使用できる。なかでもより優れた本発明の効果が得られる点で、洗浄液としては、水又は有機溶剤を主成分として含有することが好ましく、有機溶剤を主成分として含有することがより好ましい。本明細書において主成分とは、洗浄液の全質量に対して99.9質量%以上含有される成分を意味し、99.99質量%以上含有することがより好ましい。
工程Bは、ハウジングにフィルタが収納された状態で、洗浄液を用いてろ過装置を洗浄する方法である。
洗浄液を用いてろ過装置を洗浄する方法としては、既に説明した工程Aにおける洗浄方法のほか、ろ過装置に洗浄液を通液する方法も使用できる。ろ過装置に洗浄液を通液する方法としては特に制限されないが、流入部から洗浄液を導入し、流出部から排出すればよい。なお、本工程で使用できる洗浄液としては特に制限されず、工程Aで説明した洗浄液を使用できる。
除電工程は、被精製液を除電することで、被精製液の帯電電位を低減させる工程である。除電方法としては特に制限されず、公知の除電方法を用いることができる。除電方法としては、例えば、被精製液を導電性材料に接触させる方法が挙げられる。
被精製液を導電性材料に接触させる接触時間は、0.001〜60秒が好ましく、0.001〜1秒がより好ましく、0.01〜0.1秒が更に好ましい。導電性材料としては、ステンレス鋼、金、白金、ダイヤモンド、及びグラッシーカーボン等が挙げられる。
被精製液を導電性材料に接触させる方法としては、例えば、導電性材料からなる接地されたメッシュを、流通路を横切るように配置し、ここに被精製液を流通させる方法等が挙げられる。
被精製液準備工程は、ろ過装置の流入部から流入させる被精製液を準備する工程である。被精製液を準備する方法としては特に制限されない。典型的には、市販品(例えば、「高純度グレード品」と呼ばれるもの等)を購入する方法、1種又は2種以上の原料を反応させて得る方法、及び、各成分を溶剤に溶解する方法等が挙げられる。
より具体的には、例えば、酢酸とn−ブタノールとを硫酸の存在下で反応させ、酢酸ブチルを得る方法;エチレン、酸素、及び、水をAl(C2H5)3の存在下で反応させ、1−ヘキサノールを得る方法;シス−4−メチル−2−ペンテンをIpc2BH(Diisopinocampheylborane)の存在下で反応させ、4−メチル−2−ペンタノールを得る方法;プロピレンオキシド、メタノール、及び、酢酸を硫酸の存在下で反応させ、PGMEA(プロピレングリコール1−モノメチルエーテル2−アセタート)を得る方法;アセトン、及び、水素を酸化銅−酸化亜鉛−酸化アルミニウムの存在下で反応させて、IPA(isopropyl alcohol)を得る方法;乳酸、及び、エタノールを反応させて、乳酸エチルを得る方法;等が挙げられる。
図11は蒸留器で予め精製された蒸留済み被精製液を使用して薬液を製造する場合の各装置の関係を表す模式図である。
図11において、ろ過装置400の形態は、既に説明した本発明の第三実施形態に係るろ過装置と同様のため説明は省略する。
タンク401(a)及び各配管の形態は特に制限されず、本発明の実施形態に係るろ過装置が有するタンク及び配管として説明したのと同様の形態のタンク及び配管が使用できる。蒸留器1102の形態は、本発明の実施形態に係る精製装置が有する蒸留器と同様の蒸留器を使用でき、その形態は後述する。
(精製装置)
本工程で使用する精製装置は、既に説明したろ過装置を有する精製装置である。本発明の実施形態に係る精製装置は、既に説明したろ過装置と、第2の流入部と、第2の流出部と、第2の流入部と第2の流出部との間に配置された少なくとも1つの蒸留器と、を有し、上記第2の流出部と既に説明したろ過装置が有する流入部とが接続され、上記第2の流入部から、上記ろ過装置が有する流出部にいたる流通路が形成された精製装置である。以下では、上記精製装置について、図面を示しながら説明する。
なお、下記の説明において、ろ過装置の構成に関する内容は、既に説明した内容と同様であり説明を省略する。
図12は本発明の精製装置の第一実施形態を表す模式図である。精製装置1200は、第2の流入部1201と、第2の流出部1202と、第2の流入部1201と第2の流出部1202との間に配置された蒸留器1203と、を有し、第2の流出部1202が、ろ過装置が有する流入部101と接続されている。これにより精製装置1200においては、第2の流入部1201、蒸留器1203、第2の流出部1202、流入部101、フィルタ104(フィルタBU)、配管105、フィルタ103(フィルタA)、及び、流出部102により流通路S12が形成されている。
すなわち、蒸留器1203が、ろ過装置100の流入部101に接続されている。
図13は精製装置の第二実施形態を表す模式図である。精製装置1300は、第2の流入部1301と、第2の流出部1302と、第2の流入部1301と第2の流出部1302との間に直列に配置された蒸留器1303及び蒸留器1304と、を有し、第2の流出部1302が、ろ過装置が有する流入部101と接続されている。これにより精製装置1300においては、第2の流入部1301、蒸留器1303、配管1305、蒸留器1304、第2の流出部1302、流入部101、フィルタ104(フィルタBU)、配管105、フィルタ103(フィルタA)、及び、流出部102により流通路S13が形成されている。
すなわち、本実施形態に係る精製装置は、直列に接続された複数の蒸留器を含む。なお、直列に接続された蒸留器を3つ以上含む場合は、最後段の蒸留器がろ過装置と接続される。
次に、耐腐食材料について説明する。これまで説明した本発明の実施形態に係るろ過装置、及び、精製装置は、その接液部の少なくとも一部が耐腐食材料で形成されていることが好ましく、接液部の90%以上が耐腐食材料で形成されていることがより好ましく、接液部の99%以上が耐腐食材料で形成されていることが更に好ましい。
金属材料としては例えば、ステンレス鋼、及びNi−Cr合金等が挙げられる。
Ni−Cr合金としては、例えば、ハステロイ(商品名、以下同じ。)、モネル(商品名、以下同じ)、及びインコネル(商品名、以下同じ)等が挙げられる。より具体的には、ハステロイC−276(Ni含有量63質量%、Cr含有量16質量%)、ハステロイ−C(Ni含有量60質量%、Cr含有量17質量%)、ハステロイC−22(Ni含有量61質量%、Cr含有量22質量%)等が挙げられる。
また、Ni−Cr合金は、必要に応じて、上記した合金の他に、更に、B、Si、W、Mo、Cu、及び、Co等を含有していてもよい。
