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Families Citing this family (56)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101755188A (zh) * 2007-07-18 2010-06-23 株式会社尼康 测量方法、载台装置、及曝光装置
JP2009026862A (ja) * 2007-07-18 2009-02-05 Canon Inc 光学素子位置決めシステム、投影光学系及び露光装置
JP2009036637A (ja) * 2007-08-01 2009-02-19 Sony Corp 変位測定装置
US8760629B2 (en) * 2008-12-19 2014-06-24 Nikon Corporation Exposure apparatus including positional measurement system of movable body, exposure method of exposing object including measuring positional information of movable body, and device manufacturing method that includes exposure method of exposing object, including measuring positional information of movable body
US8493547B2 (en) * 2009-08-25 2013-07-23 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and device manufacturing method
EP2299472B1 (de) * 2009-09-22 2020-07-08 EV Group E. Thallner GmbH Vorrichtung zum Ausrichten zweier Substrate
NL2006913A (en) 2010-07-16 2012-01-17 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and method.
NL2007155A (en) * 2010-08-25 2012-02-28 Asml Netherlands Bv Stage apparatus, lithographic apparatus and method of positioning an object table.
JP4846051B1 (ja) * 2010-11-05 2011-12-28 株式会社ナナオ センサユニット作動機構及び当該センサユニット作動機構を備えた液晶表示装置
NL2008272A (en) * 2011-03-09 2012-09-11 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus.
DE102011005885A1 (de) * 2011-03-22 2012-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Lithographievorrichtung
NL2008980A (en) 2011-07-11 2013-01-14 Asml Netherlands Bv A fluid handling structure, a lithographic apparatus and a device manufacturing method.
TWI467126B (zh) * 2011-11-09 2015-01-01 Zygo Corp 熱穩定光感測器基座
JP6086070B2 (ja) * 2011-12-28 2017-03-01 株式会社ニコン エンコーダ及び駆動装置
JP6093965B2 (ja) 2012-02-17 2017-03-15 株式会社ミツトヨ 光電式エンコーダ
JP6251559B2 (ja) * 2013-02-28 2017-12-20 株式会社ニューフレアテクノロジー 試料支持装置
CN105593644B (zh) * 2013-10-02 2018-11-13 株式会社尼康 编码器用标尺、编码器、驱动装置及载台装置
JP6492086B2 (ja) * 2013-12-21 2019-03-27 ケーエルエー−テンカー コーポレイション マスク上の構造体の位置を測定し、それによってマスク製造誤差を決定する方法
JP2016043453A (ja) * 2014-08-25 2016-04-04 株式会社ディスコ 加工装置
NL2015639A (en) 2014-11-28 2016-09-20 Asml Netherlands Bv Encoder, position measurement system and lithographic apparatus.
HK1246849A1 (en) * 2015-02-23 2018-09-14 Nikon Corporation Measurement device, lithography system and exposure device, and device manufacturing method
CN111948913B (zh) 2015-02-23 2023-09-01 株式会社尼康 基板处理系统及基板处理方法
CN111290221B (zh) 2015-02-23 2023-07-28 株式会社尼康 测量装置、光刻系统、曝光装置、测量方法、曝光方法以及元件制造方法
JP6467065B2 (ja) * 2015-03-23 2019-02-06 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
WO2016159176A1 (ja) * 2015-03-31 2016-10-06 株式会社ニコン 露光装置、フラットパネルディスプレイの製造方法、デバイス製造方法、及び露光方法
US10520834B2 (en) 2015-09-30 2019-12-31 Nikon Corporation Movable body apparatus, exposure apparatus, manufacturing method of flat-panel display and device manufacturing method, and movement method of object
US9617142B1 (en) 2015-09-30 2017-04-11 Mems Drive, Inc. MEMS grid for manipulating structural parameters of MEMS devices
