JP2015527221A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2015527221A5 JP2015527221A5 JP2015518586A JP2015518586A JP2015527221A5 JP 2015527221 A5 JP2015527221 A5 JP 2015527221A5 JP 2015518586 A JP2015518586 A JP 2015518586A JP 2015518586 A JP2015518586 A JP 2015518586A JP 2015527221 A5 JP2015527221 A5 JP 2015527221A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyimide
- mol
- metal
- clad laminate
- metal foil
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 229920001721 Polyimide Polymers 0.000 claims description 63
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 63
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 23
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims description 19
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Oxydianiline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-amino-2-(trifluoromethyl)phenyl]-3-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=C(N)C=C1C(F)(F)F NVKGJHAQGWCWDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N BPDA Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C=2C=C3C(=O)OC(C3=CC=2)=O)=C1 WKDNYTOXBCRNPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 7
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 claims description 6
- 239000000945 filler Substances 0.000 claims description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 6
- 239000011095 metalized laminate Substances 0.000 claims 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
Description
いくつかの実施形態において、回路基板は、真空プラテンプレスを使用して、320〜380℃の積層温度および150psi(10.55kg/cm)〜400psi(28.13kg/cm)の圧力において、第1のポリイミドカバーレイ(存在する場合)、両面クラッド(第1の像形成された金属層、第1の電気絶縁層および第2の像形成された金属層)、ボンドプライ、第2の両面クラッド(第3の像形成された金属層、第2の電気絶縁層および第4の像形成された金属層)および第2のポリイミドカバーレイ(存在する場合)を積層することによって製造される。
なお、本発明は、特許請求の範囲を含め、以下の発明を包含する。
1.a.金属箔と、
b.前記金属箔に直接接触する第1の側面と、第2の側面とを有し、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、20〜90モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび10〜80モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなるポリイミド層と
を含んでなるポリイミド金属張積層体であって、
前記金属箔と前記ポリイミド層との間に接合層を有さず、かつ
320〜380℃の温度および150psi(10.55kg/cm)〜400psi(28.13kg/cm)の圧力において前記金属箔および前記ポリイミド層が一緒に積層される場合、IPC−TM−650−2.4.9dに従って測定した場合、1〜3.3N/mmの剥離強度を有する、ポリイミド金属張積層体。
2.前記金属箔が銅である、1に記載のポリイミド金属張積層体。
3.前記金属箔が銅であり、かつ前記ポリイミド層が、1〜55重量パーセントの熱伝導性充填剤、誘電性充填剤またはそれらの混合物を含んでなる、1に記載のポリイミド金属張積層体。
4.前記ポリイミド層の前記第2の側面に直接接触する第2の金属箔をさらに含んでなり、かつ前記第2の金属箔と前記ポリイミド層との間の接合層を有さない、1に記載のポリイミド金属張積層体。
5.前記第2の金属箔が銅である、3に記載のポリイミド金属張積層体。
6.前記金属箔および前記第2の金属箔が銅であり、かつ前記ポリイミド層が、1〜55重量パーセントの熱伝導性充填剤、誘電性充填剤またはそれらの混合物を含んでなる、3に記載のポリイミド金属張積層体。
7.前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、40〜90モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび10〜60モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、3に記載のポリイミド金属張積層体。
8.前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、20〜30モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび70〜80モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、3に記載のポリイミド金属張積層体。
9.前記ポリイミド層の厚さが2〜26ミクロンである、1に記載のポリイミド金属張積層体。
10.前記ポリイミド層の厚さが27〜105ミクロンである、1に記載のポリイミド金属張積層体。
11.前記ポリイミド層が、1〜55重量パーセントの熱伝導性充填剤、誘電性充填剤またはそれらの混合物を含んでなる、1に記載のポリイミド金属張積層体。
12.前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、40〜90モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび10〜60モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、1に記載のポリイミド金属張積層体。