なお、金属材料はバフ研磨されていてもよい。バフ研磨の方法は特に制限されず、公知の方法を用いることができる。バフ研磨の仕上げに用いられる研磨砥粒のサイズは特に制限されないが、金属材料の表面の凹凸がより小さくなりやすい点で、#400以下が好ましい。なお、バフ研磨は、電解研磨の前に行われることが好ましい。
本発明の第二の実施形態に係る薬液の製造方法は、被精製液を精製して薬液を得る、薬液の製造方法であって、被精製液を、ポリフルオロカーボン製の多孔質基材と、基材を覆うように配置された親水性基を有する第1の樹脂を含有する被覆層とを有するフィルタA、並びに、フィルタAとは異なるフィルタB、を用いてろ過して薬液を得る工程を有する、薬液の製造方法である。
本実施形態に係る薬液の製造方法は、被精製液をフィルタA及びフィルタAとは異なるフィルタBを用いてろ過する。被精製液をろ過する際、フィルタA、フィルタBの順に通液してもよいし、フィルタB、フィルタAの順に通液してもよい。
なお、本実施形態に係る薬液の製造方法としては、フィルタA及びフィルタBを用いていれば特に制限されず、複数のフィルタA、及び/又は、複数のフィルタBを順番に用いて被精製液をろ過してもよい。
[薬液]
上記ろ過装置を用いて製造される薬液は半導体基板の製造に用いられることが好ましい。特に、ノード10nm以下の微細パターンを形成するため(例えば、極紫外線を用いたパターン形成を含む工程)に用いられることがより好ましい。
言い換えれば、上記ろ過装置は、半導体基板の製造用の薬液の製造に用いられることが好ましく、具体的には、リソグラフィー工程、エッチング工程、イオン注入工程、及び、剥離工程等を含有する半導体デバイスの製造工程において、各工程の終了後、又は、次の工程に移る前に、無機物、及び/又は、有機物を処理するために使用される薬液の製造用に用いられることが好ましい。
上記ろ過装置は、具体的には現像液、リンス液、ウェハ洗浄液、ライン洗浄液、プリウェット液、ウェハリンス液、レジスト液、下層膜形成用液、上層膜形成用液、及び、ハードコート形成用液からなる群より選択される少なくとも1種(有機系被精製液を精製して得られる薬液)であることが好ましく、他の形態としては、水系水性現像液、水性リンス液、剥離液、リムーバー、エッチング液、酸性洗浄液、及び、リン酸、リン酸−過酸化水素水混合液(SPM:Sulfuric acid-Hydrogen Peroxide Mixture)からなる群より選択される少なくとも1種(水系被精製液を精製して得られる薬液)の製造に用いられることが好ましい。
また、上記ろ過装置は、レジスト液に含有される樹脂の希釈液、レジスト液に含有される溶剤の製造にも使用できる。
また、上記ろ過装置は、医療用途又は洗浄用途の溶媒の製造にも使用できる。特に、容器、配管、及び、基板(例えば、ウェハ、及び、ガラス等)等の洗浄に用いる薬液の製造に使用できる。
なかでも、上記ろ過装置は、EUV(極紫外線)を用いたパターン形成における、プリウェット液、現像液、及び、リンス液からなる群より選択される少なくとも1種の製造に使用するのが好ましい。
上記ろ過装置により製造された薬液は、容器に収容されて使用時まで保管されてもよい。このような容器と、容器に収容された薬液とをあわせて薬液収容体という。保管された薬液収容体からは、薬液が取り出され使用される。
使用可能な容器としては、特に制限されないが、例えば、アイセロ化学(株)製の「クリーンボトル」シリーズ、及び、コダマ樹脂工業製の「ピュアボトル」等が挙げられるが、これらに制限されない。
図14に記載した精製装置を使用して、薬液1を製造した。図14の精製装置は、流入部と流出部の間に、フィルタBU−1、タンクTU−1、フィルタBU−2、フィルタF−A、フィルタBD−1、タンクT−2、及び、フィルタBD−2が、直列に接続されたろ過装置と、上記ろ過装置の前段に接続された蒸留器(D1及びD2の2連の蒸留器、表1中では「2連式」と記載した。)とを有する。各ユニットは配管と共に流通路S−14を形成するとともに、流通路S−14においてフィルタF−A(フィルタF−Aは既に説明したフィルタAに該当する)の下流側(タンクT−2)からフィルタF−Aの上流側へと、被精製液を返送可能な返送流通路R−14が形成されている。
なお、薬液1の製造に用いた各フィルタが含有する材料成分、及び、孔径は表1に示した。なお各フィルタは、PGMEAに1日浸漬した後に使用した。
特開2016−194038号公報の0124段落及び0125段落の記載を参考に、孔径20nmのPTFE多孔質膜の表面に、ポリ(M8−b−NPF6)の被覆層を形成した。孔径は、ポリ(M8−b−NPF6)の被覆量により調整した。なお、孔径は、既に説明した方法により測定したものである。
なお、PTFE−1の被覆層を形成する樹脂は、親水性基としてポリオキシアルキレン基を有する。
特開2016−194038号公報の0023段落に記載されたポリ(M8−b−NPF6)−S(CH2)SO3Naを合成した。具体的には、特開2016−194038号公報の0103〜0109段落の記載を参考に上記コポリマーを合成した。合成したコポリマーを用いて、PTFE−1と同様の方法にて被覆層を有する多孔質PTFE膜を製造した。
なお、PTFE−2の被覆層を形成する樹脂は、親水性基として、ポリオキシアルキレン基、及び、スルホン酸(塩)基を有する。
特開2016−194038号公報の0023段落に記載されたポリ(M8−b−NPF6)−S−CH2COOHを合成した。具体的には、特開2016−194038号公報の0103〜0109段落の記載を参考に上記コポリマーを合成した。合成したコポリマーを用いて、PTFE−1と同様の方法にて被覆層を有する多孔質PTFE膜を製造した。
なお、PTFE−3の被覆層を形成する樹脂は、親水性基としてポリオキシアルキレン基、及び、カルボン酸(塩)基を有する。
特開2016−199733号公報の0014段落に記載された、ポリ(NTEG−b−NPF6)/チオグリセロールを合成した。具体的には、特開2016−199733号公報の0106〜0108段落の記載を参考に上記コポリマーを合成した。合成したコポリマーを用いて、PTFE−1と同様の方法にて被覆層を有する多孔質PTFE膜を製造した。
なお、PTFE−4の被覆層を形成する樹脂は、親水性基としてポリオキシアルキレン基、及び、チオエーテル基と水酸基とを有する基を有する。
・IEX:ポリエチレン製の基材に、スルホン酸基からなるイオン交換基を導入して得られたフィルタ
・Nylon:ナイロン
・UPE:超高分子量ポリエチレン
・PTFE:ポリテトラフルオロエチレン
・CHN:シクロヘキサノン
・PGMEA/PGME(7:3):PGMEAとPGMEの7:3(体積基準)の混合物
