JP2013049161A - 加工対象物切断方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】切断予定面5Aに沿ってレーザ光Lを照射することにより、切断予定面5Aに沿って改質領域7を形成する。レーザ光Lの一の照射点LPと該一の照射点LPに最も近い他の照射点LPとのピッチを、改質領域7から生じた割れがc面割に沿って延びるピッチPTとする。そのc面割れが、インゴット1の切断予定面5Aに沿っての切断を容易化するため、スループットを向上させることができる。また、切断予定面5Aに沿ったc面割れが生じているので、切断予定面5Aに沿って正確にインゴット1を切断することができる。このため、切断面を平坦化するための研磨の量が少なくてすむので、材料のロスを低減することができる。
【選択図】図10
Description
[第1実施形態]
[第2実施形態]
Claims (5)
- 六方晶系SiC結晶からなる加工対象物にパルスレーザ光を照射して前記加工対象物の内部に改質領域を形成し、前記加工対象物を切断する加工対象物切断方法であって、
前記パルスレーザ光の一の照射点と該一の照射点に最も近い他の照射点とが所定のピッチとなるように、前記加工対象物の第1の切断予定面に沿って前記加工対象物に前記パルスレーザ光を照射することにより、前記第1の切断予定面に沿って前記改質領域を形成する工程と、
前記第1の切断予定面に沿って前記改質領域を形成した後に、前記第1の切断予定面に沿って前記加工対象物を切断する工程と、を備え、
前記第1の切断予定面は、六方晶系SiC結晶のc面とオフ角分の角度を成しており、
前記所定のピッチは、前記改質領域から生じた割れが六方晶系SiC結晶のc面に沿って延びるようなピッチである、ことを特徴とする加工対象物切断方法。 - 前記第1の切断予定面に沿って前記加工対象物を切断した後に、前記パルスレーザ光の一の照射点と該一の照射点に最も近い他の照射点とが前記所定のピッチとなるように、前記加工対象物の第2の切断予定面に沿って前記加工対象物に前記パルスレーザ光を照射することにより、前記第2の切断予定面に沿って前記改質領域を形成する工程と、
前記第2の切断予定面に沿って前記改質領域を形成した後に、前記第2の切断予定面に沿って前記加工対象物を切断する工程と、をさらに備え、
前記第2の切断予定面は、六方晶系SiC結晶のc面とオフ角分の角度を成している、ことを特徴とする請求項1に記載の加工対象物切断方法。 - 前記第1の切断予定面に沿って前記改質領域を形成した後であって、前記第1の切断予定面に沿って前記加工対象物を切断する前において、前記パルスレーザ光の一の照射点と該一の照射点に最も近い他の照射点とが前記所定のピッチとなるように、前記第1の切断予定面よりも前記加工対象物における前記パルスレーザ光の入射面側に位置する第2の切断予定面に沿って前記加工対象物に前記パルスレーザ光を照射することにより、前記第2の切断予定面に沿って前記改質領域を形成する工程と、
前記第2の切断予定面に沿って前記改質領域を形成した後に、前記第2の切断予定面に沿って前記加工対象物を切断する工程と、をさらに備え、
前記第2の切断予定面は、六方晶系SiC結晶のc面とオフ角分の角度を成している、ことを特徴とする請求項1に記載の加工対象物切断方法。 - 前記所定のピッチは、1μm以上10μm未満である、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の加工対象物切断方法。
- 前記パルスレーザ光のパルス幅は、20ns未満、又は100nsよりも大きい、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の加工対象物切断方法。
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