JP2013211089A5 - 半導体装置 - Google Patents

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  1. 第1乃至第5のトランジスタを有し、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第2のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第3のトランジスタのソース又はドレインの一方と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第1のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタのソース又はドレインの一方は、前記第1のトランジスタのゲートと電気的に接続され、
    前記第1のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第1の配線と電気的に接続され、
    前記第2のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第2の配線と電気的に接続され、
    前記第3のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第3の配線と電気的に接続され、
    前記第4のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第4の配線と電気的に接続され、
    前記第5のトランジスタのソース又はドレインの他方は、第5の配線と電気的に接続されることを特徴とする半導体装置。
  2. 請求項1において、
    前記第4及び第5のトランジスタのチャネル形成領域は、酸化物半導体を有することを特徴とする半導体装置。
  3. 請求項1において、
    前記第4及び第5のトランジスタは、酸化物半導体層にチャネル形成領域を有し、
    前記酸化物半導体層は、c軸が被形成面の法線ベクトルまたは表面の法線ベクトルに平行な方向に揃っている結晶部を有することを特徴とする半導体装置。
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