JP2014219506A - レジスト組成物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明者らは、これまでケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物のリソグラフィー特性や安定性について鋭意検討し、特許文献1などに示されているケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物を提供することが出来た。
しかしながら、半導体装置の微細化が更に進行し、上層レジストパターンの微細化も進行しており、回転塗布により提供されるケイ素含有レジスト下層膜に要求される性能として、従来よりも低欠陥の塗布膜の開発が求められていた。
本発明では、フィルターから溶出される主に炭化水素で構成されている溶出物の量が少ないものを使用することで、フィルター内におけるシロキサンゲルの発生を抑制し、塗布欠陥の少ないケイ素含有膜を形成することが可能となる。
(実施例1)
インテグリス社製のポリエチレン5nmフィルター(面積1.1m2)をプロピレングリコールエチルエーテル20Lで循環洗浄した後、洗浄液を廃棄した。これを10回繰り返してフィルターの洗浄を行った。このフィルターに50℃のトルエンを5時間循環し、得られたトルエンを濃縮してGC−MSで溶出物中の炭化水素の量を測定したところ、炭素数が10〜40の炭化水素が2mg検出できた。
このフィルターと同じ洗浄をしたものを使用して、ケイ素含有レジスト下層膜組成物としてSHB−A94(信越化学工業 製)を循環ろ過で製造した。これを東京エレクトロン社製クリーントラックACT12を用いて回転塗布後、240℃で焼成して塗布膜を形成した。この塗布膜の塗布欠陥をKLA−Tencor社製明視野欠陥検査装置を使用して測定して、0.12マイクロメートル以上の塗布欠陥数の結果を表1に示す。
インテグリス社製のポリエチレン5nmフィルター(面積1.1m2)に50℃のトルエンを5時間循環し、得られたトルエンを濃縮してGC−MSで溶出物中の炭化水素の量を測定したところ、8mgの炭化水素化合物を検出した。
このフィルターと同じ洗浄をしたものを使用して、ケイ素含有レジスト下層膜組成物としてSHD−A94(信越化学工業 製)を循環ろ過で製造した。これを東京エレクトロン社製クリーントラックACT12を用いて回転塗布後、240℃で焼成して塗布膜を形成した。この塗布膜の塗布欠陥をKLA−Tencor社製明視野欠陥検査装置を使用して0.12マイクロメートル以上の塗布欠陥数の測定した結果を表1に示す。
(実施例1)
インテグリス社製のポリエチレン5nmフィルター(面積1.1m2)をプロピレングリコールエチルエーテル20Lで循環洗浄した後、洗浄液を廃棄した。これを10回繰り返してフィルターの洗浄を行った。このフィルターに50℃のトルエンを5時間循環し、得られたトルエンを濃縮してGC−MSで溶出物中の炭化水素の量を測定したところ、炭素数が10〜40の炭化水素が2mg検出できた。
このフィルターと同じ洗浄をしたものを使用して、ケイ素含有レジスト下層膜組成物としてSHB−A940(信越化学工業 製)を循環ろ過で製造した。これを東京エレクトロン社製クリーントラックACT12を用いて回転塗布後、240℃で焼成して塗布膜を形成した。この塗布膜の塗布欠陥をKLA−Tencor社製明視野欠陥検査装置を使用して測定して、0.12マイクロメートル以上の塗布欠陥数の結果を表1に示す。
インテグリス社製のポリエチレン5nmフィルター(面積1.1m2)に50℃のトルエンを5時間循環し、得られたトルエンを濃縮してGC−MSで溶出物中の炭化水素の量を測定したところ、8mgの炭化水素化合物を検出した。
このフィルターと同じ洗浄をしたものを使用して、ケイ素含有レジスト下層膜組成物としてSHB−A940(信越化学工業 製)を循環ろ過で製造した。これを東京エレクトロン社製クリーントラックACT12を用いて回転塗布後、240℃で焼成して塗布膜を形成した。この塗布膜の塗布欠陥をKLA−Tencor社製明視野欠陥検査装置を使用して0.12マイクロメートル以上の塗布欠陥数の測定した結果を表1に示す。
Claims (4)
- 半導体装置の製造工程で使用するレジスト組成物をフィルターでろ過することによって製造する方法であって、前記フィルターとして有機溶剤による抽出において、フィルター単位表面積(m2)当たりの溶出物の重量が5mg以下のフィルターを用いてろ過することを特徴とするレジスト組成物の製造方法。
- 前記ろ過されるレジスト組成物が、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物であることを特徴とする請求項1に記載のレジスト組成物の製造方法。
- 前記有機溶剤は水酸基を含まない有機溶剤とすることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のレジスト組成物の製造方法。
- 前記フィルターの材質をナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、フルオロカーボン系のいずれかを含むものとすることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載のレジスト組成物の製造方法。
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