・nBA:酢酸ブチル
・PC/PGMEA(1:9):PCとPGMEAの1:9(体積基準)の混合物
・EL:乳酸エチル
・MIBC:4−メチル−2−ペンタノール
・PGME:プロピレングリコールモノエチルエーテル
・PGMEA:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
・PC:炭酸プロピレン
・iAA:酢酸イソアミル
・IPA:イソプロパノール
表1に記載した精製装置(又はろ過装置)を用いて、表1に記載した各被精製液を精製して薬液を得た。なお、各精製装置(又はろ過装置)は、図14〜図30に示した。フィルタF−A、フィルタBU−1〜BU−4、フィルタBD−1〜BD−2が含有する材料成分、及び、孔径は表1に示したとおりである。なお、被精製液の精製に際して、使用したろ過装置にR−(数字)で示した返送流通路が形成されているものであって、表1中の「循環」欄に「有」とあるものは、それぞれの返送流通路について3回循環ろ過した。
また、表1には、各被精製液のSP値もあわせて記載した。なお、表中、「−」はそのフィルタを使用しなかったことを意味し、本明細書における他の表についても同様である。
また、表1中の「フィルタの事前洗浄」欄には、各フィルタの事前洗浄の条件を記載した。「PGMEA 1day浸漬」とあるものは、高純度グレードのPGMEAに1日浸漬した後にフィルタを使用したことを表わしている。なお、同欄に「−」とあるものは、フィルタの事前洗浄を行わなかったことを表わしている。
直径約300mmのシリコンウェハ(Bare−Si)上に、薬液1をスピン塗布し、薬液塗布済みウェハを得た。使用した装置は、Lithius ProZであり、塗布の条件は以下のとおりだった。
・塗布の際のシリコンウェハの回転数:2,200rpm、60sec
SP−5にて計測された全欠陥数を残渣欠陥数として計上し、G6にて形状観測を行い、粒子状ではないもの(シミ状)の欠陥をシミ状欠陥として計上した。結果は以下の基準により評価し、表1に示した。
なお、ウェハ上に存在する欠陥の数が少ないほど、薬液はより優れた欠陥抑制性能を有する。なお、以下の評価において、「欠陥数」とは、それぞれ残渣欠陥数、及び、シミ状欠陥数を表す。上記と同様の方法により薬液2〜64についても評価した。結果を表1に示した。
A 欠陥数が30個/ウェハを超え、50個/ウェハ以下だった。
B 欠陥数が50個/ウェハを超え、100個/ウェハ以下だった。
C 欠陥数が100個/ウェハを超え、200個/ウェハ以下だった。
D 欠陥数が200個/ウェハを超え、500個/ウェハ以下だった。
E 欠陥数が500個/ウェハを超えた。
薬液1をプリウェット液として用いて、薬液のブリッジ欠陥抑制性能を評価した。まず、使用したレジスト樹脂組成物1について説明する。
レジスト樹脂組成物1は、以下の各成分を混合して得た。
PGMEA(プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート):3質量部
シクロヘキサノン:600質量部
γ−BL(γ−ブチロラクトン):100質量部
次に試験方法について説明する。まず、約300mmのシリコンウェハを薬液1でプリウェットし、次に、上記レジスト樹脂組成物を上記プリウェット済みシリコンウェハに回転塗布した。その後、ホットプレート上で150℃にて90秒間加熱乾燥を行い、9μmの厚みのレジスト膜を形成した。
このレジスト膜に対し、縮小投影露光及び現像後に形成されるパターンのライン幅が30nm、スペース幅が30nmとなるような、ラインアンドスペースパターンを有するマスクを介して、ArFエキシマレーザースキャナー(ASML製、PAS5500/850C波長248nm)を用いて、NA=0.60、σ=0.75の露光条件でパターン露光した。照射後に120℃にて60秒間ベークして、その後、現像、及び、リンスし、110℃にて60秒ベークして、ライン幅が30nm、スペース幅が30nmのレジストパターンを形成した。
A ブリッジ欠陥数が1個/cm2以上、2個/cm2未満だった。
B ブリッジ欠陥数が2個/cm2以上、5個/cm2未満だった。
C ブリッジ欠陥数が5個/cm2以上、10個/cm2未満だった。
D ブリッジ欠陥数が10個/cm2以上、15個/cm2未満だった。
E ブリッジ欠陥数が15個/cm2以上だった。
上記レジストパターンについて、測長SEM(CG4600, Hitach−HighTech)にて、パターンを100ショット分取得し、LWR(Line Width Roughness)の平均値と最大(又は最小)線幅との差を求めた。結果は以下の基準により評価し、表1に示した。なお、上記「差」が小さいほど、薬液は、より優れたパターン幅の均一性能を有する。なお、「LWRの平均値と最大(又は最小)線幅との差」は、LWRの平均値と最大線幅と、LWRの平均値と最小線幅の差のうち、絶対値が大きい値を採用した。
A 線幅の平均値と最大(最小)との差が、平均値に対して±5%未満だった。
B 線幅の平均値と最大(最小)との差が、平均値に対して±10%未満だった。
C 線幅の平均値と最大(最小)との差が、平均値に対して±20%未満だった。
D 線幅の平均値と最大(最小)との差が、平均値に対して±20%以上だった。
E 線幅の測定ができないショットが含まれていた。
表1に記載した各精製装置(又はろ過装置)を用いて被精製液を連続して精製した。被精製液を通液して精製装置(又はろ過装置)の状態が安定した後、すぐに得られた薬液を試験用(初期サンプル)として回収し、その後、通液量10000kgごとに精製後に得られた薬液を試験用(経時サンプル)として回収した。試験用に回収した薬液は、「評価1」で説明した薬液の残渣欠陥抑制性能の評価法により評価し、単位面積当たりの欠陥数を初期サンプルと比較して、経時サンプルの欠陥数が2倍となったときの通液量をフィルタの「寿命」とした。図24に記載したろ過装置を使用した場合の寿命を1とし、各装置のフィルタの寿命を比で評価した。結果は以下の基準により評価し、表1に示した。なお、図24の装置については評価結果に「基準」と表記した。
A 寿命が5倍以上、10倍未満だった。
B 寿命が2倍以上、5倍未満だった。
C 寿命が1倍を超え、2倍未満だった。
D 寿命が1倍以下だった。
被精製液として、SPM(Sulfuric acid−Hydrogen Peroxide Mixture)、及び、リン酸水溶液(リン酸含有量85質量%)を購入して準備した。
