JP2013092686A - リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法 - Google Patents
リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013092686A JP2013092686A JP2011235224A JP2011235224A JP2013092686A JP 2013092686 A JP2013092686 A JP 2013092686A JP 2011235224 A JP2011235224 A JP 2011235224A JP 2011235224 A JP2011235224 A JP 2011235224A JP 2013092686 A JP2013092686 A JP 2013092686A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resist composition
- filter
- composition
- resist
- lithography
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D36/00—Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
- B01D36/001—Filters in combination with devices for the removal of gas, air purge systems
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
Abstract
【解決手段】リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法であって、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、前記フィルターが設置されている容器内を減圧下に保持した後、前記フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることを特徴とするリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。
【選択図】なし
Description
上述のように、リソグラフィープロセスに使用されるレジスト組成物の薄膜化、多層化が進むにつれ、プロセスの歩留まりに対して欠陥が与える影響も次第に大きくなっている。
しかし、従来の方法によっては、組成物中の気泡が起因と予想される欠陥を、十分には低減できていないことがわかった。
本発明のリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法は、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、前記フィルターが設置されている容器内を減圧下に保持した後、前記フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることを特徴とする。
図1は、本発明の製造方法に用いられる装置の一例である。この装置は、タンク1、送液ポンプ2、フィルター容器3、真空ポンプ4、及びこれに付属する配管(図示されていない配管を含む)、バルブ(弁)(図示されていないバルブを含む)等から構成されている。
洗浄液としては、純水や、リソグラフィー用レジスト組成物の主溶剤等が、好ましく用いられる。洗浄後の洗浄液は、フィルター容器3等の排出弁(図示せず)等により排出する。
[実施例]
図1に示される装置を使用した。まず、フィルター容器3に、ポリエチレン製(公称除粒子径0.005マイクロメートル、ろ過面積2.2平方メートル)カートリッジフィルターをセットし、フィルター容器3の前後(フィルター容器3とこれに付属する配管との間)を弁で遮断した後、真空ポンプ4でフィルター容器3内を−99kPaGにした。そのままの圧力で、真空ポンプ4とフィルター容器3を絶縁した。
真空ポンプ4によるフィルター容器3の真空脱気手順を省いた他は、全て実施例と同様の手順で製品容器5に製品(ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物)を充填した。
5…製品容器。
Claims (3)
- リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法であって、少なくとも、リソグラフィー用レジスト組成物をフィルターでろ過する工程を含み、該ろ過工程において、前記フィルターが設置されている容器内を減圧下に保持した後、前記フィルターに前記リソグラフィー用レジスト組成物を通過させることを特徴とするリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。
- 前記ろ過工程において、前記フィルターを前記容器内に設置した後、該容器内を洗浄液で洗浄し、その後容器内を減圧下に保持することを特徴とする請求項1に記載のリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。
- 前記リソグラフィー用レジスト組成物として、レジスト保護膜形成用組成物、フォトレジスト組成物、EUV用レジスト組成物、EB用レジスト組成物、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物、及び有機レジスト下層膜形成用組成物のいずれかを用いることを特徴とする請求項1又は2に記載のリソグラフィー用レジスト組成物の製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011235224A JP5727350B2 (ja) | 2011-10-26 | 2011-10-26 | リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法、レジスト保護膜形成用組成物の製造方法、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の製造方法、及び有機レジスト下層膜形成用組成物の製造方法 |
US13/605,360 US8927192B2 (en) | 2011-10-26 | 2012-09-06 | Production method of resist composition for lithography |
KR1020120118869A KR20130045815A (ko) | 2011-10-26 | 2012-10-25 | 리소그래피용 레지스트 조성물의 제조 방법 |
TW101139513A TWI471691B (zh) | 2011-10-26 | 2012-10-25 | The manufacturing method of photoresist composition for micro shadowing |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011235224A JP5727350B2 (ja) | 2011-10-26 | 2011-10-26 | リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法、レジスト保護膜形成用組成物の製造方法、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の製造方法、及び有機レジスト下層膜形成用組成物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013092686A true JP2013092686A (ja) | 2013-05-16 |
JP5727350B2 JP5727350B2 (ja) | 2015-06-03 |
Family
ID=48172776