US9630836B2 (en) 2015-09-30 2017-04-25 Mems Drive, Inc. Simplified MEMS device fabrication process
US10199912B2 (en) * 2016-01-26 2019-02-05 Woodward Hrt, Inc. Torque motor with mechanical flexures establishing armature-to-field gaps
US10782619B2 (en) * 2016-09-30 2020-09-22 Nikon Corporation Movable body apparatus, moving method, exposure apparatus, exposure method, flat-panel display manufacturing method, and device manufacturing method
NL2019477A (en) * 2016-10-04 2018-04-10 Asml Netherlands Bv Athermalization of an alignment system
WO2018074306A1 (ja) * 2016-10-17 2018-04-26 株式会社ニコン 露光システム及びリソグラフィシステム
WO2018141713A1 (en) * 2017-02-03 2018-08-09 Asml Netherlands B.V. Exposure apparatus
JP6856758B2 (ja) * 2017-02-10 2021-04-14 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
US10600614B2 (en) * 2017-09-29 2020-03-24 Hitachi High-Technologies Corporation Stage device and charged particle beam device
DE102017217967A1 (de) * 2017-10-09 2019-04-11 Sieb & Meyer Ag Verfahren zur Bestimmung von Positionsfehlern von Bohrungen und Sicherung des Bohrprozesses
JP6493481B2 (ja) * 2017-10-18 2019-04-03 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
CN108010873B (zh) * 2017-12-29 2024-04-19 无锡固电半导体股份有限公司 一种晶圆自动扩晶机
TWI725875B (zh) * 2018-01-16 2021-04-21 美商伊路米納有限公司 結構照明成像系統和使用結構化光來創建高解析度圖像的方法
JP7051455B2 (ja) * 2018-01-16 2022-04-11 キオクシア株式会社 パターン形成装置および半導体装置の製造方法
US10281268B1 (en) 2018-04-20 2019-05-07 Seagate Technology Llc Automated and accurate high-throughput slider-level flatness inspection
JP7056411B2 (ja) * 2018-06-29 2022-04-19 株式会社リコー 読取装置および造形装置
JP7296448B2 (ja) * 2018-09-12 2023-06-22 サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー ガス放電ステージの本体のためのメトロロジ
CN111380464B (zh) * 2018-12-28 2021-05-07 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种光栅尺的安装装置、安装方法、光栅测量系统及光刻机
JP2020112605A (ja) * 2019-01-08 2020-07-27 キヤノン株式会社 露光装置およびその制御方法、および、物品製造方法
DE102019205271A1 (de) * 2019-04-11 2020-10-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
US11450552B2 (en) 2019-08-01 2022-09-20 Micron Technology, Inc. Methods and apparatus for adjusting surface topography of a substrate support apparatus
CN110931412B (zh) * 2019-10-15 2024-02-06 北京烁科中科信电子装备有限公司 一种高精度高效率的硅片定向装置
CN111272089B (zh) * 2020-03-03 2022-06-28 中国科学院光电技术研究所 一种原位间隙检测装置与检测方法
CN111550955A (zh) * 2020-04-29 2020-08-18 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 温度监控系统
KR102826407B1 (ko) * 2020-07-17 2025-06-27 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 접합 장치, 접합 시스템 및 접합 방법
JP7565179B2 (ja) * 2020-09-14 2024-10-10 株式会社ミツトヨ スケール
US11244474B1 (en) * 2020-10-01 2022-02-08 Kla Corporation Sample positioning system and method
JP7562232B2 (ja) * 2020-10-30 2024-10-07 株式会社ディスコ ノッチ検出方法
CN114351247B (zh) * 2022-01-12 2023-06-27 苏州天准科技股份有限公司 一种拉晶晃动监测方法、存储介质、终端和拉晶设备
CN120212822B (zh) * 2025-05-28 2025-08-19 山西富兴通重型环锻件有限公司 一种法兰盘孔位检测装置