13.前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、20〜30モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび70〜80モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、1に記載のポリイミド金属張積層体。
なお、本発明は、特許請求の範囲を含め、以下の発明を包含する。
1.a.金属箔と、
b.前記金属箔に直接接触する第1の側面と、第2の側面とを有し、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、20〜90モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび10〜80モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなるポリイミド層と
を含んでなるポリイミド金属張積層体であって、
前記金属箔と前記ポリイミド層との間に接合層を有さず、かつ
320〜380℃の温度および150psi(10.55kg/cm)〜400psi(28.13kg/cm)の圧力において前記金属箔および前記ポリイミド層が一緒に積層される場合、IPC−TM−650−2.4.9dに従って測定した場合、1〜3.3N/mmの剥離強度を有する、ポリイミド金属張積層体。
2.前記金属箔が銅である、1に記載のポリイミド金属張積層体。
3.前記金属箔が銅であり、かつ前記ポリイミド層が、1〜55重量パーセントの熱伝導性充填剤、誘電性充填剤またはそれらの混合物を含んでなる、1に記載のポリイミド金属張積層体。
4.前記ポリイミド層の前記第2の側面に直接接触する第2の金属箔をさらに含んでなり、かつ前記第2の金属箔と前記ポリイミド層との間の接合層を有さない、1に記載のポリイミド金属張積層体。
5.前記第2の金属箔が銅である、3に記載のポリイミド金属張積層体。
6.前記金属箔および前記第2の金属箔が銅であり、かつ前記ポリイミド層が、1〜55重量パーセントの熱伝導性充填剤、誘電性充填剤またはそれらの混合物を含んでなる、3に記載のポリイミド金属張積層体。
7.前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、40〜90モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび10〜60モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、3に記載のポリイミド金属張積層体。
8.前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、20〜30モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび70〜80モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、3に記載のポリイミド金属張積層体。
9.前記ポリイミド層の厚さが2〜26ミクロンである、1に記載のポリイミド金属張積層体。
10.前記ポリイミド層の厚さが27〜105ミクロンである、1に記載のポリイミド金属張積層体。
11.前記ポリイミド層が、1〜55重量パーセントの熱伝導性充填剤、誘電性充填剤またはそれらの混合物を含んでなる、1に記載のポリイミド金属張積層体。
12.前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、40〜90モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび10〜60モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、1に記載のポリイミド金属張積層体。
13.前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、20〜30モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび70〜80モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、1に記載のポリイミド金属張積層体。
Claims (10)
- a.金属箔と、
b.前記金属箔に直接接触する第1の側面と、第2の側面とを有し、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、20〜90モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび10〜80モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなるポリイミド層と
を含んでなるポリイミド金属張積層体であって、
前記金属箔と前記ポリイミド層との間に接合層を有さず、かつ
320〜380℃の温度および150psi(10.55kg/cm)〜400psi(28.13kg/cm)の圧力において前記金属箔および前記ポリイミド層が一緒に積層される場合、IPC−TM−650−2.4.9dに従って測定した場合、1〜3.3N/mmの剥離強度を有する、ポリイミド金属張積層体。 - 前記金属箔が銅である、請求項1に記載のポリイミド金属張積層体。
- 前記金属箔が銅であり、かつ前記ポリイミド層が、1〜55重量パーセントの熱伝導性充填剤、誘電性充填剤またはそれらの混合物を含んでなる、請求項1に記載のポリイミド金属張積層体。
- 前記ポリイミド層の前記第2の側面に直接接触する第2の金属箔をさらに含んでなり、かつ前記第2の金属箔と前記ポリイミド層との間の接合層を有さない、請求項1に記載のポリイミド金属張積層体。
- 前記金属箔および前記第2の金属箔が銅であり、かつ前記ポリイミド層が、1〜55重量パーセントの熱伝導性充填剤、誘電性充填剤またはそれらの混合物を含んでなる、請求項4に記載のポリイミド金属張積層体。
- 前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、40〜90モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび10〜60モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、請求項4に記載のポリイミド金属張積層体。
- 前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、20〜30モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび70〜80モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、請求項4に記載のポリイミド金属張積層体。
- 前記ポリイミド層が、1〜55重量パーセントの熱伝導性充填剤、誘電性充填剤またはそれらの混合物を含んでなる、請求項1に記載のポリイミド金属張積層体。
- 前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、40〜90モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび10〜60モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、請求項1に記載のポリイミド金属張積層体。