次に、図20に記載したろ過装置を使用して、薬液101、薬液102を製造した。図20のろ過装置は、流入部と流出部の間に、フィルタBU−1、フィルタBU−2、タンクTU−1、フィルタF−A、フィルタBD−1、タンクTD−1、及び、フィルタBD−2が、直列に接続され、流通路S−20が形成されたろ過装置である。また、図20に記載したろ過装置には、フィルタBD−1の下流側から、フィルタF−Aの上流側へ被精製液を返送可能な返送流通路R−20が形成されており、被精製液は3回循環ろ過した。なお、図20のろ過装置における各フィルタが含有する材料成分、及び、孔径は表2に示した。
なお、表2中におけるフィルタの材料成分に係る略号は、表1と同様であり、説明を省略する。
図20に記載したろ過装置に代えて、図25に記載したろ過装置(フィルタF−Aを有し、流通路S−20が形成されている)を用いたこと以外は、薬液103及び薬液104と同様にして、薬液103及び薬液104を製造した。フィルタF−Aの材料成分等については、表2に示した。なお、上記薬液の製造に際して、循環ろ過は行っていない。
直径約300mmのベアシリコンウェハを準備し、ウェハを500rpmの条件で回転させながら、各薬液の100mlを5ml/sの吐出速度で、20秒かけて吐出した。その後、2000rpm、30秒間ウェハを回転させてスピンドライ処理を実施した。これを評価用ウェハとした。次に、KLA−Tencor社製のウェハ検査装置「SP−5」とアプライドマテリアル社の全自動欠陥レビュー分類装置「SEMVision G6」を用いて、ウェハの全面に存在する26nm以上のサイズの欠陥の数、及び、その組成を調べた。
計測された欠陥のうち、粒子状の異物をパーティクル欠陥、上記以外をシミ状欠陥として計数し、以下の基準により評価した。結果を表2の「パーティクル欠陥抑制性能」及び「シミ状欠陥抑制性能」の欄に示した。なお、欠陥数とあるのは、それぞれ、パーティクル欠陥数、及び、シミ状欠陥数を表す。
B 欠陥数が50個/ウェハを超え、300個/ウェハ以下だった。
C 欠陥数が300個/ウェハを超えた。
表2に記載した各ろ過装置を用いて被精製液を連続して精製した。被精製液を通液してろ過装置の状態が安定した後、すぐに得られた薬液を試験用(初期サンプル)として回収し、その後、通液量10000kgごとに精製後に得られた薬液を試験用(経時サンプル)として回収した。試験用に回収した薬液は、「評価1」で説明した薬液のパーティクル欠陥抑制性能の評価法により評価し、単位面積当たりの欠陥数を初期サンプルと比較して、経時サンプルの欠陥数が2倍となったときの通液量をフィルタの「寿命」とした。図25に記載したろ過装置(薬液103)を使用した場合の寿命を1とし、各装置のフィルタの寿命を比で評価した。結果は以下の基準により評価し、表2に示した。なお、図25の装置(薬液103)については評価結果に「基準」と表記した。
B 寿命が5倍以上、10倍未満だった。
C 寿命が1倍を超え、5倍未満だった。
D 寿命が1倍以下だった。
被精製液として、以下の成分を含有するレジスト樹脂組成物2を準備した。
樹脂(A−2)の合成
2Lフラスコにシクロヘキサノン600gを入れ、100mL/minの流量で一時間窒素置換した。その後、重合開始剤V−601(和光純薬工業(株)製)0.02molを加え、内温が80℃になるまで昇温した。次に、以下のモノマー1〜3と重合開始剤V−601(和光純薬工業(株)製)0.02molとを、シクロヘキサノン200gに溶解し、モノマー溶液を調製した。モノマー溶液を上記80℃に加熱したフラスコ中に6時間かけて滴下した。滴下終了後、更に80℃で2時間反応させた。
モノマー1:0.3mol
モノマー2:0.6mol
モノマー3:0.1mol
なお、樹脂の組成(モル比)は、1H−NMR(核磁気共鳴)測定により算出した。樹脂の重量平均分子量(Mw:ポリスチレン換算)、分散度(Mw/Mn)はGPC(溶媒:THF)測定により算出した。
・プロピレングリコールモノメチルエーテル:30g
表3には、精製に使用した各フィルタが含有する材料成分、及び、孔径を示した。
表3に記載したろ過装置を使用したことを除いては、薬液201と同様にして薬液202及び薬液203を製造した。なお、薬液203の製造においては、循環ろ過を行わなかった。
被精製液として、以下の成分を含有するレジスト樹脂組成物3を準備した。
樹脂(A−14)の合成
用いるモノマーを変更した以外は、上記樹脂(A−2)の合成と同様の方法で、以下の構造を有する樹脂(A−14)を得た。
・シクロヘキサノン:30g
表3には、精製に使用した各フィルタが含有する材料成分、及び、孔径を示した。
表3に記載したろ過装置を使用したことを除いては、薬液204と同様にして薬液205及び薬液206を製造した。なお、薬液206の製造においては、循環ろ過を行わなかった。
被精製液として、以下の成分を含有するレジスト樹脂組成物4を準備した。
樹脂(A−1)−3は、特開2009−265609号公報の0131〜0134段落の記載を参照して合成した。なお、樹脂(A−1)−3の有する繰り返し単位は、以下の式で表されるとおりであり、その組成(モル比)は、左側から順に50/40/10であった。また、重量平均分子量は20000であり、Mw/Mnで表される分散度は、1.57だった。
ここで、上記(A−1)−3からD−1までの含有量はレジスト樹脂組成物4の固形分中における質量基準の含有量を示す。
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート:80質量%
プロピレングリコールモノメチルエーテル:20質量%なお、上記溶剤の含有量は、レジスト樹脂組成物4が含有する溶剤中における、各溶剤の含有量(溶剤の全質量を100質量%としたときのそれぞれの含有量)を示す。なお、レジスト樹脂組成物4の固形分は10質量%となるよう調整した。
表3には、精製に使用した各フィルタが含有する材料成分、及び、孔径を示した。
表3に記載したろ過装置を使用したことを除いては、薬液207と同様にして薬液208及び薬液209を製造した。なお、薬液209の製造においては、循環ろ過を行わなかった。
薬液201〜薬液203を用いて、以下の操作により薬液の欠陥抑制性能(現像後欠陥抑制性能、及び、ブリッジ欠陥抑制性能を評価した。なお、EUV露光とはEUVを用いた露光によるパターン形成方法を表す。
上記で作製したウェハに、NA(レンズ開口数、Numerical Aperture)0.25、ダイポール照明(Dipole 60x、アウターシグマ0.81、インナーシグマ0.43)でEUV露光を行った。具体的には、ネガ型のレジストに対しては1mJ/cm2の露光量にてマスクを介さず全面露光を行った。