Family Cites Families (88)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6144429A (ja) 1984-08-09 1986-03-04 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 位置合わせ方法、及び位置合せ装置
US4780617A (en) 1984-08-09 1988-10-25 Nippon Kogaku K.K. Method for successive alignment of chip patterns on a substrate
JPH04211202A (ja) 1990-03-19 1992-08-03 Canon Inc 反射型回折格子および該回折格子を用いた装置
DE4033556A1 (de) * 1990-10-22 1992-04-23 Suess Kg Karl Messanordnung fuer x,y,(phi)-koordinatentische
JPH05129184A (ja) * 1991-10-30 1993-05-25 Canon Inc 投影露光装置
JP3089802B2 (ja) 1992-04-01 2000-09-18 株式会社ニコン ステージの位置計測装置、投影露光装置及び投影露光方法
US5469260A (en) 1992-04-01 1995-11-21 Nikon Corporation Stage-position measuring apparatus
JP2629109B2 (ja) 1992-04-08 1997-07-09 新日本製鐵株式会社 廃棄物溶融炉装入装置における切出し装置
JP3316833B2 (ja) 1993-03-26 2002-08-19 株式会社ニコン 走査露光方法、面位置設定装置、走査型露光装置、及び前記方法を使用するデバイス製造方法
KR100300618B1 (ko) 1992-12-25 2001-11-22 오노 시게오 노광방법,노광장치,및그장치를사용하는디바이스제조방법
JP3375076B2 (ja) 1993-04-27 2003-02-10 株式会社ニコン 投影露光方法及び装置、並びに素子製造方法
US6753948B2 (en) 1993-04-27 2004-06-22 Nikon Corporation Scanning exposure method and apparatus
JPH07270122A (ja) * 1994-03-30 1995-10-20 Canon Inc 変位検出装置、該変位検出装置を備えた露光装置およびデバイスの製造方法
JPH07335529A (ja) * 1994-06-09 1995-12-22 Nikon Corp 投影露光装置
US6018384A (en) 1994-09-07 2000-01-25 Nikon Corporation Projection exposure system
JP3379238B2 (ja) 1994-09-08 2003-02-24 株式会社ニコン 走査型露光装置
US5552888A (en) 1994-12-02 1996-09-03 Nikon Precision, Inc. Apparatus for measuring position of an X-Y stage
JP3387075B2 (ja) * 1994-12-12 2003-03-17 株式会社ニコン 走査露光方法、露光装置、及び走査型露光装置
JPH08178694A (ja) * 1994-12-27 1996-07-12 Canon Inc 変位センサ用のスケール
US5877843A (en) 1995-09-12 1999-03-02 Nikon Corporation Exposure apparatus
US5806193A (en) * 1995-11-09 1998-09-15 Nikon Corporation Tilt and movement apparatus using flexure and air cylinder
US6069416A (en) * 1996-06-24 2000-05-30 Anorad Corporation Two-axis motor platen and method for making
US5825043A (en) 1996-10-07 1998-10-20 Nikon Precision Inc. Focusing and tilting adjustment system for lithography aligner, manufacturing apparatus or inspection apparatus
JPH11274029A (ja) * 1998-03-19 1999-10-08 Asahi Kasei Micro Syst Co Ltd スキャニングステッパー
WO1999049504A1 (fr) 1998-03-26 1999-09-30 Nikon Corporation Procede et systeme d'exposition par projection
JP3554186B2 (ja) * 1998-04-08 2004-08-18 キヤノン株式会社 露光装置、デバイス製造方法および反力受け方法
JP3413122B2 (ja) * 1998-05-21 2003-06-03 キヤノン株式会社 位置決め装置及びこれを用いた露光装置並びにデバイス製造方法
JP3302926B2 (ja) * 1998-07-02 2002-07-15 株式会社東芝 露光装置の検査方法
US6496528B2 (en) * 1999-09-03 2002-12-17 Cymer, Inc. Line narrowing unit with flexural grating mount
JP2001102279A (ja) * 1999-09-27 2001-04-13 Nikon Corp ステージ装置および露光装置
JP2001126977A (ja) 1999-10-27 2001-05-11 Nikon Corp ステージ装置および露光装置ならびに回路デバイス製造方法
CN2421670Y (zh) * 1999-11-30 2001-02-28 中国科学院光电技术研究所 亚微米光刻机光学预对准装置
US6480008B2 (en) 1999-12-03 2002-11-12 Mitutoyo Corporation Capacitive distance sensor for surface configuration determining apparatus
JP3406889B2 (ja) * 1999-12-03 2003-05-19 株式会社ミツトヨ 距離測定装置