- 前記ポリイミド層が、100モル%の3,3’,4,4’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、20〜30モル%の2,2’−ビス(トリフルオロメチル)ベンジジンおよび70〜80モル%の4,4’−オキシジアニリンから誘導されるポリイミドを含んでなる、請求項1に記載のポリイミド金属張積層体。
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261663291P | 2012-06-22 | 2012-06-22 | |
US201261663258P | 2012-06-22 | 2012-06-22 | |
US201261663270P | 2012-06-22 | 2012-06-22 | |
US201261663254P | 2012-06-22 | 2012-06-22 | |
US201261663280P | 2012-06-22 | 2012-06-22 | |
US61/663,280 | 2012-06-22 | ||
US61/663,254 | 2012-06-22 | ||
US61/663,291 | 2012-06-22 | ||
US61/663,258 | 2012-06-22 | ||
US61/663,270 | 2012-06-22 | ||
PCT/US2013/046936 WO2013192469A1 (en) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | Polyimide metal clad laminate |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015527221A JP2015527221A (ja) | 2015-09-17 |
JP2015527221A5 true JP2015527221A5 (ja) | 2016-06-23 |
JP6105724B2 JP6105724B2 (ja) | 2017-03-29 |
Family
ID=48746133
Family Applications (8)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015518588A Active JP6100892B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | ポリイミド金属張積層体 |
JP2015518585A Active JP6139676B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
JP2015518584A Pending JP2015528204A (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
JP2015518589A Active JP6258930B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
JP2015518592A Active JP6114387B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
JP2015518586A Active JP6105724B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | ポリイミド金属張積層体 |
JP2015518590A Active JP6258931B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
JP2015518587A Pending JP2015523730A (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
Family Applications Before (5)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015518588A Active JP6100892B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | ポリイミド金属張積層体 |
JP2015518585A Active JP6139676B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
JP2015518584A Pending JP2015528204A (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
JP2015518589A Active JP6258930B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
JP2015518592A Active JP6114387B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
Family Applications After (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015518590A Active JP6258931B2 (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
JP2015518587A Pending JP2015523730A (ja) | 2012-06-22 | 2013-06-21 | 回路基板 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (8) | US20150342042A1 (ja) |
EP (8) | EP2865244A1 (ja) |
JP (8) | JP6100892B2 (ja) |
CN (8) | CN104541586B (ja) |
WO (6) | WO2013192474A1 (ja) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI481649B (zh) * | 2013-09-09 | 2015-04-21 | Taimide Technology Inc | 黑色聚醯亞胺膜及其加工方法 |
DE112014007245T5 (de) * | 2014-12-10 | 2017-09-28 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Mehrlagige Folie |
JP6237706B2 (ja) * | 2015-06-05 | 2017-11-29 | 富士通オプティカルコンポーネンツ株式会社 | 光モジュール及び光送受信装置 |
US10719016B2 (en) * | 2015-08-21 | 2020-07-21 | Asahi Kasei Kabushiki Kaisha | Photosensitive resin composition, polyimide production method, and semiconductor device |