上記で作製したウェハに、NA(レンズ開口数、Numerical Aperture)0.25、Quasar照明(Quasar45、アウターシグマ0.81、インナーシグマ0.51)でEUV露光を行った。具体的には、ウェハ上寸法がピッチ60nm、ホールサイズ30nmのコンタクトホールパターンを形成する為のパターン(C/Hの抜け性評価用)、およびライン幅が22nm、ピッチが50nmのLS(ラインアンドスペース)パターンが含まれたマスクを介して、露光量を調整後にライン幅が22nmとなる露光量でウェハ全面にEUV露光を行った。
上記の条件で露光した後、ただちに、100℃の条件で60秒間ベークした。
その後、シャワー型現像装置(ACTES(株)製ADE3000S)を用いて、50回転(rpm)でウェハを回転しながら、現像液(23℃)を、200mL/分の流量で30秒間スプレー吐出することで、現像し、評価用試料を得た。
露光したLSパターンの解像状況を、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製CG4600)を用いて倍率200kでn=300個の視野について観察し、観察した一視野内にてLSパターンのブリッジが起こった個数を評価し、LSパターンでのブリッジ欠陥数とした。この数値が小さいほど、薬液は優れたブリッジ欠陥抑制性能を有する。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
A:欠陥数が10(個/視野)以下だった。
B:欠陥数が10(個/視野)を超え、30(個/視野)以下だった。
C:欠陥数が30(個/視野)を超え、100(個/視野)以下だった。
D:欠陥数が100(個/視野)を超え、300(個/視野)以下だった。
E:欠陥数が300(個/視野)を超えた。
得られた試料について、KLA−Tencor社製のウェハ検査装置「SP−5」を用いて、ウェハの全面に存在する19nm以上のサイズの全欠陥数を求めた。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
B:欠陥数が200個/ウェハを超え、500個/ウェハ以下だった。
C:欠陥数が500個/ウェハを超え、1000個/ウェハ以下だった。
D:欠陥数が1000個/ウェハを超え、1500個/ウェハ以下だった。
E:欠陥数が1500個/ウェハを超えた。
薬液204〜薬液206を用いて、以下の操作により薬液の欠陥抑制性能(現像後欠陥抑制性能、及び、ブリッジ欠陥抑制性能を評価した。なお、ArF露光とは、ArFエキシマレーザを用いた露光によるパターン形成方法を表す。
なお、レジスト膜を塗布する前に、シリコンウェハ上に有機反射防止膜形成用組成物ARC29SR(Brewer社製)を塗布し、205℃で60秒間ベークを行い膜厚86nmの反射防止膜を形成した。
上記で作製したウェハに、ArFエキシマレーザ液浸スキャナー(ASML社製XT1700i、NA1.20、Dipole、アウターシグマ0.900、インナーシグマ0.700、Y偏向)を用いて、ArF露光を行った。具体的には、ネガ型のレジストに対しては1mJ/cm2の露光量にてマスクを介さず全面露光を行った。
得られたウェハをArFエキシマレーザ液浸スキャナー(ASML社製XT1700i、NA1.20、Dipole、アウターシグマ0.900、インナーシグマ0.700、Y偏向)を用いて、パターン露光を行った。なお、レクチルとしては、ラインサイズ=50nmであり且つライン:スペース=1:1である6%ハーフトーンマスクを用いた。また、液浸液としては、超純水を用いた。
得られるパターンがピッチ100nm、スペース幅35nm、ライン幅65nmのラインアンドスペースパターンとなるよう条件を調整した。
その後、100℃でベーク(Post Exposure Bake;PEB)した後、現像液で30秒間パドルして現像し、パターン衛星したウェハを作成した。また、リンス処理を行う場合には現像液で30秒間パドルして現像した後に、ウェハが乾燥する前にリンス液でパドルしてリンスした後、4000rpmの回転数で30秒間ウェハを回転させることにより、評価用試料を得た。
露光したLSパターンの解像状況を、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製CG4600)を用いて倍率200kでn=300個の視野について観察し、観察した一視野内にてLSパターンのブリッジが起こった個数を評価し、LSパターンでのブリッジ欠陥数とした。この数値が小さいほど、薬液は優れたブリッジ欠陥抑制性能を有する。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
A:欠陥数が10(個/視野)以下だった。
B:欠陥数が10(個/視野)を超え、30(個/視野)以下だった。
C:欠陥数が30(個/視野)を超え、100(個/視野)以下だった。
D:欠陥数が100(個/視野)を超え、300(個/視野)以下だった。
E:欠陥数が300(個/視野)を超えた。
得られた試料について、KLA−Tencor社製のウェハ検査装置「SP−5」を用いて、ウェハの全面に存在する19nm以上のサイズの全欠陥数を求めた。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
B:欠陥数が200個/ウェハを超え、500個/ウェハ以下だった。
C:欠陥数が500個/ウェハを超え、1000個/ウェハ以下だった。
D:欠陥数が1000個/ウェハを超え、1500個/ウェハ以下だった。
E:欠陥数が1500個/ウェハを超えた。
薬液207〜薬液209を用いて、以下の操作により薬液の欠陥抑制性能(現像後欠陥抑制性能、及び、ブリッジ欠陥抑制性能を評価した。なお、KrFとはKrFエキシマレーザを用いた露光によるパターン形成方法を表す。
上記で作製したウェハに、KrFエキシマレーザースキャナー(ASML社製、PAS5500/850)(NA0.80)を用いて、KrF露光を行った。具体的には、ネガ型のレジストに対しては1mJ/cm2の露光量にてマスクを介さず全面露光を行った。
得られたウェハをKrFエキシマレーザースキャナー(ASML社製、PAS5500/850)(NA0.80)を用いて、パターン露光を行った。なお、レクチルとしては、ラインサイズ=175nm、スペースサイズ=263nmであるラインアンドスペースパターンのバイナリマスクを用いた。得られるパターンがピッチ438nm、スペース幅130nm、ライン幅308nmのラインアンドスペースパターンとなるよう調整した。