SG107560A1 (en) 2000-02-25 2004-12-29 Nikon Corp Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution
JP2001313250A (ja) 2000-02-25 2001-11-09 Nikon Corp 露光装置、その調整方法、及び前記露光装置を用いるデバイス製造方法
JP2002014005A (ja) 2000-04-25 2002-01-18 Nikon Corp 空間像計測方法、結像特性計測方法、空間像計測装置及び露光装置
US20020041377A1 (en) 2000-04-25 2002-04-11 Nikon Corporation Aerial image measurement method and unit, optical properties measurement method and unit, adjustment method of projection optical system, exposure method and apparatus, making method of exposure apparatus, and device manufacturing method
US7561270B2 (en) * 2000-08-24 2009-07-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby
US6958808B2 (en) 2000-11-16 2005-10-25 Nikon Corporation System and method for resetting a reaction mass assembly of a stage assembly
JP3762307B2 (ja) * 2001-02-15 2006-04-05 キヤノン株式会社 レーザ干渉干渉計システムを含む露光装置
US6564752B2 (en) 2001-07-06 2003-05-20 Wallace H. Jerome Poultry coop unloader, and methods
US6801301B2 (en) * 2001-10-12 2004-10-05 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
JP3890233B2 (ja) * 2002-01-07 2007-03-07 キヤノン株式会社 位置決めステージ装置、露光装置及び半導体デバイスの製造方法
SG106121A1 (en) * 2002-02-06 2004-09-30 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1420298B1 (en) 2002-11-12 2013-02-20 ASML Netherlands B.V. Lithographic apparatus
SG2011031200A (en) 2002-12-10 2014-09-26 Nippon Kogaku Kk Exposure apparatus and device manufacturing method
EP1571698A4 (en) * 2002-12-10 2006-06-21 Nikon Corp EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD, AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
TW586139B (en) 2003-03-17 2004-05-01 Taiwan Semiconductor Mfg Dynamic flow pattern controller for uniformity control and the method thereof
US6757113B1 (en) * 2003-03-18 2004-06-29 Lucent Technologies Inc. Optical grating mount
CN100576003C (zh) * 2003-06-06 2009-12-30 株式会社尼康 光学元件保持装置、镜筒、曝光装置及设备的制造方法
JP4164414B2 (ja) * 2003-06-19 2008-10-15 キヤノン株式会社 ステージ装置
JP3862678B2 (ja) * 2003-06-27 2006-12-27 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
WO2005006416A1 (ja) * 2003-07-09 2005-01-20 Nikon Corporation 結合装置、露光装置、及びデバイス製造方法
JP2005234359A (ja) 2004-02-20 2005-09-02 Ricoh Co Ltd 走査光学系光学特性測定装置、走査光学系光学特性測定装置校正方法、走査光学系及び画像形成装置
US8111373B2 (en) * 2004-03-25 2012-02-07 Nikon Corporation Exposure apparatus and device fabrication method
US20070247640A1 (en) * 2004-03-30 2007-10-25 Nikon Corporation Exposure Apparatus, Exposure Method and Device Manufacturing Method, and Surface Shape Detection Unit
US7898642B2 (en) 2004-04-14 2011-03-01 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
EP1783821B1 (en) 2004-06-09 2015-08-05 Nikon Corporation Exposure system and device production method
US7256871B2 (en) * 2004-07-27 2007-08-14 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and method for calibrating the same
SG155929A1 (en) * 2004-09-17 2009-10-29 Nikon Corp Exposure apparatus, exposure method, and method for manufacturing device
KR101157003B1 (ko) 2004-09-30 2012-06-21 가부시키가이샤 니콘 투영 광학 디바이스 및 노광 장치