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011235224A Active JP5727350B2 (ja) | 2011-10-26 | 2011-10-26 | リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法、レジスト保護膜形成用組成物の製造方法、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の製造方法、及び有機レジスト下層膜形成用組成物の製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US8927192B2 (ja) |
JP (1) | JP5727350B2 (ja) |
KR (1) | KR20130045815A (ja) |
TW (1) | TWI471691B (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014219506A (ja) * | 2013-05-07 | 2014-11-20 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物の製造方法 |
KR20150026853A (ko) * | 2013-09-02 | 2015-03-11 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 조성물의 제조 방법 |
JP2015144318A (ja) * | 2015-04-21 | 2015-08-06 | 東京エレクトロン株式会社 | フィルタウエッティング方法、フィルタウエッティング装置及び記憶媒体 |
JP2015197646A (ja) * | 2014-04-03 | 2015-11-09 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物の製造方法及びパターン形成方法 |
KR20160120670A (ko) | 2015-04-08 | 2016-10-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 리소그래피용 도포막의 형성 방법 |
WO2018142888A1 (ja) * | 2017-02-01 | 2018-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置 |
JP2019040201A (ja) * | 2018-10-30 | 2019-03-14 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
WO2020130005A1 (ja) * | 2018-12-20 | 2020-06-25 | 日産化学株式会社 | リソグラフィー用塗布膜形成組成物の製造方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6199686B2 (ja) * | 2013-10-04 | 2017-09-20 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物の製造方法 |
WO2018128159A1 (ja) * | 2017-01-06 | 2018-07-12 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の品質検査方法 |
KR20200126552A (ko) * | 2019-04-30 | 2020-11-09 | 삼성전자주식회사 | 다중 필터들을 가진 레지스트 필터링 시스템 및 레지스트 코팅 설비 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01199607A (ja) * | 1988-02-02 | 1989-08-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性塗布液の処理方法 |
US20080135498A1 (en) * | 2006-12-11 | 2008-06-12 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for filter conditioning |
JP2008140964A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薬液供給装置および半導体装置の製造方法 |
JP2010020297A (ja) * | 2008-06-11 | 2010-01-28 | Jsr Corp | 液浸露光用組成物の製造方法及び液浸露光用組成物 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5676216A (en) * | 1979-11-24 | 1981-06-23 | Nec Corp | Washing method for filter |
JP2587953B2 (ja) * | 1987-09-30 | 1997-03-05 | 日立電子エンジニアリング株式会社 | レジスト塗布装置 |
WO2004071629A1 (en) * | 2003-02-12 | 2004-08-26 | Millipore Corporation | Vacuum filtration device |
KR100817619B1 (ko) * | 2005-03-31 | 2008-03-31 | 도요 고세이 고교 가부시키가이샤 | 감광성 수지 및 감광성 조성물 및 광가교체 |
KR101288411B1 (ko) * | 2005-12-02 | 2013-07-22 | 삼성디스플레이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 포토레지스트 패턴 형성방법 및 표시 기판의 제조 방법 |
-
2011
- 2011-10-26 JP JP2011235224A patent/JP5727350B2/ja active Active
-
2012
- 2012-09-06 US US13/605,360 patent/US8927192B2/en active Active
- 2012-10-25 KR KR1020120118869A patent/KR20130045815A/ko not_active Application Discontinuation
- 2012-10-25 TW TW101139513A patent/TWI471691B/zh active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01199607A (ja) * | 1988-02-02 | 1989-08-11 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性塗布液の処理方法 |
JP2008140964A (ja) * | 2006-12-01 | 2008-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薬液供給装置および半導体装置の製造方法 |
US20080135498A1 (en) * | 2006-12-11 | 2008-06-12 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for filter conditioning |
JP2010020297A (ja) * | 2008-06-11 | 2010-01-28 | Jsr Corp | 液浸露光用組成物の製造方法及び液浸露光用組成物 |
Cited By (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014219506A (ja) * | 2013-05-07 | 2014-11-20 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物の製造方法 |