その後、100℃60秒の条件でベーク(Post Exposure Bake;PEB)した後、現像液で30秒間パドルして現像し、更にリンス処理を実施する際はリンス液でパドルしてリンスした後、4000rpmの回転数で30秒間ウェハを回転させることにより、評価用試料を得た。
尚、現像液としては、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ社製のFHD−5を使用した。
露光したLSパターンの解像状況を、走査型電子顕微鏡((株)日立製作所製CG4600)を用いて倍率200kでn=300個の視野について観察し、観察した一視野内にてLSパターンのブリッジが起こった個数を評価し、LSパターンでのブリッジ欠陥数とした。この数値が小さいほど、薬液は優れたブリッジ欠陥抑制性能を有する。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
A:欠陥数が10(個/視野)以下だった。
B:欠陥数が10(個/視野)を超え、30(個/視野)以下だった。
C:欠陥数が30(個/視野)を超え、100(個/視野)以下だった。
D:欠陥数が100(個/視野)を超え、300(個/視野)以下だった。
E:欠陥数が300(個/視野)を超えた。
得られた試料について、KLA−Tencor社製のウェハ検査装置「SP−5」を用いて、ウェハの全面に存在する19nm以上のサイズの全欠陥数を求めた。結果は以下の基準に従い評価し、表3に示した。
B:欠陥数が200個/ウェハを超え、500個/ウェハ以下だった。
C:欠陥数が500個/ウェハを超え、1000個/ウェハ以下だった。
D:欠陥数が1000個/ウェハを超え、1500個/ウェハ以下だった。
E:欠陥数が1500個/ウェハを超えた。
表3に記載した各ろ過装置を用いて被精製液を連続して精製した。被精製液を通液してろ過装置の状態が安定した後、すぐに得られた薬液を試験用(初期サンプル)として回収し、その後、通液量10000kgごとに精製後に得られた薬液を試験用(経時サンプル)として回収した。試験用に回収した薬液は、「評価1」で説明した薬液のブリッジ欠陥抑制性能の評価法により評価し、単位面積当たりの欠陥数を初期サンプルと比較して、経時サンプルの欠陥数が2倍となったときの通液量をフィルタの「寿命」とした。図25に記載したろ過装置(薬液203)を使用して、同じ種類の被精製液を精製した場合の寿命を1とし、各装置のフィルタの寿命を比で評価した。結果は以下の基準により評価し、表3に示した。なお、図25の装置(薬液203)については評価結果に「基準」と表記した。
A 寿命が5倍以上、10倍未満だった。
B 寿命が2倍以上、5倍未満だった。
C 寿命が1倍を超え、2倍未満だった。
D 寿命が1倍以下だった。
表1には、各グループの5つの分割表の対応する行にわたって、各薬液の精製に用いたろ過装置(又は精製装置)が有するフィルタ、及び、得られた薬液の評価結果が記載されている。
例えば、表1の第1グループ:表1(1−1)〜表1(1−5)のそれぞれの1行目には、薬液1について記載されている。
これは、薬液1が、図14に記載した精製装置により製造されたことを示し、薬液1の製造に用いた被精製液は、CHN(シクロヘキサノン)を含有し、そのSP値は20.3であることを示している。また、薬液1の製造に用いた精製装置のフィルタは、「PGMEA 1day浸漬」の条件で事前に洗浄されたことを示している。また、精製装置は、2連式の蒸留器と、BU−1(流通路の最も上流側に配置されたUPEを含有する孔径50nmのフィルタ)、BU−2(BU−1の下流側に配置された孔径15nmのIEXフィルタ)、とを有し、フィルタA(F−A)の上流側にタンクTU−1を有し、F−A(フィルタA)としては、孔径10nmのPTFE−1フィルタを有し、フィルタF−Aの下流側には、BD−1(ナイロンを含有する孔径10nmのフィルタ)、BD−2(UPEを含有する孔径3nmフィルタ)を有し、更に、フィルタF−Aの下流側には、タンクTD−1を有することを示している。また、循環ろ過が「有」であったことを示している。
更に薬液1は「プリウェット」の方法で評価され、残渣欠陥抑制性能がAA、シミ状欠陥抑制性能がAA、ブリッジ欠陥抑制性能がAA、パターン幅の均一性能がAA、そして、精製装置のフィルタの寿命がAAであったことを示している。
薬液2〜32については、同様に第1グループの各表に結果が記載され、薬液33〜64については、第2グループの各表に結果が記載されている。
例えば、各分割表のそれぞれの1行目には、薬液101について記載されている。
これは、薬液101が図20に記載されたろ過装置により製造されたことを示し、薬液101の製造に用いた被精製液は、SPM(4:1)であることを示している。また、薬液101の製造に用いたろ過装置のフィルタは「PGMEA 1day浸漬」の条件で事前に洗浄されたことを示している。また、ろ過装置は、BU−1(PTFEを含有する孔径200nmのフィルタ)、BU−2(PTFEを含有する孔径20nmのフィルタ)を有し、更に、フィルタF−Aの上流側にはタンクTU−1を有し、F−A(フィルタA)としては、孔径15nmのPTFE−3フィルタを有し、その下流側には、BD−1(PTFEを含有する孔径10nmのフィルタ)、BD−2(PTFEを含有する孔径10nmのフィルタ)、更に、タンクTD−1を有することを示している。また、循環ろ過が「有」であったことを示している。
薬液101の評価は、パーティクル欠陥抑制性能がA、シミ状欠陥抑制性能がA、そしてろ過装置のフィルタの寿命がAであったことを示している。
薬液102〜104については、同様に上記表中に結果が記載されている。
例えば、各分割表のそれぞれの1行目には、薬液201について記載されている。
これは、薬液301が図26に記載されたろ過装置により製造されたことを示し、薬201の製造に用いた被精製液は、レジスト樹脂組成物2であることを示している。また、薬液201の製造に用いたろ過装置のフィルタは「PGMEA 1day浸漬」の条件で事前に洗浄されたことを示している。また、ろ過装置は、BU−1(Nylonを含有する孔径10nmのフィルタ)を有し、更に、フィルタF−Aの上流側にはタンクTU−1を有し、F−A(フィルタA)としては、孔径10nmのPTFE−3フィルタを有し、その下流側には、BD−1(UPEを含有する孔径1nmのフィルタ)を有することを示している。また、循環ろ過が「有」であったことを示している。
薬液201の評価は、ブリッジ欠陥抑制性能がA、現像後欠陥抑制性能がA、そしてろ過装置のフィルタの寿命がAであったことを示している。
薬液202〜209については、同様に上記表中に結果が記載されている。
一方従来技術に係るろ過装置(又は精製装置)を用いて製造された薬液34、薬液103、薬液104、薬液203、薬液206、及び、薬液209は所望の欠陥抑制性能を有していなかった。
101 流入部
102 流出部
103、104、201、601、104−1、104−2 フィルタ
105、202、301、302、402、501、502、602、701、801、802、803、804,901、1001、1002、1003、1104、1105、1305 配管
401、401(a)、401(b) タンク
1100 製造場
1101 蒸留装置
1102、1203、1303、1304 蒸留器
1103 可搬型タンク
1106 運搬手段
1200、1300 精製装置
1201、1301 第2の流入部
1202、1302 第2の流出部
Claims (24)
- 流入部と、流出部と、
フィルタAと、前記フィルタAとは異なる少なくとも1つのフィルタBと、を有し、
前記フィルタA及び前記フィルタBは、前記流入部及び前記流出部の間に直列に配置され、前記流入部から前記流出部にいたる流通路を有する、被精製液を精製して薬液を得るためのろ過装置であって、
前記フィルタAは、ポリフルオロカーボン製の多孔質基材と、前記多孔質基材を覆うように配置された親水性基を有する第1の樹脂を含有する被覆層と、を有するろ過装置。 - 前記親水性基がポリオキシアルキレン基である、請求項1に記載のろ過装置。
- 前記フィルタBは、前記流通路上において前記フィルタAの上流側に配置されたフィルタBUを少なくとも1つ含む、請求項1又は2に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBUは、前記フィルタAより大きな孔径を有する請求項3に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBUは、20nm以上の孔径を有する請求項3又は4に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBUは、イオン交換基を有する樹脂を含有する、請求項3〜5のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記イオン交換基が、酸基、塩基基、アミド基、及び、イミド基からなる群より選択される少なくとも1種である、請求項6に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBUは、前記フィルタAと少なくとも材料が異なる、請求項3〜7のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記フィルタA、及び、前記フィルタBUからなる群より選択される少なくとも1種のフィルタからなる第1基準フィルタの下流側から、前記第1基準フィルタの上流側へと、前記被精製液を返送可能な返送流通路を有する、請求項3〜8のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記フィルタBは、前記流通路上において前記フィルタAの下流側に配置されたフィルタBDを少なくとも含む、請求項1〜9のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBDが、前記フィルタAより小さな孔径を有する、請求項10に記載のろ過装置。
- 少なくとも1つの前記フィルタBDが、20nm以下の孔径を有する、請求項10又は11に記載のろ過装置。
- 前記フィルタBDが、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフルオロカーボン、ポリスチレン、ポリスルホン、及び、ポリエーテルスルホンからなる群より選択される少なくとも1種を含有する、請求項10〜12のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記フィルタBDが、親水性基を有する第2の樹脂を含有する請求項10〜13のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記フィルタA、及び、前記フィルタBDからなる群より選択される少なくとも1種のフィルタからなる第2基準フィルタの下流側から、前記第2基準フィルタの上流側へと、前記被精製液を返送可能な返送流通路を有する、請求項10〜14のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記流通路上に、前記フィルタAと直列に配置されたタンクを更に有する請求項1〜15のいずれか一項に記載のろ過装置。
- 前記タンクに対して前記流通路の上流側に、
前記タンクと直列に配置された、孔径20nm以上のフィルタCを更に有する請求項16に記載のろ過装置。 - 前記薬液が、現像液、リンス液、ウェハ洗浄液、ライン洗浄液、プリウェット液、ウェハリンス液、レジスト液、下層膜形成用液、上層膜形成用液、及び、ハードコート形成用液からなる群より選択される少なくとも1種であるか、又は、
水性現像液、水性リンス液、剥離液、リムーバー、エッチング液、酸性洗浄液、及び、リン酸、リン酸−過酸化水素水混合液からなる群より選択される少なくとも1種である請求項1〜17のいずれか一項に記載のろ過装置。 - 請求項1〜17のいずれか一項に記載のろ過装置と、
前記ろ過装置の前記流入部に接続された少なくとも1つの蒸留器と、
を有する精製装置。 - 前記少なくとも1つの蒸留器は、直列に接続された複数の蒸留器を含む、請求項19に記載の精製装置。
- 被精製液を精製して薬液を得る、薬液の製造方法であって、請求項1〜17のいずれか一項に記載のろ過装置を用いて、被精製液を精製して薬液を得る、ろ過工程を有する、薬液の製造方法。
- 前記ろ過工程の前に、前記フィルタA、及び、前記フィルタBを洗浄するフィルタ洗浄工程を更に有する、請求項21に記載の薬液の製造方法。
- 前記ろ過工程の前に、前記ろ過装置の接液部を洗浄する装置洗浄工程を更に有する、請求項21又は22に記載の薬液の製造方法。
- 被精製液を精製して薬液を得る、薬液の製造方法であって、
前記被精製液を、
ポリフルオロカーボン製の多孔質基材と、前記多孔質基材を覆うように配置された親水性基を有する第1の樹脂を含有する被覆層を含むフィルタA、並びに、
前記フィルタAとは異なるフィルタB、を用いてろ過して薬液を得る工程を有する、薬液の製造方法。
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Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013218308A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-10-24 | Jsr Corp | 現像液の精製方法、精製現像液、及びレジストパターン形成方法 |
JP2016073922A (ja) * | 2014-10-07 | 2016-05-12 | 信越化学工業株式会社 | 有機溶剤の精製装置 |
JP2016196625A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-24 | ポール・コーポレーションPall Corporation | 親水性改質フッ素化膜(i) |
WO2017022836A1 (ja) * | 2015-08-04 | 2017-02-09 | 日本ゴア株式会社 | 回路基板製造プロセス液用精密フィルタ |
WO2017188209A1 (ja) * | 2016-04-28 | 2017-11-02 | 富士フイルム株式会社 | 精製装置、精製方法、製造装置、薬液の製造方法、容器、及び薬液収容体 |
WO2018043697A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2018-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4788043A (en) * | 1985-04-17 | 1988-11-29 | Tokuyama Soda Kabushiki Kaisha | Process for washing semiconductor substrate with organic solvent |
US5242468A (en) * | 1991-03-19 | 1993-09-07 | Startec Ventures, Inc. | Manufacture of high precision electronic components with ultra-high purity liquids |
JP2003251120A (ja) | 2002-02-27 | 2003-09-09 | Ebara Corp | 微粒子・金属不純物精密濾過用フィルターカートリッジ |
JP4637476B2 (ja) * | 2002-12-19 | 2011-02-23 | 東京応化工業株式会社 | ホトレジスト組成物の製造方法 |
EP1917096A4 (en) * | 2005-08-26 | 2010-03-31 | Entegris Inc | POROUS MEMBRANES CONTAINING AN EXCHANGE RESIN |
KR100796067B1 (ko) * | 2006-05-09 | 2008-01-21 | 울산화학주식회사 | 반도체 제조용 건식 에칭 개스 및 그의 제조방법 |
EP2844374B1 (en) * | 2012-05-01 | 2018-09-19 | Entegris, Inc. | Organic solvent purifier and method of using |
US9421498B2 (en) * | 2012-11-12 | 2016-08-23 | Pall Corporation | Systems and methods for conditioning a filter assembly |
WO2016017754A1 (ja) * | 2014-07-30 | 2016-02-04 | 三菱マテリアル株式会社 | 濾材、濾材の製造方法、水処理用モジュール及び水処理装置 |
US9649603B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-05-16 | Pall Corporation | Hydrophilically modified fluorinated membrane (III) |
US9724650B2 (en) | 2015-03-31 | 2017-08-08 | Pall Corporation | Hydrophilically modified fluorinated membrane (II) |
WO2017175856A1 (ja) | 2016-04-08 | 2017-10-12 | 富士フイルム株式会社 | 処理液、その製造方法、パターン形成方法及び電子デバイスの製造方法 |
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Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013218308A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-10-24 | Jsr Corp | 現像液の精製方法、精製現像液、及びレジストパターン形成方法 |
JP2016073922A (ja) * | 2014-10-07 | 2016-05-12 | 信越化学工業株式会社 | 有機溶剤の精製装置 |
JP2016196625A (ja) * | 2015-03-31 | 2016-11-24 | ポール・コーポレーションPall Corporation | 親水性改質フッ素化膜(i) |
WO2017022836A1 (ja) * | 2015-08-04 | 2017-02-09 | 日本ゴア株式会社 | 回路基板製造プロセス液用精密フィルタ |
WO2017188209A1 (ja) * | 2016-04-28 | 2017-11-02 | 富士フイルム株式会社 | 精製装置、精製方法、製造装置、薬液の製造方法、容器、及び薬液収容体 |
WO2018043697A1 (ja) * | 2016-09-02 | 2018-03-08 | 富士フイルム株式会社 | 有機溶剤の精製方法および有機溶剤の精製装置 |
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US11759749B2 (en) | 2023-09-19 |
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