KR20070063505A (ko) * 2004-10-08 2007-06-19 가부시키가이샤 니콘 노광 장치 및 디바이스 제조 방법
TWI588872B (zh) * 2004-11-18 2017-06-21 尼康股份有限公司 Position measurement method, position control method, measurement method, loading method, exposure method and exposure apparatus, and device manufacturing method
JP2006269940A (ja) 2005-03-25 2006-10-05 Canon Inc 露光装置及び露光方法
US20090047607A1 (en) * 2005-03-31 2009-02-19 Hiroyuki Nagasaka Exposure method, exposure apparatus and device fabricating methods
US7515281B2 (en) 2005-04-08 2009-04-07 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US7161659B2 (en) 2005-04-08 2007-01-09 Asml Netherlands B.V. Dual stage lithographic apparatus and device manufacturing method
JP4410216B2 (ja) 2005-05-24 2010-02-03 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． ２ステージ・リソグラフィ装置及びデバイス製造方法
JP4868113B2 (ja) * 2005-06-27 2012-02-01 株式会社ニコン 支持装置、ステージ装置及び露光装置
JP2007019225A (ja) * 2005-07-07 2007-01-25 Nikon Corp 位置計測装置の反射部材構造及びステージ装置並びに露光装置
US7348574B2 (en) * 2005-09-02 2008-03-25 Asml Netherlands, B.V. Position measurement system and lithographic apparatus
KR100869306B1 (ko) * 2005-09-13 2008-11-18 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치 및 디바이스 제조 방법
US7362446B2 (en) * 2005-09-15 2008-04-22 Asml Netherlands B.V. Position measurement unit, measurement system and lithographic apparatus comprising such position measurement unit
JP2007115758A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Nikon Corp 露光方法及び露光装置
JP2007113939A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Nikon Corp 計測装置及び計測方法、ステージ装置、並びに露光装置及び露光方法
JP2007123332A (ja) * 2005-10-25 2007-05-17 Nikon Corp ステージ装置、露光装置、デバイスの製造方法
JP4800901B2 (ja) 2005-12-12 2011-10-26 矢崎総業株式会社 電圧検出装置及び絶縁インタフェース
JP4715505B2 (ja) 2005-12-26 2011-07-06 株式会社ニコン 露光装置及びデバイス製造方法
CN101300662B (zh) * 2005-12-28 2012-05-09 株式会社尼康 图案形成方法及图案形成装置、以及元件制造方法
TWI412896B (zh) * 2005-12-28 2013-10-21 尼康股份有限公司 Exposure apparatus and manufacturing method thereof
US7483120B2 (en) * 2006-05-09 2009-01-27 Asml Netherlands B.V. Displacement measurement system, lithographic apparatus, displacement measurement method and device manufacturing method
US8477283B2 (en) * 2006-05-10 2013-07-02 Nikon Corporation Exposure apparatus and device manufacturing method
US20080158531A1 (en) * 2006-11-15 2008-07-03 Nikon Corporation Exposure apparatus, exposure method, and method for producing device
US7903866B2 (en) * 2007-03-29 2011-03-08 Asml Netherlands B.V. Measurement system, lithographic apparatus and method for measuring a position dependent signal of a movable object
US7804579B2 (en) * 2007-06-21 2010-09-28 Asml Netherlands B.V. Control system, lithographic projection apparatus, method of controlling a support structure, and a computer program product
CN101755188A (zh) * 2007-07-18 2010-06-23 株式会社尼康 测量方法、载台装置、及曝光装置
DE102007046927A1 (de) 2007-09-28 2009-04-02 Carl Zeiss Smt Ag Kalibrierung einer Positionsmesseinrichtung einer optischen Einrichtung

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