US11021606B2 (en) * | 2017-09-13 | 2021-06-01 | E I Du Pont De Nemours And Company | Multilayer film for electronic circuitry applications |
JP2020066237A (ja) * | 2018-10-19 | 2020-04-30 | ユニチカ株式会社 | 積層フィルム |
CN115427229A (zh) * | 2020-05-29 | 2022-12-02 | 东洋纺株式会社 | 含透明高耐热膜的层叠体 |
Family Cites Families (47)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4709468A (en) * | 1986-01-31 | 1987-12-01 | Texas Instruments Incorporated | Method for producing an integrated circuit product having a polyimide film interconnection structure |
JPH11333376A (ja) * | 1997-06-23 | 1999-12-07 | Unitika Ltd | ポリイミド前駆体溶液並びにそれから得られる塗膜及びその製造方法 |
KR20000035259A (ko) * | 1998-11-05 | 2000-06-26 | 다케다 마사토시 | 폴리이미드 필름 및 이를 사용한 전기/전자 기기용 기판 |
KR100797689B1 (ko) * | 2003-04-18 | 2008-01-23 | 가부시키가이샤 가네카 | 열경화성 수지 조성물, 이를 이용한 적층체 및 회로 기판 |
JP2005166828A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-06-23 | Nitto Denko Corp | 両面配線基板用積層体及びその製造方法 |
JP4031756B2 (ja) * | 2003-12-22 | 2008-01-09 | 日東電工株式会社 | 配線回路基板 |
US7316791B2 (en) * | 2003-12-30 | 2008-01-08 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Polyimide based substrate comprising doped polyaniline |
US7495887B2 (en) * | 2004-12-21 | 2009-02-24 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Capacitive devices, organic dielectric laminates, and printed wiring boards incorporating such devices, and methods of making thereof |
JP2006206756A (ja) * | 2005-01-28 | 2006-08-10 | Sony Chem Corp | ポリイミド化合物及びフレキシブル配線板 |
KR100973637B1 (ko) * | 2005-04-18 | 2010-08-02 | 토요 보세키 가부시기가이샤 | 박막 적층 폴리이미드 필름 및 연성 인쇄 배선판 |
TWI286148B (en) * | 2005-05-30 | 2007-09-01 | Chang Chun Plastics Co Ltd | Novel polyimide resin and its preparation method |
US7550194B2 (en) * | 2005-08-03 | 2009-06-23 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Low color polyimide compositions useful in optical type applications and methods and compositions relating thereto |
JP5049784B2 (ja) * | 2005-08-04 | 2012-10-17 | 株式会社カネカ | 金属被覆ポリイミドフィルム |
KR20070058812A (ko) * | 2005-12-05 | 2007-06-11 | 주식회사 코오롱 | 폴리이미드 필름 |
JP5119401B2 (ja) * | 2007-02-01 | 2013-01-16 | 倉敷紡績株式会社 | 熱可塑性ポリイミド層を有するフレキシブル積層板及びその製造方法 |
JP2007268917A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Kurabo Ind Ltd | 熱可塑性ポリイミド層を有するフレキシブル積層板及びその製造方法 |
KR20090004894A (ko) * | 2006-03-31 | 2009-01-12 | 구라시키 보세키 가부시키가이샤 | 열가소성 폴리이미드층을 갖는 연성 적층판 및 그의 제조 방법 |
WO2008004496A1 (en) * | 2006-07-06 | 2008-01-10 | Toray Industries, Inc. | Thermoplastic polyimide, and laminated polyimide film and metal foil-laminated polyimide film using the thermoplastic polyimide |
CN101484500A (zh) * | 2006-07-06 | 2009-07-15 | 东丽株式会社 | 热塑性聚酰亚胺、使用该聚酰亚胺的层合聚酰亚胺薄膜以及金属箔层合聚酰亚胺薄膜 |
US9023974B2 (en) * | 2007-01-26 | 2015-05-05 | Honshu Chemical Industry Co., Ltd. | Ester group-containing tetracarboxylic acid dianhydride, novel polyesterimide precursor derived therefrom, and polyesterimide |
JP4888719B2 (ja) * | 2007-07-13 | 2012-02-29 | 東レ・デュポン株式会社 | 銅張り板 |
JP5383343B2 (ja) * | 2008-06-26 | 2014-01-08 | 新日鉄住金化学株式会社 | 白色ポリイミドフィルム |
JP5524475B2 (ja) * | 2008-11-28 | 2014-06-18 | 株式会社有沢製作所 | 2層両面フレキシブル金属積層板及びその製造方法 |
JP2010195983A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | 樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた硬化物、フレキシブル銅張積層板、フレキシブルプリント基板、及びフレキシブルプリント基板の製造方法 |
JP2010201625A (ja) * | 2009-02-27 | 2010-09-16 | Nippon Steel Chem Co Ltd | フレキシブル基板用積層体及び熱伝導性ポリイミドフィルム |
JP5100716B2 (ja) * | 2009-07-27 | 2012-12-19 | 住友電気工業株式会社 | ネガ型感光性樹脂組成物及びそれを用いたポリイミド樹脂膜、フレキシブルプリント配線板 |
US20130196134A1 (en) * | 2009-08-03 | 2013-08-01 | E I Du Pont De Nemours And Company | Matte finish polyimide films and methods relating thereto |
US8574720B2 (en) * | 2009-08-03 | 2013-11-05 | E.I. Du Pont De Nemours & Company | Matte finish polyimide films and methods relating thereto |
WO2012011970A1 (en) * | 2010-07-23 | 2012-01-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Matte finish polyimide films and methods relating thereto |
US8541107B2 (en) * | 2009-08-13 | 2013-09-24 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Pigmented polyimide films and methods relating thereto |
US10321840B2 (en) | 2009-08-14 | 2019-06-18 | Brainscope Company, Inc. | Development of fully-automated classifier builders for neurodiagnostic applications |
JP2011060622A (ja) * | 2009-09-11 | 2011-03-24 | Nippon Steel Chem Co Ltd | 透明導電性膜積層体およびその製造方法 |
WO2011051412A1 (en) | 2009-10-29 | 2011-05-05 | Sun Chemical B.V. | Polyamideimide adhesives for printed circuit boards |
US20110123796A1 (en) * | 2009-11-20 | 2011-05-26 | E.I. Dupont De Nemours And Company | Interposer films useful in semiconductor packaging applications, and methods relating thereto |
WO2011063247A2 (en) * | 2009-11-20 | 2011-05-26 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Interposer films useful in semiconductor packaging applications, and methods relating thereto |
WO2011089922A1 (ja) * | 2010-01-25 | 2011-07-28 | 三井化学株式会社 | ポリイミド樹脂組成物、それを含む接着剤、積層体およびデバイス |
JP2011209521A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ポジ型感光性樹脂組成物 |
CN102405259B (zh) * | 2010-05-31 | 2013-03-13 | 株式会社有泽制作所 | 聚酰亚胺树脂用组合物及由其形成的聚酰亚胺树脂 |
JP2012006200A (ja) * | 2010-06-23 | 2012-01-12 | Asahi Kasei E-Materials Corp | ポリイミド金属積層体、及びそれを用いたプリント配線板 |
WO2012024099A1 (en) * | 2010-08-16 | 2012-02-23 | Board Of Trustees Of Michigan State University | Water and oil separation system |
US8853723B2 (en) * | 2010-08-18 | 2014-10-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Light emitting diode assembly and thermal control blanket and methods relating thereto |
TW201208879A (en) * | 2010-08-18 | 2012-03-01 | Du Pont | Light emitting diode assembly and thermal control blanket and methods relating thereto |
JP5345116B2 (ja) * | 2010-09-30 | 2013-11-20 | 日本化薬株式会社 | 銅張積層板及びその製造方法、並びに該銅張積層板を含む配線基板 |
JP5469578B2 (ja) * | 2010-10-01 | 2014-04-16 | 日本化薬株式会社 | プライマー層を有する銅張積層板及びそれを用いた配線基板 |
JP2012089315A (ja) * | 2010-10-18 | 2012-05-10 | Ube Ind Ltd | フレキシブルフラットケーブルおよびその製造方法 |
JP2012102215A (ja) * | 2010-11-09 | 2012-05-31 | Kaneka Corp | ポリアミド酸溶液の製造方法及びポリイミド |
US20120141758A1 (en) * | 2010-12-07 | 2012-06-07 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | Filled polyimide films and coverlays comprising such films |
-
2013
- 2013-06-21 JP JP2015518588A patent/JP6100892B2/ja active Active
- 2013-06-21 WO PCT/US2013/046941 patent/WO2013192474A1/en active Application Filing
- 2013-06-21 CN CN201380042695.3A patent/CN104541586B/zh active Active
- 2013-06-21 EP EP13733504.8A patent/EP2865244A1/en not_active Withdrawn
- 2013-06-21 US US14/409,958 patent/US20150342042A1/en not_active Abandoned
- 2013-06-21 EP EP13733502.2A patent/EP2865251A1/en not_active Withdrawn
- 2013-06-21 CN CN201380042674.1A patent/CN104541590B/zh active Active
- 2013-06-21 JP JP2015518585A patent/JP6139676B2/ja active Active
- 2013-06-21 JP JP2015518584A patent/JP2015528204A/ja active Pending
- 2013-06-21 US US14/410,294 patent/US20150342044A1/en not_active Abandoned
- 2013-06-21 CN CN201380042680.7A patent/CN104541583B/zh active Active
- 2013-06-21 US US14/409,965 patent/US9596757B2/en active Active
- 2013-06-21 EP EP13733507.1A patent/EP2865246A1/en not_active Withdrawn
- 2013-06-21 JP JP2015518589A patent/JP6258930B2/ja active Active
- 2013-06-21 US US14/409,974 patent/US20150147567A1/en not_active Abandoned
- 2013-06-21 WO PCT/US2013/046943 patent/WO2013192476A1/en active Application Filing
- 2013-06-21 EP EP13733506.3A patent/EP2865245A1/en not_active Withdrawn
- 2013-06-21 EP EP13733511.3A patent/EP2865249A1/en not_active Withdrawn
- 2013-06-21 CN CN201380042685.XA patent/CN104541584B/zh active Active
- 2013-06-21 JP JP2015518592A patent/JP6114387B2/ja active Active
- 2013-06-21 EP EP13733508.9A patent/EP2865247A1/en not_active Withdrawn
- 2013-06-21 US US14/410,289 patent/US20150342041A1/en not_active Abandoned
- 2013-06-21 EP EP13733503.0A patent/EP2865243A1/en not_active Withdrawn
- 2013-06-21 CN CN201380042730.1A patent/CN104541588B/zh active Active
- 2013-06-21 WO PCT/US2013/046940 patent/WO2013192473A1/en active Application Filing
- 2013-06-21 EP EP13733509.7A patent/EP2865248A1/en not_active Withdrawn
- 2013-06-21 WO PCT/US2013/046933 patent/WO2013192467A1/en active Application Filing
- 2013-06-21 JP JP2015518586A patent/JP6105724B2/ja active Active
- 2013-06-21 US US14/410,283 patent/US20150342043A1/en not_active Abandoned
- 2013-06-21 WO PCT/US2013/046938 patent/WO2013192471A1/en active Application Filing
- 2013-06-21 CN CN201380042689.8A patent/CN104541585B/zh active Active
- 2013-06-21 US US14/410,115 patent/US20150336354A1/en not_active Abandoned
- 2013-06-21 JP JP2015518590A patent/JP6258931B2/ja active Active
- 2013-06-21 WO PCT/US2013/046934 patent/WO2013192468A1/en active Application Filing
- 2013-06-21 JP JP2015518587A patent/JP2015523730A/ja active Pending
- 2013-06-21 US US14/410,116 patent/US9585249B2/en active Active
- 2013-06-21 CN CN201380042709.1A patent/CN104541587B/zh active Active
- 2013-06-21 CN CN201380042678.XA patent/CN104584696B/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2015527221A5 (ja) | ||
JP2017022407A5 (ja) | ||
JP2015529966A5 (ja) | ||
JP2008182184A5 (ja) | ||
JP2011249574A5 (ja) | ||
TWI302080B (ja) | ||
JP2015520523A5 (ja) | ||
JP2015523730A5 (ja) | ||
JP2015521800A5 (ja) | ||
JP2014082455A5 (ja) | フレキシブル基板、基板接続構造及び光モジュール | |
JP2008160160A5 (ja) | ||
JP2000319442A5 (ja) | ||
JP2015528204A5 (ja) | ||
JP2015521801A5 (ja) | ||
JP5399995B2 (ja) | 多層プリント配線板及び多層金属張積層板 | |
JP2009505442A5 (ja) | ||
JP2012124460A5 (ja) | ||
JP2013247353A5 (ja) | ||
WO2011140141A3 (en) | Printed circuit board with embossed hollow heatsink pad | |
TWI457063B (zh) | 多層配線基板 | |
JP2011155251A5 (ja) | ||
JP2015507563A (ja) | フレキシブル金属張積層体およびその製造方法 | |
ATE521220T1 (de) | Leitfähige integral-metall-gummi-komponente | |
CN104349592B (zh) | 多层电路板及其制作方法 | |
JP2013111980A5 (ja) |