KR20150026853A (ko) * | 2013-09-02 | 2015-03-11 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 조성물의 제조 방법 |
JP2015049395A (ja) * | 2013-09-02 | 2015-03-16 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物の製造方法 |
KR101720388B1 (ko) * | 2013-09-02 | 2017-03-27 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 레지스트 조성물의 제조 방법 |
JP2015197646A (ja) * | 2014-04-03 | 2015-11-09 | 信越化学工業株式会社 | レジスト組成物の製造方法及びパターン形成方法 |
US10603696B2 (en) | 2014-04-03 | 2020-03-31 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for manufacturing resist composition and patterning process |
KR20160120670A (ko) | 2015-04-08 | 2016-10-18 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 리소그래피용 도포막의 형성 방법 |
US9502247B2 (en) | 2015-04-08 | 2016-11-22 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Method for forming coating film for lithography |
JP2016201426A (ja) * | 2015-04-08 | 2016-12-01 | 信越化学工業株式会社 | リソグラフィー用塗布膜の形成方法 |
JP2015144318A (ja) * | 2015-04-21 | 2015-08-06 | 東京エレクトロン株式会社 | フィルタウエッティング方法、フィルタウエッティング装置及び記憶媒体 |
WO2018142888A1 (ja) * | 2017-02-01 | 2018-08-09 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置 |
JPWO2018142888A1 (ja) * | 2017-02-01 | 2019-12-19 | 富士フイルム株式会社 | 薬液の製造方法、及び、薬液の製造装置 |
TWI763770B (zh) * | 2017-02-01 | 2022-05-11 | 日商富士軟片股份有限公司 | 藥液的製造方法及藥液的製造裝置 |
JP2019040201A (ja) * | 2018-10-30 | 2019-03-14 | 信越化学工業株式会社 | パターン形成方法 |
WO2020130005A1 (ja) * | 2018-12-20 | 2020-06-25 | 日産化学株式会社 | リソグラフィー用塗布膜形成組成物の製造方法 |
JPWO2020130005A1 (ja) * | 2018-12-20 | 2021-11-04 | 日産化学株式会社 | リソグラフィー用塗布膜形成組成物の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201335695A (zh) | 2013-09-01 |
KR20130045815A (ko) | 2013-05-06 |
US20130108958A1 (en) | 2013-05-02 |
TWI471691B (zh) | 2015-02-01 |
US8927192B2 (en) | 2015-01-06 |
JP5727350B2 (ja) | 2015-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5727350B2 (ja) | リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法、レジスト保護膜形成用組成物の製造方法、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の製造方法、及び有機レジスト下層膜形成用組成物の製造方法 | |
JP5702699B2 (ja) | リソグラフィー用レジスト組成物の製造方法、レジスト保護膜形成用組成物の製造方法、ケイ素含有レジスト下層膜形成用組成物の製造方法、及び有機レジスト下層膜形成用組成物の製造方法 | |
KR102442878B1 (ko) | 리소그래피용 도포막 형성용 조성물의 제조 방법 및 패턴 형성 방법 | |
TWI520195B (zh) | A cleaning method of a mask-related substrate, a cleaning method, and a cleaning solution supply device | |
JP6466650B2 (ja) | レジスト組成物の製造方法 | |
KR100828863B1 (ko) | 반도체 장치의 제조 방법 및 기판 처리 장치 | |
JP2016201426A (ja) | リソグラフィー用塗布膜の形成方法 | |
TW201027265A (en) | Lithographic apparatus and a method of removing contamination | |
KR101666261B1 (ko) | 규소 함유 레지스트 하층막의 제막 방법 | |
JP5236418B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄液供給装置 | |
JP2011043584A (ja) | 基板の洗浄装置及び洗浄方法 | |
JP4995655B2 (ja) | 洗浄方法 | |
JP4450219B2 (ja) | レジスト膜の成膜方法、及びレジスト液の微小気泡の発生防止方法 | |
KR20070052205A (ko) | 반도체 제조용 약액 공급 장치의 세정액 | |
JP2009182328A (ja) | 液浸リソグラフィ装置 | |
JP5367188B2 (ja) | 洗浄方法および洗浄液供給装置 | |
Kohyama et al. | Updated UPE filter design for point-of-use EUV CAR photoresist filtration for defect improvement | |
JP2019040201A (ja) | パターン形成方法 | |
JP2008227173A (ja) | パターン形成方法および基板処理装置 | |
JP2011142250A (ja) | 液浸露光装置及びその洗浄方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131125 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140813 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140819 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141008 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150317 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150402 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5727350 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |